JPH06268367A - Device for processing electronic parts with light beams - Google Patents

Device for processing electronic parts with light beams

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Publication number
JPH06268367A
JPH06268367A JP6919493A JP6919493A JPH06268367A JP H06268367 A JPH06268367 A JP H06268367A JP 6919493 A JP6919493 A JP 6919493A JP 6919493 A JP6919493 A JP 6919493A JP H06268367 A JPH06268367 A JP H06268367A
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JP
Japan
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light
light beam
light source
linear
lead row
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Application number
JP6919493A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshikatsu Kawaguchi
吉勝 河口
Tsutomu Miyano
勉 宮野
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MITSUBOSHI SEISAKUSHO
MITSUBOSHI SEISAKUSHO KK
TAISEI DENKI SEISAKUSHO KK
Original Assignee
MITSUBOSHI SEISAKUSHO
MITSUBOSHI SEISAKUSHO KK
TAISEI DENKI SEISAKUSHO KK
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Filing date
Publication date
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Abstract

PURPOSE:To perform the energy saving of the electric power of a light source and also to reduce the influence of heat upon the periphery at the time of processing with a light beam by forming a plurality of light conducting paths for a light beam toward a lead line from a linear light source with light conducting reflector plates arranged in parallel to each other. CONSTITUTION:A number of oval light conducting reflector plates 15 which have substantially same cross-sectional shape as the longitudinal section of an optical path are provided at a predetermined interval along the direction of the major axis of a linear halogen lamp 3 within the space of an optical path which is defined by the curved surfaces 2A, 2B of a concave elliptic reflecting mirror 2 and are extendingly provided from the place directly under the halogen lamp 3 to the place directly above the opening of a shutter 4, and a number of light conducting paths 16 are formed therebetween. Thereby, a light beam in an outgoing light beams, for instance, which has a specific angular component is reflected by a reflecting plate 15 once or plural times to be incident upon a lead line. Therefore, such a light beam can be efficiently utilized for light beam work as well to be able to increase energy efficiency.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は光ビーム加工装置に係
り、特にフラットパッケージの各外周側に引出された複
数のリード列を回路基板のパターンに対して光ビームの
照射によりはんだ付する際に用いられる電子部品の光ビ
ーム加工装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light beam processing apparatus, and more particularly to a method for soldering a plurality of lead rows drawn to the outer peripheral side of a flat package to a circuit board pattern by irradiating a light beam. The present invention relates to a light beam processing device for electronic components used.

【0002】[0002]

【従来の技術】このようなICフラットパッケージにお
いては、近年二方向リード付および四方向リード付きの
ICフラットパッケージ(SOP、QFP)が次第に主
流を占めており、これに伴って前記光ビーム加工につい
てもパッケージの外周の各側方に引出された複数のリー
ド列を迅速にハンダ付けする技術が求められている。
2. Description of the Related Art Among such IC flat packages, in recent years, IC flat packages with two-way leads and four-way leads (SOP, QFP) have gradually become the mainstream, and accordingly, the above-mentioned optical beam processing is performed. In addition, there is a demand for a technique for rapidly soldering a plurality of lead rows that are drawn out to each side of the outer periphery of the package.

【0003】これに対して光源および凹面楕円反射鏡等
の組合せからなりパッケージの側面の数、すなわちリー
ド列の数に対応させた複数の光学系を介して各リード列
に直線状(矩形状)の光ビームを同時に照射してはんだ
付けするようにした方法が種々提案されている。この場
合、図1ないし図3に示すように各光源からの光ビーム
をパッケージQFPの側辺の被加工部としての各リード
列に対して最も効率的な矩形パターンAで均一に照射す
るために、凹面楕円反射鏡Rおよびその焦点に位置する
線状光源Pが用いられ、光路シャッタCによってリード
列に対応するパターンAの光ビームLが所定の領域
(x、y)に集束される。
On the other hand, each lead row is linear (rectangular) via a plurality of optical systems which correspond to the number of side surfaces of the package, that is, the number of lead rows, which is composed of a combination of a light source and a concave elliptical reflecting mirror or the like. Various methods have been proposed in which the above-mentioned light beams are simultaneously irradiated to perform soldering. In this case, as shown in FIGS. 1 to 3, in order to uniformly irradiate the light beam from each light source with the most efficient rectangular pattern A to each lead row as a processed portion on the side of the package QFP. A concave elliptical reflecting mirror R and a linear light source P located at the focal point thereof are used, and the optical path shutter C focuses the light beam L of the pattern A corresponding to the lead row in a predetermined region (x, y).

【0004】しかし、たとえば図2に示すように、x方
向(線状光源Pの長手方向)の光ビームの分布について
は、線状光源Pから所定の被加工領域Aに照射される有
効な光ビームLの他、x方向の両端で該加工領域をはず
れる光ビームLAがあり、これがロスとなって全体の光
エネルギーの利用効率を著しく低下させると共に周辺部
に照射される光ビームによって回路基板等に熱変形や熱
変質の悪影響を生じさせるおそれがある。
However, as shown in FIG. 2, for example, regarding the distribution of the light beam in the x direction (longitudinal direction of the linear light source P), effective light emitted from the linear light source P to a predetermined processing area A is used. In addition to the beam L, there is a light beam LA that deviates from the processing area at both ends in the x direction, which causes a loss and significantly reduces the utilization efficiency of the entire light energy, and the light beam irradiated to the peripheral portion causes a circuit board or the like. There is a risk of causing adverse effects such as thermal deformation and thermal alteration.

