JPH0625244A - カルバペネム、抗菌作用を有する医薬調剤、該化合物を製造するための方法および中間体 - Google Patents
カルバペネム、抗菌作用を有する医薬調剤、該化合物を製造するための方法および中間体Info
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 グラム陽性および陰性の好気性および嫌気性
細菌の双方に抗する抗菌性の活量の広域スペクトルを有
する化合物を提供する。 【構成】 式(I)で示されるカルバペネム化合物、当
該化合物を含有する抗菌作用を有する医薬調剤,式
(I)のカルバペネム化合物の製造方法およびこの方法
で使用される中間体化合物。 〔式中,R1は−CH(OH)CH3,−CH(F)C
H3,−CH2OHを;R2,R3はH,C1〜4アル
キルを;Pはカルボキシ基,スルホン酸基,ベンズアミ
ドスルホニル基,テトラゾール−5−イル基等で置換さ
れているフェニル基,ナフチル基またはチエニル基を示
す〕 【効果】 抗生物質としてヒトを含めた哺乳動物の細菌
感染症の処置に使用できる。
細菌の双方に抗する抗菌性の活量の広域スペクトルを有
する化合物を提供する。 【構成】 式(I)で示されるカルバペネム化合物、当
該化合物を含有する抗菌作用を有する医薬調剤,式
(I)のカルバペネム化合物の製造方法およびこの方法
で使用される中間体化合物。 〔式中,R1は−CH(OH)CH3,−CH(F)C
H3,−CH2OHを;R2,R3はH,C1〜4アル
キルを;Pはカルボキシ基,スルホン酸基,ベンズアミ
ドスルホニル基,テトラゾール−5−イル基等で置換さ
れているフェニル基,ナフチル基またはチエニル基を示
す〕 【効果】 抗生物質としてヒトを含めた哺乳動物の細菌
感染症の処置に使用できる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、カルバペネムおよび特
に特定の酸性基で置換されたチエニル基、フェニル基ま
たはナフチル基を含有するカルバペネム化合物に関す
る。更に、本発明は、該カルバペネム化合物の製造法、
該カルバペネム化合物の中間体、治療剤としての該カル
バペネム化合物の使用および該カルバペネム化合物を含
有する医薬調剤に関する。本発明の化合物は、抗生物質
であり、例えばヒトを含めた哺乳動物における細菌によ
る感染症の処置において、従来、抗生物質で処置された
任意の疾病の処置に使用できる。
に特定の酸性基で置換されたチエニル基、フェニル基ま
たはナフチル基を含有するカルバペネム化合物に関す
る。更に、本発明は、該カルバペネム化合物の製造法、
該カルバペネム化合物の中間体、治療剤としての該カル
バペネム化合物の使用および該カルバペネム化合物を含
有する医薬調剤に関する。本発明の化合物は、抗生物質
であり、例えばヒトを含めた哺乳動物における細菌によ
る感染症の処置において、従来、抗生物質で処置された
任意の疾病の処置に使用できる。
【0002】
【従来の技術】カルバペネムは、まず、1974年に発
酵培地から単離され、広域スペクトルの抗菌性の活量を
有することが見出された。この発見以来多くの研究は、
新規のカルバペネム誘導体を創造し、多数の特許および
科学論文が公開された。
酵培地から単離され、広域スペクトルの抗菌性の活量を
有することが見出された。この発見以来多くの研究は、
新規のカルバペネム誘導体を創造し、多数の特許および
科学論文が公開された。
【0003】市販されている第1の、これまでは唯一の
カルバペネムは、イミペネム(N−ホルムイミドイルチ
エンアミシン)である。前記化合物は、抗菌性の活量の
広域スペクトルを有する。
カルバペネムは、イミペネム(N−ホルムイミドイルチ
エンアミシン)である。前記化合物は、抗菌性の活量の
広域スペクトルを有する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、グラ
ム陽性および陰性の好気性および嫌気性細菌の双方に抗
する抗菌性の活量を含めての抗菌性の活量の広域スペク
トルを有する化合物を提供することである。
ム陽性および陰性の好気性および嫌気性細菌の双方に抗
する抗菌性の活量を含めての抗菌性の活量の広域スペク
トルを有する化合物を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】前記課題は、本発明によ
る化合物により解決される。
る化合物により解決される。
【0006】前記化合物は、β−ラクタマーゼに対する
良好な安定性を示す。更に、本発明の化合物の代表例
は、有利な薬物動態学を示す。
良好な安定性を示す。更に、本発明の化合物の代表例
は、有利な薬物動態学を示す。
【0007】本発明に記載されたカルバペネム誘導体
は、一般的に認められている半ば体系化された命名法に
より命名されている:
は、一般的に認められている半ば体系化された命名法に
より命名されている:
【0008】
【化14】
【0009】本発明によれば、式(I):
【0010】
【化15】
【0011】〔式中:R1は、1−ヒドロキシエチル
基、1−フルオロエチル基またはヒドロキシメチル基を
表し;R2は、水素原子またはC1〜C4アルキル基を表
し;R3は、水素原子またはC1〜C4アルキル基を表
し;Pは、式(IA)、(IB)または(IC):
基、1−フルオロエチル基またはヒドロキシメチル基を
表し;R2は、水素原子またはC1〜C4アルキル基を表
し;R3は、水素原子またはC1〜C4アルキル基を表
し;Pは、式(IA)、(IB)または(IC):
【0012】
【化16】
【0013】〔この場合、式(IB)中で、ナフチル基
は、それぞれの環で結合カルバモイル基の窒素原子と結
合していてもよく;Zは、カルボキシ基、スルホン酸、
スルフィン酸、C1〜C4アルカンアミドスルホニル(−
SO2NHCOC1〜C3アルキル)基、ベンズアミドス
ルホニル基、C1〜C4アルキルスルホニルカルバモイル
(−CONHSO2C1〜C4アルキル)基、フェニルス
ルホニルカルバモイル基、C1〜C4アルコキシカルバモ
イル基、ヒドロキシカルバモイル基、スルホアミノ基、
N−C1〜C4アルカンスルホンアミド基、シアノカルバ
モイル基、シアノスルファモイル基、テトラゾル−5−
イル基、3−ヒドロキシイソキサゾル−4−イル基およ
び3−ヒドロキシイソキサゾル−5−イル基を表す〕で
示されるものであり;Pは、場合によっては、更に、ハ
ロゲン原子、シアノ、C1〜C4アルキル、ニトロ、ヒド
ロキシ、カルボキシ、C1〜C4アルコキシ、トリフルオ
ロメチル、C1〜C4アルコキシカルボニル、アミノ、C
1〜C4アルキルアミノ、ジ−C1〜C4アルキルアミノ、
スルホン酸、C1〜C4アルキルS(O)n(但し、n
は、0〜2を表す)、C1〜C4アルカノイルアミノ、C
1〜C4アルカノイル(N−C1〜C4アルキル)アミノ、
カルバモイル、C1〜C4アルキルカルバモイルおよびジ
−C1〜C4アルキルカルバモイルから選択された1個ま
たは2個の置換基によって置換されていてもよく;Pが
式(IA)または(IC)の環であり、Zがそれぞれス
ルホン酸またはN−C1〜C4アルカンスルホンアミド基
である場合には、該環はカルボキシによって置換されて
おらず;Pが式(IA)または(IC)で示されるもの
である場合には、Zはカルボキシ基を表さない}で示さ
れる化合物またはその製薬学的に認容性の塩または生体
内で加水分解可能なエステルが得られる。
は、それぞれの環で結合カルバモイル基の窒素原子と結
合していてもよく;Zは、カルボキシ基、スルホン酸、
スルフィン酸、C1〜C4アルカンアミドスルホニル(−
SO2NHCOC1〜C3アルキル)基、ベンズアミドス
ルホニル基、C1〜C4アルキルスルホニルカルバモイル
(−CONHSO2C1〜C4アルキル)基、フェニルス
ルホニルカルバモイル基、C1〜C4アルコキシカルバモ
イル基、ヒドロキシカルバモイル基、スルホアミノ基、
N−C1〜C4アルカンスルホンアミド基、シアノカルバ
モイル基、シアノスルファモイル基、テトラゾル−5−
イル基、3−ヒドロキシイソキサゾル−4−イル基およ
び3−ヒドロキシイソキサゾル−5−イル基を表す〕で
示されるものであり;Pは、場合によっては、更に、ハ
ロゲン原子、シアノ、C1〜C4アルキル、ニトロ、ヒド
ロキシ、カルボキシ、C1〜C4アルコキシ、トリフルオ
ロメチル、C1〜C4アルコキシカルボニル、アミノ、C
1〜C4アルキルアミノ、ジ−C1〜C4アルキルアミノ、
スルホン酸、C1〜C4アルキルS(O)n(但し、n
は、0〜2を表す)、C1〜C4アルカノイルアミノ、C
1〜C4アルカノイル(N−C1〜C4アルキル)アミノ、
カルバモイル、C1〜C4アルキルカルバモイルおよびジ
−C1〜C4アルキルカルバモイルから選択された1個ま
たは2個の置換基によって置換されていてもよく;Pが
式(IA)または(IC)の環であり、Zがそれぞれス
ルホン酸またはN−C1〜C4アルカンスルホンアミド基
である場合には、該環はカルボキシによって置換されて
おらず;Pが式(IA)または(IC)で示されるもの
である場合には、Zはカルボキシ基を表さない}で示さ
れる化合物またはその製薬学的に認容性の塩または生体
内で加水分解可能なエステルが得られる。
【0014】アルキルという用語は、全ての線状および
分枝鎖状の構造を包含し、例えばC1〜C4アルキル基
は、n−ブチル基および2−メチルプロピル基を包含す
る。
分枝鎖状の構造を包含し、例えばC1〜C4アルキル基
は、n−ブチル基および2−メチルプロピル基を包含す
る。
【0015】好ましいR1は、1−ヒドロキシエチル基
である。
である。
【0016】R2は、水素原子を表すかまたはC1〜C4
アルキル基、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル
基、1−メチルエチル基およびn−ブチル基を表す。
アルキル基、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル
基、1−メチルエチル基およびn−ブチル基を表す。
【0017】好ましいR2は、水素原子またはメチル基
である。特に、R2は、メチル基である。
である。特に、R2は、メチル基である。
【0018】R3は、水素原子を表すかまたはC1〜C4
アルキル基、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル
基、イソプロピル基およびn−ブチル基を表す。
アルキル基、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル
基、イソプロピル基およびn−ブチル基を表す。
【0019】好ましいR3は、水素原子またはメチル基
である。特に、R3は、水素原子である。
である。特に、R3は、水素原子である。
【0020】好ましいZは、スルホン酸、テトラゾル−
5−イル基、C1〜C4アルキルスルホニルカルバモイル
基、フェニルスルホニルカルバモイル基またはシアノカ
ルバモイル基を表す。
5−イル基、C1〜C4アルキルスルホニルカルバモイル
基、フェニルスルホニルカルバモイル基またはシアノカ
ルバモイル基を表す。
【0021】最も好ましいZは、スルホン酸またはテト
ラゾル−5−イル基である。
ラゾル−5−イル基である。
【0022】特に、Zは、スルホン酸である。
【0023】1つの実施態様の場合、Pは、式(IA)
または(IB)のものであり、ZおよびP上の場合によ
る置換基は、前記により定義されたものと同様であり、
Pが式(IB)のものである場合には、Zはカルボキシ
基を表す。
または(IB)のものであり、ZおよびP上の場合によ
る置換基は、前記により定義されたものと同様であり、
Pが式(IB)のものである場合には、Zはカルボキシ
基を表す。
【0024】もう1つの実施態様の場合には、Pは、式
(IC)のものであり、ZおよびP上の場合による置換
基は、前記により定義されたものと同様である。
(IC)のものであり、ZおよびP上の場合による置換
基は、前記により定義されたものと同様である。
【0025】好ましくは、Pが置換されているかまたは
非置換である場合には、場合による置換基は、ハロゲン
原子、シアノ、C1〜C4アルキル、ニトロ、ヒドロキ
シ、C1〜C4アルコキシ、カルバモイル、アミノおよび
トリフルオロメチルから選択されている。
非置換である場合には、場合による置換基は、ハロゲン
原子、シアノ、C1〜C4アルキル、ニトロ、ヒドロキ
シ、C1〜C4アルコキシ、カルバモイル、アミノおよび
トリフルオロメチルから選択されている。
【0026】Pのために適当な置換基は、例えば:ハロ
ゲン原子に関しては:フッ素、塩素、臭素およびヨウ
素;C1〜C4アルキル基に関しては:メチル、エチル、
プロピル、1−メチルエチル、ブチルおよび2−メチル
プロピル;C1〜C4アルコキシ基に関しては:メトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、1−メチルエトキシ、ブト
キシおよび2−メチルプロポキシ;C1〜C4アルキルカ
ルバモイル基に関しては:メチルカルバモイル、エチル
カルバモイルおよびプロピルカルバモイル;ジ−C1〜
C4アルキルカルバモイル基に関しては:ジメチルカル
バモイルおよびジエチルカルバモイル;C1〜C4アルキ
ルアミノ基に関しては:メチルアミノ、エチルアミノお
よびプロピルアミノ;ジ−C1〜C4アルキルアミノ基に
関しては:ジメチルアミノ、ジエチルアミノおよびジプ
ロピルアミノ;C1〜C4アルキルS(O)n−に関して
は:メチルチオ、メチルスルフィニルおよびメチルスル
ホニルC1〜C4アルカノイルアミノ基に関しては:アセ
トアミドおよびプロピオンアミド;C1〜C4アルコキシ
カルボニル基に関しては:メトキシカルボニル、エトキ
シカルボニルおよびプロポキシカルボニル;C1〜C4ア
ルカノイル(N−C1〜C4アルキル)アミノ基に関して
は:N−メチルアセトアミドおよびN−エチルアセトア
ミドを包含する。
ゲン原子に関しては:フッ素、塩素、臭素およびヨウ
素;C1〜C4アルキル基に関しては:メチル、エチル、
プロピル、1−メチルエチル、ブチルおよび2−メチル
プロピル;C1〜C4アルコキシ基に関しては:メトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、1−メチルエトキシ、ブト
キシおよび2−メチルプロポキシ;C1〜C4アルキルカ
ルバモイル基に関しては:メチルカルバモイル、エチル
カルバモイルおよびプロピルカルバモイル;ジ−C1〜
C4アルキルカルバモイル基に関しては:ジメチルカル
バモイルおよびジエチルカルバモイル;C1〜C4アルキ
ルアミノ基に関しては:メチルアミノ、エチルアミノお
よびプロピルアミノ;ジ−C1〜C4アルキルアミノ基に
関しては:ジメチルアミノ、ジエチルアミノおよびジプ
ロピルアミノ;C1〜C4アルキルS(O)n−に関して
は:メチルチオ、メチルスルフィニルおよびメチルスル
ホニルC1〜C4アルカノイルアミノ基に関しては:アセ
トアミドおよびプロピオンアミド;C1〜C4アルコキシ
カルボニル基に関しては:メトキシカルボニル、エトキ
シカルボニルおよびプロポキシカルボニル;C1〜C4ア
ルカノイル(N−C1〜C4アルキル)アミノ基に関して
は:N−メチルアセトアミドおよびN−エチルアセトア
ミドを包含する。
【0027】本発明は、式(I)の化合物の全てのエピ
異性体形、ジアステレオ異性体形および互変体形に及
び、この場合、5位での絶対立体化学は、式(I)で説
明されたものと同様である。1つの結合が楔形結合とし
て表されている場合には、このことは、三次元におい
て、紙面の表側に突き出していることを表し、1つの結
合が破線結合として表されている場合には、紙面の裏側
に突き出していることを表す。式(I)の化合物は、多
数の立体中心、即ち:基R1内(R1が1−ヒドロキシエ
チル基または1−フルオロエチル基を表す場合);6
位;1位(R2がC1〜C4アルキル基を表す場合);ピ
ロリジン環:
異性体形、ジアステレオ異性体形および互変体形に及
び、この場合、5位での絶対立体化学は、式(I)で説
明されたものと同様である。1つの結合が楔形結合とし
て表されている場合には、このことは、三次元におい
て、紙面の表側に突き出していることを表し、1つの結
合が破線結合として表されている場合には、紙面の裏側
に突き出していることを表す。式(I)の化合物は、多
数の立体中心、即ち:基R1内(R1が1−ヒドロキシエ
チル基または1−フルオロエチル基を表す場合);6
位;1位(R2がC1〜C4アルキル基を表す場合);ピ
ロリジン環:
【0028】
【化17】
【0029】中のR2′位およびR4′位に有する。
【0030】有利な化合物は、β−ラクタム陽子が、互
いに相関的にトランス配置にあるものである。R1が1
−ヒドロキシエチル基または1−フルオロエチル基を表
す場合には、8−置換基がR−配置を有することが有利
である。従って、化合物の有利な種類は、式(II
I):
いに相関的にトランス配置にあるものである。R1が1
−ヒドロキシエチル基または1−フルオロエチル基を表
す場合には、8−置換基がR−配置を有することが有利
である。従って、化合物の有利な種類は、式(II
I):
【0031】
【化18】
【0032】〔式中、P、R2、R3およびP上の場合に
よる置換基は、前記により定義されたものと同様であ
る〕で示される化合物、その製薬学的に認容性の塩およ
び生体内で加水分解可能なエステルである。
よる置換基は、前記により定義されたものと同様であ
る〕で示される化合物、その製薬学的に認容性の塩およ
び生体内で加水分解可能なエステルである。
【0033】R2が、C1〜C4アルキル基、例えばメチ
ル基を表す場合には、化合物が1R配置の形であること
が有利である。
ル基を表す場合には、化合物が1R配置の形であること
が有利である。
【0034】有利な化合物は、ピロリジン環:
【0035】
【化19】
【0036】がR2′位およびR4′位で次の絶対立体化
学を有するものである。
学を有するものである。
【0037】本発明の化合物の適当な種類は、式(I
V):
V):
【0038】
【化20】
【0039】で示される化合物並びにその製薬学的に認
容性の塩および生体内で加水分解可能なエステルであ
り;この場合、P、R3およびP上の場合による置換基
は、式(I)で定義されたものと同様である。
容性の塩および生体内で加水分解可能なエステルであ
り;この場合、P、R3およびP上の場合による置換基
は、式(I)で定義されたものと同様である。
【0040】他の実施態様の場合、化合物の適当な種類
は、R3が、水素原子、メチル基またはエチル基を表
し;P上のZおよびP上の場合による置換基は、式
(I)で定義されたものと同様である式(IV)の化合
物である。
は、R3が、水素原子、メチル基またはエチル基を表
し;P上のZおよびP上の場合による置換基は、式
(I)で定義されたものと同様である式(IV)の化合
物である。
【0041】本発明の化合物の適当な種類は、式(I
V)のものであり、この場合、Zは、スルホン酸を表
し;Pは、式(IA)または(IB)のものであり、場
合によっては更に、メチル、エチル、ヒドロキシ、シア
ノ、フッ素、塩素、臭素、メトキシ、エトキシ、カルバ
モイルおよびプロポキシから選択された置換基1個また
は2個によって置換されている。
V)のものであり、この場合、Zは、スルホン酸を表
し;Pは、式(IA)または(IB)のものであり、場
合によっては更に、メチル、エチル、ヒドロキシ、シア
ノ、フッ素、塩素、臭素、メトキシ、エトキシ、カルバ
モイルおよびプロポキシから選択された置換基1個また
は2個によって置換されている。
【0042】他の実施態様の場合、化合物の適当な種類
は、R3が、水素原子、メチル基またはエチル基を表
し、Zはカルボキシ基、スルホン酸、テトラゾル−5−
イル基を表す式(IV)の化合物である。
は、R3が、水素原子、メチル基またはエチル基を表
し、Zはカルボキシ基、スルホン酸、テトラゾル−5−
イル基を表す式(IV)の化合物である。
【0043】もう1つの実施態様の場合、化合物の適当
な種類は、Zが、カルボキシ基、スルホン酸、テトラゾ
ル−5−イル基、C1〜C4アルキルスルホニルカルバモ
イル基、フェニルスルホニルカルバモイル基またはシア
ノカルバモイル基を表し;Pが、場合によっては更に、
メチル、エチル、ヒドロキシ、シアノ、フッ素、塩素、
臭素、カルバモイル基、窒素、メトキシ、エトキシおよ
びプロポキシから選択された置換基1個または2個によ
って置換されており;R3およびPが式(I)で定義さ
れたものと同様である式(IV)の化合物のものであ
る。
な種類は、Zが、カルボキシ基、スルホン酸、テトラゾ
ル−5−イル基、C1〜C4アルキルスルホニルカルバモ
イル基、フェニルスルホニルカルバモイル基またはシア
ノカルバモイル基を表し;Pが、場合によっては更に、
メチル、エチル、ヒドロキシ、シアノ、フッ素、塩素、
臭素、カルバモイル基、窒素、メトキシ、エトキシおよ
びプロポキシから選択された置換基1個または2個によ
って置換されており;R3およびPが式(I)で定義さ
れたものと同様である式(IV)の化合物のものであ
る。
【0044】本発明の化合物の有利な種類は、式(I
V)のものであり、この場合、R3は、水素原子を表
し;Zは、カルボキシ基、スルホン酸、テトラゾル−5
−イル基、メチルスルホニルカルバモイル基、フェニル
スルホニルカルバモイル基またはシアノカルバモイル基
を表し;Pは、場合によっては更に、メチル、ヒドロキ
シおよびメトキシから選択された置換基1個または2個
によって置換されている。
V)のものであり、この場合、R3は、水素原子を表
し;Zは、カルボキシ基、スルホン酸、テトラゾル−5
−イル基、メチルスルホニルカルバモイル基、フェニル
スルホニルカルバモイル基またはシアノカルバモイル基
を表し;Pは、場合によっては更に、メチル、ヒドロキ
シおよびメトキシから選択された置換基1個または2個
によって置換されている。
【0045】本発明の化合物の他の有利な種類は、式
(IV)の化合物であり、この場合、R3は、水素原子
を表し;Zは、カルボキシ基、スルホン酸、テトラゾル
−5−イル基、メチルスルホニルカルバモイル基、フェ
ニルスルホニルカルバモイル基またはシアノカルバモイ
ル基を表し;Pは、もはや置換されていない。
(IV)の化合物であり、この場合、R3は、水素原子
を表し;Zは、カルボキシ基、スルホン酸、テトラゾル
−5−イル基、メチルスルホニルカルバモイル基、フェ
ニルスルホニルカルバモイル基またはシアノカルバモイ
ル基を表し;Pは、もはや置換されていない。
【0046】特に、本発明の化合物は、例えば式(I
V)の次の化合物:(1R,5S,6S,8R,2′
S,4′S)−2−(2−(3−スルホフェニルカルバ
モイル)ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1−ヒド
ロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カルボ
ン酸;(1R,5S,6S,8R,2′S,4′S)−
2−(2−(3−メチルスルホニルカルバモイルフェニ
ルカルバモイル)−ピロリジン−4−イルチオ)−6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−
3−カルボン酸;(1R,5S,6S,8R,2′S,
4′S)−2−(2−(2−(3−1H−テトラゾル−
5−イル)フェニルカルバモイル)−ピロリジン−4−
イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチ
ルカルバペネム−3−カルボン酸;(1R,5S,6
S,8R,2′S,4′S)−2−(2−(2−ヒドロ
キシ−5−スルホフェニルカルバモイル)−ピロリジン
−4−イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1
−メチルカルバペネム−3−カルボン酸;(1R,5
S,6S,8R,2′S,4′S)−2−(2−(2−
メトキシ−5−メチル−4−スルホフェニルカルバモイ
ル)−ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1−ヒドロ
キシエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カルボン
酸;(1R,5S,6S,8R,2′S,4′S)−2
−(2−(3−フェニルスルホニルカルバモイルフェニ
ルカルバモイル)−ピロリジン−4−イルチオ)−6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−
3−カルボン酸;(1R,5S,6S,8R,2′S,
4′S)−2−(2−(2−メチルスルホニルカルバモ
イル−5−チエニルカルバモイル)ピロリジン−4−イ
ルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチル
カルバペネム−3−カルボン酸;(1R,5S,6S,
8R,2′S,4′S)−2−(2−(2−シアノカル
バモイル−5−チエニルカルバモイル)−ピロリジン−
4−イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−
メチルカルバペネム−3−カルボン酸;(1R,5S,
6S,8R,2′S,4′S)−2−(2−(2−スル
ホ−5−チエニルカルバモイル)ピロリジン−4−イル
チオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチルカ
ルバペネム−3−カルボン酸;(1R,5S,6S,8
R,2′S,4′S)−2−(2−(1−カルボキシ−
3−ナフチルカルバモイル)ピロリジン−4−イルチ
オ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチルカル
バペネム−3−カルボン酸;(1R,5S,6S,8
R,2′S,4′S)−2−(2−(2−カルボキシ−
3−ナフチルカルバモイル)ピロリジン−4−イルチ
オ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチルカル
バペネム−3−カルボン酸;(1R,5S,6S,8
R,2′S,4′S)−2−(2−(2−スルホフェニ
ルカルバモイル)ピロリジン−4−イルチオ)−6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−
3−カルボン酸;および(1R,5S,6S,8R,
2′S,4′S)−2−(2−(2−ヒドロキシ−4−
スルホ−1−ナフチルカルバモイル)−ピロリジン−4
−イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メ
チルカルバペネム−3−カルボン酸;並びにその製薬学
