JPH06258828A - 高精細パターン形成材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 マスクパタ−ンを固着するに足る塗膜表面粘
着性を有し、かつ、活性光線照射によって現像除去可能
な非画像部と非粘着性の硬化画像部とを形成する新規画
像形成材料であって、（１）分子鎖中にアミド基、尿素
基、ウレタン基、エステル基から選ばれた１種以上の基
を有するアクリル又はメタクリル末端基含有アクリルオ
リゴマ−、（２）カルボキシル基又はリン酸基含有アク
リルオリゴマ−、（３）トリアジン誘導体系重合開始剤
とを含有する高精細パタ−ン形成材料。 【効果】 本発明の組成物は、薄膜単層コ−ティングが
でき、かつ、その表面に金属マスク等を転写・固着し得
る機能を有する感光材料であり、ステッパ−を用いずに
一括露光方式で基板上に欠落の無い高解像度のパタ−ン
画像を形成することができる。本発明の組成物によれ
ば、大面積回路素子基板を簡便に生産性良く製造するこ
とができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、大面積電極回路素子基
板の製造用に好適に用いることのできるパターン形成材
料に関するもので、更に詳しくは、加工基板上に均一に
塗布することができ、その塗膜表面にパターンマスクを
転写画像として受理固着し得る粘着力を有するものであ
って、その転写マスクを介して一括露光により広い面積
での画像形成ができ、現像処理によって被エッチング表
面を露出すると共に、耐エッチング性に優れた硬化画像
部を形成し得る新規なパターン形成材料に関する。

【０００２】

【従来の技術】最近、ディスプレイ分野において液晶を
利用した表示デバイスの需要が高まってきており、壁掛
けテレビ等の大面積素子としてのニーズも強くなってき
ている。

【０００３】従来、液晶表示デバイス用の電極回路素子
基板の作製には、半導体、ＩＣ、ＬＳＩ等の製造に見ら
れるように、加工基板上にレジストを塗布し、そのレジ
スト層に対してステッパを用いて所望のレジスト画像形
成が行われていた。しかしながら、このステッパを用い
たレジストへの画像形成方式では、ＴＦＴ−ＬＣＤ等の
大面積回路素子基板を作製しようとすると、分割露光回
数が著しく増加し、その結果、歩留まりが大幅に低下し
てしまうという問題があった。又、スループットのみな
らず、露光装置自体の実現性も困難等の問題点があっ
た。

【０００４】そこで、大面積回路素子基板を効率的に製
造する方法として、ステッパを使用しないでパターン画
像を形成させる印刷方式が提案されている。（電子ディ
スプレイ ＥＩＤ９１−４１ （１９９１））。

【０００５】この方法では、導電性印刷基板に感光性樹
脂を用いてパターン形成し（印刷版の作成）、この基板
のパターンを使って電析法により金属マスクパターンを
形成し、この金属薄膜パターンを被エッチング基板上に
設けたレジスト層上に転写することによってステッパを
用いずにパターン形成を行うプロセスになっている。

【０００６】この方法で用いるレジスト材料には、金属
薄膜パターンを転写マスクとして受理し、かつ、固定化
し得る寸法的に安定な成膜性及び強固な粘着力が要求さ
れる。又、転写マスクの存在下での活性光線照射によ
り、現像除去し得る非画像部とエッチング処理に耐え得
る画像部とを高解像度で形成し得る特性も要求される。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
フォトレジスト材料は、通常表面粘着性を全く有するこ
とがなく、その塗膜表面に金属マスクを転写させたり、
転写マスクを寸度的に安定して固定化させることはでき
ない。これを解決する為に、フォトレジスト層上に粘着
剤層を新らたに設けることによってマスクパターンの転
写性を付与させることは可能となるものの、現像処理時
において粘着剤層を均一に取り除くことが困難となり、
被エッチング面を高精度に露出することができないとい
う問題が生じたり、あるいは、現像処理ができたとして
も２層構造による画像解像度の低下を引き起こしてしま
うなどの問題があった。

【０００８】一方、紫外線硬化接着剤等をレジストとし
て使用しようとすると、コーティング塗膜の成膜性が不
十分で、マスクパターンを精度良く転写することができ
ないという問題があった。

【０００９】本発明者らは、先に光硬化性アクリル樹脂
系での粘着性フォトレジスト組成物を提案したが、基材
の種類によっては硬化レジスト画像の密着力が不十分と
なり、現像時に微細画像が比較的容易に基板から欠落し
てしまう問題があった。