【0005】またy方向の光ビームの分布については凹
面楕円反射鏡Rからの集光によってほゞ目的とする分布
が得られるが、この場合にも集光部分以外に拡散する光
ビームがあり、これによって周辺部分の回路基板又は他
のパッケージに熱による影響を生じさせるおそれがあ
る。
Regarding the distribution of the light beam in the y-direction, a nearly intended distribution can be obtained by condensing from the concave elliptical reflecting mirror R, but in this case as well, there is a light beam diffusing in other than the condensing portion, This may cause a thermal effect on the peripheral circuit board or other package.

【0006】この周辺光の影響を回避するために、たと
えば図3に示すように光源Pの近傍に遮光部材Sを設け
て反射による集束光のみを利用する試みも提案されてい
る。しかしこの方法では光源Pからの最も熱効率の良い
直接光LCが遮光部材で遮られ又は反射されて直接利用
できないことになり光エネルギーの利用効率が低下す
る。
In order to avoid the influence of the ambient light, it has been proposed to provide a light shielding member S in the vicinity of the light source P as shown in FIG. 3 and utilize only the focused light by reflection. However, in this method, the direct light LC having the highest thermal efficiency from the light source P is blocked or reflected by the light blocking member and cannot be directly used, so that the utilization efficiency of light energy is reduced.

【0007】本発明の目的はこのような前記従来技術の
課題を解決するために、ICフラットパッケージにおい
て、線状光源からの光ビームによって各辺のリードを均
等にハンダ付けする際に、光エネルギーの効率を極力増
大させて光源電力の省エネルギー化を図り、併せて光加
工時に周辺に及ぼす熱の影響を減少させることができる
光ビーム加工装置を提供することにある。
In order to solve the above-mentioned problems of the prior art, an object of the present invention is to provide an optical energy when a lead on each side is evenly soldered by a light beam from a linear light source in an IC flat package. It is an object of the present invention to provide a light beam processing apparatus capable of increasing the efficiency of the above method as much as possible to save energy of light source power, and at the same time, reducing the influence of heat exerted on the periphery during optical processing.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明の前記課題はリー
ド付フラットパッケージの外周の夫々の側方から引出さ
れた各リード列をプリント基板の回路パターンに光ビー
ムの照射によってはんだ付けするための電子部品の光ビ
ーム加工装置において、前記装置が焦点からの光ビーム
を前記リード列の一方の方向に集束させる形状の楕円断
面を有しかつ筒軸方向を前記リード列の他方の方向に合
致させて設けた筒状の凹面楕円反射鏡および長軸方向を
前記凹面楕円反射鏡の筒軸方向に合致させかつ前記凹面
楕円反射鏡の焦点に沿って配置した線状光源を有する光
学系を前記各リード列に対応して備えており、前記光学
系が前記線状光源から前記リード列に向う方向に延設さ
れかつ前記線状光源の長軸方向に沿って所定の間隔で設
けられた互いに平行な導光反射板を有しており、それに
よって前記線状光源から前記リード列に向う光ビームに
対する複数の導光路を形成したことを特徴とする電子部
品の光ビーム加工装置によって達成される。
The object of the present invention is to solder each lead row drawn out from each side of the outer circumference of a flat package with leads to a circuit pattern of a printed circuit board by irradiating a light beam. In a light beam processing apparatus for electronic parts, the apparatus has an elliptical cross section of a shape for focusing a light beam from a focus in one direction of the lead row, and aligns the cylinder axis direction with the other direction of the lead row. A cylindrical concave elliptical reflecting mirror provided as an optical system, and an optical system having a linear light source whose long axis direction is aligned with the cylindrical axial direction of the concave elliptical reflecting mirror and which is arranged along the focal point of the concave elliptical reflecting mirror. The optical system is provided so as to correspond to the lead rows, and the optical system extends from the linear light source in the direction toward the lead row and is provided at predetermined intervals along the long axis direction of the linear light source. Has a light guide reflection plate, thereby is achieved by an optical beam processing apparatus of electronic components, characterized in that the formation of the plurality of light guide for light beams towards the lead string from the linear light source.

【0009】前記形式の光ビーム加工装置の光学系は一
般に線状光源から出射され前記凹面楕円反射鏡によって
反射集束される光ビームの光路中に前記リード列に対す
る光ビームの投影断面の形状を前記リード列の形状に応
じて整形する光路シャッタを備えているが、本発明の好
ましい具体例では前記導光路を形成する反射板が前記線
状光源の下方と前記光路シャッタとの間に延設されてさ
れている。
In the optical system of the light beam processing apparatus of the above type, the shape of the projected cross section of the light beam with respect to the lead row is generally described in the optical path of the light beam emitted from the linear light source and reflected and focused by the concave elliptical reflecting mirror. Although an optical path shutter that shapes according to the shape of the lead row is provided, in a preferred specific example of the present invention, a reflection plate that forms the light guide path is provided below the linear light source and between the optical path shutter. Has been done.