的に認容性の塩および生体内で加水分解可能なエステル
である。
V)の次の化合物:(1R,5S,6S,8R,2′
S,4′S)−2−(2−(3−スルホフェニルカルバ
モイル)ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1−ヒド
ロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カルボ
ン酸;(1R,5S,6S,8R,2′S,4′S)−
2−(2−(3−メチルスルホニルカルバモイルフェニ
ルカルバモイル)−ピロリジン−4−イルチオ)−6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−
3−カルボン酸;(1R,5S,6S,8R,2′S,
4′S)−2−(2−(2−(3−1H−テトラゾル−
5−イル)フェニルカルバモイル)−ピロリジン−4−
イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチ
ルカルバペネム−3−カルボン酸;(1R,5S,6
S,8R,2′S,4′S)−2−(2−(2−ヒドロ
キシ−5−スルホフェニルカルバモイル)−ピロリジン
−4−イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1
−メチルカルバペネム−3−カルボン酸;(1R,5
S,6S,8R,2′S,4′S)−2−(2−(2−
メトキシ−5−メチル−4−スルホフェニルカルバモイ
ル)−ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1−ヒドロ
キシエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カルボン
酸;(1R,5S,6S,8R,2′S,4′S)−2
−(2−(3−フェニルスルホニルカルバモイルフェニ
ルカルバモイル)−ピロリジン−4−イルチオ)−6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−
3−カルボン酸;(1R,5S,6S,8R,2′S,
4′S)−2−(2−(2−メチルスルホニルカルバモ
イル−5−チエニルカルバモイル)ピロリジン−4−イ
ルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチル
カルバペネム−3−カルボン酸;(1R,5S,6S,
8R,2′S,4′S)−2−(2−(2−シアノカル
バモイル−5−チエニルカルバモイル)−ピロリジン−
4−イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−
メチルカルバペネム−3−カルボン酸;(1R,5S,
6S,8R,2′S,4′S)−2−(2−(2−スル
ホ−5−チエニルカルバモイル)ピロリジン−4−イル
チオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチルカ
ルバペネム−3−カルボン酸;(1R,5S,6S,8
R,2′S,4′S)−2−(2−(1−カルボキシ−
3−ナフチルカルバモイル)ピロリジン−4−イルチ
オ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチルカル
バペネム−3−カルボン酸;(1R,5S,6S,8
R,2′S,4′S)−2−(2−(2−カルボキシ−
3−ナフチルカルバモイル)ピロリジン−4−イルチ
オ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチルカル
バペネム−3−カルボン酸;(1R,5S,6S,8
R,2′S,4′S)−2−(2−(2−スルホフェニ
ルカルバモイル)ピロリジン−4−イルチオ)−6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−
3−カルボン酸;および(1R,5S,6S,8R,
2′S,4′S)−2−(2−(2−ヒドロキシ−4−
スルホ−1−ナフチルカルバモイル)−ピロリジン−4
−イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メ
チルカルバペネム−3−カルボン酸;並びにその製薬学
的に認容性の塩および生体内で加水分解可能なエステル
である。
【0047】適当な製薬学的に認容性の塩は、酸付加
塩、例えば塩化水素、臭化水素、クエン酸塩、マレイン
酸塩並びに燐酸および硫酸で形成された塩を包含する。
他の実施態様の場合、適当な塩は塩基塩、例えばアルカ
リ金属塩、例えばナトリウムまたはカリウム、アルカリ
土類金属塩、例えばカルシウムまたはマグネシウム、有
機アミン塩、例えばトリエチルアミン、モルホリン、N
−メチルピぺリジン、N−エチルピぺリジン、プロカイ
ン、ジベンジルアミン、N,N−ジベンジルエチルアミ
ンまたはアミノ酸、例えばリジンである。
塩、例えば塩化水素、臭化水素、クエン酸塩、マレイン
酸塩並びに燐酸および硫酸で形成された塩を包含する。
他の実施態様の場合、適当な塩は塩基塩、例えばアルカ
リ金属塩、例えばナトリウムまたはカリウム、アルカリ
土類金属塩、例えばカルシウムまたはマグネシウム、有
機アミン塩、例えばトリエチルアミン、モルホリン、N
−メチルピぺリジン、N−エチルピぺリジン、プロカイ
ン、ジベンジルアミン、N,N−ジベンジルエチルアミ
ンまたはアミノ酸、例えばリジンである。
【0048】困難を回避するためには、多数のカルボン
酸官能基および記載された陽イオンの価に応じて、1
個、2個、3個または4個の塩を形成する陽イオンが存
在していてもよい。
酸官能基および記載された陽イオンの価に応じて、1
個、2個、3個または4個の塩を形成する陽イオンが存
在していてもよい。
【0049】有利な製薬学的に認容性の塩は、ナトリウ
ムおよびカリウム塩である。しかしながら、製造の間に
塩を容易に単離するためには、より不溶性の塩が有利で
ある。
ムおよびカリウム塩である。しかしながら、製造の間に
塩を容易に単離するためには、より不溶性の塩が有利で
ある。
【0050】生体内で加水分解可能なエステルは、ヒト
の体内での加水分解し、親ヒドロキシまたはカルボキシ
化合物を生じるような製薬学的に認容性のエステルであ
る。この種のエステルは、試験動物への例えば静脈内投
与試験での化合物、次に試験動物の体液を試験すること
によって同定することができる。ヒドロキシ基のための
適当な生体内で加水分解可能なエステルを形成する基
は、アセチル基、プロピオニル基、ピバロイル基、C1
〜C4アルコキシカルボニル基、例えばエトキシカルボ
ニル基およびフェニルアセチル基を包含する。カルボキ
シ基のための適当な生体内で加水分解可能なエステル
は、C1〜C6アルコキシメチルエステル、例えばメトキ
シメチル;C1〜C6アルカノイルオキシメチルエステ
ル、例えばピバロイルオキシメチル;C3〜C8シクロア
ルコキシカルボニルオキシC1〜C6アルキル、例えば1
−シクロヘキシルオキシカルボニルオキシエチル;1,
3−ジオキソレン−2−オニルメチルエステル、例えば
5−メチル−1,3−ジオキソレン−2−オニルメチ
ル;フタリジルエステルおよびC1〜C6アルコキシカル
ボニルオキシエチルエステル、例えば1−メトキシカル
ボニルオキシエチルを包含し、本発明の化合物中の任意
のカルボキシル基において形成されてもよい。
の体内での加水分解し、親ヒドロキシまたはカルボキシ
化合物を生じるような製薬学的に認容性のエステルであ
る。この種のエステルは、試験動物への例えば静脈内投
与試験での化合物、次に試験動物の体液を試験すること
によって同定することができる。ヒドロキシ基のための
適当な生体内で加水分解可能なエステルを形成する基
は、アセチル基、プロピオニル基、ピバロイル基、C1
〜C4アルコキシカルボニル基、例えばエトキシカルボ
ニル基およびフェニルアセチル基を包含する。カルボキ
シ基のための適当な生体内で加水分解可能なエステル
は、C1〜C6アルコキシメチルエステル、例えばメトキ
シメチル;C1〜C6アルカノイルオキシメチルエステ
ル、例えばピバロイルオキシメチル;C3〜C8シクロア
ルコキシカルボニルオキシC1〜C6アルキル、例えば1
−シクロヘキシルオキシカルボニルオキシエチル;1,
3−ジオキソレン−2−オニルメチルエステル、例えば
5−メチル−1,3−ジオキソレン−2−オニルメチ
ル;フタリジルエステルおよびC1〜C6アルコキシカル
ボニルオキシエチルエステル、例えば1−メトキシカル
ボニルオキシエチルを包含し、本発明の化合物中の任意
のカルボキシル基において形成されてもよい。
【0051】式(I)の化合物またはその製薬学的に認
容性の塩または生体内で加水分解可能なエステルは、ヒ
トを含めた哺乳動物の治療学的処置、特に感染症の処置
に使用するために、通常、標準の製薬学的実地面によ
り、医薬調剤として調製される。
容性の塩または生体内で加水分解可能なエステルは、ヒ
トを含めた哺乳動物の治療学的処置、特に感染症の処置
に使用するために、通常、標準の製薬学的実地面によ
り、医薬調剤として調製される。
【0052】従って、他の実施態様の場合、本発明によ
れば、式(I)の化合物またはその製薬学的に認容性の
塩または生体内で加水分解可能なエステルおよび製薬学
的に認容性の担持剤からなる医薬調剤が得られる。
れば、式(I)の化合物またはその製薬学的に認容性の
塩または生体内で加水分解可能なエステルおよび製薬学
的に認容性の担持剤からなる医薬調剤が得られる。
【0053】本発明の化合物は、乾燥粉末を充填したバ
イアルとして調製されてもよく、該乾燥粉末は、本発明
による化合物だけかまたは乾燥配合混合物として含有し
てもよい。例えば、本発明の酸性化合物は、アルカリ金
属炭酸塩または重炭酸塩と乾燥配合されていてもよい。
本発明の化合物の凍結乾燥された調製物は、単独または
標準の賦形剤との混合物としても可能である。標準の賦
形剤は、構造形成剤、凍結防止剤およびpH変性剤、例
えばマンニトール、ソルビトール、ラクトース、グルコ
ース、塩化ナトリウム、デキストラン、スクロース、マ
ルトース、ゼラチン、ウシ血清アルブミン(BSA)、
グリシン、マンノース、リボース、ポリビニルピロリジ
ン(PVP)、セルロース誘導体、グルタミン、イノシ
トール、グルタミン酸カリウム、エリトリトール、セリ
ンおよび他のアミノ酸並びに緩衝剤、例えば燐酸水素ジ
ナトリウムおよびクエン酸カリウムを包含する。
イアルとして調製されてもよく、該乾燥粉末は、本発明
による化合物だけかまたは乾燥配合混合物として含有し
てもよい。例えば、本発明の酸性化合物は、アルカリ金
属炭酸塩または重炭酸塩と乾燥配合されていてもよい。
本発明の化合物の凍結乾燥された調製物は、単独または
標準の賦形剤との混合物としても可能である。標準の賦
形剤は、構造形成剤、凍結防止剤およびpH変性剤、例
えばマンニトール、ソルビトール、ラクトース、グルコ
ース、塩化ナトリウム、デキストラン、スクロース、マ
ルトース、ゼラチン、ウシ血清アルブミン(BSA)、
グリシン、マンノース、リボース、ポリビニルピロリジ
ン(PVP)、セルロース誘導体、グルタミン、イノシ
トール、グルタミン酸カリウム、エリトリトール、セリ
ンおよび他のアミノ酸並びに緩衝剤、例えば燐酸水素ジ
ナトリウムおよびクエン酸カリウムを包含する。
【0054】本発明の医薬調剤は、常法により、例えば
経口、直腸または腸管外投与によって処置することが望
ましいような疾病症状に投与することができる。前記の
目的のために、本発明の化合物は、公知技術水準の方法
によって、例えば錠剤、カプセル剤、水性または油性の
溶液または懸濁液、乳濁液、分散可能な粉末、坐薬およ
び滅菌された注射可能な水性または油性の溶液または懸
濁液の形に調製されてもよい。
経口、直腸または腸管外投与によって処置することが望
ましいような疾病症状に投与することができる。前記の
目的のために、本発明の化合物は、公知技術水準の方法
によって、例えば錠剤、カプセル剤、水性または油性の
溶液または懸濁液、乳濁液、分散可能な粉末、坐薬およ
び滅菌された注射可能な水性または油性の溶液または懸
濁液の形に調製されてもよい。
【0055】本発明の化合物以外に、本発明の医薬調剤
は、他の臨床的に有用な抗菌剤(例えば、他のβ−ラク
タムまたはアミノグリコシド)、β−ラクタマーゼの阻
害剤(例えばクラブラン酸)、尿細管閉鎖剤(例えば、
プロベネシド)および代謝酵素の阻害剤(例えば、デヒ
ドロペプチダーゼの阻害剤、例えばシラスタチンのよう
なZ−2−アシルアミノ−3−置換プロペン酸エステ
ル)およびβミプロンのようなN−アシル化されたアミ
ノ酸(欧州特許出願公開第178911号明細書も見
よ)から選択された1つまたはそれ以上の公知の薬剤を
使用してもよいかまたは併用してもよい。
は、他の臨床的に有用な抗菌剤(例えば、他のβ−ラク
タムまたはアミノグリコシド)、β−ラクタマーゼの阻
害剤(例えばクラブラン酸)、尿細管閉鎖剤(例えば、
プロベネシド)および代謝酵素の阻害剤(例えば、デヒ
ドロペプチダーゼの阻害剤、例えばシラスタチンのよう
なZ−2−アシルアミノ−3−置換プロペン酸エステ
ル)およびβミプロンのようなN−アシル化されたアミ
ノ酸(欧州特許出願公開第178911号明細書も見
よ)から選択された1つまたはそれ以上の公知の薬剤を
使用してもよいかまたは併用してもよい。
【0056】本発明の適当な医薬調剤は、単位投与量で
経口投与に適当な1つの形、例えば、本発明の化合物10
0mg〜1グラムを含有する錠剤またはカプセル剤であ
る。
経口投与に適当な1つの形、例えば、本発明の化合物10
0mg〜1グラムを含有する錠剤またはカプセル剤であ
る。
【0057】本発明の有利な医薬調剤は、1つの静脈内
注射、皮下注射または筋内注射に適当な1つ、例えば、
本発明による化合物1〜50w/w%を含有する滅菌さ
れた注射可能な組成物である。
注射、皮下注射または筋内注射に適当な1つ、例えば、
本発明による化合物1〜50w/w%を含有する滅菌さ
れた注射可能な組成物である。
【0058】水中1%溶液として構成され、凍結乾燥さ
れ、0.9%の塩化ナトリウム水溶液を添加することに
よって、必要とされた濃度、好ましくは1mg〜10m
g/mlに調節されてもよい組成物の詳細な例は、次の
通りである: 組成物 1 例1の化合物 50mg 組成物 2 例1の化合物 50mg グリシン 31mg 組成物の他の詳細な例は、前記と同様であるが、しか
し、例1の化合物は例2〜12記載のもののいずれか1
つによって代替されている。
れ、0.9%の塩化ナトリウム水溶液を添加することに
よって、必要とされた濃度、好ましくは1mg〜10m
g/mlに調節されてもよい組成物の詳細な例は、次の
通りである: 組成物 1 例1の化合物 50mg 組成物 2 例1の化合物 50mg グリシン 31mg 組成物の他の詳細な例は、前記と同様であるが、しか
し、例1の化合物は例2〜12記載のもののいずれか1
つによって代替されている。
【0059】本発明の医薬調剤は、通常、細菌によって
引き起こされる感染症を撲滅するためにヒトに投与さ
れ、イミペネムに使用されたのと同じ一般的方法で、イ
ミペネムの臨床的使用に関して本発明の化合物の薬物動
態の用量水準により許容しうるものである。従って、各
患者は、本発明の化合物の0.05〜5g、好ましくは
0.1〜2.5gの一日の静脈内、皮下または筋内用量
を摂取し、この場合、組成物は、一日当り1〜4回、好
ましくは一日1または2回投与される。静脈内、皮下お
よび筋内用量は、ボーラス注射を用いて投与されてもよ
い。選択的に、静脈内用量は、連続的注入によって一定
時間に亘って投与されてもよい。選択的に各患者は、一
日の腸管外用量とほぼ当量である一日の経口用量を投与
される。従って、適当な一日の経口用量は、本発明の化
合物0.05〜5gであり、この場合、組成物は、一日
当り1〜4回投与される。
引き起こされる感染症を撲滅するためにヒトに投与さ
れ、イミペネムに使用されたのと同じ一般的方法で、イ
ミペネムの臨床的使用に関して本発明の化合物の薬物動
態の用量水準により許容しうるものである。従って、各
患者は、本発明の化合物の0.05〜5g、好ましくは
0.1〜2.5gの一日の静脈内、皮下または筋内用量
を摂取し、この場合、組成物は、一日当り1〜4回、好
ましくは一日1または2回投与される。静脈内、皮下お
よび筋内用量は、ボーラス注射を用いて投与されてもよ
い。選択的に、静脈内用量は、連続的注入によって一定
時間に亘って投与されてもよい。選択的に各患者は、一
日の腸管外用量とほぼ当量である一日の経口用量を投与
される。従って、適当な一日の経口用量は、本発明の化
合物0.05〜5gであり、この場合、組成物は、一日
当り1〜4回投与される。
【0060】もう1つの実施態様によれば、本発明は、
式(I)の化合物またはその製薬学的に認容性の塩また
は生体内で加水分解可能なエステルを製造するための方
法を提供し、この方法は、P1が式(I)中のPよりも
場合によっては更に置換されている式(V):
式(I)の化合物またはその製薬学的に認容性の塩また
は生体内で加水分解可能なエステルを製造するための方
法を提供し、この方法は、P1が式(I)中のPよりも
場合によっては更に置換されている式(V):
【0061】
【化21】
【0062】{式中、R2は、前記により定義されたも
のと同様であり;R10は、基R3またはアミノ保護基を
表し;R13は、基R1、保護されたヒドロキシメチル基
または1−(保護されたヒドロキシ)エチル基を表し;
R11は、水素原子またはカルボキシ保護基を表し;R12
は、水素原子またアミノ保護基を表し:P1は、式(I
D)、(IE)または(IF):
のと同様であり;R10は、基R3またはアミノ保護基を
表し;R13は、基R1、保護されたヒドロキシメチル基
または1−(保護されたヒドロキシ)エチル基を表し;
R11は、水素原子またはカルボキシ保護基を表し;R12
は、水素原子またアミノ保護基を表し:P1は、式(I
D)、(IE)または(IF):
【0063】
【化22】
【0064】〔この場合、式(IE)中で、ナフチル基
は、それぞれの環で結合カルバモイル基の窒素原子と結
合していてもよく;R18は、基Zまたは保護されたZ基
を表し、但し、P1上の場合による置換基は、請求項1
で定義されたものと同様であり;但し、少なくとも1つ
の保護基が存在する〕を表す}で示される化合物を脱保
護し;次に必要な場合には、(i)製薬学的に認容性の
塩を形成し、(ii)生体内で加水分解可能なエステル
を形成するためのエステル化することからなる。
は、それぞれの環で結合カルバモイル基の窒素原子と結
合していてもよく;R18は、基Zまたは保護されたZ基
を表し、但し、P1上の場合による置換基は、請求項1
で定義されたものと同様であり;但し、少なくとも1つ
の保護基が存在する〕を表す}で示される化合物を脱保
護し;次に必要な場合には、(i)製薬学的に認容性の
塩を形成し、(ii)生体内で加水分解可能なエステル
を形成するためのエステル化することからなる。
【0065】保護基は、通常、文献に記載されているか
または熟練した化学者に、当該の基の保護に適当である
と知られている基の全てから選択されてもよく、常法に
よって導入されてもよい。
または熟練した化学者に、当該の基の保護に適当である
と知られている基の全てから選択されてもよく、常法に
よって導入されてもよい。
【0066】保護基は、文献に記載されているかまたは
熟練した化学者に、当該の保護基の除去に適当であると
知られている全ての常法によって除去されてもよく、こ
の場合、この種の方法は、分子中のどこかに基の最小の
障害を有する保護基の除去に影響を及ぼすように選択さ
れている。
熟練した化学者に、当該の保護基の除去に適当であると
知られている全ての常法によって除去されてもよく、こ
の場合、この種の方法は、分子中のどこかに基の最小の
障害を有する保護基の除去に影響を及ぼすように選択さ
れている。
【0067】式(V)の化合物は、新規のものであり、
かつ本発明の他の実施態様を形成する。
かつ本発明の他の実施態様を形成する。
【0068】保護基の詳細な例は、有利に以下に記載さ
れており、この場合、“低級”というのは有利に使用さ
れる基が炭素原子1〜4個を有している基を表す。前記
の例が全体を網羅していないことは、理解される。保護
基の除去のための方法の詳細な例が、以下に記載されて
いる場合には、前記の例が全体を網羅していないこと
は、理解される。詳細に記載されなかった保護基の使用
および脱保護の方法は、勿論、本発明の範囲内にある。
れており、この場合、“低級”というのは有利に使用さ
れる基が炭素原子1〜4個を有している基を表す。前記
の例が全体を網羅していないことは、理解される。保護
基の除去のための方法の詳細な例が、以下に記載されて
いる場合には、前記の例が全体を網羅していないこと
は、理解される。詳細に記載されなかった保護基の使用
および脱保護の方法は、勿論、本発明の範囲内にある。
【0069】ヒドロキシ保護基の例は、低級アルケニル
基(例えば、アリル基);低級アルカノイル基(例え
ば、アセチル基);低級アルコキシカルボニル基(例え
ば、t−ブトキシカルボニル基);低級アルケニルオキ
シカルボニル基(例えば、アリルオキシカルボニル
基);アリール低級アルコキシカルボニル基(例えば、
ベンゾイルオキシカルボニル基、p−メトキシベンジル
オキシカルボニル基、o−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル基、p−ニトロベンジルオキシカルボニル基);ト
リ低級アルキルシリル基(例えば、トリメチルシリル
基、t−ブチルジメチルシリル基);ジアリール(低級
アルキル)シリル基(例えば、t−ブチル次フェニルシ
リル基)およびアリール低級アルキル基(例えば、ベン
ジル基)を包含する。
基(例えば、アリル基);低級アルカノイル基(例え
ば、アセチル基);低級アルコキシカルボニル基(例え
ば、t−ブトキシカルボニル基);低級アルケニルオキ
シカルボニル基(例えば、アリルオキシカルボニル
基);アリール低級アルコキシカルボニル基(例えば、
ベンゾイルオキシカルボニル基、p−メトキシベンジル
オキシカルボニル基、o−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル基、p−ニトロベンジルオキシカルボニル基);ト
リ低級アルキルシリル基(例えば、トリメチルシリル
基、t−ブチルジメチルシリル基);ジアリール(低級
アルキル)シリル基(例えば、t−ブチル次フェニルシ
リル基)およびアリール低級アルキル基(例えば、ベン
ジル基)を包含する。
【0070】アミノ保護基の例は、ホルミル基、アルア
ルキル基(例えば、ベンジル基および置換ベンジル基、
例えばp−メトキシベンジル基、ニトロベンジル基およ
び2,4−ジメトキシベンジル基およびトリフェニルメ
チル基);ジ−p−アニシルメチル基およびフリルメチ
ル基;低級アルコキシカルボニル基(例えば、t−ブト
キシカルボニル基);低級アルケニルオキシカルボニル
基(例えば、アリルオキシカルボニル基);アリール低
級アルコキシカルボニル基(例えば、ベンジルオキシカ
ルボニル基、p−メトキシベンジルオキシカルボニル
基、o−ニトロベンジルオキシカルボニル基、p−ニト
ロベンジルオキシカルボニル基);トリアルキルシリル
基(例えば、トリメチルシリル基およびt−ブチルジメ
チルシリル基);ジアリール(低級アルキル)シリル基
(例えば、t−ブチルジフェニルシリル基);アルキリ
デン基(例えば、メチリデン基);ベンジリデン基およ
び置換ベンジリデン基を包含する。
ルキル基(例えば、ベンジル基および置換ベンジル基、
例えばp−メトキシベンジル基、ニトロベンジル基およ
び2,4−ジメトキシベンジル基およびトリフェニルメ
チル基);ジ−p−アニシルメチル基およびフリルメチ
ル基;低級アルコキシカルボニル基(例えば、t−ブト
キシカルボニル基);低級アルケニルオキシカルボニル
基(例えば、アリルオキシカルボニル基);アリール低
級アルコキシカルボニル基(例えば、ベンジルオキシカ
ルボニル基、p−メトキシベンジルオキシカルボニル
基、o−ニトロベンジルオキシカルボニル基、p−ニト
ロベンジルオキシカルボニル基);トリアルキルシリル
基(例えば、トリメチルシリル基およびt−ブチルジメ
チルシリル基);ジアリール(低級アルキル)シリル基
(例えば、t−ブチルジフェニルシリル基);アルキリ
デン基(例えば、メチリデン基);ベンジリデン基およ
び置換ベンジリデン基を包含する。
【0071】方法は、ヒドロキシおよびアミノ保護基を
除去するのに適当な方法は、例えば酸−、塩基−、金属
−または酵素的に接触反応した加水分解、p−ニトロベ
ンジルオキシカルボニルのような基には水素添加、およ
びo−ニトロベンジルオキシカルボニルのような基には
光分解を包含する。
除去するのに適当な方法は、例えば酸−、塩基−、金属
−または酵素的に接触反応した加水分解、p−ニトロベ
ンジルオキシカルボニルのような基には水素添加、およ
びo−ニトロベンジルオキシカルボニルのような基には
光分解を包含する。
【0072】カルボキシ保護基は、エステルを形成する
脂肪アルコールまたは芳香脂肪アルコールまたはエステ
ルを形成するシラノールの還元であってもよい(この場
合、記載されたアルコールまたはシラノールは、好まし
くは炭素原子1〜20個を含有する)。
脂肪アルコールまたは芳香脂肪アルコールまたはエステ
ルを形成するシラノールの還元であってもよい(この場
合、記載されたアルコールまたはシラノールは、好まし
くは炭素原子1〜20個を含有する)。
【0073】カルボキシ保護基の例は、線状または分枝
鎖状の(C1〜C12)アルキル基(例えば、イソプロピ
ル基、t−ブチル基);低級アルコキシ低級アルキル基
(例えば、メトキシメチル基、エトキシメチル基、イソ
ブトキシメチル基);低級脂肪アシルオキシ低級アルキ
ル基(例えば、アセトキシメチル基、プロピオニルオキ
シメチル基、ブチリルオキシメチル基、ピバロイルオキ
シメチル基);低級アルコキシカルボニルオキシ低級ア
ルキル基(例えば、1−メトキシカルボニルオキシエチ
ル基、1−エトキシカルボニルオキシエチル基);アリ
ール低級アルキル基(例えば、p−メトキシベンジル
基、o−ニトロベンジル基、p−ニトロベンジル基、ベ
ンズヒドリル基およびフタリジル基);トリ(低級アル
キル)シリル基(例えば、トリメチルシリル基およびt
−ブチルジメチルシリル基;トリ(低級アルキル)シリ
ル低級アルキル基(トリメチルシリルエチル基);ジア
リール(低級アルキル)シリル基(例えば、t−ブチル
ジフェニルシリル基);および(C2〜C6)アルケニル
基(例えば、アリル基およびビニルエチル基)を包含す
る。
鎖状の(C1〜C12)アルキル基(例えば、イソプロピ
ル基、t−ブチル基);低級アルコキシ低級アルキル基
(例えば、メトキシメチル基、エトキシメチル基、イソ