【００１０】本発明が解決しようとする課題は、加工基
板上に均一薄膜にコーティングすることができ、マスク
パターンの転写圧に耐え得る充分な成膜性と転写マスク
の固着を可能とする優れた表面粘着力を合わせ有する塗
膜形成ができ、かつ、現像処理後に基板上に欠落の無い
微細画像を形成し得る高精細パターン形成材料を提供す
ることにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意研究
を重ねた結果、上記課題を解決するに至った。

【００１２】即ち、本発明は上記課題を解決するため
に、基材上に光重合性組成物を塗布し、表面粘着力を有
する感光性薄膜層を形成する第１工程、該感光性薄膜層
表面上に遮光性固形マスクを転写・固着する第２工程、
固着固形マスク側から活性光線を照射することによって
マスク開口部の感光性薄膜層を架橋硬化する第３工程及
び固形マスクを剥離除去した後、未露光感光性薄膜層を
現像除去して基材上に高精細パターン画像を形成する第
４工程からなる高精細パターン画像を形成する方法に用
いる光重合性組成物から成る高精細パターン形成材料で
あって、前記光重合性組成物が、（１）分子鎖中にアミ
ド基、尿素基、ウレタン基、エステル基から選ばれた１
種以上の基を有するアクリル又はメタクリル末端基含有
アクリルオリゴマー、（２）カルボキシル基又はリン酸
基含有アクリルオリゴマー及び（３）トリアジン誘導体
系重合開始剤を含有することを特徴とする高精細パター
ン形成材料を提供する。

【００１３】これらの成分の組合せにより、印刷方式レ
ジストとして必要な、薄膜層での転写固形マスクの受理
・固着特性及び転写圧に耐え得る成膜性を共に満足し、
かつ活性光線照射後現像処理によって基板上に高解像度
の微細パターンを形成し得る組成物を与える。このため
本発明パターン形成材料を用いることにより、ステッパ
ーを使用せずに大面積のレジストパターンを高精度で迅
速に行うことが可能となる。

【００１４】本発明におけるこれらの成分は、次のよう
な点で特徴づけられるものである。

【００１５】第１成分のオリゴマーは、活性光線により
重合し得るアクリル又はメタクリル末端基を含有する重
合性化合物であり、活性光線照射前の感光性薄膜層の表
面粘着性付与成分として、又、画像の架橋密度調整成分
として有効に作用するものであり、単一のオリゴマーで
あることを要しないのは勿論で、２種以上のオリゴマー
を併用して用いることもできる。

【００１６】本発明で使用するアクリル又はメタクリル
末端基含有アクリルオリゴマーとしては、例えば、 (1) エチレングリコールジアクリレート、グリセリント
リアクリレート、ポリアクリレート、エチレングリコー
ルジメタクリレート、１，３−プロパンジオールジメタ
クリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレー
ト、１，２，４−ブタントリオールトリメタクリレー
ト、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエ
リスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトール
トリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタ
クリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリ
トールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールポ
リアクリレート、１，３−プロパンジオールジアクリレ
ート、１，５−ペンタンジオールジメタクリレート等の
ポリオールの不飽和エステル。

【００１７】(2) ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂に
（メタ）アクリル酸、更に場合によりヤシ油脂肪酸等の
長鎖脂肪酸をエステル化させて得たエポキシ（メタ）ア
クリレートあるいはその長鎖脂肪酸変性物、水酸基を有
するエポキシ（メタ）アクリレートに二塩基酸無水物、
四塩基酸ジ無水物、無水トリメリット酸を付加して得た
カルボキシル基を有するエポキシ（メタ）アクリレート
の如きエポキシ（メタ）アクリレート及びその変性物。

【００１８】(3) 英国特許第１，１４７，７３２号明細
書（特開昭５１−３７１９３号公報及び特開昭５１−１
３８７９７号公報）に記載されているようなジイソシア
ナート化合物とポリオールとを予め反応させて得られる
末端イソシアナート化合物に更にβ−ヒドロキシアルキ
ルアクリレート及び／又はメタクリレートを反応せしめ
ることによって得られる分子内に２個以上のアクリロイ
ロキシ基及び／又はメタクリロイロキシ基をもった付加
重合性化合物。