【0010】本発明の別の好ましい具体的な態様におい
ては、前記線状光源から前記光路シャッタに向って形成
された導光路の線状光源側に、リード列の前記一方の方
向への照射を制御する遮光部材が設けられかつこの遮光
部材の前記一方の方向の中央部に対応する領域に直接光
の透光部が形成されている。
In another preferable specific aspect of the present invention, irradiation of the lead row in the one direction is performed on the linear light source side of the light guide path formed from the linear light source toward the optical path shutter. A light shielding member for controlling is provided, and a light transmitting portion for direct light is formed in a region corresponding to the central portion of the light shielding member in the one direction.

【0011】[0011]

【作用】本発明においては、凹面楕円反射鏡の焦点に配
置した線状光源からの光ビーム反射鏡が反射曲面部で反
射されて目的とする照射位置に向う方向に集束され、た
とえばその光ビームの光路内に設けられた光路シャッタ
の開口部を通してリード列の目的とする照射域に入射さ
れる。
According to the present invention, the light beam reflecting mirror from the linear light source arranged at the focal point of the concave elliptical reflecting mirror is reflected by the reflecting curved surface portion and is focused in the direction toward the intended irradiation position. Through the opening of the optical path shutter provided in the optical path of the above-mentioned optical path.

【0012】本発明においては、図4に示すように線状
光源Pの長軸方向の各位置から出射された光ビームの
中、下方のシャッタCの開口部に直進する光ビームLは
そのままリード列の長手方向xの対応する各位置に照射
される。
In the present invention, as shown in FIG. 4, among the light beams emitted from the respective positions of the linear light source P in the longitudinal direction, the light beam L which goes straight to the opening of the lower shutter C is directly read. The corresponding positions in the longitudinal direction x of the row are irradiated.

【0013】一方前記出射された光ビームの中、特定位
置からの特定角度成分を有する光ビームLBは光源Pか
らシャッタCの開口部に向かう導光路Hを通過する際、
その両側の反射板Kによって反射されながら導光路Hの
下端に到り、そのほとんどは光源Pの長手方向両端に対
応して位置する両端の反射板K、K間で規制される領域
に集光されてシャッタCの開口部に入る。
On the other hand, of the emitted light beams, when the light beam LB having a specific angle component from a specific position passes through the light guide path H from the light source P toward the opening of the shutter C,
The light reaches the lower end of the light guide path H while being reflected by the reflection plates K on both sides thereof, and most of the light is condensed in a region regulated between the reflection plates K at both ends located corresponding to both ends in the longitudinal direction of the light source P. Then, the shutter C enters the opening of the shutter C.

【0014】これらの光ビームLBは導光路Hがなけれ
ば、図4に示すようにそのまゝ点線で示す光ビームLB
の方向に直進して光エネルギに損失を生じさせる部分で
あり、本発明では目的とする溶着部以外への拡散によっ
て完全にロスとなる光ビームの部分の利用が可能になる
ので、全体として光エネルギーの効率が著しく増大す
る。
If there is no light guide path H, these light beams LB are the light beams LB shown by dotted lines as shown in FIG.
In the present invention, it is possible to use a portion of the light beam that completely loses due to diffusion to a portion other than the intended welded portion. The energy efficiency is significantly increased.

【0015】さらに本発明においては、前記光源の直下
に透光部を有する遮光部材を設けることにより、リード
列の図3中の幅方向yにおける光ビーム分布を規制して
周辺の熱影響を避けると共に、通常の場合遮光部材によ
って遮断される直進光ビームLCをもそのまゝ利用する
ことができる。
Further, in the present invention, a light-shielding member having a light-transmitting portion is provided immediately below the light source to regulate the light beam distribution in the width direction y of the lead row in FIG. 3 to avoid the influence of heat on the periphery. At the same time, the straight light beam LC which is normally blocked by the light blocking member can be used as it is.

【0016】[0016]

【実施例】以下、本発明を四方向リード付フラットパッ
ケージの光ビーム加工に適用した実施例について具体的
に説明する。図5は本発明装置の全体を示す概要図、図
6はその導光反射板および導光路部分の正面図、図7は
透光部付の遮光部材を含む反射鏡の側面図である。
EXAMPLE An example in which the present invention is applied to the light beam processing of a flat package with four-way leads will be specifically described below. 5 is a schematic view showing the whole of the device of the present invention, FIG. 6 is a front view of a light guide reflection plate and a light guide path portion thereof, and FIG. 7 is a side view of a reflection mirror including a light shielding member with a light transmitting portion.