ブトキシメチル基);低級脂肪アシルオキシ低級アルキ
ル基(例えば、アセトキシメチル基、プロピオニルオキ
シメチル基、ブチリルオキシメチル基、ピバロイルオキ
シメチル基);低級アルコキシカルボニルオキシ低級ア
ルキル基(例えば、1−メトキシカルボニルオキシエチ
ル基、1−エトキシカルボニルオキシエチル基);アリ
ール低級アルキル基(例えば、p−メトキシベンジル
基、o−ニトロベンジル基、p−ニトロベンジル基、ベ
ンズヒドリル基およびフタリジル基);トリ(低級アル
キル)シリル基(例えば、トリメチルシリル基およびt
−ブチルジメチルシリル基;トリ(低級アルキル)シリ
ル低級アルキル基(トリメチルシリルエチル基);ジア
リール(低級アルキル)シリル基(例えば、t−ブチル
ジフェニルシリル基);および(C2〜C6)アルケニル
基(例えば、アリル基およびビニルエチル基)を包含す
る。
【0074】カルボキシル保護基を除去するのに特に適
当な方法は、例えば、酸−、塩基−、金属−または酵素
的に接触反応した加水分解、p−ニトロベンジルオキシ
カルボニルのような基には水素添加、およびo−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルのような基には光分解を包含
する。
当な方法は、例えば、酸−、塩基−、金属−または酵素
的に接触反応した加水分解、p−ニトロベンジルオキシ
カルボニルのような基には水素添加、およびo−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルのような基には光分解を包含
する。
【0075】式(I)の化合物中のカルボキシ基および
ヒドロキシ基のための有利な保護基は、アリル基および
p−ニトロベンジル基である。アリル基を除去するのに
有利な方法は、DMFまたは双極性の非プロトン性溶剤
テトラヒドロフラン混合物中、例えばジメチルスルホキ
シド/テトラヒドロフランまたは1,3−ジメチル−2
−オキソ−テトラヒドロピリミジン/テトラヒドロフラ
ンまたはアルコール/テトラヒドロフラン混合物、例え
ばイソプロパノール/テトラヒドロフランまたはエタノ
ール/テトラヒドロフラン中で、有利に環境温度で、テ
トラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウムおよび
メルドラム酸(Meldrum’s acid)を使用
するパラジウム触媒によるものである。選択的に、メチ
ルアニリンは、メルドラム酸の代りに、ジクロロメタン
中で使用してもよい。前記の条件は、2−エチルヘキサ
ン酸ナトリウムのようなナトリウム塩の添加の際にナト
リウム塩の沈澱によって生成物を単離することができる
ようにする。
ヒドロキシ基のための有利な保護基は、アリル基および
p−ニトロベンジル基である。アリル基を除去するのに
有利な方法は、DMFまたは双極性の非プロトン性溶剤
テトラヒドロフラン混合物中、例えばジメチルスルホキ
シド/テトラヒドロフランまたは1,3−ジメチル−2
−オキソ−テトラヒドロピリミジン/テトラヒドロフラ
ンまたはアルコール/テトラヒドロフラン混合物、例え
ばイソプロパノール/テトラヒドロフランまたはエタノ
ール/テトラヒドロフラン中で、有利に環境温度で、テ
トラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウムおよび
メルドラム酸(Meldrum’s acid)を使用
するパラジウム触媒によるものである。選択的に、メチ
ルアニリンは、メルドラム酸の代りに、ジクロロメタン
中で使用してもよい。前記の条件は、2−エチルヘキサ
ン酸ナトリウムのようなナトリウム塩の添加の際にナト
リウム塩の沈澱によって生成物を単離することができる
ようにする。
【0076】p−ニトロベンジル基を除去するのに有利
な方法は、パラジウム触媒を用いる水素添加である。
な方法は、パラジウム触媒を用いる水素添加である。
【0077】本発明の他の実施態様の場合、式(I)お
よび(V)の化合物は、 a)式(VI)および(VII):
よび(V)の化合物は、 a)式(VI)および(VII):
【0078】
【化23】
【0079】〔上記式中、P1、R2、R10、R11、R12
およびR13は、前記により定義されたものと同様であ
り、P1上の場合による置換基は、前記により定義され
たものと同様であり、Lは、脱離基を表す〕で示される
化合物を反応させるか、または b)式(VIII):
およびR13は、前記により定義されたものと同様であ
り、P1上の場合による置換基は、前記により定義され
たものと同様であり、Lは、脱離基を表す〕で示される
化合物を反応させるか、または b)式(VIII):
【0080】
【化24】
【0081】〔式中、P1、R2、R10、R11、R12およ
びR13は、前記により定義されたものと同様であり、P
1上の場合による置換基は、前記により定義されたもの
と同様であり、R14、R15およびR16は、独立にC1〜
C6アルコキシ基、アリールオキシ基、ジ−C1〜C6ア
ルキルアミノ基およびジアリールアミノ基を表し、R14
〜R16の任意の2つは、o−フェニレンジオキシ基を代
表するかまたはR14〜R16の1つは、C1〜C4アルキル
基、アリル基、ベンジル基またはフェニル基を表し、他
の2つのものは、独立にC1〜C4アルキル基、トリフル
オロメチル基またはフェニル基から選択されており、こ
の場合、C1〜C3アルキルまたはC1〜C3アルコキシで
場合によっては置換された任意のフェニル基を表し;こ
の場合、任意の官能基は、場合によっては保護されてい
る〕で示される化合物を環化し、次に必要な場合には、 (i)任意の保護基を除去し; (ii)製薬学的に認容性の塩を形成し; (iii)生体内で加水分解可能なエステルを形成する
ためにエステル化することによって製造することができ
る。
びR13は、前記により定義されたものと同様であり、P
1上の場合による置換基は、前記により定義されたもの
と同様であり、R14、R15およびR16は、独立にC1〜
C6アルコキシ基、アリールオキシ基、ジ−C1〜C6ア
ルキルアミノ基およびジアリールアミノ基を表し、R14
〜R16の任意の2つは、o−フェニレンジオキシ基を代
表するかまたはR14〜R16の1つは、C1〜C4アルキル
基、アリル基、ベンジル基またはフェニル基を表し、他
の2つのものは、独立にC1〜C4アルキル基、トリフル
オロメチル基またはフェニル基から選択されており、こ
の場合、C1〜C3アルキルまたはC1〜C3アルコキシで
場合によっては置換された任意のフェニル基を表し;こ
の場合、任意の官能基は、場合によっては保護されてい
る〕で示される化合物を環化し、次に必要な場合には、 (i)任意の保護基を除去し; (ii)製薬学的に認容性の塩を形成し; (iii)生体内で加水分解可能なエステルを形成する
ためにエステル化することによって製造することができ
る。
【0082】適当な式(VI)の化合物の場合、Lは、
ヒドロキシ基の反応性エステル、例えばスルホネート
(例えば、C1〜C6アルカンスルホニルオキシ基、トリ
フルオロメタンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニ
ルオキシ基、トルエンスルホニルオキシ基)、燐酸エス
テル(例えば、ジフェニル燐酸エステルのようなジアリ
ール燐酸エステル)を表すかまたはLは、ハロゲン化物
(例えば、塩化物)を表す。選択的には、Lは、スルホ
キシド、例えば−SOCH=CH−NHCOCH3を表
し、迅速に置換されてもよい。好ましいLは、ジフェニ
ル燐酸エステル(−OP(O)(OPh)2)である。
ヒドロキシ基の反応性エステル、例えばスルホネート
(例えば、C1〜C6アルカンスルホニルオキシ基、トリ
フルオロメタンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニ
ルオキシ基、トルエンスルホニルオキシ基)、燐酸エス
テル(例えば、ジフェニル燐酸エステルのようなジアリ
ール燐酸エステル)を表すかまたはLは、ハロゲン化物
(例えば、塩化物)を表す。選択的には、Lは、スルホ
キシド、例えば−SOCH=CH−NHCOCH3を表
し、迅速に置換されてもよい。好ましいLは、ジフェニ
ル燐酸エステル(−OP(O)(OPh)2)である。
【0083】式(VI)の化合物およびその製造は、カ
ルバペネムの文献の記載により公知であり、例えば欧州
特許出願公開第126587号明細書、同第16039
1号明細書、同第243686号明細書および同第34
3499号明細書を見よ。
ルバペネムの文献の記載により公知であり、例えば欧州
特許出願公開第126587号明細書、同第16039
1号明細書、同第243686号明細書および同第34
3499号明細書を見よ。
【0084】式(VI)および(VII)の化合物の間
の反応は、有機アミン、例えばジイソプロピルエチルア
ミンまたは無機塩基、例えば炭酸カリウムのようなアル
カリ金属炭酸塩のような塩基の存在下に、典型的に実施
される。この反応は、有利に、−25℃ないし環境温度
の範囲、好適には約0℃で実施される。前記反応は、通
常、アセトニトリルまたはジメチルホルムアミドのよう
な有機溶剤中で実施される。該反応は、通常、同様の反
応のための文献に記載されたのと同様の方法で実施され
る。
の反応は、有機アミン、例えばジイソプロピルエチルア
ミンまたは無機塩基、例えば炭酸カリウムのようなアル
カリ金属炭酸塩のような塩基の存在下に、典型的に実施
される。この反応は、有利に、−25℃ないし環境温度
の範囲、好適には約0℃で実施される。前記反応は、通
常、アセトニトリルまたはジメチルホルムアミドのよう
な有機溶剤中で実施される。該反応は、通常、同様の反
応のための文献に記載されたのと同様の方法で実施され
る。
【0085】式(VII)の化合物は、新規のものであ
り、かつ本発明の他の実施態様を形成する。
り、かつ本発明の他の実施態様を形成する。
【0086】式(VI)の化合物は、式(IX):
【0087】
【化25】
【0088】〔式中P1、R10およびR12は、前記によ
り定義されたものと同様であり、P1上の場合による置
換基は、前記により定義されたものと同様であり、R17
は、保護基、例えばC1〜C6アルカノイル基、C1〜C6
アルコキシカルボニル基またはベンジル基を表す〕で示
される化合物の脱保護によって製造される。R17の有利
なものは、アセチル基およびt−ブトキシカルボニル基
である。式(IX)の化合物は、脱保護の標準方法によ
って式(VII)の化合物に変換することができ、例え
ばアセチル基は、水性アルカノール、アルカノール、例
えばアリルアルコールまたはテトラヒドロフラン中での
塩基性加水分解によって除去することができる。
り定義されたものと同様であり、P1上の場合による置
換基は、前記により定義されたものと同様であり、R17
は、保護基、例えばC1〜C6アルカノイル基、C1〜C6
アルコキシカルボニル基またはベンジル基を表す〕で示
される化合物の脱保護によって製造される。R17の有利
なものは、アセチル基およびt−ブトキシカルボニル基
である。式(IX)の化合物は、脱保護の標準方法によ
って式(VII)の化合物に変換することができ、例え
ばアセチル基は、水性アルカノール、アルカノール、例
えばアリルアルコールまたはテトラヒドロフラン中での
塩基性加水分解によって除去することができる。
【0089】式(IX)の化合物は、新規のものであ
り、かつ本発明の他の実施態様を形成する。
り、かつ本発明の他の実施態様を形成する。
【0090】式(IX)の化合物は、その場で形成され
てもよい式(X):
てもよい式(X):
【0091】
【化26】
【0092】で示される化合物の活性化された誘導体
と、式(XI):
と、式(XI):
【0093】
【化27】
【0094】で示される化合物との反応によって製造す
ることができ、この場合、P1、R10、R12およびR17
は、前記により定義されたものと同様であり、P1上の
場合による置換基は、前記により定義されたものと同様
である。式(X)の化合物の活性化された誘導体は、酸
ハロゲン化物、無水物および‘活性化された’エステ
ル、例えば1H−ベンゾール−1,2,3−トリアゾー
ル−1−イル、ペンタフルオロフェニルおよび(X)に
相当するチオカルボン酸の2,4,5−トリクロロフェ
ニルエステルまたはベンズイミダゾール−2−イルエス
テルを包含する。式(X)および(XI)の化合物の反
応は、標準的な方法で、例えば塩化スルホニルの存在下
に環境温度で実施される。
ることができ、この場合、P1、R10、R12およびR17
は、前記により定義されたものと同様であり、P1上の
場合による置換基は、前記により定義されたものと同様
である。式(X)の化合物の活性化された誘導体は、酸
ハロゲン化物、無水物および‘活性化された’エステ
ル、例えば1H−ベンゾール−1,2,3−トリアゾー
ル−1−イル、ペンタフルオロフェニルおよび(X)に
相当するチオカルボン酸の2,4,5−トリクロロフェ
ニルエステルまたはベンズイミダゾール−2−イルエス
テルを包含する。式(X)および(XI)の化合物の反
応は、標準的な方法で、例えば塩化スルホニルの存在下
に環境温度で実施される。
【0095】式(X)および(XI)の化合物は、熟練
した化学者に知られた標準的な方法、例えば本明細書に
後記された実施例の方法、欧州特許出願公開第1265
87号明細書に記載された方法または前記方法と類似の
方法によって製造される。
した化学者に知られた標準的な方法、例えば本明細書に
後記された実施例の方法、欧州特許出願公開第1265
87号明細書に記載された方法または前記方法と類似の
方法によって製造される。
【0096】好適には、式(VIII)の化合物の場
合、R14、R15およびR16は、独立にC1〜C6アルコキ
シ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ
基、n−ブトキシ基;アリールオキシ基、例えば置換ま
たは非置換のフェニル基;ジ−C1〜C6アルキルアミノ
基、例えばジメチルアミノ基またはジエチルアミノ基か
ら選択されているかまたはR14〜R16の任意の2つは、
o−フェニレンジオキシ基を代表する。好ましくは、R
14〜R16のそれぞれは、同一のものであり、C1〜C6ア
ルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、イソプロ
ポキシ基またはn−ブトキシ基を表すかまたはフェノキ
シ基を表す。
合、R14、R15およびR16は、独立にC1〜C6アルコキ
シ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ
基、n−ブトキシ基;アリールオキシ基、例えば置換ま
たは非置換のフェニル基;ジ−C1〜C6アルキルアミノ
基、例えばジメチルアミノ基またはジエチルアミノ基か
ら選択されているかまたはR14〜R16の任意の2つは、
o−フェニレンジオキシ基を代表する。好ましくは、R
14〜R16のそれぞれは、同一のものであり、C1〜C6ア
ルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、イソプロ
ポキシ基またはn−ブトキシ基を表すかまたはフェノキ
シ基を表す。
【0097】式(VIII)の化合物は、公知技術水準
の常用の条件下で環化され、式(V)の化合物を形成す
る。典型的な条件は、本質的に不活性な有機溶剤、例え
ばトルエン、キシレンまたは酢酸エチル中で、60〜1
50℃の範囲内の温度で加熱することである。典型的な
反応は、窒素雰囲気下で実施され、ラジカルスカベンジ
ャー、例えばヒドロキノンの存在下に行われる。
の常用の条件下で環化され、式(V)の化合物を形成す
る。典型的な条件は、本質的に不活性な有機溶剤、例え
ばトルエン、キシレンまたは酢酸エチル中で、60〜1
50℃の範囲内の温度で加熱することである。典型的な
反応は、窒素雰囲気下で実施され、ラジカルスカベンジ
ャー、例えばヒドロキノンの存在下に行われる。
【0098】式(VIII)の化合物は、その場で形成
されかつ環化されてもよい。式(VIII)の化合物
は、有利に、式(XII)および(XIII):
されかつ環化されてもよい。式(VIII)の化合物
は、有利に、式(XII)および(XIII):
【0099】
【化28】
【0100】〔上記式中、P1、R2、R10〜R16は、前
記により定義されたものと同様であり、P1上の場合に
よる置換基は、前記により定義されたものと同様であ
る〕で示される化合物の反応によって製造することがで
きる。好適には、式(XIII)の化合物は、亜燐酸塩
であるかまたはこの種の化合物の官能性の当量である。
記により定義されたものと同様であり、P1上の場合に
よる置換基は、前記により定義されたものと同様であ
る〕で示される化合物の反応によって製造することがで
きる。好適には、式(XIII)の化合物は、亜燐酸塩
であるかまたはこの種の化合物の官能性の当量である。
【0101】式(XII)および(XIII)の化合物
の間の反応は、有利に、有機溶剤中、例えばトルエン、
キシレン、酢酸エチル、クロロホルム、ジクロロメタ
ン、アセトニトリルまたはジメチルホルムアミド中で実
施される。典型的には、この反応は、高められた温度、
例えば60〜150℃で行われる。
の間の反応は、有利に、有機溶剤中、例えばトルエン、
キシレン、酢酸エチル、クロロホルム、ジクロロメタ
ン、アセトニトリルまたはジメチルホルムアミド中で実
施される。典型的には、この反応は、高められた温度、
例えば60〜150℃で行われる。
【0102】式(XII)の化合物は、公知技術水準の
多くの方法によって製造することができる。例えば、式
(XII)の化合物は、式(XV): Cl−CO−COOR11 (XV) 〔式中、R11は、前記により定義されたものと同様であ
る〕で示される化合物を用いて、式(XIV):
多くの方法によって製造することができる。例えば、式
(XII)の化合物は、式(XV): Cl−CO−COOR11 (XV) 〔式中、R11は、前記により定義されたものと同様であ
る〕で示される化合物を用いて、式(XIV):
【0103】
【化29】
【0104】〔式中、P1、R2、R10、R12およびR13
は、前記により定義されたものと同様であり、P1上の
場合による置換基は、前記により定義されたものと同様
である〕で示される化合物をアシル化することによって
製造することができる。
は、前記により定義されたものと同様であり、P1上の
場合による置換基は、前記により定義されたものと同様
である〕で示される化合物をアシル化することによって
製造することができる。
【0105】式(XIV)の化合物は、式(XVI):
【0106】
【化30】
【0107】で示される化合物と、式(VII)の化合
物との反応によって製造することができ、この場合、R
2およびR13は、前記により定義されたものと同様であ
る。式(XVI)の化合物は、公知技術水準において公
知であり、公知技術水準の常用のアシル化法の下に、式
(VII)の化合物と反応させることができる。
物との反応によって製造することができ、この場合、R
2およびR13は、前記により定義されたものと同様であ
る。式(XVI)の化合物は、公知技術水準において公
知であり、公知技術水準の常用のアシル化法の下に、式
(VII)の化合物と反応させることができる。
【0108】式(VII)、(XII)および(XI
V)の化合物は、新規のものであり、それ自体、本発明
の他の実施態様を形成する。
V)の化合物は、新規のものであり、それ自体、本発明
の他の実施態様を形成する。
【0109】次の生物学的試験方法、データおよび実施
例は、本発明を説明するために有用である。
例は、本発明を説明するために有用である。
【0110】抗菌性の活量 本発明の製薬学的に認容性のカルバペネム化合物は、標
準的な実験室用微生物に抗して、試験管内での活量の広
域スペクトル、グラム陰性およびグラム陽性の2つを有
する有用な抗菌剤であり、病原性の細菌に抗する活量の
ためにスクリーニングのために使用される。抗菌スペク
トルおよび個々の化合物の有効性は、標準的な試験系中
で測定することができる。特に、本発明のカルバペネム
は、β−ラクタマーゼに対する良好な安定性を示し、哺
乳動物中での特に良好な脱離半減期を有する。一般に、
化合物は、イミペネムに関する重要な改良点を示す。
準的な実験室用微生物に抗して、試験管内での活量の広
域スペクトル、グラム陰性およびグラム陽性の2つを有
する有用な抗菌剤であり、病原性の細菌に抗する活量の
ためにスクリーニングのために使用される。抗菌スペク
トルおよび個々の化合物の有効性は、標準的な試験系中
で測定することができる。特に、本発明のカルバペネム
は、β−ラクタマーゼに対する良好な安定性を示し、哺
乳動物中での特に良好な脱離半減期を有する。一般に、
化合物は、イミペネムに関する重要な改良点を示す。
【0111】また、本発明の化合物の抗菌性の性質は、
生体内での常用の試験の場合に証明することができる。
生体内での常用の試験の場合に証明することができる。
【0112】一般に、カルバペネム化合物は、温血動物
に対して相対的に非毒性であることが見出され、その普
遍性は、本発明の化合物にも当てはまる。本発明の化合
物の代表例は、細菌感染症に抗する抵抗力を生じさせる
ために必要とされる過剰な投与量でマウスに投与され、
投与された化合物に帰因する明らかな毒性の徴候または
副作用は認められなかった。
に対して相対的に非毒性であることが見出され、その普
遍性は、本発明の化合物にも当てはまる。本発明の化合
物の代表例は、細菌感染症に抗する抵抗力を生じさせる
ために必要とされる過剰な投与量でマウスに投与され、
投与された化合物に帰因する明らかな毒性の徴候または
副作用は認められなかった。
【0113】次の結果は、診断学的感応性試験(Dia
gnostic Sensitivity Test)
を用いる標準的な試験管内での試験系の際の代表的な化
合物について得られた。抗菌性の活量は、104CFU
/スポットの接種物の大きさを用いて寒天希釈技術によ
って測定された最小抑制因子濃度(MIC)を用いて記
載されている。
gnostic Sensitivity Test)
を用いる標準的な試験管内での試験系の際の代表的な化
合物について得られた。抗菌性の活量は、104CFU
/スポットの接種物の大きさを用いて寒天希釈技術によ
って測定された最小抑制因子濃度(MIC)を用いて記
載されている。
【0114】 MIC(μg/ml) 微生物 例 1 スタフィロコッカス・アウレウス (S.aureus) 0.125 オックスフォード(Oxford) 大腸菌 0.015 (E.coli) DCO プロテウス・モルガニィ 0.015 (P.Morganii) I+001 エンテロバクター 0.008 (Enterobacter) cloacae P99− バクテロイデス・フラギリス 0.25 B.fragilis AMP S 本発明の範囲内での代表例である次の実施例において: (a)NMRスペクトルは、別記しない限り200MH
zまたは400MHzで計測され; (b)アルキルオキシ基は、プロペン−1−イルオキシ
基 −OCH2CH=CH2を表し; (c)THFは、テトラヒドロフランを表し; (d)DMFは、ジメチルホルムアミドを表し; (e)DMSOは、ジメチルスルホキシドを表し; (f)溶剤の蒸発は、減圧下に行われ; (g)HPLCは、高圧液体クロマトグラフィーを表
し; (h)温度は、摂氏温度であり; (i)TFAは、トリフルオロ酢酸を表し; (j)tlcは、薄層クロマトグラフィー を表す。
zまたは400MHzで計測され; (b)アルキルオキシ基は、プロペン−1−イルオキシ
基 −OCH2CH=CH2を表し; (c)THFは、テトラヒドロフランを表し; (d)DMFは、ジメチルホルムアミドを表し; (e)DMSOは、ジメチルスルホキシドを表し; (f)溶剤の蒸発は、減圧下に行われ; (g)HPLCは、高圧液体クロマトグラフィーを表
し; (h)温度は、摂氏温度であり; (i)TFAは、トリフルオロ酢酸を表し; (j)tlcは、薄層クロマトグラフィー を表す。
【0115】
例 1 (1R,5S,6S,8R,2′S,4′S)−2−
(2−(3−スルホフェニルカルバモイル)ピロリジン
−4−イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1
−メチルカルバペネム−3−カルボン酸(ジカリウム
塩)。
(2−(3−スルホフェニルカルバモイル)ピロリジン
−4−イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1
−メチルカルバペネム−3−カルボン酸(ジカリウム
塩)。
【0116】酢酸エチル、エタノール、水(30ml、
5ml、25ml)と重炭酸カリウム(174.5m
g、1.74ミリモル)との混合物中の4−ニトロベン
ジル(1R,5S,6S,8R,2′S,4′S)−2
−(1−(4−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2
−(2−(3−スルホフェニルカルバモイル)ピロリジ
ン−4−イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−
1−メチルカルバペネム−3−カルボキシレート ジイ
ソプロピルエチルアミン塩(720mg、0.87ミリ
モル)の溶液を、大気圧で、パラジウム/炭素(10%)
(500mg)上で1時間、水素添加した。触媒を瀘別
し、瀘液を濃縮し、かつ溶離剤として水を用いる予備H
PLC(ヌクレオシル C−18)によって精製した。
必要とされた画分の濃縮および凍結乾燥は、目的化合物
を生じた(340mg、76%)。
5ml、25ml)と重炭酸カリウム(174.5m
g、1.74ミリモル)との混合物中の4−ニトロベン
ジル(1R,5S,6S,8R,2′S,4′S)−2
−(1−(4−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2
−(2−(3−スルホフェニルカルバモイル)ピロリジ
ン−4−イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−
1−メチルカルバペネム−3−カルボキシレート ジイ
ソプロピルエチルアミン塩(720mg、0.87ミリ
モル)の溶液を、大気圧で、パラジウム/炭素(10%)
(500mg)上で1時間、水素添加した。触媒を瀘別
し、瀘液を濃縮し、かつ溶離剤として水を用いる予備H
PLC(ヌクレオシル C−18)によって精製した。
必要とされた画分の濃縮および凍結乾燥は、目的化合物
を生じた(340mg、76%)。
【0117】NMR(DMSO−d6 + AcOD−
d4):δ1.17(2d,6H);1.75(m,1
H);2.7(m,1H);2.9(m,1H);3.