【００１９】(4) 特公昭４７−３２６２号公報に記載さ
れているような無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル
酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラクロロ無水フタ
ル酸、あるいは無水ヘッド酸のような二塩基酸無水物と
グリシジルアクリレート及び／又はグリシジルメタクリ
レートを開環重合して得られるアクリロイロキシ基及び
／又はメタクリロイロキシ基を多数ペンダントにもった
直線状ポリエステル化合物。

【００２０】(5) 特公昭４７−２３６６１号公報に記載
されているような隣接炭素原子に少なくとも３個のエス
テル化可能なヒドロキシル基を有する多価アルコール
と、アクリル酸及び／又はメタクリル酸と、ジカルボン
酸及びその無水物からなる群から選択されたジカルボン
酸類との共エステル化によって製造された重合可能なエ
ステル類。

【００２１】(6) 英国特許第６２８，１５０号明細書、
米国特許第３，０２０，２５５号明細書及び月刊誌「マ
クロモレキュールズ」第４巻、第５号、第６３０〜６３
２頁（１９７１年）に記載されている如きメラミン又は
ベンゾグアナミンにホルムアルデヒド、メチルアルコー
ル及びβ−ヒドロキシアルキルアクリレート（又はメタ
クリレート）等を反応せしめて得られるポリアクリル
（又はポリメタクリル）変性トリアジン系樹脂。

【００２２】(7) 米国特許第３，３７７，４０６号明細
書に記載されているようなポリヒドロキシ化合物のグリ
シジルエーテル化物にアクリル酸又はメタクリル酸を反
応させて得られる不飽和ポリエステル樹脂。

【００２３】(8) 米国特許第３，４５５，８０１号明細
書及び米国特許第３，４５５，８０２号明細書に記載さ
れている一般式

【００２４】

【化１】

【００２５】（式中、Ｒは炭素原子数２〜１０の２価の
飽和又は不飽和脂肪族炭化水素基を表わし、Ｒ’は炭素
原子数２〜１０の２価の飽和脂肪族炭化水素基を表わ
し、Ｒ”は水素原子又はメチル基を表わし、ｎは１〜１
４の整数を表わす。）で表わされる両末端にアクリロイ
ロキシ基又はメタクリロイロキシ基を有するポリエステ
ル化合物。

【００２６】(9) 米国特許第３，４８３，１０４号明細
書及び米国特許第３，４７０，０７９号明細書に記載さ
れている一般式

【００２７】

【化２】

【００２８】（式中、Ａは−Ｏ−又は−ＮＨ−を表わ
し、１分子中に少なくとも２個は−ＮＨ−であるものと
し、Ｒは二価の飽和脂肪族又は不飽和脂肪族炭化水素基
を示し、Ｒ’は二価の飽和又は不飽和の脂肪族あるいは
環状炭化水素を表わし、Ｒ”は水素原子又はアルキル基
を表わし、ｎは１〜１４の整数を表わす。）で表わされ
るジアクリル変性（又はジメタクリル変性）ポリアミド
化合物。

【００２９】(10) 特公昭４８−３７２４６号明細書に
記載されている一般式

【００３０】

【化３】

【００３１】（式中、Ｘは水素原子又はアシル基を示
し、Ｒは二価の飽和又は不飽和の脂肪族又は環状炭化水
素基を表わし、Ｒ¹ は二価の脂肪族炭化水素基を表わ
し、Ｒ² は水素原子又はアルキル基を表わし、Ａは−Ｏ
−又は−ＮＨ−を表わし、１分子中て少なくとも２個は
−ＮＨ−であるものとし、ｎは１〜１４の整数を表わ
す。）で表わされるジアクリル変性（又はジメタクリル
変性）ポリアミド化合物。

【００３２】(11) 米国特許第３，４８５，７３２号明
細書に記載されているような飽和又は不飽和の二塩基酸
又はその無水物、あるいは必要に応じてそれらとジオー
ルとを反応させて得られる両末端にカルボキシル基を有
する化合物に更にグリシジルアクリレート又はグリシジ
ルメタクリレートを反応せしめることにより得られるジ
アクリル変性（又はジメタクリ変性）ポリエステル化合
物。

【００３３】(12) 特公昭４８−１２０７５号明細書に
記載されているごとき分子中に一般式

【００３４】

【化４】

【００３５】（式中、Ｘはアシル基又はウレタン基を表
わし、Ｒは、水素原子、塩素原子、メチル基又はシアノ
基を表わす。）で表わされるくり返し単位を有する側鎖
に不飽和酸エステル結合を有する（メタ）アクリル共重
合体に基づく化合物等を挙げることができる。