【0017】図5に示すように、光ビーム加工装置の架
台1の下方には夫々対向する楕円反射面2A、2Bから
なる一対の凹面楕円反射鏡2、2が取付けられており、
各反射面2A、2Bは図示しない被加工パッケージの一
対の対向側辺におけるリードの列幅方向の所定領域(た
とえば図1のy方向)に光ビームを集束させるような形
状を有している。反射鏡2の焦点に沿って線状のハロゲ
ンランプ3がその長軸を前記リード列方向(図1のy方
向)に一致させて設けられている。
As shown in FIG. 5, a pair of concave elliptical reflecting mirrors 2 and 2 composed of elliptical reflecting surfaces 2A and 2B facing each other are attached below a frame 1 of the light beam processing apparatus,
Each of the reflecting surfaces 2A and 2B has such a shape that the light beam is focused on a predetermined region in the row width direction of the leads (for example, the y direction in FIG. 1) on the pair of opposite sides of the package not shown. A linear halogen lamp 3 is provided along the focal point of the reflecting mirror 2 with its major axis aligned with the lead row direction (the y direction in FIG. 1).

【0018】反射曲面2A、2Bで集束されるハロゲン
ランプ3からの光ビームは架台1の底部に設けられた一
組の光路のシャッタ4、4の開口部を通じてパッケージ
に照射される。尚パッケージの他方の対の対応側辺に対
応して、図5中の中央部の反射鏡2およびこれに対向す
る図示しない反射鏡の対が同様に設けられている。
The light beam from the halogen lamp 3 focused on the reflection curved surfaces 2A and 2B is applied to the package through the openings of the shutters 4 and 4 of a pair of optical paths provided at the bottom of the pedestal 1. In addition, a reflecting mirror 2 at the central portion in FIG. 5 and a pair of reflecting mirrors (not shown) facing the reflecting mirror 2 are similarly provided corresponding to the corresponding sides of the other pair of the packages.

【0019】架台1の上方にはステップモータ5が載置
されており、その回転力を変換して得られた上下方向の
駆動力を上下動ブロック6により夫々左右一対のリンク
機構7、7を介して左右一対の凹面楕円反射鏡3、3に
伝達し、これらをガイド軸8、8に沿って図中水平方向
に移動させて、夫々の凹面楕円反射鏡3、3の照射域を
パッケージによって異なるたとえば幅方向のサイズ(両
側のリード列間の間隔)に対応させて形成するようにな
されている。
A step motor 5 is placed above the pedestal 1, and the vertical driving force obtained by converting the rotational force of the step motor 5 is applied to a pair of left and right link mechanisms 7 and 7, respectively. It transmits to the pair of left and right concave elliptical reflecting mirrors 3 and 3 and moves them along the guide shafts 8 and 8 in the horizontal direction in the figure so that the irradiation areas of the respective concave elliptic reflecting mirrors 3 and 3 are changed by the package. For example, they are formed so as to correspond to different sizes in the width direction (intervals between the lead rows on both sides).

【0020】また、この光ビーム加工装置はパッケージ
の保持/移動機構9を備えており、この機構9は、図5
中上下方向に作動するエアシリンダ10に直結された保
持/移動パイプ11を有している。このパイプ11の下
端部は架台1の底部に設けたガイドブロック12を貫通
してパッケージの上面中央部に密接する位置まで降下可
能となっておりかつその上端部は図示しない真空源に接
続されている。
The light beam processing apparatus further comprises a package holding / moving mechanism 9, which is shown in FIG.
It has a holding / moving pipe 11 which is directly connected to an air cylinder 10 which operates vertically in the middle. The lower end of the pipe 11 can pass through a guide block 12 provided at the bottom of the pedestal 1 and descend to a position in close contact with the center of the upper surface of the package, and its upper end is connected to a vacuum source (not shown). There is.

【0021】一方前記保持/移動パイプ11と平行に冷
却風供給パイプ13が架台1に固定して設けられてお
り、その下端部は前記ガイドブロック12内において複
数の下向きに開口する冷却風の吹出口14に連通させら
れその上端部は図示しない冷却風源に接続されている。
On the other hand, a cooling air supply pipe 13 is fixedly provided to the gantry 1 in parallel with the holding / moving pipe 11, and the lower end portion of the cooling air supply pipe 13 is blown with a plurality of downwardly opening cooling air in the guide block 12. The outlet 14 is communicated with, and its upper end portion is connected to a cooling air source (not shown).

【0022】図6に示すように、前記凹面楕円反射鏡2
の反射曲面2A、2Bで画定される光路空間内には断面
が光路の縦断面とほゞ同形状の楕円状をなす多数の導光
反射板15が線状ハロゲンランプ3の長軸方向に沿って
所定の間隔で設けられ、ハロゲンランプ3の直下からシ
ャッタ4の開口部の直上まで延設されてそれらの間に多
数の導光路16を形成している。
As shown in FIG. 6, the concave elliptical reflecting mirror 2 is used.
In the optical path space defined by the reflective curved surfaces 2A, 2B, a large number of light guide reflectors 15 having an elliptical cross section whose shape is almost the same as the longitudinal section of the optical path are arranged along the long axis direction of the linear halogen lamp 3. Are provided at predetermined intervals and extend from just below the halogen lamp 3 to just above the opening of the shutter 4 to form a large number of light guide paths 16 therebetween.