22(dd,1H);3.45(m,2H);3.77
(m,1H);3.96(m,2H);4.18(d
d,1H);7.3(m,2H);7.65(m,1
H);7.9(s,1H)。
d4):δ1.17(2d,6H);1.75(m,1
H);2.7(m,1H);2.9(m,1H);3.
22(dd,1H);3.45(m,2H);3.77
(m,1H);3.96(m,2H);4.18(d
d,1H);7.3(m,2H);7.65(m,1
H);7.9(s,1H)。
【0118】(2S,4S)−1−(4−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル)−2−(3−スルホフェニルカル
バモイル)−ピロリジン−4−イルチオアセテート(ジ
イソプロピルエチルアミン塩)。
ルオキシカルボニル)−2−(3−スルホフェニルカル
バモイル)−ピロリジン−4−イルチオアセテート(ジ
イソプロピルエチルアミン塩)。
【0119】(2S,4S)−1−(4−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル)−4−アセチルチオ−2−カルボ
キシピロリジン(1.5g、4ミリモル)を、環境温度
で塩化チオニルを用いて処理した。この混合物を、環境
温度で5時間撹拌し、塩化チオニルを蒸発させ、かつ残
分をジクロロメタン/トルエン(1:1)中に溶解し
た。この溶剤を蒸発させ、残油を、真空下に1時間乾燥
させ、かつ無水ジクロロメタン(10ml)中に溶解し
た。これを、0℃で、3−アミノベンゼンスルホン酸
(7−6mg、4ミリモル)および無水DMF(10m
l)中のジイソプロピルエチルアミン(1.42ml、
8ミリモル)の溶液に添加した。この混合物を、環境温
度で12時間撹拌し、ジクロロメタンを蒸発させ、かつ
残留DMF溶液を、HP20SSカラムでクロマトグラ
フィー処理した。目的化合物をメタノール(水 + 1
%酢酸)で溶離した(メタノールの勾配)(1.68
g、79%)。
ルオキシカルボニル)−4−アセチルチオ−2−カルボ
キシピロリジン(1.5g、4ミリモル)を、環境温度
で塩化チオニルを用いて処理した。この混合物を、環境
温度で5時間撹拌し、塩化チオニルを蒸発させ、かつ残
分をジクロロメタン/トルエン(1:1)中に溶解し
た。この溶剤を蒸発させ、残油を、真空下に1時間乾燥
させ、かつ無水ジクロロメタン(10ml)中に溶解し
た。これを、0℃で、3−アミノベンゼンスルホン酸
(7−6mg、4ミリモル)および無水DMF(10m
l)中のジイソプロピルエチルアミン(1.42ml、
8ミリモル)の溶液に添加した。この混合物を、環境温
度で12時間撹拌し、ジクロロメタンを蒸発させ、かつ
残留DMF溶液を、HP20SSカラムでクロマトグラ
フィー処理した。目的化合物をメタノール(水 + 1
%酢酸)で溶離した(メタノールの勾配)(1.68
g、79%)。
【0120】NMR(DMSO−d6 + AcOD−
d4、100℃):δ1.4(m,15H);2.05
(m,1H);2.35(s,3H);2.8(m,1
H);3.15(q,2H);3.4(m,1H);
3.65(m,2H);3.9〜4.25(m,2
H);4.5(dd,1H);5.25(s,2H);
7.1〜7.75(m,5H);7.9(m,1H);
8.1(d,2H)。
d4、100℃):δ1.4(m,15H);2.05
(m,1H);2.35(s,3H);2.8(m,1
H);3.15(q,2H);3.4(m,1H);
3.65(m,2H);3.9〜4.25(m,2
H);4.5(dd,1H);5.25(s,2H);
7.1〜7.75(m,5H);7.9(m,1H);
8.1(d,2H)。
【0121】4−ニトロベンジル(1R,5R,6S,
8R)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチル−
2−ジフェニルホスホリルオキシカルバペネム−3−カ
ルボキシレートを、次のようにして製造した:4−ニト
ロベンジル(1R,5R,6S,8R)−6−(1−ヒ
ドロキシエチル)−1−メチル−2−オキソカルバペネ
ム−3−カルボキシレート[その場で、4−ニトロベン
ジル 2−ジアゾ−3−オキソ−4−(R)−メチル−
4−[(3S,4R)−3−(1−(R)−ヒドロキシ
エチル)−2−オキソアゼチジン−4−イル]−ブタン
酸塩およびロジウムオクタン酸塩から製造された:例え
ば欧州特許出願公開第208889号明細書を見よ]お
よびアセトニトリル中のジ−イソプロピルエチルアミン
(1.1当量)の溶液に、0℃で、アルゴン雰囲気下
に、ジフェニルクロロ燐酸塩(1.1当量)を滴加し
た。この溶液を、環境温度で30分間撹拌して、相応す
る2−ジフェニルホスホリルオキシカルバペネムを形成
させた。
8R)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチル−
2−ジフェニルホスホリルオキシカルバペネム−3−カ
ルボキシレートを、次のようにして製造した:4−ニト
ロベンジル(1R,5R,6S,8R)−6−(1−ヒ
ドロキシエチル)−1−メチル−2−オキソカルバペネ
ム−3−カルボキシレート[その場で、4−ニトロベン
ジル 2−ジアゾ−3−オキソ−4−(R)−メチル−
4−[(3S,4R)−3−(1−(R)−ヒドロキシ
エチル)−2−オキソアゼチジン−4−イル]−ブタン
酸塩およびロジウムオクタン酸塩から製造された:例え
ば欧州特許出願公開第208889号明細書を見よ]お
よびアセトニトリル中のジ−イソプロピルエチルアミン
(1.1当量)の溶液に、0℃で、アルゴン雰囲気下
に、ジフェニルクロロ燐酸塩(1.1当量)を滴加し
た。この溶液を、環境温度で30分間撹拌して、相応す
る2−ジフェニルホスホリルオキシカルバペネムを形成
させた。
【0122】4−ニトロベンジル(1R,5S,6S,
8R,2′S,4′S)−2−(1−(4−ニトロベン
ジルオキシカルボニル)−2−(3−スルホフェニルカ
ルバモイル)ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1−
ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カ
ルボキシレート(ジイソプロピルエチルアミン塩)。
8R,2′S,4′S)−2−(1−(4−ニトロベン
ジルオキシカルボニル)−2−(3−スルホフェニルカ
ルバモイル)ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1−
ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カ
ルボキシレート(ジイソプロピルエチルアミン塩)。
【0123】メタノール(40ml)中の(2S,4
S)−1−(4−ニトロベンジルオキシカルボニル)−
2−(3−スルホフェニルカルバモイル)ピロリジン−
4−イルチオアセテート ジイソプロピルエチルアミン
塩(0.8g、1.53ミリモル)を、1MのNaOH
(3.83ml、2.5ミリモル)を用いて、環境温度
で1時間、処理した。次に、この混合物を、0℃で6M
のHClを用いてpH3に酸性にし、蒸発させ、かつ真
空下に1時間乾燥させた。粗製チオールをDMF(5m
l)中に溶解し、0℃で、DMF(10ml)中の4−
ニトロベンジル(1R,5R,6S,8R)−6−(1
−ヒドロキシエチル)−1−メチル−2−ジフェニルホ
スホリルオキシカルバペネム−3−カルボキシレート
(890mg、1.5ミリモル)、ジイソプロピルエチ
ルアミン(520μl、3ミリモル)、トリ−n−ブチ
ルホスフィン(373μl、1.5ミリモル)および水
(27μl、1.5ミリモル)の溶液に添加し、一晩放
置した。この粗製反応混合物を、アセトニトリル/水を
溶離剤として使用するHP20SSカラムでクロマトグ
ラフィー処理し、目的化合物を生じた(728mg、5
9%)。
S)−1−(4−ニトロベンジルオキシカルボニル)−
2−(3−スルホフェニルカルバモイル)ピロリジン−
4−イルチオアセテート ジイソプロピルエチルアミン
塩(0.8g、1.53ミリモル)を、1MのNaOH
(3.83ml、2.5ミリモル)を用いて、環境温度
で1時間、処理した。次に、この混合物を、0℃で6M
のHClを用いてpH3に酸性にし、蒸発させ、かつ真
空下に1時間乾燥させた。粗製チオールをDMF(5m
l)中に溶解し、0℃で、DMF(10ml)中の4−
ニトロベンジル(1R,5R,6S,8R)−6−(1
−ヒドロキシエチル)−1−メチル−2−ジフェニルホ
スホリルオキシカルバペネム−3−カルボキシレート
(890mg、1.5ミリモル)、ジイソプロピルエチ
ルアミン(520μl、3ミリモル)、トリ−n−ブチ
ルホスフィン(373μl、1.5ミリモル)および水
(27μl、1.5ミリモル)の溶液に添加し、一晩放
置した。この粗製反応混合物を、アセトニトリル/水を
溶離剤として使用するHP20SSカラムでクロマトグ
ラフィー処理し、目的化合物を生じた(728mg、5
9%)。
【0124】NMR(DMSO−d6 + AcOD−
d4):δ1.3(m,21H);1.9(m,1
H);2.85(m,1H);3.15(q,2H);
3.3(dd,1H);3.4(m,1H);3.65
(m,3H);3.8〜4.1(m,2H);4.15
(m,1H);4.25(dd,1H);4.5(m,
1H);5.28〜5.5(m,4H);7.2〜8.
3(m,12H)。
d4):δ1.3(m,21H);1.9(m,1
H);2.85(m,1H);3.15(q,2H);
3.3(dd,1H);3.4(m,1H);3.65
(m,3H);3.8〜4.1(m,2H);4.15
(m,1H);4.25(dd,1H);4.5(m,
1H);5.28〜5.5(m,4H);7.2〜8.
3(m,12H)。
【0125】例 2 (1R,5S,6S,8R,2′S,4′S)−2−
(2−(2−ヒドロキシ−5−スルホフェニルカルバモ
イル)−ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1−ヒド
ロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カルボ
ン酸(ジカリウム塩)。
(2−(2−ヒドロキシ−5−スルホフェニルカルバモ
イル)−ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1−ヒド
ロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カルボ
ン酸(ジカリウム塩)。
【0126】目的化合物を、水素添加で使用した溶剤が
水であったことを除いて、例1の記載と同様の方法を使
用して、4−ニトロベンジル(1R,5S,6S,8
R,2′S,4′S)−2−(1−(4−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル)−2−(2−ヒドロキシ−5−ス
ルホフェニルカルバペネム−3−カルボキシレート ジ
イソプロピルエチルアミン塩から製造した。
水であったことを除いて、例1の記載と同様の方法を使
用して、4−ニトロベンジル(1R,5S,6S,8
R,2′S,4′S)−2−(1−(4−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル)−2−(2−ヒドロキシ−5−ス
ルホフェニルカルバペネム−3−カルボキシレート ジ
イソプロピルエチルアミン塩から製造した。
【0127】NMR(DMSO−d6 + AcOD−
d4):δ1.15(2d,6H);1.75(m,1
H);2.65(m,2H);3.2(dd,1H);
3.4(m,1H);3.51(m,1H);3.63
(m,1H);3.94(m,1H);4.02(m,
1H);4.18(dd,1H);6.82(dd,1
H);7.22(dd,1H);8.42(s,1
H)。
d4):δ1.15(2d,6H);1.75(m,1
H);2.65(m,2H);3.2(dd,1H);
3.4(m,1H);3.51(m,1H);3.63
(m,1H);3.94(m,1H);4.02(m,
1H);4.18(dd,1H);6.82(dd,1
H);7.22(dd,1H);8.42(s,1
H)。
【0128】(2S,4S)−1−(4−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル)−2−(2−ヒドロキシ−5−ス
ルホフェニルカルバモイル)ピロリジン−4−イルチオ
アセテート(ジイソプロピイルエチルアミン塩)。
ルオキシカルボニル)−2−(2−ヒドロキシ−5−ス
ルホフェニルカルバモイル)ピロリジン−4−イルチオ
アセテート(ジイソプロピイルエチルアミン塩)。
【0129】目的化合物を、例1の記載と同様の方法を
使用して、3−アミノ−4−ヒドロキシベンゼンスルホ
ン酸から製造した。
使用して、3−アミノ−4−ヒドロキシベンゼンスルホ
ン酸から製造した。
【0130】NMR(DMSO−d6 + TFA−
d、70℃):1.35(m,15H);2.1(m,
1H);2.3(s,3H);2.8(m,1H);
3.15(q,2H);3.4(m,1H);3.65
(m,2H);3.9〜4.25(m,2H);4.6
5(dd,1H);5.25(s,2H);6.85
(d,1H);7.3(dd,1H);7.6(d,2
H);8.1(d,2H);8.2(d,1H)。
d、70℃):1.35(m,15H);2.1(m,
1H);2.3(s,3H);2.8(m,1H);
3.15(q,2H);3.4(m,1H);3.65
(m,2H);3.9〜4.25(m,2H);4.6
5(dd,1H);5.25(s,2H);6.85
(d,1H);7.3(dd,1H);7.6(d,2
H);8.1(d,2H);8.2(d,1H)。
【0131】4−ニトロベンジル(1R,5S,6S,
8R,2′S,4′S)−2−(1−(4−ニトロベン
ジルオキシカルボニル)−2−(2−ヒドロキシ−5−
スルホフェニルカルバモイル)ピロリジン−4−イルチ
オ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチルカル
バペネム−3−カルボキシレート(ジイソプロピルエチ
ルアミン塩)。
8R,2′S,4′S)−2−(1−(4−ニトロベン
ジルオキシカルボニル)−2−(2−ヒドロキシ−5−
スルホフェニルカルバモイル)ピロリジン−4−イルチ
オ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチルカル
バペネム−3−カルボキシレート(ジイソプロピルエチ
ルアミン塩)。
【0132】目的化合物を、例1の記載と同様の方法を
用いて、(2S,4S)−1−(4−ニトロベンジルオ
キシカルボニル)−2−(2−ヒドロキシ−5−スルホ
フェニルカルバモイル)ピロリジン−4−イルチオアセ
テート ジイソプロピルエチルアミン塩から製造した。
用いて、(2S,4S)−1−(4−ニトロベンジルオ
キシカルボニル)−2−(2−ヒドロキシ−5−スルホ
フェニルカルバモイル)ピロリジン−4−イルチオアセ
テート ジイソプロピルエチルアミン塩から製造した。
【0133】NMR(DMSO−d6 + AcOD−
d4):δ1.2(m,21H);2.05(m,1
H);2.85(m,1H);3.1(q,2H);
3.28(dd,1H);3.4(m,1H);3.6
(m,3H);3.8〜4.2(m,3H);4.25
(dd,1H);4.6(m,1H);5.1〜5.4
(m,4H);7.05〜7.25(m,2H);7.
25〜7.45(m,1H);7.45〜7.7(m,
3H);8.0〜8.3(m,5H)。
d4):δ1.2(m,21H);2.05(m,1
H);2.85(m,1H);3.1(q,2H);
3.28(dd,1H);3.4(m,1H);3.6
(m,3H);3.8〜4.2(m,3H);4.25
(dd,1H);4.6(m,1H);5.1〜5.4
(m,4H);7.05〜7.25(m,2H);7.
25〜7.45(m,1H);7.45〜7.7(m,
3H);8.0〜8.3(m,5H)。
【0134】例 3 (1R,5S,6S,8R,2′S,4′S)−2−
(2−(メトキシ−5−メチル−4−スルホフェニルカ
ルバモイル)ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1−
ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カ
ルボン酸(ジカリウム塩)。
(2−(メトキシ−5−メチル−4−スルホフェニルカ
ルバモイル)ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1−
ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カ
ルボン酸(ジカリウム塩)。
【0135】目的化合物を、例2の記載と同様の方法を
用いて、(1R,5S,6S,8R,2′S,4′S)
−2−(1−(4−ニトロベンジルオキシカルボニル)
−2−(2−メトキシ−5−メチル−4−スルホフェニ
ルカルバモイル)ピロリジン−4−イルチオ)−6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−
3−カルボキシレート ジイソプロピルエチルアミン塩
から製造した。
用いて、(1R,5S,6S,8R,2′S,4′S)
−2−(1−(4−ニトロベンジルオキシカルボニル)
−2−(2−メトキシ−5−メチル−4−スルホフェニ
ルカルバモイル)ピロリジン−4−イルチオ)−6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−
3−カルボキシレート ジイソプロピルエチルアミン塩
から製造した。
【0136】NMR(DMSO−d6 + AcOD−
d4):δ1.18(2d,6H);1.78(m,1
H);2.48(s,3H);2.6〜2.8(m,2
H);3.2(dd,1H);3.42(m,1H);
3.51(m,1H);3.65(m,1H);3.8
2(s,3H);3.9〜4.1(m,2H);4.1
5(dd,1H);7.44(s,1H);8.05
(s,1H)。
d4):δ1.18(2d,6H);1.78(m,1
H);2.48(s,3H);2.6〜2.8(m,2
H);3.2(dd,1H);3.42(m,1H);
3.51(m,1H);3.65(m,1H);3.8
2(s,3H);3.9〜4.1(m,2H);4.1
5(dd,1H);7.44(s,1H);8.05
(s,1H)。
【0137】(2S,4S)−1−(4−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル)−2−(2−メトキシ−5−メチ
ル−4−スルホフェニルカルバモイル)ピロリジン−4
−イルチオアセテート(ジイソプロピルエチルアミン
塩)。
ルオキシカルボニル)−2−(2−メトキシ−5−メチ
ル−4−スルホフェニルカルバモイル)ピロリジン−4
−イルチオアセテート(ジイソプロピルエチルアミン
塩)。
【0138】目的化合物を、例1の記載と同様の方法を
用いて、4−アミノ−5−メトキシ−2−メチルベンゼ
ンスルホン酸から製造した。
用いて、4−アミノ−5−メトキシ−2−メチルベンゼ
ンスルホン酸から製造した。
【0139】NMR(DMSO−d6 + TFA−
d):δ1.35(m,15H);2.1(m,1
H);2.3(s,3H);2.45(s,3H);
2.8(m,1H);3.15(q,2H);3.4
(m,1H);3.65(m,2H);3.9〜4.2
5(m,2H);4.7(dd,1H);5.25
(s,2H);7.45(s,1H);7.65(d,
2H);7.85(m,1H);8.2(d,2H)。
d):δ1.35(m,15H);2.1(m,1
H);2.3(s,3H);2.45(s,3H);
2.8(m,1H);3.15(q,2H);3.4
(m,1H);3.65(m,2H);3.9〜4.2
5(m,2H);4.7(dd,1H);5.25
(s,2H);7.45(s,1H);7.65(d,
2H);7.85(m,1H);8.2(d,2H)。
【0140】4−ニトロベンジル(1R,5R,6S,
8R,2′S,4′S)−2−(1−(4−ニトロベン
ジルオキシカルボニル)−2−(2−メトキシ−5−メ
チル−4−スルホフェニルカルバモイル)ピロリジン−
4−イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−
メチルカルバペネム−3−カルボキシレート(ジイソプ
ロピルエチルアミン塩)。
8R,2′S,4′S)−2−(1−(4−ニトロベン
ジルオキシカルボニル)−2−(2−メトキシ−5−メ
チル−4−スルホフェニルカルバモイル)ピロリジン−
4−イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−
メチルカルバペネム−3−カルボキシレート(ジイソプ
ロピルエチルアミン塩)。
【0141】目的化合物を、例1の記載と同様の方法を
用いて、前記工程の生成物から製造した。
用いて、前記工程の生成物から製造した。
【0142】NMR(DMSO−d6 + AcOD−
d4):δ1.25(m,21H);2.05(m,1
H);2.45(s,3H);2.85(m,1H);
3.15(q,2H);3.3(dd,1H);3.4
(m,1H);3.55(m,1H);3.65(m,
2H);3.75(s,3H);3.8〜4.2(m,
3H);4.25(dd,1H);4.6(m,1
H);5.2〜5.4(m,4H);7.47(s,1
H);7.5〜7.8(m,5H);8.1〜8.25
(m,4H)。
d4):δ1.25(m,21H);2.05(m,1
H);2.45(s,3H);2.85(m,1H);
3.15(q,2H);3.3(dd,1H);3.4
(m,1H);3.55(m,1H);3.65(m,
2H);3.75(s,3H);3.8〜4.2(m,
3H);4.25(dd,1H);4.6(m,1
H);5.2〜5.4(m,4H);7.47(s,1
H);7.5〜7.8(m,5H);8.1〜8.25
(m,4H)。
【0143】例 4 (1R,5S,6S,8R,2′S,4′S)−2−
(2−(2−スルホフェニルカルバモイル)ピロリジン
−4−イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1
−メチルカルバペネム−3−カルボン酸(ジカリウム
塩)。
(2−(2−スルホフェニルカルバモイル)ピロリジン
−4−イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1
−メチルカルバペネム−3−カルボン酸(ジカリウム
塩)。
【0144】目的化合物を、水素添加で使用した溶剤が
水/酢酸エチル(3:1)であったことを除いて、例1
の記載と同様の方法を用いて、4−ニトロベンジル(1
R,5R,6S,8R,2′S,4′S)−2−(1−
(4−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2−(2−
スルホフェニルカルバモイル)ピロリジン−4−イルチ
オ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチルカル
バペネム−3−カルボキシレート ジイソプロピルエチ
ルアミン塩から製造した。
水/酢酸エチル(3:1)であったことを除いて、例1
の記載と同様の方法を用いて、4−ニトロベンジル(1
R,5R,6S,8R,2′S,4′S)−2−(1−
(4−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2−(2−
スルホフェニルカルバモイル)ピロリジン−4−イルチ
オ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチルカル
バペネム−3−カルボキシレート ジイソプロピルエチ
ルアミン塩から製造した。
【0145】NMR(DMSO−d6 + AcOD−
d4):δ1.15(2d,6H);1.7(m,1
H);2.7(m,2H);3.2(dq,1H);
3.3〜3.6(m,3H);3.95(m,2H);
4.2(dd,1H);7.05(t,1H);7.3
(t,1H);7.7(d,1H);8.3(d,1
H)。
d4):δ1.15(2d,6H);1.7(m,1
H);2.7(m,2H);3.2(dq,1H);
3.3〜3.6(m,3H);3.95(m,2H);
4.2(dd,1H);7.05(t,1H);7.3
(t,1H);7.7(d,1H);8.3(d,1
H)。
【0146】(2S,4S)−1−(4−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル)−2−(2−スルホフェニルカル
バモイル)−ピロリジン−4−イルチオアセテート(ジ
イソプロピルエチルアミン塩)。
ルオキシカルボニル)−2−(2−スルホフェニルカル
バモイル)−ピロリジン−4−イルチオアセテート(ジ
イソプロピルエチルアミン塩)。
【0147】目的化合物を、例1の記載と同様の方法を
用いて、2−アミノベンゼンスルホン酸から製造した。
用いて、2−アミノベンゼンスルホン酸から製造した。
【0148】NMR(DMSO−d6 + TFA−
d):δ1.3(m,15H);2.3(s,3H);
2.5〜2.8(m,2H);3.15(q,2H);
3.4〜3.75(m,3H);4.0〜4.25
(m,2H);4.3〜4.5(t,1H);5.2
(s,2H);6.9〜8.3(m,8H)。
d):δ1.3(m,15H);2.3(s,3H);
2.5〜2.8(m,2H);3.15(q,2H);
3.4〜3.75(m,3H);4.0〜4.25
(m,2H);4.3〜4.5(t,1H);5.2
(s,2H);6.9〜8.3(m,8H)。
【0149】4−ニトロベンジル(1R,5R,6S,
8R,2′S,4′S)−2−(1−(4−ニトロベン
ジルオキシカルボニル)−2−(2−スルホフェニルカ
ルバモイル)ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1−
ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カ
ルボキシレート(ジイソプロピルエチルアミン塩)。
8R,2′S,4′S)−2−(1−(4−ニトロベン
ジルオキシカルボニル)−2−(2−スルホフェニルカ
ルバモイル)ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1−
ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カ
ルボキシレート(ジイソプロピルエチルアミン塩)。
【0150】目的化合物を、例1の記載と同様の方法を
用いて、前記工程の生成物から製造した。
用いて、前記工程の生成物から製造した。
【0151】NMR(DMSO−d6 + AcOD−
d4):δ0.9〜1.0(m,21H);2.0
(m,1H);2.85(m,1H);3.15(q,
2H);3.3(dd,1H);3.5〜3.7(m,
4H);3.9〜4.1(m,2H);4.15〜4.
5(m,4H);5.1〜5.5(m,4H);7.0
5(t,1H);7.25(m,1H);7.55
(d,1H);7.65〜7.8(m,4H);8.0
(d,1H);8.2〜8.45(m,3H)。
d4):δ0.9〜1.0(m,21H);2.0
(m,1H);2.85(m,1H);3.15(q,
2H);3.3(dd,1H);3.5〜3.7(m,
4H);3.9〜4.1(m,2H);4.15〜4.