【００３６】なかでも、アクリルオリゴマーとして、分
子鎖中にアミド、尿素、ウレタン、エステルから選ばれ
た１種以上の基を有するアクリル又はメタクリル末端基
含有アクリルオリゴマーが本発明には好適に用いること
ができる。この種のアクリルオリゴマーは内部凝集力の
大きな感光性薄膜層を形成する効果が大きく、マスク転
写工程における感光層の成膜安定特性を高めるのに有用
である。さらには、活性光線の照射により強靱な硬化画
像部を形成すると共に、未露光部分を容易に溶解除去で
きることから高精細なパターン形成が可能となる。

【００３７】第２成分のカルボキシル基又はりん酸基含
有アクリルオリゴマーとしては、例えば、エチレンオキ
サイド変性フタル酸アクリレート（東亜合成(株)製アロ
ニクスＭ−５４００）、エチレンオキサイド変性コハク
酸アクリレート（東亜合成(株)製アロニクスＭ−５５０
０）、アクリル酸ダイマー（東亜合成(株)製アロニクス
Ｍ−５６００）、２−メタアクリロイルオキシエチルフ
ォスフェート（日本化薬(株)製カヤマーＰＭ−１）、２
−ヒドロキシエチルメタアクリレートフォスフェート
（日本化薬(株)製カヤマーＰＭ−２）等を挙げることが
できる。

【００３８】これらの成分は硬化画像の基板に対する密
着性を向上させる上で有用であり、活性光線照射によっ
て形成された微細画像の現像工程時における欠落を効果
的に防止することができる。

【００３９】この第２成分のカルボキシル基又はりん酸
基を含有するアクリルオリゴマーの使用量は、組成物中
の５〜５０重量％の範囲が好ましく、１０〜３０重量％
の範囲が特に好ましい。

【００４０】第３成分のトリアジン誘導体系重合開始剤
は下記一般式で示される化合物であって、

【００４１】

【化５】

【００４２】（式中、Ｘは置換基を表わす）

【００４３】具体的には、２−（ｐ−クロロフェニル）
−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−ト
リアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビ
ス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２
−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−
（ｐ−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロ
メチル）−１，３，５−トリアジン等を挙げることがで
きる。

【００４４】このトリアジン誘導体系重合開始剤を用い
ることにより、他の重合開始剤系では比較的容易に基板
から脱落してしまうパターン画像をも効果的に密着性良
く基板上に形成することが可能となる。

【００４５】トリアジン誘導体系重合開始剤の使用割合
は、組成物中の０．１〜１０重量％の範囲が好ましく、
１．０〜５．０重量％の範囲が特に好ましい。

【００４６】なお、必要に応じて本発明組成物中に有機
重合体結合体を添加することもできる。有機重合体結合
体としては、例えば、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、
ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸メチ
ル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル、ポ
リメタクリル酸、ポリメタクリル酸メチル、ポリビニル
エーテル、ポリビニルアセタール及びこれらの共重合付
加物、共重合ナイロン、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロ
ンの如きポリアミド樹脂、ジカルボン酸化合物とジオー
ル化合物との縮合反応によるポリエステル樹脂、ジイソ
シアネート化合物とジオール化合物によるポリウレタン
樹脂、脂肪族環状炭化水素樹脂、ポリテルペン系樹脂、
ポリイソプレンゴム、合成ゴム、塩素化ゴム等を挙げる
ことができる。

【００４７】この有機重合体結合体は、レジスト膜への
マスク転写適性を向上させる上で効果があり、転写時の
レジスト膜の変形を防止すると共に、転写マスクを固定
化保持するに必要なレジスト表面の粘着強度を増強させ
ることができる。

【００４８】以上、説明した各成分が本発明におけるパ
ターン形成材料の主成分である。勿論、本発明の組成物
に更に、酸化防止剤、連鎖移動剤、熱重合禁止剤、染料
・顔料等着色剤を必要に応じて添加して用いることもで
きる。

【００４９】

【実施例】以下、本発明の実施例を示し、本発明を更に
具体的に説明する。しかしながら、本発明はこれらの実
施例に限定されるものではない。

【００５０】（実施例１）分子量３０００のポリプロピ
レングリコール２モルにトリレンジイソシアネート３モ
ルを付加させ、さらにヒドロキシプロピルアクリレート
を２モル付加させたアクリル末端基含有ウレタンアクリ
ルオリゴマー（Ａ）を合成した。