【0023】尚反射板15の枚数は線状光源3の長さ方
向の有効長や光源−パッケージ間の距離などによって実
験的に定められ、またその板厚は熱歪等を許容し得る範
囲で極力薄くすることが好ましい。図中、17はランプ
ソケット、18は反射鏡取付部材である。
The number of the reflection plates 15 is experimentally determined by the effective length of the linear light source 3 in the lengthwise direction, the distance between the light source and the package, and the thickness of the reflection plate 15 is within a range in which thermal strain or the like can be tolerated. It is preferable to make it as thin as possible. In the figure, 17 is a lamp socket, and 18 is a reflector mounting member.

【0024】一方図7に示すように、前記反射鏡2の光
路内におけるハロゲンランプ3の直下の位置(図3参
照)には、パッケージリード列のy方向の光ビームを目
的とする照射域にのみ限定するための遮光部材が設けら
れている。
On the other hand, as shown in FIG. 7, in the position directly below the halogen lamp 3 in the optical path of the reflecting mirror 2 (see FIG. 3), the light beam in the y direction of the package lead row is in the target irradiation area. A light blocking member is provided for limiting only.

【0025】本実施例においては、前記多数の反射板1
5を固定するためにこれらを貫通して保持ロッド19、
19がそれらの間に間隔20を形成して設けられてお
り、これら保持ロッド19、19を前記図3の遮光板に
相当する位置に設置しかつその表面に反射コーティング
を施すことにより遮光部材として機能するようになされ
ている。
In the present embodiment, the large number of reflectors 1
Retaining rods 19 extending therethrough for fixing 5
19 are provided with a space 20 formed between them, and these holding rods 19, 19 are installed at positions corresponding to the light-shielding plate of FIG. 3, and a reflective coating is applied to the surface thereof to form a light-shielding member. It is designed to work.

【0026】本実施例においては、前記保持ロッド1
9、19間の間隔20はハロゲンランプ3の直下に位置
してそこからの光ビームを直接パッケージ側に向かわせ
る透光部として機能する。
In this embodiment, the holding rod 1
A space 20 between the nine and nineteen is located immediately below the halogen lamp 3 and functions as a light transmitting portion for directing a light beam from the halogen lamp 3 directly to the package side.

【0027】このような本実施例の光ビーム加工装置に
よって、たとえば図1に示すようなQFPの各リード列
をハンダ付する際には、まず加工すべきパッケージを図
示しない真空の吸着移動機構によって架台1の下方に設
置された回路基板上の所定位置に位置決めする。
With the light beam processing apparatus of the present embodiment, when soldering each lead row of the QFP as shown in FIG. 1, for example, the package to be processed is first moved by a vacuum suction moving mechanism (not shown). It is positioned at a predetermined position on the circuit board installed below the gantry 1.

【0028】パッケージの位置決め確認後、図5に示す
エアシリンダ10を作動させてパッケージ保持/移動機
構9の保持/移動パイプ11を図5に示す位置より降下
させてパッケージの上面に当接させパッケージの各リー
ド列を回路基板に均一に密着させる。
After confirming the positioning of the package, the air cylinder 10 shown in FIG. 5 is operated to lower the holding / moving pipe 11 of the package holding / moving mechanism 9 from the position shown in FIG. Each lead row of is evenly adhered to the circuit board.

【0029】次いでステップモータ5を作動させて上下
動ブロック6により図中、左右のリンク機構7、7を介
して一対の凹面楕円反射鏡2、2をガイド軸8、8に沿
って水平方向に移動させ、パッケージによって間隔が異
なる両側のリード列に対応して一対の反射鏡2、2から
の光ビームが照射されるように調節する(尚これと共に
図5中、中央部に位置する凹面反射鏡2およびこれと対
をなす図示しない凹面楕円反射鏡の位置も同様に調節さ
れる)。
Next, the step motor 5 is actuated to move the pair of concave elliptical reflecting mirrors 2 and 2 horizontally along the guide shafts 8 and 8 via the left and right link mechanisms 7 and 7 by the vertically moving block 6 in the figure. It is moved and adjusted so that the light beams from the pair of reflecting mirrors 2 and 2 are irradiated corresponding to the lead rows on both sides having different intervals depending on the package (along with this, the concave surface reflection located in the central portion in FIG. 5). The positions of the mirror 2 and the concave elliptical reflecting mirror (not shown) which composes the mirror 2 are also adjusted similarly.

【0030】さらに架台1の底部に設けた一対の光路シ
ャッタ4、4(およびこれと直角方向の図示しない別の
対の光路シャッタ)を、これも図示しないステップモー
タおよび連動機構を介して同時に調節し、各凹面楕円反
射鏡3からの光ビームの各リード列に対する投影断面を
リード列の形状に応じて調節する。
Further, a pair of optical path shutters 4 and 4 (and another pair of optical path shutters not shown in the direction perpendicular thereto) provided on the bottom of the gantry 1 are simultaneously adjusted via a step motor and an interlocking mechanism which are also not shown. Then, the projected cross section of the light beam from each concave elliptical reflecting mirror 3 to each lead row is adjusted according to the shape of the lead row.