5(m,4H);5.1〜5.5(m,4H);7.0
5(t,1H);7.25(m,1H);7.55
(d,1H);7.65〜7.8(m,4H);8.0
(d,1H);8.2〜8.45(m,3H)。
【0152】例 5 (1R,5S,6S,8R,2′S,4′S)−2−
(2−(2−ヒドロキシ−4−スルホ−1−ナフチルカ
ルバモイル)−ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1
−ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−3−
カルボン酸(ジカリウム塩)。
(2−(2−ヒドロキシ−4−スルホ−1−ナフチルカ
ルバモイル)−ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1
−ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−3−
カルボン酸(ジカリウム塩)。
【0153】目的化合物を、例1の記載と同様の方法を
用いて、4−ニトロベンジル(1R,5S,6S,8
R,2′S,4′S)−2−(1−(4−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル)−2−(2−ヒドロキシ−4−ス
ルホ−1−ナフチルカルバモイル)ピロリジン−4−イ
ルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチル
カルバペネム−3−カルボキシレート ジイソプロピル
エチルアミン塩から製造した。
用いて、4−ニトロベンジル(1R,5S,6S,8
R,2′S,4′S)−2−(1−(4−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル)−2−(2−ヒドロキシ−4−ス
ルホ−1−ナフチルカルバモイル)ピロリジン−4−イ
ルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチル
カルバペネム−3−カルボキシレート ジイソプロピル
エチルアミン塩から製造した。
【0154】NMR(DMSO−d6 + AcOD−
d4):δ1.1(2d,6H);1.95(m,1
H);2.85(m,1H);2.95(m,1H);
2.99(m,1H);3.2(dd,1H);3.4
(m,1H);3.6(m,1H);3.8(m,1
H);3.98(m,1H);4.18(dd,1
H);4.28(t,1H);4.7(m,1H);
5.3(s,2H);7.32(dd,1H);7.4
5(dd,1H);7.68(d,1H);7.78
(s,1H);8.73(d.1H)。
d4):δ1.1(2d,6H);1.95(m,1
H);2.85(m,1H);2.95(m,1H);
2.99(m,1H);3.2(dd,1H);3.4
(m,1H);3.6(m,1H);3.8(m,1
H);3.98(m,1H);4.18(dd,1
H);4.28(t,1H);4.7(m,1H);
5.3(s,2H);7.32(dd,1H);7.4
5(dd,1H);7.68(d,1H);7.78
(s,1H);8.73(d.1H)。
【0155】(2S,4S)−1−(4−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル)−2−(2−ヒドロキシ−4−ス
ルホ−1−ナフチルカルバモイル)ピロリジン−4−イ
ルチオアセテート(ジイソプロピルエチルアミン塩)。
ルオキシカルボニル)−2−(2−ヒドロキシ−4−ス
ルホ−1−ナフチルカルバモイル)ピロリジン−4−イ
ルチオアセテート(ジイソプロピルエチルアミン塩)。
【0156】目的化合物を、例1の記載と同様の方法を
用いて、1−アミノ−2−ヒドロキシナフチレンスルホ
ン酸から製造した。
用いて、1−アミノ−2−ヒドロキシナフチレンスルホ
ン酸から製造した。
【0157】NMR(DMSO−d6 + AcOD−
d4):δ1.35(m,15H);2.15(m,1
H);2.3(s,3H);2.8(m,1H);3.
15(q,2H);3.35(m,1H);3.6
(m,2H);3.9〜4.25(m,2H);7.0
〜7.5(m,2H);7.5〜8.0(m,4H);
8.15(d,2H);8.75(m,1H)。
d4):δ1.35(m,15H);2.15(m,1
H);2.3(s,3H);2.8(m,1H);3.
15(q,2H);3.35(m,1H);3.6
(m,2H);3.9〜4.25(m,2H);7.0
〜7.5(m,2H);7.5〜8.0(m,4H);
8.15(d,2H);8.75(m,1H)。
【0158】4−ニトロベンジル(1R,5R,6S,
8R,2′S,2′S)−2−(1−(4−ニトロベン
ジルオキシカルボニル)−2−(2−ヒドロキシ−4−
スルホ−1−ナフチルカルバモイル)ピロリジン−4−
イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチ
ルカルバペネム−3−カルボキシレート(ジイソプロピ
ルエチルアミン塩)。
8R,2′S,2′S)−2−(1−(4−ニトロベン
ジルオキシカルボニル)−2−(2−ヒドロキシ−4−
スルホ−1−ナフチルカルバモイル)ピロリジン−4−
イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチ
ルカルバペネム−3−カルボキシレート(ジイソプロピ
ルエチルアミン塩)。
【0159】目的化合物を、例1の記載と同様の方法を
用いて、前記工程の生成物から製造した。
用いて、前記工程の生成物から製造した。
【0160】NMR(DMSO−d6 + AcOD−
d4):δ1.09(d,3H);1.11(d,3
H);2.1(m,1H);2.94(m,1H);
3.1〜3.5(m,2H);3.6(m,1H);
3.9〜4.1(m,2H);4.15〜4.35
(m,2H);4.7(m,1H);5.15〜5.5
5(m,4H);7.1〜7.3(m,2H);7.3
〜7.5(m,6H);8.0〜8.3(m,4H);
8.7(d,1H)。
d4):δ1.09(d,3H);1.11(d,3
H);2.1(m,1H);2.94(m,1H);
3.1〜3.5(m,2H);3.6(m,1H);
3.9〜4.1(m,2H);4.15〜4.35
(m,2H);4.7(m,1H);5.15〜5.5
5(m,4H);7.1〜7.3(m,2H);7.3
〜7.5(m,6H);8.0〜8.3(m,4H);
8.7(d,1H)。
【0161】例 6 (1R,5S,6S,8R,2′S,4′S)−2−
(2−(3−メチルスルホニルカルバモイルフェニルカ
ルバモイル)ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1−
ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カ
ルボン酸。
(2−(3−メチルスルホニルカルバモイルフェニルカ
ルバモイル)ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1−
ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カ
ルボン酸。
【0162】THF(CaH2から新たに蒸留した;3
5ml)中の4−ニトロベンジル(1R,5S,6S,
8R,2′S,4′S)−2−(2−(3−メチルスル
ホニルカルバモイルフェニルカルバモイル)−1−(4
−ニトロベンジルオキシカルボニル)ピロリジン−4−
イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチ
ルカルバペネム−3−カルボキシレート(360mg、
0.416mM)の溶液に、炭酸水素ナトリウム(35
mg、0.416mM)を含有する水(15ml)中の
木炭上10%のパラジウム(150mg)の懸濁液を添
加した。生じた懸濁液を、水素雰囲気下に2時間撹拌し
た。触媒を、微細孔0.2μmの注射型フィルター装置
を通して瀘別し、瀘液を酢酸エチルと水(それぞれ50
ml)との間に分配した。酢酸エチル層を、更に水で抽
出し、合わせた水性抽出液をエーテルで洗浄し、かつ部
分的に蒸発させた(高真空の‘Drikold’凝縮
器)。濃厚にされた水層(ほぼ30ml)を、一晩凍結
乾燥し、粗製の目的化合物(350mg)を生じた。
5ml)中の4−ニトロベンジル(1R,5S,6S,
8R,2′S,4′S)−2−(2−(3−メチルスル
ホニルカルバモイルフェニルカルバモイル)−1−(4
−ニトロベンジルオキシカルボニル)ピロリジン−4−
イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチ
ルカルバペネム−3−カルボキシレート(360mg、
0.416mM)の溶液に、炭酸水素ナトリウム(35
mg、0.416mM)を含有する水(15ml)中の
木炭上10%のパラジウム(150mg)の懸濁液を添
加した。生じた懸濁液を、水素雰囲気下に2時間撹拌し
た。触媒を、微細孔0.2μmの注射型フィルター装置
を通して瀘別し、瀘液を酢酸エチルと水(それぞれ50
ml)との間に分配した。酢酸エチル層を、更に水で抽
出し、合わせた水性抽出液をエーテルで洗浄し、かつ部
分的に蒸発させた(高真空の‘Drikold’凝縮
器)。濃厚にされた水層(ほぼ30ml)を、一晩凍結
乾燥し、粗製の目的化合物(350mg)を生じた。
【0163】炭酸水素ナトリウム(150mg)を、水
で溶離するDiaion HP2055樹脂(300×
30mm)のカラムを使用するカラムクロマトグラフィ
ー処理によって精製する前に、粗製物質の溶液に添加し
た。必要とされた生成物を含有する画分を、合わせ、蒸
発させて(前記のように)部分的に乾燥し、次に、一晩
凍結乾燥させ、目的化合物(100mg)を生じた。
で溶離するDiaion HP2055樹脂(300×
30mm)のカラムを使用するカラムクロマトグラフィ
ー処理によって精製する前に、粗製物質の溶液に添加し
た。必要とされた生成物を含有する画分を、合わせ、蒸
発させて(前記のように)部分的に乾燥し、次に、一晩
凍結乾燥させ、目的化合物(100mg)を生じた。
【0164】NMR:1.32(d,6H);2.13
(m,1H);3.08(m,1H);3.37(d
d,1H);3.40(s,3H);3.54(dd,
1H);3.90(dd,1H);4.13(m,2
H);4.37(dd,1H);4.57(t,1
H);7.59(t,1H);7.86(d,1H);
7.98(d,1H);8.34(s,1H); MS:M+552。
(m,1H);3.08(m,1H);3.37(d
d,1H);3.40(s,3H);3.54(dd,
1H);3.90(dd,1H);4.13(m,2
H);4.37(dd,1H);4.57(t,1
H);7.59(t,1H);7.86(d,1H);
7.98(d,1H);8.34(s,1H); MS:M+552。
【0165】出発物質を次のようにして製造した: 3−アミノ−N−メチルスルホニルベンズアミド 木炭上10%のパラジウム(0.3g)を含有する酢酸
(100ml)中の3−ニトロ−N−メチルスルホニル
ベンズアミド(R.N.[33920−36−4];G
er Offen.ドイツ連邦共和国特許第20020
65号明細書−1971年7月;2.4g、10mM)
の溶液を、水素雰囲気下に、環境温度および大気圧で、
2時間撹拌した。水素の吸収量は、800mlであっ
た。この懸濁液を、ワットマン(Whatman)N
o.50濾紙を通して濾過し、かつ瀘液を蒸発させた。
生じた油を、無水エタノール(200ml)中に溶解
し、かつ濃厚な塩酸で酸性にした。固体が、晶出を開始
した。この溶液を、2時間で5℃に冷却し、固体を捕集
し、かつ冷たいエタノールで洗浄した。3−アミノ−N
−メチルスルホニルベンズアミドヒドロクロリドが、淡
いピンク色の結晶(10.5g、融点224.5〜22
8℃)として得られた。
(100ml)中の3−ニトロ−N−メチルスルホニル
ベンズアミド(R.N.[33920−36−4];G
er Offen.ドイツ連邦共和国特許第20020
65号明細書−1971年7月;2.4g、10mM)
の溶液を、水素雰囲気下に、環境温度および大気圧で、
2時間撹拌した。水素の吸収量は、800mlであっ
た。この懸濁液を、ワットマン(Whatman)N
o.50濾紙を通して濾過し、かつ瀘液を蒸発させた。
生じた油を、無水エタノール(200ml)中に溶解
し、かつ濃厚な塩酸で酸性にした。固体が、晶出を開始
した。この溶液を、2時間で5℃に冷却し、固体を捕集
し、かつ冷たいエタノールで洗浄した。3−アミノ−N
−メチルスルホニルベンズアミドヒドロクロリドが、淡
いピンク色の結晶(10.5g、融点224.5〜22
8℃)として得られた。
【0166】NMR(DMSO−d6):δ3.38
(s,3H);7.53(m,2H);7.8(m,2
H);7.9〜10.8(幅広、3H)。
(s,3H);7.53(m,2H);7.8(m,2
H);7.9〜10.8(幅広、3H)。
【0167】(2S,4S)−アセチルチオ−1−(4
−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2−(3−メチ
ルスルホニルカルバモイルフェニルカルバモイル)ピロ
リジン。
−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2−(3−メチ
ルスルホニルカルバモイルフェニルカルバモイル)ピロ
リジン。
【0168】ジイソプロピルエチルアミン(2.8m
l、20mM)、次に、クロロトリメチルシラン(1.
3ml、10mM)を、THF(CaH2から蒸留され
た;30ml)中の3−アミノ−N−メチルスルホニル
ベンズアミドヒドロクロリド(2.5g、10mM)の
撹拌溶液に、アルゴン雰囲気下で添加した。この溶液
を、30分間放置しておき、かつ結晶性の固体を分離し
た。
l、20mM)、次に、クロロトリメチルシラン(1.
3ml、10mM)を、THF(CaH2から蒸留され
た;30ml)中の3−アミノ−N−メチルスルホニル
ベンズアミドヒドロクロリド(2.5g、10mM)の
撹拌溶液に、アルゴン雰囲気下で添加した。この溶液
を、30分間放置しておき、かつ結晶性の固体を分離し
た。
【0169】一方、THF(30ml)中に溶解された
4−アセチルチオ−1−(4−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル)−2−カルボキシピロリジン(1.84g、
5mM)を、N−メチルモルホリン(1.1ml、10
mM)で処理した。この溶液を、アルゴン雰囲気下で撹
拌しながら、−15℃に冷却し、かつ、1滴のクロロ蟻
酸イソブチル(0.66ml、5mM)で処理した。
4−アセチルチオ−1−(4−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル)−2−カルボキシピロリジン(1.84g、
5mM)を、N−メチルモルホリン(1.1ml、10
mM)で処理した。この溶液を、アルゴン雰囲気下で撹
拌しながら、−15℃に冷却し、かつ、1滴のクロロ蟻
酸イソブチル(0.66ml、5mM)で処理した。
【0170】5分後に、この溶液を、0℃以下の温度を
維持するような程度の速度で、アニリンのトリメチルシ
リル誘導体からの上澄み液で処理した。添加が完結した
際に、混合物を15分間撹拌し、かつ溶液を蒸発させ
た。残分を、酢酸エチル(200ml)と1Mの塩酸水
溶液(100ml)との間に分配した。混合物から晶出
した固体を捕集し、酢酸エチルおよび水で洗浄し、次
に、空気乾燥して、(2S,4S)−4−アセチルチオ
−1−(4−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2−
(3−メチルスルホニルカルバモイルフェニルカルバモ
イル)ピロリジンを、白色の結晶性の固体として生じた
(2.0g;融点240.5〜242℃)。
維持するような程度の速度で、アニリンのトリメチルシ
リル誘導体からの上澄み液で処理した。添加が完結した
際に、混合物を15分間撹拌し、かつ溶液を蒸発させ
た。残分を、酢酸エチル(200ml)と1Mの塩酸水
溶液(100ml)との間に分配した。混合物から晶出
した固体を捕集し、酢酸エチルおよび水で洗浄し、次
に、空気乾燥して、(2S,4S)−4−アセチルチオ
−1−(4−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2−
(3−メチルスルホニルカルバモイルフェニルカルバモ
イル)ピロリジンを、白色の結晶性の固体として生じた
(2.0g;融点240.5〜242℃)。
【0171】NMR(DMSO−d6):1.93
(m,1H);2.33(s,3H);2.80(m,
1H);3.33(s,3H);4.05(m,2
H);4.48(m,1H);5.18(q,2H);
7.48(m,2H);7.64(m,2H);7.8
2(m,2H);7.95(d,1H);8.15
(d,1H);8.24(d,1H);10.3(s,
1H);12.15(s,1H)。
(m,1H);2.33(s,3H);2.80(m,
1H);3.33(s,3H);4.05(m,2
H);4.48(m,1H);5.18(q,2H);
7.48(m,2H);7.64(m,2H);7.8
2(m,2H);7.95(d,1H);8.15
(d,1H);8.24(d,1H);10.3(s,
1H);12.15(s,1H)。
【0172】4−ニトロベンジル(1R,5S,6S,
8R,2′S,4′S)−2−(2−(3−メチルスル
ホニルカルバモイルフェニルカルバモイル)−1−(4
−ニトロベンジルオキシカルボニル)ピロリジン−4−
イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチ
ルカルバペネム−3−カルボキシレート 無水エタノール(8ml)中の(2S,4S)−4−ア
セチルチオ−1−(4−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル−2−(3−メチルスルホニルカルバモイルフェニル
カルバモイル)−ピロリジン(0.9g、1.6mM)
の溶液に、メチルアミン(メタノール中33%の溶液、
2ml、16mM)を添加し、かつこの混合物をアルゴ
ン雰囲気下で20分間撹拌した。この溶液を、酢酸エチ
ル(70ml)と塩酸(1M;50ml)との間に分配
し、酢酸エチル層を分離し、水(50ml)および飽和
した食塩水(50ml)で洗浄し、硫酸マグネシウム上
で乾燥させ、かつ蒸発させた。
8R,2′S,4′S)−2−(2−(3−メチルスル
ホニルカルバモイルフェニルカルバモイル)−1−(4
−ニトロベンジルオキシカルボニル)ピロリジン−4−
イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチ
ルカルバペネム−3−カルボキシレート 無水エタノール(8ml)中の(2S,4S)−4−ア
セチルチオ−1−(4−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル−2−(3−メチルスルホニルカルバモイルフェニル
カルバモイル)−ピロリジン(0.9g、1.6mM)
の溶液に、メチルアミン(メタノール中33%の溶液、
2ml、16mM)を添加し、かつこの混合物をアルゴ
ン雰囲気下で20分間撹拌した。この溶液を、酢酸エチ
ル(70ml)と塩酸(1M;50ml)との間に分配
し、酢酸エチル層を分離し、水(50ml)および飽和
した食塩水(50ml)で洗浄し、硫酸マグネシウム上
で乾燥させ、かつ蒸発させた。
【0173】生じたチオールをアセトニトリル(20m
l)中に溶解し、かつこの溶液をジイソプロピルエチル
アミン(1.0ml、5.6mM)で処理した。この溶
液に、4−ニトロベンジル(1R,5R,6S,8R)
−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチル−2−ジ
フェニルホスホリルオキシカルバペネム−3−カルボキ
シレート(1.0g、1.68mM)を添加し、かつ完
全な溶液が得られるまで混合物を撹拌した。この混合物
を、5℃で16時間放置しておいた。この溶剤を蒸発さ
せ、かつ残分を、酢酸エチル(100ml)と塩酸(1
M;50ml)との間に分配した。酢酸エチル層を分離
し、塩酸(1M;50ml)、水(50ml)および飽
和した食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥さ
せ、かつ蒸発させた。この残分を、ジクロロメタンの勾
配;メタノール(95:5)〜(1:1)で溶離するシ
リカゲル(メルク社(Merck) 9385、120
mmの深さまで充填された直径40mmのカラム)によ
りクロマトグラフィー処理した。必要とされた生成物を
含有する画分を合わせ、かつ蒸発させた。目的化合物
が、淡い黄色の泡状物として得られた(0.45g)。
l)中に溶解し、かつこの溶液をジイソプロピルエチル
アミン(1.0ml、5.6mM)で処理した。この溶
液に、4−ニトロベンジル(1R,5R,6S,8R)
−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチル−2−ジ
フェニルホスホリルオキシカルバペネム−3−カルボキ
シレート(1.0g、1.68mM)を添加し、かつ完
全な溶液が得られるまで混合物を撹拌した。この混合物
を、5℃で16時間放置しておいた。この溶剤を蒸発さ
せ、かつ残分を、酢酸エチル(100ml)と塩酸(1
M;50ml)との間に分配した。酢酸エチル層を分離
し、塩酸(1M;50ml)、水(50ml)および飽
和した食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥さ
せ、かつ蒸発させた。この残分を、ジクロロメタンの勾
配;メタノール(95:5)〜(1:1)で溶離するシ
リカゲル(メルク社(Merck) 9385、120
mmの深さまで充填された直径40mmのカラム)によ
りクロマトグラフィー処理した。必要とされた生成物を
含有する画分を合わせ、かつ蒸発させた。目的化合物
が、淡い黄色の泡状物として得られた(0.45g)。
【0174】NMR(CDCl3−DMSO−d6):
1.29(t,6H);2.10(m,1H);3.2
3(q,1H);3.37(s,3H);3.45
(m,3H);3.76(m,1H);4.10(t,
2H);4.29(q,1H);4.54(t,1
H); 例 7 (1R,5S,6S,8R,2′S,4′S)−2−
(2−(3−(1−テトラゾル−5−イル)フェニルカ
ルバモイル)−ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1
−ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−3−
カルボン酸。
1.29(t,6H);2.10(m,1H);3.2
3(q,1H);3.37(s,3H);3.45
(m,3H);3.76(m,1H);4.10(t,
2H);4.29(q,1H);4.54(t,1
H); 例 7 (1R,5S,6S,8R,2′S,4′S)−2−
(2−(3−(1−テトラゾル−5−イル)フェニルカ
ルバモイル)−ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1
−ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−3−
カルボン酸。
【0175】THF(20ml)中の4−ニトロベンジ
ル(1R,5S,6S,8R,2′S,4′S)−2−
(2−(3−1H−テトラゾル−5−イル)フェニルカ
ルバモイル)−1−(4−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル)−ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1−ヒド
ロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カルボ
キシレート(750mg)の溶液に、水(20ml)中
の炭酸水素ナトリウム(80mg、0.95ミリモル)
の溶液を添加した。木炭上10%のパラジウム(200
mg)を添加し、かつ混合物を水素雰囲気下で1時間水
素添加した。パラジウム触媒を濾過し、かつ触媒を更に
200mg瀘液に添加し、これを水素雰囲気下で3時間
水素添加した。触媒を、再度濾過し、瀘液を酢酸エチル
(25ml)およびエーテル(20ml)で抽出し、か
つ水層を凍結乾燥して、褐色の固体(240mg)を生
じた。この固体を、炭酸水素ナトリウム(120mg)
と一緒に水(40ml)中に溶解し、かつ水で溶離する
DIAION HP20SS樹脂(110ml)により
クロマトグラフィー処理によって精製した。この溶剤を
蒸発によって、20mlに濃縮し、次に、凍結乾燥させ
て、目的生成物を生じた(130mg)。
ル(1R,5S,6S,8R,2′S,4′S)−2−
(2−(3−1H−テトラゾル−5−イル)フェニルカ
ルバモイル)−1−(4−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル)−ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1−ヒド
ロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カルボ
キシレート(750mg)の溶液に、水(20ml)中
の炭酸水素ナトリウム(80mg、0.95ミリモル)
の溶液を添加した。木炭上10%のパラジウム(200
mg)を添加し、かつ混合物を水素雰囲気下で1時間水
素添加した。パラジウム触媒を濾過し、かつ触媒を更に
200mg瀘液に添加し、これを水素雰囲気下で3時間
水素添加した。触媒を、再度濾過し、瀘液を酢酸エチル
(25ml)およびエーテル(20ml)で抽出し、か
つ水層を凍結乾燥して、褐色の固体(240mg)を生
じた。この固体を、炭酸水素ナトリウム(120mg)
と一緒に水(40ml)中に溶解し、かつ水で溶離する
DIAION HP20SS樹脂(110ml)により
クロマトグラフィー処理によって精製した。この溶剤を
蒸発によって、20mlに濃縮し、次に、凍結乾燥させ
て、目的生成物を生じた(130mg)。
【0176】NMR(DMSO−d6):1.8(d,
6H);2.56〜2.62(m,1H);3.43〜
3.58(m,1H);3.79〜3.9(m,2
H);3.93〜4.06(m,1H);4.30〜
4.40(dd,1H);4.51〜4.70(m,2
H);4.78〜4.87(dd,1H);4.98〜
5.07(t,1H);8.07〜8.16(t,1
H);8.3(微細な分断dd,1H);8.42(微
細な分断dd,1H);8.98(微細な分断s,1
H)。
6H);2.56〜2.62(m,1H);3.43〜
3.58(m,1H);3.79〜3.9(m,2
H);3.93〜4.06(m,1H);4.30〜
4.40(dd,1H);4.51〜4.70(m,2
H);4.78〜4.87(dd,1H);4.98〜
5.07(t,1H);8.07〜8.16(t,1
H);8.3(微細な分断dd,1H);8.42(微
細な分断dd,1H);8.98(微細な分断s,1
H)。
【0177】MS:(M−H)-498;520(モノ
ナトリウム塩について):542(ジナトリウム塩につ
いて)。
ナトリウム塩について):542(ジナトリウム塩につ
いて)。
【0178】出発物質を次のようにして製造した:フィ