【００５１】これを用いて以下の配合で液状光重合性組
成物を調合した。 ウレタンアクリルオリゴマー（Ａ） ２９ｇ りん酸基含有アクリルオリゴマー １７ｇ （日本化薬(株)製「カヤマーＰＭ−１」） スチレンアクリル酸樹脂 ３７ｇ （ジョンソンポリマー(株)製「ジョンクリル６８」、Ｍ_W＝１００００） トリメチロールプロパンアクリル酸安息香酸エステル １７ｇ （共栄社油脂(株)製「ＢＡ−１３４」） ２−（ｐ−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１， ３，５−トリアジン ３ｇ メチルセロソルブ １００ｇ メチルエチルケトン １５０ｇ ──────────────────────────────── ３５３ｇ

【００５２】スライドガラス基板上に、上記光重合性組
成物溶液をスピンコート（３０００ｒｐｍ）し、１００
℃で１０分間乾燥して厚み２．５ミクロンの均一感光性
塗膜を形成した。この感光性塗膜は室温下で充分なる粘
着性表面を有しており、指を上から押しあてると指先に
粘結着し、この状態でスライドガラス基板ごと空中に持
ち上げることができる程の粘着力を有していた。

【００５３】この感光性塗膜上に金属マスクをローラー
圧着したところ、感光層表面に充分に接着し、ガラス基
板を逆さにしても金属マスクの落下は観測されなかっ
た。金属マスクの固着した感光層に対し、８０Ｗ／cmの
出力を有するメタルハライドランプで１５０ｍＪ／cm²
の紫外線を照射して一括露光を行った。 次いで、金属
マスクを剥離除去した後メチルセロソルブ溶剤で１分間
現像して水洗したところ、マスクで遮光された部分は溶
解除去され、光照射部のみが基板上に非粘着性の硬化レ
ジスト画像として残った。硬化画像部は、金属マスクの
３ミクロン幅のラインアンドスペースを解像していた。

【００５４】このレジスト画像形成ガラス板を１％ふっ
化水素酸水溶液中に１分間浸漬したところ、レジストの
剥離は観測されず、耐エッチング性及び画像密着性に優
れることが確認された。

【００５５】スライドガラス基板に替えて、ＩＴＯ電極
層を有するガラス基板を用いて同様に画像形成を行った
ところ、高解像度のパターン画像を形成することができ
た。

【００５６】（実施例２）以下の配合で液状光重合性組
成物を調合した。 エステル系アクリルオリゴマー ５０ｇ （東亜合成(株)製「アロニクスＭ−６４００」） ウレタンアクリルオリゴマー（Ａ） １２ｇ エチレンオキサイド変性フタル酸アクリレート ３０ｇ （東亜合成(株)製「アロニクスＭ−５４００」） アクリル酸ダイマー ８ｇ （東亜合成(株)製「アロニクスＭ−５６００」） ２−（ｐ−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１， ３，５−トリアジン ５ｇ メチルセロソルブ １００ｇ メチルエチルケトン １５０ｇ ──────────────────────────────── ３５５ｇ

【００５７】ＩＴＯ導電層を有するガラス基板上に上記
光重合性組成物溶液をロールコートし、１００℃で５分
間乾燥して厚み３．０ミクロンの均一感光層塗膜を形成
した。

【００５８】この感光層塗膜は室温下で充分なる表面粘
着性を有していた。この感光性塗膜上に金属マスクを転
写した後、８０Ｗ／cmの出力を有するメタルハライドラ
ンプで１６０mJ／cm²の紫外線を照射して一括露光を行
った。 次いで、メチルセロソルブ溶剤で１分間現像し
未露光部を溶解除去した後、水洗したところ、高解像度
の非粘着性パターン画像を形成することができた。

【００５９】（実施例３）以下の配合で液状光重合性組
成物を調合した。 ウレタンアクリルオリゴマー（Ａ） ４０ｇ アクリル酸ダイマー「アロニクスＭ−５６００」 ２０ｇ スチレンアクリル酸樹脂「ジョンクリル６８」 ２０ｇ 「ＢＡ−１３４」 １０ｇ ２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１， ３，５−トリアジン ４ｇ メチルセロソルブ ５０ｇ メチルエチルケトン １５０ｇ ──────────────────────────────── ２９４ｇ