【0031】このような設定作業の後、各ハロゲンラン
プ3を所定の定格で点灯発光させることにより、その光
ビームが各凹面反射鏡2からシャッタ4を通してリード
列の反射域に入射され、所定のビーム形状により各側辺
のリード列が同時にハンダ付される。
After the above setting work, each halogen lamp 3 is lit and emitted at a predetermined rating so that its light beam is incident on the reflection area of the lead row from each concave reflecting mirror 2 through the shutter 4 and a predetermined amount. Due to the beam shape, the lead rows on each side are soldered simultaneously.

【0032】こゝでハロゲンランプ(線状光源)3から
の光ビームはたとえば図1に示すようにパッケージの四
辺のリード列に同時に照射されるが、この際、パッケー
ジのx方向領域に関しては、図4に示すように線状光源
P(図6のハロゲンランプ3)の長軸の各位置から出射
された光ビームの中、直下のシャッタCの開口部に向か
う直進光ビームLはそのまゝ図4の導光路H(図6の導
光路16)内を直進してシャッタを通して図1に示すリ
ード列の長手方向領域に沿って照射される。
Here, the light beam from the halogen lamp (linear light source) 3 is simultaneously irradiated to the lead rows on the four sides of the package as shown in FIG. 1, but in this case, regarding the x-direction region of the package, As shown in FIG. 4, among the light beams emitted from the respective positions on the long axis of the linear light source P (halogen lamp 3 in FIG. 6), the straight light beam L that is directed toward the opening of the shutter C immediately below is as it is. The light is guided straight through the light guide path H (light guide path 16 in FIG. 6) of FIG. 4 and is irradiated through the shutter along the longitudinal region of the lead row shown in FIG.

【0033】一方前記出射された光ビームの中、たとえ
ば特定の角度成分を有する図4中の光ビームLBは反射
板K(図6の反射板15)で1回又は複数回反射されて
これも前記方向領域内のリード列に入射する。これら光
ビームLBはそのまゝ図4に示す点線のように直進すれ
ば目的とする領域以外に逸散して光エネルギのロスを生
じさせる光ビームであり、本実施例においてはこのよう
な光ビームLBの部分をも有効に光ビーム加工に利用す
ることができ、そのエネルギー効率が著しく改善され電
力消費量が大幅に低減する。
On the other hand, of the emitted light beams, for example, the light beam LB in FIG. 4 having a specific angle component is reflected once or a plurality of times by the reflector K (reflector 15 in FIG. 6). It is incident on the lead row in the direction area. These light beams LB are light beams that cause a loss of light energy by diffusing to a region other than the intended region if they go straight as shown by the dotted line in FIG. 4, and such light beams are used in this embodiment. The part of the beam LB can also be effectively used for the light beam processing, the energy efficiency thereof is significantly improved, and the power consumption is significantly reduced.

【0034】一方図7に示すように、ハロゲンランプ3
からの光ビームの大部分は直下の遮光部材19、19に
よって遮ぎられ、図3に示すリード列のy方向領域に集
束されて周辺には拡散しないので、y方向での光分布が
シャープになりかつ周辺の基板等に不要な熱歪を生じさ
せない。この場合本実施例では、ハロゲンランプ3から
直進する光ビーム(図3のビームLC)は遮光部材1
9、19の間のギャップとしての透光部20を通してそ
のまゝ図3のリード列のy方向領域の中央部に照射され
るため、反射によるロスが減少し光エネルギの利用効率
が高められる。
On the other hand, as shown in FIG. 7, the halogen lamp 3
Most of the light beam from is blocked by the light-shielding members 19 and 19 directly below, and is focused in the y-direction region of the lead row shown in FIG. 3 and does not diffuse to the periphery, so that the light distribution in the y-direction is sharp. In addition, unnecessary thermal strain does not occur on the peripheral substrate and the like. In this case, in this embodiment, the light beam (beam LC in FIG. 3) traveling straight from the halogen lamp 3 is shielded by the light shielding member 1.
Since the light is radiated to the central portion of the y-direction region of the lead row in FIG. 3 through the light transmitting portion 20 as a gap between 9 and 19, the loss due to reflection is reduced and the utilization efficiency of light energy is improved.

【0035】また本実施例においては、パッケージ移動
機構9の保持/移動パイプ11による押圧によってパッ
ケージの各辺のリード列が回路基板に対して密着され、
たとえば回路基板に熱歪による反りなどがあっても各辺
のリード列が均等に基板に圧接された状態でパッケージ
に対する光ビーム加工が行われる。
Further, in the present embodiment, the lead row on each side of the package is brought into close contact with the circuit board by pressing by the holding / moving pipe 11 of the package moving mechanism 9,
For example, even if the circuit board is warped due to thermal strain, the light beam processing is performed on the package in a state where the lead rows on each side are evenly pressed against the board.