ルスマイヤー試薬を、ジクロロメタン(40ml)中の
DMF(0.72ml、9.25ミリモル)を、アルゴ
ン雰囲気下で、塩化オキサリル(0.72ml、8.3
ミリモル)を用いて、−20℃で30分間処理すること
によって製造した。ジクロロメタン(10ml)中の
(2S,4S)−4−アセチルチオ−1−(4−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル)−2−カルボキシピロリジ
ン(3g、8.1ミリモル)、次に、N−メチルモルホ
リン(1.1ml、10.1ミリモル)を添加し、−2
0℃で45分間連続して撹拌した。酸塩化物の形成は、
不完全であることが見出され、こうして更に、塩化オキ
サリル(0.4ml、4.6ミリモル)を添加し、かつ
混合物を−20℃で30分間撹拌した。この溶剤を除去
し、褐色の固体を生じさせ、トルエンと共沸した。この
固体をジクロロメタン(50ml)中に溶解し、アルゴ
ン雰囲気下で−20℃に冷却した。3−(1H−テトラ
ゾル−5−イル)アニリン(1.5g;9.3ミリモ
ル)と、DMF(4ml)中のN−メチルモルホリン
(2.5ml、22.9ミリモル)との混合物を添加
し、かつこの混合物を環境温度で20時間加熱した。ジ
クロロメタン(30ml)で希釈後に、この混合物を1
NのHCl水溶液および食塩水(50ml)で洗浄し、
乾燥させ(MgSO4)、かつ蒸発によって溶剤を除去
して褐色のゴムを生じた。該ゴムを、ジクロロメタンの
勾配;氷酢酸対ジクロロメタン(100:3):酢酸エ
チル:氷酢酸(40:60:3)で溶離する珪素により
フラッシュクロマトグラフィー処理によって精製し、か
つトルエンと共沸し、(2S,4S)−4−アセチルチ
オ−1−(4−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2
−(3−(1H−テトラゾル−5−イル)フェニルカル
バモイル)ピロリジンを、淡い黄色の固体として生じた
(3g)。
ルスマイヤー試薬を、ジクロロメタン(40ml)中の
DMF(0.72ml、9.25ミリモル)を、アルゴ
ン雰囲気下で、塩化オキサリル(0.72ml、8.3
ミリモル)を用いて、−20℃で30分間処理すること
によって製造した。ジクロロメタン(10ml)中の
(2S,4S)−4−アセチルチオ−1−(4−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル)−2−カルボキシピロリジ
ン(3g、8.1ミリモル)、次に、N−メチルモルホ
リン(1.1ml、10.1ミリモル)を添加し、−2
0℃で45分間連続して撹拌した。酸塩化物の形成は、
不完全であることが見出され、こうして更に、塩化オキ
サリル(0.4ml、4.6ミリモル)を添加し、かつ
混合物を−20℃で30分間撹拌した。この溶剤を除去
し、褐色の固体を生じさせ、トルエンと共沸した。この
固体をジクロロメタン(50ml)中に溶解し、アルゴ
ン雰囲気下で−20℃に冷却した。3−(1H−テトラ
ゾル−5−イル)アニリン(1.5g;9.3ミリモ
ル)と、DMF(4ml)中のN−メチルモルホリン
(2.5ml、22.9ミリモル)との混合物を添加
し、かつこの混合物を環境温度で20時間加熱した。ジ
クロロメタン(30ml)で希釈後に、この混合物を1
NのHCl水溶液および食塩水(50ml)で洗浄し、
乾燥させ(MgSO4)、かつ蒸発によって溶剤を除去
して褐色のゴムを生じた。該ゴムを、ジクロロメタンの
勾配;氷酢酸対ジクロロメタン(100:3):酢酸エ
チル:氷酢酸(40:60:3)で溶離する珪素により
フラッシュクロマトグラフィー処理によって精製し、か
つトルエンと共沸し、(2S,4S)−4−アセチルチ
オ−1−(4−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2
−(3−(1H−テトラゾル−5−イル)フェニルカル
バモイル)ピロリジンを、淡い黄色の固体として生じた
(3g)。
【0179】NMR(DMSO−d6):1.83〜
2.05(m,1H);2.35(s,3H);2.7
1〜2.92(m,1H);3.91〜4.19(m,
2H);4.40〜4.58(m,1H);5.01〜
5.35(m,2H);7.45〜7.59(m,2
H);7.61〜7.79(m,3H);7.9(d,
1H);8.24(d,1H);8.39(d,1
H);10.34(s,1H); MS:(M−H)-=510。
2.05(m,1H);2.35(s,3H);2.7
1〜2.92(m,1H);3.91〜4.19(m,
2H);4.40〜4.58(m,1H);5.01〜
5.35(m,2H);7.45〜7.59(m,2
H);7.61〜7.79(m,3H);7.9(d,
1H);8.24(d,1H);8.39(d,1
H);10.34(s,1H); MS:(M−H)-=510。
【0180】エタノール(5ml)中の(2S,4S)
−4−アセチルチオ−1−(4−ニトロベンジルオキシ
カルボニル)−2−(3−(1H−テトラゾル−5−イ
ル)フェニルカルバモイル)ピロリジン(500mg、
0.98ミリモル)の溶液にアルゴン雰囲気下で5℃
で、メチルアミン33%溶液(1ml、8.4ミリモ
ル)を添加した。この混合物を5℃で10分間撹拌し、
次に、酢酸エチルと希薄なHCl水溶液との間に分配し
た。有機層を食塩水で洗浄し、乾燥させ(MgS
O4)、かつ溶剤を除去して、淡い黄色の泡状物を生じ
た。この生成物を、更に処理することなく精製または同
定に使用した。
−4−アセチルチオ−1−(4−ニトロベンジルオキシ
カルボニル)−2−(3−(1H−テトラゾル−5−イ
ル)フェニルカルバモイル)ピロリジン(500mg、
0.98ミリモル)の溶液にアルゴン雰囲気下で5℃
で、メチルアミン33%溶液(1ml、8.4ミリモ
ル)を添加した。この混合物を5℃で10分間撹拌し、
次に、酢酸エチルと希薄なHCl水溶液との間に分配し
た。有機層を食塩水で洗浄し、乾燥させ(MgS
O4)、かつ溶剤を除去して、淡い黄色の泡状物を生じ
た。この生成物を、更に処理することなく精製または同
定に使用した。
【0181】トリフルオロメタンスルホン酸無水物をジ
フェニルクロロ燐酸塩の代りに使用し、ジイソプロピル
エチルアミンの2当量を使用したことを除いて、相応す
る2−ジフェニルホスホリルオキシカルバペネムを製造
するための例1記載の方法を使用して、4−ニトロベン
ジル(1R,5S,6S,8R)−6−(1−ヒドロキ
シエチル)−1−メチル−2−トリフルオロメタンスル
ホニルオキシカルバペネム−3−カルボキシレートを製
造した。この生成物を、分析せずに使用した。
フェニルクロロ燐酸塩の代りに使用し、ジイソプロピル
エチルアミンの2当量を使用したことを除いて、相応す
る2−ジフェニルホスホリルオキシカルバペネムを製造
するための例1記載の方法を使用して、4−ニトロベン
ジル(1R,5S,6S,8R)−6−(1−ヒドロキ
シエチル)−1−メチル−2−トリフルオロメタンスル
ホニルオキシカルバペネム−3−カルボキシレートを製
造した。この生成物を、分析せずに使用した。
【0182】−4℃で、アセトニトリル(5ml)中の
4−ニトロベンジル(1R,5S,6S,8R)−6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−メチル−2−トリフル
オロメタンスルホニルオキシカルバペネム−3−カルボ
キシレートの溶液を、アセトニトリル(5ml)および
ジイソプロピルエチルアミン(0.52ml、2.93
ミリモル)中の1−(4−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル)−2−(3−(1H−テトラゾル−5−イル)フ
ェニルカルバモイル)ピロリジン−4−イルチオール
(そのチオアセテートの500mgから)を添加した。
この混合物を5℃で20時間貯蔵し、溶剤を除去し、か
つ黄色のゴムをジクロロメタン(30ml)中に再溶解
し、1NのHCl(2×25ml)および食塩水(25
ml)で洗浄した。生成物を洗浄した際に、黄色のゴム
を形成し、該ゴムを酢酸エチル中に再溶解した。2つの
有機層を乾燥させ(MgSO4)、かつ蒸発させて、淡
い黄色の固体(760mg)を生じ、この固体を、更に
精製せずに使用した。
4−ニトロベンジル(1R,5S,6S,8R)−6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−メチル−2−トリフル
オロメタンスルホニルオキシカルバペネム−3−カルボ
キシレートの溶液を、アセトニトリル(5ml)および
ジイソプロピルエチルアミン(0.52ml、2.93
ミリモル)中の1−(4−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル)−2−(3−(1H−テトラゾル−5−イル)フ
ェニルカルバモイル)ピロリジン−4−イルチオール
(そのチオアセテートの500mgから)を添加した。
この混合物を5℃で20時間貯蔵し、溶剤を除去し、か
つ黄色のゴムをジクロロメタン(30ml)中に再溶解
し、1NのHCl(2×25ml)および食塩水(25
ml)で洗浄した。生成物を洗浄した際に、黄色のゴム
を形成し、該ゴムを酢酸エチル中に再溶解した。2つの
有機層を乾燥させ(MgSO4)、かつ蒸発させて、淡
い黄色の固体(760mg)を生じ、この固体を、更に
精製せずに使用した。
【0183】例 8 (1R,5S,6S,8R,2′S,4′S)−2−
(2−(1−カルボキシ−3−ナフチルカルバモイルピ
ロリジン−4−イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチ
ル)−1−メチルカルバペネム−3−カルボン酸(ジカ
リウム塩)。
(2−(1−カルボキシ−3−ナフチルカルバモイルピ
ロリジン−4−イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチ
ル)−1−メチルカルバペネム−3−カルボン酸(ジカ
リウム塩)。
【0184】水(25ml)中の(1R,5S,6S,
8R,2′S,4′S)−2−(1−(4−ニトロベン
ジルオキシカルボニル)−2−(1−カルボキシ−3−
ナフチルカルバモイル)ピロリジン−4−イルチオ)−
6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバペネ
ム−3−カルボン酸ジカリウム塩(440mg、0.5
6ミリモル)を、パラジウム/炭素(10%、200m
g)上で、大気圧で水素添加した。次に、この反応をH
PLCを用いて行った。触媒を瀘別し、かつ溶液を濃縮
した後で、残分を、水/アセトニトリルで溶離する分取
HPLC(ヌクレオシル C−18)によって精製し、
目的化合物(142mg、42%)を生じた。
8R,2′S,4′S)−2−(1−(4−ニトロベン
ジルオキシカルボニル)−2−(1−カルボキシ−3−
ナフチルカルバモイル)ピロリジン−4−イルチオ)−
6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバペネ
ム−3−カルボン酸ジカリウム塩(440mg、0.5
6ミリモル)を、パラジウム/炭素(10%、200m
g)上で、大気圧で水素添加した。次に、この反応をH
PLCを用いて行った。触媒を瀘別し、かつ溶液を濃縮
した後で、残分を、水/アセトニトリルで溶離する分取
HPLC(ヌクレオシル C−18)によって精製し、
目的化合物(142mg、42%)を生じた。
【0185】NMR(DMSO−d6 + AcOD−
d4):δ1.16(m,6H);1.85(m,1
H);2.7(m,1H);2.9(m,1H);3.
2(dd,1H);3.4(m,1H);3.47(d
q,1H);3.72(m,1H);3.97(dq,
1H);4.05(m,1H);4.16(dd,1
H);7.5(m,2H);7.89(m,1H);
8.32(m,1H);8.46(m,1H);8.7
7(m,1H)。
d4):δ1.16(m,6H);1.85(m,1
H);2.7(m,1H);2.9(m,1H);3.
2(dd,1H);3.4(m,1H);3.47(d
q,1H);3.72(m,1H);3.97(dq,
1H);4.05(m,1H);4.16(dd,1
H);7.5(m,2H);7.89(m,1H);
8.32(m,1H);8.46(m,1H);8.7
7(m,1H)。
【0186】(2S,4S)−1−(4−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル)−2−(1−カルボキシ−3−ナ
フチルカルバモイル)ピロリジン−4−イルチオアセテ
ート。
ルオキシカルボニル)−2−(1−カルボキシ−3−ナ
フチルカルバモイル)ピロリジン−4−イルチオアセテ
ート。
【0187】(2S,4S)−1−(4−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル)−4−アセチルチオ−2−カルボ
キシピロリジン(1.5g、4ミリモル)を、環境温度
で、塩化チオニル(12ml)を用いて処理した。この
混合物を5時間撹拌し、塩化チオニルを蒸発させ、かつ
残分をジクロロメタン/トルエン(1:1)中に溶解し
た。この溶剤を蒸発させ、残油を真空下で1時間乾燥さ
せ、かつジクロロメタン(10ml)中に溶解した。前
記溶液を、3−アミノ−1−ナフトエ酸(762mg、
4ミリモル)およびジクロロメタン(25ml)中のジ
イソプロピルエチルアミン(1.75ml、10ml)
の溶液に、0℃で添加し、かつ環境温度で12時間撹拌
した。この溶剤を蒸発させ、残分を、アセトニトリルの
勾配を使用するアセトニトリル/(水+酢酸1%)で溶
離するHP20SSカラムによりクロマトグラフィー処
理を施すことによって精製し、目的化合物を生じた
(1.5g、68.5%)。
ルオキシカルボニル)−4−アセチルチオ−2−カルボ
キシピロリジン(1.5g、4ミリモル)を、環境温度
で、塩化チオニル(12ml)を用いて処理した。この
混合物を5時間撹拌し、塩化チオニルを蒸発させ、かつ
残分をジクロロメタン/トルエン(1:1)中に溶解し
た。この溶剤を蒸発させ、残油を真空下で1時間乾燥さ
せ、かつジクロロメタン(10ml)中に溶解した。前
記溶液を、3−アミノ−1−ナフトエ酸(762mg、
4ミリモル)およびジクロロメタン(25ml)中のジ
イソプロピルエチルアミン(1.75ml、10ml)
の溶液に、0℃で添加し、かつ環境温度で12時間撹拌
した。この溶剤を蒸発させ、残分を、アセトニトリルの
勾配を使用するアセトニトリル/(水+酢酸1%)で溶
離するHP20SSカラムによりクロマトグラフィー処
理を施すことによって精製し、目的化合物を生じた
(1.5g、68.5%)。
【0188】NMR(DMSO−d6、100°):δ
2.1(m,1H);2.34(s,3H);2.85
(m,1H);3.45(m,1H);3.85〜4.
3(m,2H);4.57(dd,1H);5.23
(dd,2H);7.4〜7.7(m,4H);7.7
〜8.2(m,3H);8.2〜8.5(m,2H);
8.65〜8.9(m,1H)。
2.1(m,1H);2.34(s,3H);2.85
(m,1H);3.45(m,1H);3.85〜4.
3(m,2H);4.57(dd,1H);5.23
(dd,2H);7.4〜7.7(m,4H);7.7
〜8.2(m,3H);8.2〜8.5(m,2H);
8.65〜8.9(m,1H)。
【0189】アリル(1R,5S,6S,8R,2′
S,4′S)−2−(1−(4−ニトロベンジルオキシ
カルボニル)2−(1−カルボキシ−3−ナフチルカル
バモイル)ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1−ヒ
ドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カル
ボキシレート(ジイソプロピルエチルアミン塩)。
S,4′S)−2−(1−(4−ニトロベンジルオキシ
カルボニル)2−(1−カルボキシ−3−ナフチルカル
バモイル)ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1−ヒ
ドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カル
ボキシレート(ジイソプロピルエチルアミン塩)。
【0190】メタノール(25ml)中の(2S,4
S)−1−(4−ニトロベンジルオキシカルボニル)−
2−(1−カルボキシ−3−ナフチルカルバモイル)ピ
ロリジン−4−イルチオアセテート(537g、1ミリ
モル)を、1MのNaOH(2.5ml、2.5ミリモ
ル)を用いて、環境温度で1時間処理した。反応混合物
を、0℃で、6MのHClでpH3の酸性にし、蒸発さ
せ、真空下で1時間乾燥させた。生じた粗製チオールを
DMF(6ml)中に溶解し、ジイソプロピルエチルア
ミン(350μl、2ミリモル)、トリ−n−ブチルホ
スフィン(250g、1ミリモル)および水(18μ
l、1ミリモル)の存在下に、環境温度で、DMF(6
ml)中のアリル(1R,5S,6S,8R)−6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−メチル−2−ジフェニ
ルホスホリルオキシカルバペネム−3−カルボキシレー
ト(499mg、1ミリモル)の溶液に添加し、かつ一
晩放置した。この生成物を、溶離剤としてアセトニトリ
ル/水(アセトニトリルに対する)勾配)を用いるHP
20SSカラムによりクロマトグラフィー処理を施すこ
とによって精製し、目的化合物を生じた(540mg、
72.5%)。
S)−1−(4−ニトロベンジルオキシカルボニル)−
2−(1−カルボキシ−3−ナフチルカルバモイル)ピ
ロリジン−4−イルチオアセテート(537g、1ミリ
モル)を、1MのNaOH(2.5ml、2.5ミリモ
ル)を用いて、環境温度で1時間処理した。反応混合物
を、0℃で、6MのHClでpH3の酸性にし、蒸発さ
せ、真空下で1時間乾燥させた。生じた粗製チオールを
DMF(6ml)中に溶解し、ジイソプロピルエチルア
ミン(350μl、2ミリモル)、トリ−n−ブチルホ
スフィン(250g、1ミリモル)および水(18μ
l、1ミリモル)の存在下に、環境温度で、DMF(6
ml)中のアリル(1R,5S,6S,8R)−6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−メチル−2−ジフェニ
ルホスホリルオキシカルバペネム−3−カルボキシレー
ト(499mg、1ミリモル)の溶液に添加し、かつ一
晩放置した。この生成物を、溶離剤としてアセトニトリ
ル/水(アセトニトリルに対する)勾配)を用いるHP
20SSカラムによりクロマトグラフィー処理を施すこ
とによって精製し、目的化合物を生じた(540mg、
72.5%)。
【0191】NMR(DMSO−d6):δ1.18
(m,15H);1.25(m,6H);2.0(m,
1H);2.85(m,1H);3.13(q,2
H);3.25(dd,1H);3.4(m,1H);
3.6(m,3H);3.97(m,2H);4.1〜
4.3(m,2H);4.4〜4.75(m,3H);
5.0〜5.4(m,4H);5.87(m,1H);
7.4〜7.6(m,3H);7.67(d,1H);
7.8〜7.95(m,2H);8.2〜8.4(m,
2H);8.55(m,1H);8.8(m,1H)。
(m,15H);1.25(m,6H);2.0(m,
1H);2.85(m,1H);3.13(q,2
H);3.25(dd,1H);3.4(m,1H);
3.6(m,3H);3.97(m,2H);4.1〜
4.3(m,2H);4.4〜4.75(m,3H);
5.0〜5.4(m,4H);5.87(m,1H);
7.4〜7.6(m,3H);7.67(d,1H);
7.8〜7.95(m,2H);8.2〜8.4(m,
2H);8.55(m,1H);8.8(m,1H)。
【0192】(1R,5S,6S,8R,2′S,4′
S)−2−(1−(4−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル)−2−(1−カルボキシ−3−ナフチルカルバモイ
ル)ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1−ヒドロキ
シエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カルボン酸
(ジカリウム塩)。
S)−2−(1−(4−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル)−2−(1−カルボキシ−3−ナフチルカルバモイ
ル)ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1−ヒドロキ
シエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カルボン酸
(ジカリウム塩)。
【0193】無水THF(30ml)中のアリル(1
R,5S,6S,8R,2′S,4′S)−2−(1−
(4−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2−(1−
カルボキシ−3−ナフチルカルバモイル)ピロリジン−
4−イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−
メチルカルバペネム−3−カルボキシレートジイソプロ
ピルエチルアミン塩(540mg、0.726ミリモ
ル)の溶液を、トリフェニルホスフィン(19mg、
0.072ミリモル)、ヘキサン酸カリウム(酢酸エチ
ル中0.46M)(3.5ml、1.6ミリモル)およ
びテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム
(2.5mg、0.02ミリモル)を用いて、環境温度
で1時間処理した。この混合物を酢酸エチル(30m
l)で希釈し、沈澱物を瀘別し、瀘液を酢酸エチルで洗
浄し、かつ乾燥させて、目的化合物を生じた(440m
g、78%)。
R,5S,6S,8R,2′S,4′S)−2−(1−
(4−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2−(1−
カルボキシ−3−ナフチルカルバモイル)ピロリジン−
4−イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−
メチルカルバペネム−3−カルボキシレートジイソプロ
ピルエチルアミン塩(540mg、0.726ミリモ
ル)の溶液を、トリフェニルホスフィン(19mg、
0.072ミリモル)、ヘキサン酸カリウム(酢酸エチ
ル中0.46M)(3.5ml、1.6ミリモル)およ
びテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム
(2.5mg、0.02ミリモル)を用いて、環境温度
で1時間処理した。この混合物を酢酸エチル(30m
l)で希釈し、沈澱物を瀘別し、瀘液を酢酸エチルで洗
浄し、かつ乾燥させて、目的化合物を生じた(440m
g、78%)。
【0194】NMR(DMSO−d6):δ1.1〜
1.3(m,6H);1.95(m,1H);2.85
(m,1H);3.2(dd,1H);3.3〜3.5
(m,2H);3.7(m,1H);3.8〜4.2
(m,3H);4.55(m,1H);5.2(dd,
1H);5.3(s,1H);7.5(m,3H);
7.67(d,1H);7.9(d,2H);8.25
(m,2H);8.5(m,1H);8.8(m,1
H)。
1.3(m,6H);1.95(m,1H);2.85
(m,1H);3.2(dd,1H);3.3〜3.5
(m,2H);3.7(m,1H);3.8〜4.2
(m,3H);4.55(m,1H);5.2(dd,
1H);5.3(s,1H);7.5(m,3H);
7.67(d,1H);7.9(d,2H);8.25
(m,2H);8.5(m,1H);8.8(m,1
H)。
【0195】例 9 (1R,5S,6S,8R,2′S,4′S)−2−
(2−(2−カルボキシ−3−ナフチルカルバモイル)
ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエ
チル)−1−メチルカルバペネム−3−カルボン酸。
(2−(2−カルボキシ−3−ナフチルカルバモイル)
ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエ
チル)−1−メチルカルバペネム−3−カルボン酸。
【0196】目的化合物を、例8記載の方法を用いて、
(1R,5S,6S,8R,2′S,4′S)−2−
(1−(4−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2−
(2−カルボキシ−3−ナフチルカルバモイル)−ピロ
リジン−4−イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチ
ル)−1−メチルカルバペネム−3−カルボン酸ジカリ
ウム塩から製造した。
(1R,5S,6S,8R,2′S,4′S)−2−
(1−(4−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2−
(2−カルボキシ−3−ナフチルカルバモイル)−ピロ
リジン−4−イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチ
ル)−1−メチルカルバペネム−3−カルボン酸ジカリ
ウム塩から製造した。
【0197】NMR(DMSO−d6 + AcOD−
d4):δ1.15(m,6H);1.85(m,1
H);2.7〜2.9(m,2H);3.2(dd,1
H);3.4(dq,1H);3.55(m,1H);
3.7(m,1H);3.98(dq,1H);4.1
5(m,2H);7.4(m,1H);7.52(m,
1H);7.8(d,1H);7.92(d,1H);
8.62(s,1H);8.98(s,1H)。
d4):δ1.15(m,6H);1.85(m,1
H);2.7〜2.9(m,2H);3.2(dd,1
H);3.4(dq,1H);3.55(m,1H);
3.7(m,1H);3.98(dq,1H);4.1
5(m,2H);7.4(m,1H);7.52(m,
1H);7.8(d,1H);7.92(d,1H);
8.62(s,1H);8.98(s,1H)。
【0198】(2S,4S)−1−(4−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル)−2−(2−カルボキシ−3−ナ
フチルカルバモイル)ピロリジン−4−イルチオアセテ
ート。
ルオキシカルボニル)−2−(2−カルボキシ−3−ナ
フチルカルバモイル)ピロリジン−4−イルチオアセテ
ート。
【0199】目的化合物を、例8の記載と同様の方法を
用いて、3−アミノ−2−ナフトエ酸から製造した。
用いて、3−アミノ−2−ナフトエ酸から製造した。
【0200】NMR(DMSO−d6 + AcOD−
d4 + TFA−d、100°):δ2.0〜2.2
5(m,1H);2.25(m,3H);2.85
(m,1H);3.45(m,1H);3.9〜4.3
5(m,2H);4.55(dd,1H);5.25
(dd,2H);7.35〜8.1(m,8H);8.
62(s,1H);8.90(s,1H)。
d4 + TFA−d、100°):δ2.0〜2.2
5(m,1H);2.25(m,3H);2.85
(m,1H);3.45(m,1H);3.9〜4.3
5(m,2H);4.55(dd,1H);5.25
(dd,2H);7.35〜8.1(m,8H);8.