【００６０】ポリシリコン基板上に上記光重合性組成物
溶液をロールコートし、１００℃で５分間乾燥して厚み
２．５ミクロンの均一感光層塗膜を形成した。

【００６１】この感光層塗膜は室温下で充分なる粘着性
表面を有しており、マスク転写受理性に優れたものであ
った。感光層上にマスクを転写した後、活性光線を一括
露光し、画像形成を行った後、メチルセロソルブ溶剤で
現像し高解像度（３ミクロンのＬ／Ｓ）の非粘着性硬化
パターン画像を形成することができた。

【００６２】（比較例１）実施例１で用いたリン酸基含
有アクリルオリゴマーを除いて、以下の配合で液状光重
合性組成物を調合した。

【００６３】 ウレタンアクリルオリゴマー（Ａ） ３５ｇ スチレンアクリル酸樹脂「ジョンクリル６８」 ４５ｇ 「ＢＡ−１３４］ ２０ｇ ２−（ｐ−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１， ３，５−トリアジン ５ｇ メチルセロソルブ １００ｇ メチルエチルケトン １５０ｇ ──────────────────────────────── ３５５ｇ

【００６４】ＩＴＯ導電層を有するガラス基板上にスピ
ンコートし、乾燥することにより表面粘着性を有する３
ミクロン厚の均一感光性塗膜が得られた。

【００６５】この塗膜上に金属マスクを転写した後、８
０Ｗ／cmの出力を有するメタルハライドランプで１５０
mJ／cm²の紫外線を照射して一括露光を行った。次い
で、メチルセロソルブで１分間現像したところ、未露光
部の溶解と共に硬化画像部も基板から剥離してしまい、
ＩＴＯ基板上にパターン画像を形成することができなか
った。

【００６６】（比較例２）実施例１で用いたトリアジン
誘導体系重合開始剤を除いて、以下の配合で液状光重合
性組成物を調合した。

【００６７】 ウレタンアクリルオリゴマー（Ａ） ２９ｇ りん酸基含有アクリルオリゴマー「カヤマーＰＭ−１」 １７ｇ スチレンアクリル酸樹脂「ジョンクリル６８」 ３７ｇ 「ＢＡ−１３４］ １７ｇ ２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２ ５ｇ モルホリノプロパノン−１ （重合開始剤 チバ・ガイギー(株)製「イルガキュア−９０７」） メチルセロソルブ １００ｇ メチルエチルケトン １５０ｇ ──────────────────────────────── ３５５ｇ

【００６８】この塗膜上に金属マスクを転写した後、８
０Ｗ／cmの出力を有するメタルハライドランプで４００
mJ／cm²の紫外線を照射して一括露光を行った。 次い
で、メチルセロソルブで１分間現像したところ、未露光
部の溶解と共に硬化画像部も基板から剥離・脱落してし
まい、ＩＴＯ基板上にパターン画像を形成することがで
きなかった。

【００６９】

【発明の効果】本発明の高精細パターン形成材料は、薄
膜単層コーティングができ、かつ、その表面に金属マス
ク等を転写・固着し得る機能を有する感光材料であり、
ステッパーを用いずに一括露光方式で基板上に欠落のな
い高解像度のパターン画像を形成することができる。

【００７０】従って、本発明の高精細パターン形成材料
を用いれば大面積回路素子基板を簡便に生産性良く製造
することができる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基材上に光重合性組成物を塗布し、表面
   粘着力を有する感光性薄膜層を形成する第１工程、該感
   光性薄膜層表面上に遮光性固形マスクを転写・固着する
   第２工程、固着固形マスク側から活性光線を照射するこ
   とによってマスク開口部の感光性薄膜層を架橋硬化する
   第３工程及び固形マスクを剥離除去した後、未露光感光
   性薄膜層を現像除去して基材上に高精細パターン画像を
   形成する第４工程からなる高精細パターン画像を形成す
   る方法に用いる光重合性組成物から成る高精細パターン
   形成材料であって、前記光重合性組成物が、（１）分子
   鎖中にアミド基、尿素基、ウレタン基、エステル基から
   選ばれた１種以上の基を有するアクリル又はメタクリル
   末端基含有アクリルオリゴマー、（２）カルボキシル基
   又はリン酸基含有アクリルオリゴマー及び（３）トリア
   ジン誘導体系重合開始剤を含有することを特徴とする高
   精細パターン形成材料。