【0036】光ビームによる熱加工中にはハンダクリー
ムの溶融時に表面張力の不均一によりパッケージと基板
間で局所的な傾きやずれを生じるおそれがあるが、本実
施例においてはパッケージが保持/移動パイプ11によ
って全体として均等に基板に押圧されているのでこのよ
うな傾きやずれ、ないしはそれに起因するハンダ付不良
などは全く生じない。
During thermal processing with a light beam, unevenness in surface tension may occur during melting of the solder cream, which may cause local inclination or displacement between the package and the substrate. In this embodiment, the package is held / moved. Since the pipe 11 is uniformly pressed against the substrate as a whole, such inclination or deviation, or soldering failure due to it, does not occur at all.

【0037】次に光ビーム加工が終了した時点で、図示
しない冷却風供給装置を作動させて冷却風供給パイプ1
3に冷却風を供給し、架台1の底部に設けたガイドブロ
ック12の冷却風吹出口14から下方に向けてパッケー
ジの上面に冷却風を吹付ける。これによってリード列の
溶融ハンダ付部分が急速に冷却されその移動処理が可能
な状態となる。
Next, when the light beam processing is completed, a cooling air supply device (not shown) is operated to operate the cooling air supply pipe 1.
Cooling air is supplied to 3 and the cooling air is blown downward from the cooling air outlet 14 of the guide block 12 provided at the bottom of the gantry 1 onto the upper surface of the package. As a result, the molten soldered portion of the lead row is rapidly cooled and becomes ready to be moved.

【0038】こゝで図示しない真空吸引装置を作動させ
て保持/移動パイプ11の下端に加工を完了したパッケ
ージを真空吸着させパッケージ保持/移動移動機構9に
よりパッケージを所定場所に移送する。
A vacuum suction device (not shown) is operated to vacuum-suck the processed package on the lower end of the holding / moving pipe 11 and transfer the package to a predetermined place by the package holding / moving moving mechanism 9.

【0039】本発明においては、装置各部における反射
曲面2A、2B、導光反射板15、遮光部材19板等の
全ての光ビームの反射面に金または金合金のコーティン
グが施される。これによってハロゲンランプの近赤外な
いし赤外域のスペクトル部分の光がほとんど反射される
ので熱効率が向上し、かつ光学系の各部材に対する熱の
影響を減少させることができる。
In the present invention, gold or gold alloy coating is applied to all the reflection surfaces of the light beams such as the reflection curved surfaces 2A and 2B, the light guide reflection plate 15 and the light shielding member 19 plate in each part of the device. As a result, most of the light in the near infrared or infrared region of the halogen lamp is reflected, so that the thermal efficiency is improved and the influence of heat on each member of the optical system can be reduced.

【0040】また本発明の装置においては、加工すべき
パッケージの中央部を吸着してこれを加工域から搬出さ
せるためのパッケージ保持/移動機構9を設けると共に
その保持/移動パイプ11の下端でパッケージを回路板
に押圧するようになされているので、ビーム加工時にパ
ッケージの各辺のビーム列を回路基板の所定位置に均等
に密着させて効果的なハンダ付を行うことができる。
Further, in the apparatus of the present invention, the package holding / moving mechanism 9 for adsorbing the central portion of the package to be processed and carrying it out from the processing area is provided, and the package is held at the lower end of the holding / moving pipe 11. Since the circuit board is pressed against the circuit board, the beam rows on the respective sides of the package can be brought into close contact with predetermined positions of the circuit board evenly during the beam processing for effective soldering.

【0041】また保持/移動パイプ11と組合せて加工
時のパッケージを冷却するための冷却風の供給パイプ1
3を設けてあるので、光ビーム加工後の冷却によって処
理が迅速となり、作業時間短縮の効果が一層改善され
る。
Further, in combination with the holding / moving pipe 11, a cooling air supply pipe 1 for cooling the package during processing is provided.
Since No. 3 is provided, the processing is speeded up by cooling after the light beam processing, and the effect of shortening the working time is further improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明を適用するICフラットパッージの光ビ
ーム照射域の説明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram of a light beam irradiation area of an IC flat package to which the present invention is applied.

【図2】線状光源を用いる従来の光ビーム加工装置にお
ける照射域のランプ軸方向における光ビームの光路を示
す説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing an optical path of a light beam in a lamp axis direction of an irradiation area in a conventional light beam processing apparatus using a linear light source.

【図3】線状光源を用いる従来の光ビーム加工装置にお
ける照射域の他方の方向における光ビームの光路を示す
説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram showing an optical path of a light beam in the other direction of an irradiation area in a conventional light beam processing apparatus using a linear light source.

【図4】線状光源を用いる本発明の光ビーム加工装置に
おける導光路の作用を示す説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing an operation of a light guide path in the light beam processing apparatus of the present invention using a linear light source.

【図5】本発明の一実施例の概要を示す断面図である。FIG. 5 is a sectional view showing an outline of an embodiment of the present invention.

【図6】本発明の実施例の要部における導光反射板およ
び導光路の部分を示す正面図である。
FIG. 6 is a front view showing a part of a light guide reflection plate and a light guide path in a main part of the embodiment of the present invention.