62(s,1H);8.90(s,1H)。
【0201】アリル(1R,5R,6S,8R,2′
S,4′S)−2−(1−(4−ニトロベンジルオキシ
カルボニル)−2−(2−カルボキシ−3−ナフチルカ
ルバモイル)ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1−
ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カ
ルボキシレート(ジイソプロピルエチルアミン塩)。
S,4′S)−2−(1−(4−ニトロベンジルオキシ
カルボニル)−2−(2−カルボキシ−3−ナフチルカ
ルバモイル)ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1−
ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カ
ルボキシレート(ジイソプロピルエチルアミン塩)。
【0202】目的化合物を、例8の記載と同様の方法を
用いて、(2S,4S)−1−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル)−2−(2−カルボキシ−3−ナフチルカル
バモイル)ピロリジン−4−イルチオアセテートから製
造した。
用いて、(2S,4S)−1−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル)−2−(2−カルボキシ−3−ナフチルカル
バモイル)ピロリジン−4−イルチオアセテートから製
造した。
【0203】(1R,5R,6S,8R,2′S,4′
S)−2−(1−(4−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル)−2−(2−カルボキシ−3−ナフチルカルバモイ
ル)ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1−ヒドロキ
シエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カルボン酸
(ジカリウム塩)。
S)−2−(1−(4−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル)−2−(2−カルボキシ−3−ナフチルカルバモイ
ル)ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1−ヒドロキ
シエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カルボン酸
(ジカリウム塩)。
【0204】目的化合物を、例8の記載と同様の方法を
用いて、アリル(1R,5R,6S,8R,2′S,
4′S)−2−(1−(4−ニトロベンジルオキシカル
ボニル)−2−(2−カルボキシ−3−ナフチルカルバ
モイル)ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1−ヒド
ロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カルボ
キシレート(ジイソプロピルエチルアミン塩)から製造
した。
用いて、アリル(1R,5R,6S,8R,2′S,
4′S)−2−(1−(4−ニトロベンジルオキシカル
ボニル)−2−(2−カルボキシ−3−ナフチルカルバ
モイル)ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1−ヒド
ロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カルボ
キシレート(ジイソプロピルエチルアミン塩)から製造
した。
【0205】例 10 (1R,5S,6S,8R,2′S,4′S)−2−
(2−(2−メチルスルホニルカルバモイル−5−チエ
ニルカルバモイル)ピロリジン−4−イルチオ)−6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−
3−カルボン酸(Na塩)。
(2−(2−メチルスルホニルカルバモイル−5−チエ
ニルカルバモイル)ピロリジン−4−イルチオ)−6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−
3−カルボン酸(Na塩)。
【0206】水(5ml)中の4−ニトロベンジル(1
R,5S,6S,8R,2′S,4′S)−2−(1−
(4−ニトロベンジルカルバモイル)−2−(2−メチ
ルスルホニルカルバモイル−5−チエニルカルバモイ
ル)ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1−ヒドロキ
シエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カルボキシ
レート(0.35g、0.4ミリモル)および重炭酸ナ
トリウム(pHを7.5に調節された)の溶液を、大気
圧で、Pd/C(10%)(175μ)の存在下に水素
添加した。次に、反応を分析的HPLCを用いて、約6
0分間行った。この触媒を瀘別し、水溶液を濃縮し、か
つ水で溶離する分取HPLC(ヌクレオシル C−1
8)によって精製した。適当な画分を凍結乾燥すること
により、目的化合物を生じた(0.043g、19
%)。
R,5S,6S,8R,2′S,4′S)−2−(1−
(4−ニトロベンジルカルバモイル)−2−(2−メチ
ルスルホニルカルバモイル−5−チエニルカルバモイ
ル)ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1−ヒドロキ
シエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カルボキシ
レート(0.35g、0.4ミリモル)および重炭酸ナ
トリウム(pHを7.5に調節された)の溶液を、大気
圧で、Pd/C(10%)(175μ)の存在下に水素
添加した。次に、反応を分析的HPLCを用いて、約6
0分間行った。この触媒を瀘別し、水溶液を濃縮し、か
つ水で溶離する分取HPLC(ヌクレオシル C−1
8)によって精製した。適当な画分を凍結乾燥すること
により、目的化合物を生じた(0.043g、19
%)。
【0207】NMR(DMSO−d6 + AcOD−
d4):δ1.15(2d,6H);1.75(m,1
H);2.65(m,1H);2.76(m,1H);
3.0(s,3H);3.2(dd,1H);3.34
〜3.48(m,2H);3.64(m,1H);3.
92〜4.04(m,2H);4.16(dd,1
H);6.79(d,1H);7.43(d,1H)。
d4):δ1.15(2d,6H);1.75(m,1
H);2.65(m,1H);2.76(m,1H);
3.0(s,3H);3.2(dd,1H);3.34
〜3.48(m,2H);3.64(m,1H);3.
92〜4.04(m,2H);4.16(dd,1
H);6.79(d,1H);7.43(d,1H)。
【0208】出発物質を次のようにして製造した: 5−ニトロ−2−チオフェンカルボン酸 2−チオフェンカルボン酸(6.4g、50mM)を、
無水酢酸(15ml)中で懸濁し、氷酢酸(25ml)
中の発煙硝酸(16ml)を撹拌しながら1時間で、そ
の間、反応混合物の温度を30℃以下に保持しながら、
緩徐に添加した。この反応混合物を、環境温度で2時間
撹拌した。この生成物を、メタノール/(水+1%酢
酸)を溶離剤として使用するHP20SS樹脂によりク
ロマトグラフィー処理(470ml)を施すことによっ
て精製した。純粋な目的化合物が、4−ニトロチオフェ
ン−2−カルボン酸と、5−ニトロチオフェン−2−カ
ルボン酸との混合物と一緒に得られた。
無水酢酸(15ml)中で懸濁し、氷酢酸(25ml)
中の発煙硝酸(16ml)を撹拌しながら1時間で、そ
の間、反応混合物の温度を30℃以下に保持しながら、
緩徐に添加した。この反応混合物を、環境温度で2時間
撹拌した。この生成物を、メタノール/(水+1%酢
酸)を溶離剤として使用するHP20SS樹脂によりク
ロマトグラフィー処理(470ml)を施すことによっ
て精製した。純粋な目的化合物が、4−ニトロチオフェ
ン−2−カルボン酸と、5−ニトロチオフェン−2−カ
ルボン酸との混合物と一緒に得られた。
【0209】NMR(CDCl3):δ7.65(d,
1H);7.88(d,1H)。
1H);7.88(d,1H)。
【0210】アリル5−ニトロ−2−チオフェンカルボ
キシレート DMF(140ml)中の5−ニトロ−2−チオフェン
カルボン酸(20g、0.11モル)の溶液に、順次、
臭化アリル(40ml、0.46モル)およびトリエチ
ルアミン(64ml、0.46モル)、反応混合物の温
度を30℃以下に保持するために冷却しながら添加し
た。試薬の添加後に、この反応混合物を環境温度で3時
間撹拌し、次に、酢酸エチルで希釈した。沈澱した固体
を瀘別し、瀘液を水で洗浄し、塩化ナトリウムの飽和水
溶液で洗浄し、MgSO4上で乾燥させ、かつ濃縮し
た。残分を、溶離剤としてCH2Cl2と石油エーテルと
の混合物(3:7)を使用するシリカゲルによりクロマ
トグラフィー処理によって精製し、目的化合物を白色の
固体として生じた(8.8g、38%)。
キシレート DMF(140ml)中の5−ニトロ−2−チオフェン
カルボン酸(20g、0.11モル)の溶液に、順次、
臭化アリル(40ml、0.46モル)およびトリエチ
ルアミン(64ml、0.46モル)、反応混合物の温
度を30℃以下に保持するために冷却しながら添加し
た。試薬の添加後に、この反応混合物を環境温度で3時
間撹拌し、次に、酢酸エチルで希釈した。沈澱した固体
を瀘別し、瀘液を水で洗浄し、塩化ナトリウムの飽和水
溶液で洗浄し、MgSO4上で乾燥させ、かつ濃縮し
た。残分を、溶離剤としてCH2Cl2と石油エーテルと
の混合物(3:7)を使用するシリカゲルによりクロマ
トグラフィー処理によって精製し、目的化合物を白色の
固体として生じた(8.8g、38%)。
【0211】NMR(CDCl3):δ4.84(d,
2H);5.36〜5.45(m,2H);6.00
(m,1H);7.71(d,1H);7.88(d,
1H)。
2H);5.36〜5.45(m,2H);6.00
(m,1H);7.71(d,1H);7.88(d,
1H)。
【0212】アリル5−アミノ−2−チオフェンカルボ
キシレート 濃厚にされた塩化水素(35ml)中のアリル5−ニト
ロ−2−チオフェンカルボキシレート(3.2g、15
ミリモル)の溶液に、冷却しながら、SnCl2.H2O
(10.1g、45ミリモル)を添加した。この混合物
を環境温度で3.5時間撹拌し、酢酸エチルで希釈し、
5NのNaOHでpH10の塩基性にした。有機層を水
および塩化ナトリウムの飽和水溶液で洗浄し、MgSO
4上で乾燥させ、かつ濃縮した。残分を酢酸エチルと石
油エーテルとの混合物(3:7)を使用するシリカゲル
によるクロマトグラフィー処理によって精製し、目的化
合物を、黄色の油として生じた(1.94g、72
%)。
キシレート 濃厚にされた塩化水素(35ml)中のアリル5−ニト
ロ−2−チオフェンカルボキシレート(3.2g、15
ミリモル)の溶液に、冷却しながら、SnCl2.H2O
(10.1g、45ミリモル)を添加した。この混合物
を環境温度で3.5時間撹拌し、酢酸エチルで希釈し、
5NのNaOHでpH10の塩基性にした。有機層を水
および塩化ナトリウムの飽和水溶液で洗浄し、MgSO
4上で乾燥させ、かつ濃縮した。残分を酢酸エチルと石
油エーテルとの混合物(3:7)を使用するシリカゲル
によるクロマトグラフィー処理によって精製し、目的化
合物を、黄色の油として生じた(1.94g、72
%)。
【0213】NMR(CDCl3):δ4.34(幅広
s,2H);4.73(d,2H);5.23(d,1
H);5.36(d,1H);5.99(m,1H);
6.09(d,1H);7.48(d,1H)。
s,2H);4.73(d,2H);5.23(d,1
H);5.36(d,1H);5.99(m,1H);
6.09(d,1H);7.48(d,1H)。
【0214】(2S,4S)−1−(4−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル)−2−(2−アリルオキシカルボ
ニル−5−チエニルカルバモイル)ピロリジン−4−イ
ルチオアセテート。
ルオキシカルボニル)−2−(2−アリルオキシカルボ
ニル−5−チエニルカルバモイル)ピロリジン−4−イ
ルチオアセテート。
【0215】CH2Cl2(12ml)中の(2S,4
S)−4−アセチルチオ−2−カルボキシ−1−(4−
ニトロベンジルオキシカルボニル)ピロリジン(3.7
9g、10.3ミリモル)の溶液に、塩化チオニル
(3.75ml、51.5ミリモル)およびDMF
(0.055ml)を添加した。この混合物を環境温度
で16時間撹拌し、濃縮し、残油をCH2Cl2トルエン
に吸収させ、かつ再蒸発させた。残分を真空下で乾燥さ
せ、かつCH2Cl2(25ml)中で可溶性にした。前
記溶液を0℃に冷却するために、N−ジイソプロピルエ
チルアミン(2.05ml、11.8ミリモル)および
アリル5−アミノ−2−チオフェンカルボキシレート
(1.9g、10.3ミリモル)の溶液を添加した。環
境温度で15分後に、この溶剤を蒸発させ、かつ残分を
水と酢酸エチルとの混合物中に吸収させた。有機層をM
gSO4上で乾燥させ、かつ蒸発させて乾燥物にした。
残分を、CH2Cl2とエーテルとの混合物(9:1)を
用いるシリカゲルによるクロマトグラフィー処理によっ
て精製し、目的化合物を、黄色の泡状物として生じた
(4.68g、85%)。
S)−4−アセチルチオ−2−カルボキシ−1−(4−
ニトロベンジルオキシカルボニル)ピロリジン(3.7
9g、10.3ミリモル)の溶液に、塩化チオニル
(3.75ml、51.5ミリモル)およびDMF
(0.055ml)を添加した。この混合物を環境温度
で16時間撹拌し、濃縮し、残油をCH2Cl2トルエン
に吸収させ、かつ再蒸発させた。残分を真空下で乾燥さ
せ、かつCH2Cl2(25ml)中で可溶性にした。前
記溶液を0℃に冷却するために、N−ジイソプロピルエ
チルアミン(2.05ml、11.8ミリモル)および
アリル5−アミノ−2−チオフェンカルボキシレート
(1.9g、10.3ミリモル)の溶液を添加した。環
境温度で15分後に、この溶剤を蒸発させ、かつ残分を
水と酢酸エチルとの混合物中に吸収させた。有機層をM
gSO4上で乾燥させ、かつ蒸発させて乾燥物にした。
残分を、CH2Cl2とエーテルとの混合物(9:1)を
用いるシリカゲルによるクロマトグラフィー処理によっ
て精製し、目的化合物を、黄色の泡状物として生じた
(4.68g、85%)。
【0216】NMR(DMSO−d6 + AcOD−d
4):δ2.33(s,3H);2.80(m,1H);
3.38(m,1H);4.00〜4.15(m,2
H);4.52(m,2H);4.77(d,2H);
5.02〜5.42(m,4H);6.00(m,1
H);6.77(m,1H);7.45(m,1H);
7.60〜7.68(m,2H);7.95(m,1
H);8.23(m,1H)。
4):δ2.33(s,3H);2.80(m,1H);
3.38(m,1H);4.00〜4.15(m,2
H);4.52(m,2H);4.77(d,2H);
5.02〜5.42(m,4H);6.00(m,1
H);6.77(m,1H);7.45(m,1H);
7.60〜7.68(m,2H);7.95(m,1
H);8.23(m,1H)。
【0217】(2S,4S)−1(4−ニトロベンジル
オキシカルボニル)−2−(2−カルボキシ−5−チエ
ニルカルバモイル)−ピロリジン−4−イルチオアセテ
ート。
オキシカルボニル)−2−(2−カルボキシ−5−チエ
ニルカルバモイル)−ピロリジン−4−イルチオアセテ
ート。
【0218】CH2Cl2(15ml)および酢酸エチル
(15ml)中の(2S,4S)−1−(4−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル)−2−(2−アリルオキシカ
ルボニル−5−チエニルカルバモイル)ピロリジン−4
−イルチオアセテート(5.33g、10ミリモル)の
溶液を、P(Ph)3(0.26g、1ミリモル)、カ
リウム2−エチル安息香酸塩(酢酸エチル中0.47
M、23.4ml、11ミリモル)およびPd(PPh
3)4(0.25g)を用いて、環境温度で処理した。次
に、この反応を、HPLCを用いて行った。3時間後
に、この混合物を酢酸エチルで希釈し、沈澱物を濾過
し、エーテルで洗浄し、かつ乾燥させた。前記の固体
を、水中に溶解し、HCl(2N)で酸性にし、遊離酸
を酢酸エチルで抽出し、MgSO4上で乾燥させ、かつ
溶剤を蒸発させ、目的化合物を生じた(4.95g、1
00%)。
(15ml)中の(2S,4S)−1−(4−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル)−2−(2−アリルオキシカ
ルボニル−5−チエニルカルバモイル)ピロリジン−4
−イルチオアセテート(5.33g、10ミリモル)の
溶液を、P(Ph)3(0.26g、1ミリモル)、カ
リウム2−エチル安息香酸塩(酢酸エチル中0.47
M、23.4ml、11ミリモル)およびPd(PPh
3)4(0.25g)を用いて、環境温度で処理した。次
に、この反応を、HPLCを用いて行った。3時間後
に、この混合物を酢酸エチルで希釈し、沈澱物を濾過
し、エーテルで洗浄し、かつ乾燥させた。前記の固体
を、水中に溶解し、HCl(2N)で酸性にし、遊離酸
を酢酸エチルで抽出し、MgSO4上で乾燥させ、かつ
溶剤を蒸発させ、目的化合物を生じた(4.95g、1
00%)。
【0219】NMR(DMSO−d6 + CF3CO2
D):δ1.95(m,1H);2.33(s,3
H);2.78(m,1H);3.38(m,1H);
3.98〜4.1(m,2H);4.52(m,1
H);5.03〜5.33(m,2H);6.72〜
6.76〜7.52〜7.54(4d,2H);7.4
6〜8.25(4d,4H)。
D):δ1.95(m,1H);2.33(s,3
H);2.78(m,1H);3.38(m,1H);
3.98〜4.1(m,2H);4.52(m,1
H);5.03〜5.33(m,2H);6.72〜
6.76〜7.52〜7.54(4d,2H);7.4
6〜8.25(4d,4H)。
【0220】(2S,4S)−1−(4−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル)−2−(2−メチルスルホニルカ
ルバモイル−5−チエニルカルバモイル)ピロリジン−
4−イルチオアセテート。
ルオキシカルボニル)−2−(2−メチルスルホニルカ
ルバモイル−5−チエニルカルバモイル)ピロリジン−
4−イルチオアセテート。
【0221】CH2Cl2(25ml)中の(2S,4
S)−1−(4−ニトロベンジルオキシカルボニル)2
−(2−カルボキシ−5−チエニルカルバモイル)ピロ
リジン−4−イルチオアセテート(0.75g、1.5
2ミリモル)の溶液を、塩化オキサリル(0.27m
l、3.08ミリモル)およびDMF(20mg)で処
理した。この混合物を2時間撹拌し、蒸発させ、CH2
Cl2:トルエン1:1(10ml)の混合物中に溶解
し、かつ蒸発させた。残油を真空下に1時間乾燥させ、
かつ無水THF(2.5ml)中で可溶性にした。前記
の溶液を、アルゴン雰囲気下で、メチルスルホンアミド
(0.15g、1.58ミリモル)、ジイソプロピルエ
チルアミン(0.3ml、1.84ミリモル)および無
水THF(5ml)中の4−ジメチルアミノピリジン
(0.03g、0.246ミリモル)に添加した。この
混合物を80℃で2時間加熱し、かつ溶剤を蒸発させ
た。この残分を、CH2Cl2:メタノール(90:1
0)で溶離するフラッシュシリカゲルクロマトグラフィ
ー処理によって精製し、目的化合物を生じた(0.49
g、57%)。
S)−1−(4−ニトロベンジルオキシカルボニル)2
−(2−カルボキシ−5−チエニルカルバモイル)ピロ
リジン−4−イルチオアセテート(0.75g、1.5
2ミリモル)の溶液を、塩化オキサリル(0.27m
l、3.08ミリモル)およびDMF(20mg)で処
理した。この混合物を2時間撹拌し、蒸発させ、CH2
Cl2:トルエン1:1(10ml)の混合物中に溶解
し、かつ蒸発させた。残油を真空下に1時間乾燥させ、
かつ無水THF(2.5ml)中で可溶性にした。前記
の溶液を、アルゴン雰囲気下で、メチルスルホンアミド
(0.15g、1.58ミリモル)、ジイソプロピルエ
チルアミン(0.3ml、1.84ミリモル)および無
水THF(5ml)中の4−ジメチルアミノピリジン
(0.03g、0.246ミリモル)に添加した。この
混合物を80℃で2時間加熱し、かつ溶剤を蒸発させ
た。この残分を、CH2Cl2:メタノール(90:1
0)で溶離するフラッシュシリカゲルクロマトグラフィ
ー処理によって精製し、目的化合物を生じた(0.49
g、57%)。
【0222】NMR(DMSO−d6 + CF3CO2
D):δ1.95(m,1H);2.33(s,3
H);2.78(m,1H);3.28〜3.43
(m,4H);3.98〜4.1(m,2H);4.5
2(m,1H);5.03〜5.33(m,2H);
6.72〜6.76〜7.89〜7.91(4d,2
H);7.45〜8.24(4d,4H)。
D):δ1.95(m,1H);2.33(s,3
H);2.78(m,1H);3.28〜3.43
(m,4H);3.98〜4.1(m,2H);4.5
2(m,1H);5.03〜5.33(m,2H);
6.72〜6.76〜7.89〜7.91(4d,2
H);7.45〜8.24(4d,4H)。
【0223】(2S,4S)−1−(4−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル)−2−(2−メチルスルホニルカ
ルバモイル−5−カルバモイル)ピロリジン−4−イル
チオール。
ルオキシカルボニル)−2−(2−メチルスルホニルカ
ルバモイル−5−カルバモイル)ピロリジン−4−イル
チオール。
【0224】(2S,4S)−1−(4−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル)−2−(2−メタンスルホニルカ
ルバモイル−5−チエニルカルバモイル)ピロリジン−
4−イルチオアセテート(0.475g、0.833ミ
リモル)をCH2Cl2(5ml)および無水エタノール
(10ml)中で可溶性にし、エタノール中のメチルア
ミン(4.24ミリモル)の溶液で処理した。反応の進
行を、tlcによって監視した。1時間後に、溶剤を蒸
発させ、目的化合物を生じた。
ルオキシカルボニル)−2−(2−メタンスルホニルカ
ルバモイル−5−チエニルカルバモイル)ピロリジン−
4−イルチオアセテート(0.475g、0.833ミ
リモル)をCH2Cl2(5ml)および無水エタノール
(10ml)中で可溶性にし、エタノール中のメチルア
ミン(4.24ミリモル)の溶液で処理した。反応の進
行を、tlcによって監視した。1時間後に、溶剤を蒸
発させ、目的化合物を生じた。
【0225】4−ニトロベンジル(1R,5S,6S,
8R,2′S,4′S)−2−(1−(4−ニトロベン
ジルオキシカルボニル)−2−(2−メチルスルホニル
カルバモイル−5−チエニルカルバモイル)ピロリジン
−4−イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1
−メチルカルバペネム−3−カルボキシレート アルゴン雰囲気下でDMF(5ml)中の4−ニトロベ
ンジル(1R,5R,6S,8R)−6−(1−ヒドロ
キシエチル)−1−メチル−2−ジフェニルホスホリル
オキシカルバペネム−3−カルボキシレート(0.4
g、0.673ミリモル)の溶液を、前記工程からの
(2S,4S)−1−(4−ニトロベンジルオキシカル
ボニル)−2−(2−メチルスルホニルカルバモイル−
5−チエニルカルバモイル)ピロリジン−4−イルチオ
ール、ジイソプロピルエチルアミン(0.15ml、
0.92ミリモル)、トリブチルホスフィン(0.03
5ml、0.14ミリモル)および水(10μl、0.
55ミリモル)を用いて、環境温度で2時間処理した。
次に、この混合物を、アセトニトリル、水の勾配で溶離
するHP20SSカラムによりクロマトグラフィー処理
を施すことによって精製し、目的化合物を生じた(0.
4g)。
8R,2′S,4′S)−2−(1−(4−ニトロベン
ジルオキシカルボニル)−2−(2−メチルスルホニル
カルバモイル−5−チエニルカルバモイル)ピロリジン
−4−イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1
−メチルカルバペネム−3−カルボキシレート アルゴン雰囲気下でDMF(5ml)中の4−ニトロベ
ンジル(1R,5R,6S,8R)−6−(1−ヒドロ
キシエチル)−1−メチル−2−ジフェニルホスホリル
オキシカルバペネム−3−カルボキシレート(0.4
g、0.673ミリモル)の溶液を、前記工程からの
(2S,4S)−1−(4−ニトロベンジルオキシカル
ボニル)−2−(2−メチルスルホニルカルバモイル−
5−チエニルカルバモイル)ピロリジン−4−イルチオ
ール、ジイソプロピルエチルアミン(0.15ml、
0.92ミリモル)、トリブチルホスフィン(0.03
5ml、0.14ミリモル)および水(10μl、0.
55ミリモル)を用いて、環境温度で2時間処理した。
次に、この混合物を、アセトニトリル、水の勾配で溶離
するHP20SSカラムによりクロマトグラフィー処理
を施すことによって精製し、目的化合物を生じた(0.
4g)。
【0226】NMR(DMSO−d6 + AcOD−
d4):δ1.20(t,15H);1.26(2d,
6H);1.93(m,1H);2.81(m,1
H);3.02(d,3H);3.15(q,2H);
3.31(m,1H);3.37(m,1H);3.5
4〜3.6(m,3H);3.92〜4.06(m,2
H);4.11〜4.33(m,2H);4.50
(m,1H);5.05〜5.46(m,4H);6.
60〜8.30(m,10H)。
d4):δ1.20(t,15H);1.26(2d,
6H);1.93(m,1H);2.81(m,1
H);3.02(d,3H);3.15(q,2H);
3.31(m,1H);3.37(m,1H);3.5
4〜3.6(m,3H);3.92〜4.06(m,2
H);4.11〜4.33(m,2H);4.50
(m,1H);5.05〜5.46(m,4H);6.