【図7】本発明の実施例の要部としての凹面楕円反射鏡
を示す側面図である。
FIG. 7 is a side view showing a concave elliptical reflecting mirror as an essential part of the embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1……架台、 2……凹面楕円反射鏡 2A、2B……反射曲面 3……線状光源(ハロゲンランプ) 4……シャッタ 5……ステップモータ 6……上下動ブロック 7……リンク機構 8……ガイド軸 9……パッケージ保持/移動機構 10……エアシリンダ 11……保持/移動パイプ 12……ガイドブロック 13……冷却風供給パイプ 14……冷却風吹出口 15……導光反射板 16……導光路 17……ランプソケット 18……取付部材 19……遮光部材 20……遮光部 QFP……4方向パッケージ A……リード列の照射領域 R……凹面楕円反射鏡 P……線状光源 H……導光路 K……導光反射板 L……光ビーム(照射域) LA、LB……光ビーム(照射域外) LC……直進光 1 ... Frame, 2 ... Concave elliptical reflecting mirror 2A, 2B ... Reflective curved surface 3 ... Linear light source (halogen lamp) 4 ... Shutter 5 ... Step motor 6 ... Vertical movement block 7 ... Link mechanism 8 …… Guide shaft 9 …… Package holding / moving mechanism 10 …… Air cylinder 11 …… Holding / moving pipe 12 …… Guide block 13 …… Cooling air supply pipe 14 …… Cooling air outlet 15 …… Light guide reflector 16 ...... Light guide 17 ...... Lamp socket 18 ...... Mounting member 19 ...... Shading member 20 ...... Shading part QFP ...... 4 direction package A ...... Irradiation area of lead row R ...... Concave elliptical reflecting mirror P ...... Linear Light source H: Light guide path K: Light guide reflection plate L: Light beam (irradiation area) LA, LB ... Light beam (outside irradiation area) LC: Straight light

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 リード付フラットパッケージの外周の夫
々の側方から引出された各リード列をプリント基板の回
路パターンに光ビームの照射によってはんだ付けするた
めの電子部品の光ビーム加工装置において、前記装置が 焦点からの光ビームを前記リード列の一方の方向に集束
させる形状の楕円断面を有しかつ筒軸方向を前記リード
列の他方の方向に合致させて設けた筒状の凹面楕円反射
鏡および、 長軸方向を前記凹面楕円反射鏡の筒軸方向に合致させか
つ該前記凹面楕円反射鏡の焦点に沿って配置した線状光
源を有する光学系を前記各リード列に対応して備えてお
り、 前記光学系が前記線状光源から前記リード列に向う方向
に延設されかつ前記線状光源の長軸方向に沿って所定の
間隔で設けられた互いに平行な導光反射板を有してお
り、それによって前記線状光源から前記リード列に向う
光ビームに対する複数の導光路を形成したことを特徴と
する電子部品の光ビーム加工装置。
1. A light beam processing apparatus for an electronic component for soldering each lead row drawn out from each side of the outer periphery of a flat package with leads to a circuit pattern of a printed circuit board by irradiating a light beam with the light beam. A cylindrical concave elliptical reflecting mirror in which the device has an elliptical cross section of a shape that focuses a light beam from a focus in one direction of the lead row and the cylinder axis direction is aligned with the other direction of the lead row. And an optical system having a linear light source whose long axis direction is aligned with the cylindrical axis direction of the concave elliptical reflecting mirror and arranged along the focal point of the concave elliptical reflecting mirror, corresponding to each of the lead rows. Wherein the optical system includes parallel light guide reflectors extending from the linear light source in a direction toward the lead row and provided at predetermined intervals along a long axis direction of the linear light source. And Thereby, a plurality of light guide paths for a light beam directed from the linear light source to the lead row are formed, and a light beam processing device for electronic parts.
【請求項2】 前記光学系が前記線状光源から出射され
前記凹面楕円反射鏡によって反射集束される光ビームの
光路中に、前記リード列に対する光ビームの投影断面の
形状を前記リード列の形状に応じて整形する光路シャッ
タを備え、 前記導光路を形成する反射板が前記線状光源の下方と前
記光路シャッタとの間に延設されてされている請求項1
記載の光ビーム加工装置。
2. The shape of the projected cross section of the light beam onto the lead row is defined in the optical path of the light beam emitted from the linear light source and reflected and focused by the concave elliptical reflecting mirror. 2. An optical path shutter that is shaped according to the above, wherein a reflection plate that forms the light guide path is provided so as to extend below the linear light source and between the optical path shutters.
The described light beam processing apparatus.
【請求項3】 前記線状光源から前記光路シャッタに向
って形成された導光路の線状光源の下方に、前記リード
列の前記一方の方向への照射を制御する遮光部材を設
け、かつこの遮光板の前記一方の方向の中央部に対応す
る領域に光源からの直接光の透光部を形成したことを特
徴とする請求項1記載の光ビーム加工装置。
3. A light shielding member for controlling irradiation of the lead row in the one direction is provided below the linear light source of a light guide path formed from the linear light source toward the optical path shutter, and The light beam processing apparatus according to claim 1, wherein a light transmitting portion for direct light from the light source is formed in a region corresponding to a central portion of the light shielding plate in the one direction.
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