60〜8.30(m,10H)。
【0227】例 11 (1R,5S,6S,8R.2′S,4′S)−2−
(2−(2−シアノカルバモイル−5−チエニルカルバ
モイル)−ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1−ヒ
ドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カル
ボン酸(Na塩)。
(2−(2−シアノカルバモイル−5−チエニルカルバ
モイル)−ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1−ヒ
ドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カル
ボン酸(Na塩)。
【0228】目的化合物を、例10の記載と同様の方法
を用いて、4−ニトロベンジル(1R,5S,6S,8
R,2′S,4′S)−2−(1−(4−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル)−2−(シアノカルバモイル−5
−チエニルカルバモイル)−ピロリジン−4−イルチ
オ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチルカル
バペネム−3−カルボキシレートから4−ニトロベンジ
ル保護基を除去することによって製造した。
を用いて、4−ニトロベンジル(1R,5S,6S,8
R,2′S,4′S)−2−(1−(4−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル)−2−(シアノカルバモイル−5
−チエニルカルバモイル)−ピロリジン−4−イルチ
オ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチルカル
バペネム−3−カルボキシレートから4−ニトロベンジ
ル保護基を除去することによって製造した。
【0229】NMR(DMSO−d6 + AcOD−
d4):δ1.18(2d,6H);1.75(m,1
H);2.63(m,1H);2.79(m,1H);
3.20(dd,1H);3.32〜3.45(m,2
H);3.65(m,1H);3.90〜4.03
(m,2H);4.16(dd,1H);6.61
(d,1H);7.21(d,1H)。
d4):δ1.18(2d,6H);1.75(m,1
H);2.63(m,1H);2.79(m,1H);
3.20(dd,1H);3.32〜3.45(m,2
H);3.65(m,1H);3.90〜4.03
(m,2H);4.16(dd,1H);6.61
(d,1H);7.21(d,1H)。
【0230】出発物質を次のようにして製造した:(2
S,4S)−1−(4−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル)−2−(2−シアノカルバモイル−5−チエニルカ
ルバモイル)ピロリジン−4−イルチオアセテート。
S,4S)−1−(4−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル)−2−(2−シアノカルバモイル−5−チエニルカ
ルバモイル)ピロリジン−4−イルチオアセテート。
【0231】目的化合物を、(2S,4S)−1−(4
−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2−(2−カル
ボキシ−5−チエニルカルボニル)ピロリジン−4−イ
ルチオアセテートから、前記のピロリジン化合物とメタ
ンスルホンアミドとの反応のための例10の記載と同様
の方法を用いて、シアンアミドとの反応によって製造し
た。
−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2−(2−カル
ボキシ−5−チエニルカルボニル)ピロリジン−4−イ
ルチオアセテートから、前記のピロリジン化合物とメタ
ンスルホンアミドとの反応のための例10の記載と同様
の方法を用いて、シアンアミドとの反応によって製造し
た。
【0232】NMR(DMSO−d6 + TFA
d):δ1.95(m,1H);2.33(s,3
H);2.79(m,1H);3.39(m,1H);
3.95〜4.18(m,2H);4.56(m,1
H);5.02〜5.35(m,2H);6.78〜
6.85〜7.79〜7.84(4d,2H);7.4
6〜7.68〜7.96〜8.25(4d,4H)。
d):δ1.95(m,1H);2.33(s,3
H);2.79(m,1H);3.39(m,1H);
3.95〜4.18(m,2H);4.56(m,1
H);5.02〜5.35(m,2H);6.78〜
6.85〜7.79〜7.84(4d,2H);7.4
6〜7.68〜7.96〜8.25(4d,4H)。
【0233】4−ニトロベンジル(1R,5R,6S,
8R,2′S,4′S)−2−(1−(4−ニトロベン
ジルオキシカルボニル)−2−(2−シアノカルバモイ
ル−5−チエニルカルバモイル)ピロリジン−4−イル
チオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチルカ
ルバペネム−3−カルボキシレート(ジイソプロピルエ
チルアミン塩)。
8R,2′S,4′S)−2−(1−(4−ニトロベン
ジルオキシカルボニル)−2−(2−シアノカルバモイ
ル−5−チエニルカルバモイル)ピロリジン−4−イル
チオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチルカ
ルバペネム−3−カルボキシレート(ジイソプロピルエ
チルアミン塩)。
【0234】目的化合物を、チオアセテートをチオール
に変換し、例10の記載と同様の方法を用いて、4−ニ
トロベンジル(1R,5R,6S,8R)−6−(1−
ヒドロキシエチル)−1−メチル−2−ジフェニルホス
ホリルオキシカルバペネム−3−カルボキシレートと反
応させることによって製造した。
に変換し、例10の記載と同様の方法を用いて、4−ニ
トロベンジル(1R,5R,6S,8R)−6−(1−
ヒドロキシエチル)−1−メチル−2−ジフェニルホス
ホリルオキシカルバペネム−3−カルボキシレートと反
応させることによって製造した。
【0235】NMR:(DMSO−d6 + AcOD
−d4):δ1.18(m,15H);1.26(2
d,6H);1.88(m,1H);2.78(m,1
H);3.15(q,2H);3.31(m,1H);
3.37(m,1H);3.54〜3.66(m,3
H);3.92〜4.06(m,2H);4.11〜
4.33(m,2H);4.50(m,1H);5.0
5〜5.46(m,4H);6.6〜8.3(m,10
H)。
−d4):δ1.18(m,15H);1.26(2
d,6H);1.88(m,1H);2.78(m,1
H);3.15(q,2H);3.31(m,1H);
3.37(m,1H);3.54〜3.66(m,3
H);3.92〜4.06(m,2H);4.11〜
4.33(m,2H);4.50(m,1H);5.0
5〜5.46(m,4H);6.6〜8.3(m,10
H)。
【0236】例 12 (1R,5S,6S,8R,2′S,4′S)−2−
(2−(3−フェニルスルホニルカルバモイルフェニル
カルバモイル)ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1
−ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−3−
カルボン酸。
(2−(3−フェニルスルホニルカルバモイルフェニル
カルバモイル)ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1
−ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−3−
カルボン酸。
【0237】EtOAc(40ml)中の4−ニトロベ
ンジル(1R,5S,6S,8R,2′S,4′S)−
2−(2−(3−フェニルスルホニルカルバモイルフェ
ニルカルバモイル)−1−(4−ニトロベンジルオキシ
カルボニル)ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1−
ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カ
ルボキシレート(930mg、1.0mM)の溶液を、
炭酸水素ナトリウム(84mg、1.0mM)を含有す
る水(30ml)中の木炭上10%のパラジウム(15
0mg)の懸濁液に添加した。生じた懸濁液を、水素雰
囲気下で2時間撹拌した。触媒を、Whatman N
o.50の濾紙を通して瀘別した。水層を分離し、部分
的に蒸発させた(高真空の固体二酸化炭素凝縮器)。濃
厚にされた水層を一晩凍結乾燥させ、粗製の目的化合物
を生じ(550mg)、少量の水に溶解し、炭酸水素ナ
トリウム(250mg)を添加し、Diaion HP
20SS樹脂(300×30mm)のカラムに溶液を通
過させ、まず水、次に水/アセトニトリルで溶離した。
必要とされた生成物を含有する画分を合わせ、一晩凍結
乾燥させ、少量のジフェニルホスホル酸を含有する目的
化合物を生じた(150mg)。
ンジル(1R,5S,6S,8R,2′S,4′S)−
2−(2−(3−フェニルスルホニルカルバモイルフェ
ニルカルバモイル)−1−(4−ニトロベンジルオキシ
カルボニル)ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1−
ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カ
ルボキシレート(930mg、1.0mM)の溶液を、
炭酸水素ナトリウム(84mg、1.0mM)を含有す
る水(30ml)中の木炭上10%のパラジウム(15
0mg)の懸濁液に添加した。生じた懸濁液を、水素雰
囲気下で2時間撹拌した。触媒を、Whatman N
o.50の濾紙を通して瀘別した。水層を分離し、部分
的に蒸発させた(高真空の固体二酸化炭素凝縮器)。濃
厚にされた水層を一晩凍結乾燥させ、粗製の目的化合物
を生じ(550mg)、少量の水に溶解し、炭酸水素ナ
トリウム(250mg)を添加し、Diaion HP
20SS樹脂(300×30mm)のカラムに溶液を通
過させ、まず水、次に水/アセトニトリルで溶離した。
必要とされた生成物を含有する画分を合わせ、一晩凍結
乾燥させ、少量のジフェニルホスホル酸を含有する目的
化合物を生じた(150mg)。
【0238】NMR:(DMSO−d6/CD3OD):
1.18〜1.25(2d,6H);1.95(m,1
H);2.87(m,1H);3.17(dd,1
H);3.23(dd,1H);3.47(5重線,1
H);3.68(m,1H);3.91(t,1H);
4.01(t,1H);4.20(dd,1H);4.
35(t,1H);7.41〜7.52(m,3H);
7.66(dd,1H);7.78(dd,1H);
7.90(dd,2H);8.22(t,1H)。
1.18〜1.25(2d,6H);1.95(m,1
H);2.87(m,1H);3.17(dd,1
H);3.23(dd,1H);3.47(5重線,1
H);3.68(m,1H);3.91(t,1H);
4.01(t,1H);4.20(dd,1H);4.
35(t,1H);7.41〜7.52(m,3H);
7.66(dd,1H);7.78(dd,1H);
7.90(dd,2H);8.22(t,1H)。
【0239】MS:FAB M+659(ジNa塩)、
637(モノNa塩)。
637(モノNa塩)。
【0240】出発物質を次のようにして製造した: 3−アミノ−N−フェニルスルホニルベンズアミド 木炭上10%のパラジウム(0.5g)を含有する酢酸
(100ml)中の3−ニトロ−N−フェニルスルホニ
ルベンズアミド(2.6g、8.5mM)の溶液を、水
素雰囲気下に、環境温度および大気圧で、15分間撹拌
した。この触媒をWhatman No.50の濾紙を
通して瀘別し、かつ瀘液を蒸発させた。生じた油を無水
エタノール(100ml)中に溶解し、濃厚な塩酸で酸
性にした。生じた結晶性の固体を一晩で捕集し、EtO
Hで洗浄し、3−アミノ−N−フェニルスルホニルベン
ズアミドヒドロクロリドを、淡いピンク色の結晶として
生じた(2.1g)。
(100ml)中の3−ニトロ−N−フェニルスルホニ
ルベンズアミド(2.6g、8.5mM)の溶液を、水
素雰囲気下に、環境温度および大気圧で、15分間撹拌
した。この触媒をWhatman No.50の濾紙を
通して瀘別し、かつ瀘液を蒸発させた。生じた油を無水
エタノール(100ml)中に溶解し、濃厚な塩酸で酸
性にした。生じた結晶性の固体を一晩で捕集し、EtO
Hで洗浄し、3−アミノ−N−フェニルスルホニルベン
ズアミドヒドロクロリドを、淡いピンク色の結晶として
生じた(2.1g)。
【0241】分析:実測値 C 50.2;H 4.
3;N 8.8。計算値 C 49.9;H 4.2;
N 9.0。
3;N 8.8。計算値 C 49.9;H 4.2;
N 9.0。
【0242】NMR(DMSO−d6):δ7.47
(m,2H);7.6〜7.76(m,5H);8.0
(dt,1H)。
(m,2H);7.6〜7.76(m,5H);8.0
(dt,1H)。
【0243】(2S,4S)−4−アセチルチオ−1−
(4−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2−(3−
フェニルスルホニルカルバモイルフェニルカルバモイ
ル)ピロリジン。
(4−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2−(3−
フェニルスルホニルカルバモイルフェニルカルバモイ
ル)ピロリジン。
【0244】ジ−イソプロピルエチルアミン(2.0m
l)、次にクロロトリメチルシラン(0.73ml)
を、THF(CaH2から蒸留した;25ml)中の3
−アミノ−N−フェニルスルホニルベンズアミドヒドロ
クロリド(1.8g、5.7mM)の撹拌溶液に、アル
ゴン雰囲気下で添加した。この溶液を30分間放置して
おき、次に、−10℃に冷却した。他方、テトラヒドロ
フラン(25ml)中に溶解された4−アセチルチオ−
1−(4−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2−カ
ルボキシピロリジン(1.84g、5mM)を、N−メ
チルモルホリン(1.1ml、10mM)で処理した。
前記溶液を、アルゴン雰囲気下で撹拌しながら−15℃
に冷却し、クロロ蟻酸イソブチル(0.66ml、5m
M)1滴で処理した。20分後に、前記溶液を、(上記
により得られた)アニリンのトリメチルシリル誘導体の
溶液に添加した。添加が完結した際に、この混合物を1
5分間撹拌し、かつ溶剤を蒸発させた。この残分を、酢
酸エチル(200ml)と、1Mの塩酸水溶液(100
ml)との間に分配した。酢酸エチル層を塩酸および塩
水で洗浄し、かつ乾燥させ、(2S,4S)−4−アセ
チルチオ−1−(4−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル)−2−(3−フェニルスルホニルカルバモイルフェ
ニルカルバモイル)ピロリジンをEtOHから結晶した
ゴムとして生じた(2.3g)。
l)、次にクロロトリメチルシラン(0.73ml)
を、THF(CaH2から蒸留した;25ml)中の3
−アミノ−N−フェニルスルホニルベンズアミドヒドロ
クロリド(1.8g、5.7mM)の撹拌溶液に、アル
ゴン雰囲気下で添加した。この溶液を30分間放置して
おき、次に、−10℃に冷却した。他方、テトラヒドロ
フラン(25ml)中に溶解された4−アセチルチオ−
1−(4−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2−カ
ルボキシピロリジン(1.84g、5mM)を、N−メ
チルモルホリン(1.1ml、10mM)で処理した。
前記溶液を、アルゴン雰囲気下で撹拌しながら−15℃
に冷却し、クロロ蟻酸イソブチル(0.66ml、5m
M)1滴で処理した。20分後に、前記溶液を、(上記
により得られた)アニリンのトリメチルシリル誘導体の
溶液に添加した。添加が完結した際に、この混合物を1
5分間撹拌し、かつ溶剤を蒸発させた。この残分を、酢
酸エチル(200ml)と、1Mの塩酸水溶液(100
ml)との間に分配した。酢酸エチル層を塩酸および塩
水で洗浄し、かつ乾燥させ、(2S,4S)−4−アセ
チルチオ−1−(4−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル)−2−(3−フェニルスルホニルカルバモイルフェ
ニルカルバモイル)ピロリジンをEtOHから結晶した
ゴムとして生じた(2.3g)。
【0245】NMR(DMSO−d6):1.93
(m,1H);2.31(s.3H);2.80(m,
1H);3.33(m,2H);4.05(m,2
H);4.46(m,1H);5.05〜5.30
(m,2H);7.35〜8.30(2重線および多重
線の複合パターン,9H)。
(m,1H);2.31(s.3H);2.80(m,
1H);3.33(m,2H);4.05(m,2
H);4.46(m,1H);5.05〜5.30
(m,2H);7.35〜8.30(2重線および多重
線の複合パターン,9H)。
【0246】4−ニトロベンジル−(1R,5S,6
S,8R,2′S,4′S)−2−(2−(3−フェニ
ルスルホニルカルバモイルフェニルカルバモイル)−1
−(4−ニトロベンジルオキシカルボニル)ピロリジン
−4−イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1
−メチルカルバペネム−3−カルボキシレート 方法は、(2S,4S)−4−アセチルチオ−1−(4
−ニトロベンジルオキシカルボニル−2−(3−フェニ
ルスルホニルカルバモイルフェニルカルバモイル)ピロ
リジン(0.94g、1.5mM)を使用したことを除
いて、例6の記載と同じものであった。粗製生成物
(1.9g)を、ジクロロメタンおよびメタノールの勾
配で溶離する、(Merck 9385、直径40mm
のカラム深さ120mmまで充填した)シリカゲルによ
りクロマトグラフィー処理を施した。必要とされた生成
物を含有する画分を合わせ、かつ蒸発させ、目的化合物
を、白色の固体として生じた(1g)。
S,8R,2′S,4′S)−2−(2−(3−フェニ
ルスルホニルカルバモイルフェニルカルバモイル)−1
−(4−ニトロベンジルオキシカルボニル)ピロリジン
−4−イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1
−メチルカルバペネム−3−カルボキシレート 方法は、(2S,4S)−4−アセチルチオ−1−(4
−ニトロベンジルオキシカルボニル−2−(3−フェニ
ルスルホニルカルバモイルフェニルカルバモイル)ピロ
リジン(0.94g、1.5mM)を使用したことを除
いて、例6の記載と同じものであった。粗製生成物
(1.9g)を、ジクロロメタンおよびメタノールの勾
配で溶離する、(Merck 9385、直径40mm
のカラム深さ120mmまで充填した)シリカゲルによ
りクロマトグラフィー処理を施した。必要とされた生成
物を含有する画分を合わせ、かつ蒸発させ、目的化合物
を、白色の固体として生じた(1g)。
【0247】NMR(CD3COOD−DMSO−
d6):1.17(m,6H);1.90(m,1
H);2.80(m,1H);3.26(dd,1
H);3.34(m,1H);3.48〜3.61
(m,1H);3.85〜4.20(m,3H);4.
25(幅広d,1H);4.42(m,1H);5.1
3(dd,2H);5.32(dd,2H);7.21
〜8.22(2重線、2重の2重線および多重線の複合
パターン,17H)。
d6):1.17(m,6H);1.90(m,1
H);2.80(m,1H);3.26(dd,1
H);3.34(m,1H);3.48〜3.61
(m,1H);3.85〜4.20(m,3H);4.
25(幅広d,1H);4.42(m,1H);5.1
3(dd,2H);5.32(dd,2H);7.21
〜8.22(2重線、2重の2重線および多重線の複合
パターン,17H)。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 フレデリク アンリ ユング フランス国 ランス ゾーン−アンドゥス トリーユ シデスト (番地なし) (72)発明者 アラン ミシェル ベルトランディエ フランス国 ランス ゾーン−アンドゥス トリーユ シデスト (番地なし) (72)発明者 ロナルド ヒルソン ベッグ ガルト イギリス国 チェシャー マクレスフィー ルド オールダリー パーク (番地な し)
Claims (16)
- 【請求項1】 式(I): 【化1】 {式中、R1は、1−ヒドロキシエチル基、1−フルオ
ロエチル基またはヒドロキシメチル基を表し;R2は、
水素原子またはC1〜C4アルキル基を表し;R3は、水
素原子またはC1〜C4アルキル基を表し;Pは、式(I
A)、(IB)または(IC): 【化2】 〔この場合、式(IB)中で、ナフチル基は、それぞれ
の環で結合カルバモイル基の窒素原子と結合していても
よく;Zは、カルボキシ基、スルホン酸、スルフィン
酸、C1〜C4アルカンアミドスルホニル(−SO2NH
COC1〜C3アルキル)基、ベンズアミドスルホニル
基、C1〜C4アルキルスルホニルカルバモイル(−CO
NHSO2C1〜C4アルキル)基、フェニルスルホニル
カルバモイル基、C1〜C4アルコキシカルバモイル基、
ヒドロキシカルバモイル基、スルホアミノ基、N−C1
〜C4アルカンスルホンアミド基、シアノカルバモイル
基、シアノスルファモイル基、テトラゾル−5−イル
基、3−ヒドロキシイソキサゾル−4−イル基および3
−ヒドロキシイソキサゾル−5−イル基を表す〕で示さ
れるものであり;Pは、場合によっては、更に、ハロゲ
ン原子、シアノ、C1〜C4アルキル、ニトロ、ヒドロキ
シ、カルボキシ、C1〜C4アルコキシ、トリフルオロメ
チル、C1〜C4アルコキシカルボニル、アミノ、C1〜
C4アルキルアミノ、ジ−C1〜C4アルキルアミノ、ス
ルホン酸、C1〜C4アルキルS(O)n(但し、nは、
0〜2を表す)、C1〜C4アルカノイルアミノ、C1〜
C4アルカノイル(N−C1〜C4アルキル)アミノ、カ
ルバモイル、C1〜C4アルキルカルバモイルおよびジ−
C1〜C4アルキルカルバモイルから選択された1個また
は2個の置換基によって置換されていてもよく;Pが式
(IA)または(IC)の環であり、Zがそれぞれスル
ホン酸またはN−C1〜C4アルカンスルホンアミド基で
ある場合には、該環はカルボキシによって置換されてお
らず;Pが式(IA)または(IC)で示されるもので
ある場合には、Zはカルボキシ基を表さない}で示され
る化合物またはその製薬学的に認容性の塩または生体内
で加水分解可能なエステル。 - 【請求項2】 R1が1−ヒドロキシエチルを表し、R2
がメチル基を表す、請求項1記載の化合物。 - 【請求項3】 式(IV): 【化3】 〔式中、P、R3およびP上の場合による置換基は、請
求項1で定義されたものと同様である〕で示される請求
項1または2記載の化合物。 - 【請求項4】 P上の置換基Zが、スルホン酸、テトラ
ゾル−5−イル基、C1〜C4アルキルスルホニルカルバ
モイル基、フェニルスルホニルカルバモイル基またはシ
アノカルバモイル基を表す、請求項3記載の化合物。 - 【請求項5】 P上の場合による置換基が、ハロゲン原
子、シアノ、C1〜C4アルキル、ニトロ、ヒドロキシ、
C1〜C4アルコキシ、カルバモイル、アミノおよびトリ
フルオロメチルから選択されている、請求項3記載の化
合物。 - 【請求項6】 (1R,5S,6S,8R,2′S,
4′S)−2−(2−(3−スルホフェニルカルバモイ
ル)ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1−ヒドロキ
シエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カルボン
酸;(1R,5S,6S,8R,2′S,4′S)−2
−(2−(3−メチルスルホニルカルバモイルフェニル
カルバモイル)−ピロリジン−4−イルチオ)−6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−
3−カルボン酸;(1R,5S,6S,8R,2′S,
4′S)−2−(2−(2−(3−1H−テトラゾル−
5−イル)フェニルカルバモイル)−ピロリジン−4−
イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチ
ルカルバペネム−3−カルボン酸;(1R,5S,6
S,8R,2′S,4′S)−2−(2−(2−ヒドロ
キシ−5−スルホフェニルカルバモイル)−ピロリジン
−4−イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1
−メチルカルバペネム−3−カルボン酸;(1R,5
S,6S,8R,2′S,4′S)−2−(2−(2−
メトキシ−5−メチル−4−スルホフェニルカルバモイ
ル)−ピロリジン−4−イルチオ)−6−(1−ヒドロ
キシエチル)−1−メチルカルバペネム−3−カルボン
酸;(1R,5S,6S,8R,2′S,4′S)−2
−(2−(3−フェニルスルホニルカルバモイルフェニ
ルカルバモイル)−ピロリジン−4−イルチオ)−6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−
3−カルボン酸;(1R,5S,6S,8R,2′S,
4′S)−2−(2−(2−メチルスルホニルカルバモ
イル−5−チエニルカルバモイル)ピロリジン−4−イ
ルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチル
カルバペネム−3−カルボン酸;(1R,5S,6S,
8R,2′S,4′S)−2−(2−(2−シアノカル
バモイル−5−チエニルカルバモイル)−ピロリジン−
4−イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−
メチルカルバペネム−3−カルボン酸;(1R,5S,
6S,8R,2′S,4′S)−2−(2−(2−スル
ホ−5−チエニルカルバモイル)ピロリジン−4−イル
チオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチルカ
ルバペネム−3−カルボン酸;(1R,5S,6S,8
R,2′S,4′S)−2−(2−(1−カルボキシ−
3−ナフチルカルバモイル)ピロリジン−4−イルチ
オ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチルカル
バペネム−3−カルボン酸;(1R,5S,6S,8
R,2′S,4′S)−2−(2−(2−カルボキシ−
3−ナフチルカルバモイル)ピロリジン−4−イルチ
オ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチルカル
バペネム−3−カルボン酸;(1R,5S,6S,8
R,2′S,4′S)−2−(2−(2−スルホフェニ
ルカルバモイル)ピロリジン−4−イルチオ)−6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−メチルカルバペネム−
3−カルボン酸;または(1R,5S,6S,8R,
2′S,4′S)−2−(2−(2−ヒドロキシ−4−
スルホ−1−ナフチルカルバモイル)−ピロリジン−4
−イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メ
チルカルバペネム−3−カルボン酸である請求項1記載
の化合物およびその製薬学的に認容性の塩。 - 【請求項7】 抗菌作用を有する医薬調剤において、請
求項1から6までのいずれか1項記載の化合物および製
薬学的に認容性の担持剤からなることを特徴とする、抗
菌作用を有する医薬調剤。 - 【請求項8】 請求項1記載の化合物を製造するための
方法において、式(V): 【化4】 {式中、R2は、請求項1で定義されたものと同様であ
り;R10は、基R3(請求項1で定義されたものと同様
である)またはアミノ保護基を表し;R13は、基R
1(請求項1で定義されたものと同様である)、保護さ
れたヒドロキシメチル基または1−(保護されたヒドロ
キシ)エチル基を表し;R11は、水素原子またはカルボ
キシ保護基を表し;R12は、水素原子またアミノ保護基
を表し:P1は、式(ID)、(IE)または(I
F): 【化5】 〔この場合、式(IE)中で、ナフチル基は、それぞれ
の環で結合カルバモイル基の窒素原子と結合していても
よく;R18は、基Zまたは保護されたZ基を表し、但
し、P1上の場合による置換基は、請求項1で定義され
たものと同様であり;但し、少なくとも1つの保護基が
存在する〕を表す}で示される化合物を脱保護し;次に
必要な場合には、(i)製薬学的に認容性の塩を形成
し、(ii)生体内で加水分解可能なエステルを形成す
るためのエステル化することからなる、請求項1記載の
化合物の製造法。 - 【請求項9】 請求項1記載の化合物または請求項8で
定義されたものと同様の式(V)の化合物を製造するた
めの方法において、式(VI)および(VII): 【化6】 〔式中、P1、R2、R10、R11、R12およびR13は、請
求項8で定義されたものと同様であり、P1上の場合に
よる置換基は、請求項8で定義されたものと同様であ
り、Lは、脱離基を表す〕で示される化合物を反応させ
るかまたは次に必要な場合には、 (i)任意の保護基を除去し; (ii)製薬学的に認容性の塩を形成し; (iii)生体内で加水分解可能なエステルを形成する
ためにエステル化することからなる、請求項1記載の化
合物または請求項8で定義されたものと同様の式(V)
の化合物の製造法。 - 【請求項10】 請求項1記載の化合物または請求項8
で定義されたものと同様の式(V)の化合物を製造する
ための方法において、式(VIII): 【化7】 〔式中、P1、R2、R10、R11、R12およびR13は、請
求項8で定義されたものと同様であり、P1上の場合に
よる置換基は、請求項8で定義されたものと同様であ
り、R14、R15およびR16は、独立にC1〜C6アルコキ
シ基、アリールオキシ基、ジ−C1〜C6アルキルアミノ
基およびジアリールアミノ基を表し、R14〜R16の任意
の2つは、o−フェニレンジオキシ基を代表するかまた
はR14〜R16の1つは、C1〜C4アルキル基、アリル
基、ベンジル基またはフェニル基を表し、他の2つのも
のは、独立にC1〜C4アルキル基、トリフルオロメチル
基またはフェニル基から選択されており、この場合、C
1〜C3アルキルまたはC1〜C3アルコキシで場合によっ
ては置換された任意のフェニル基を表し;この場合、任
意の官能基は、場合によっては保護されている〕で示さ
れる化合物を環化し、次に必要な場合には、 (i)任意の保護基を除去し; (ii)製薬学的に認容性の塩を形成し; (iii)生体内で加水分解可能なエステルを形成する
ためにエステル化することからなる、請求項1記載の化
合物または請求項8で定義されたものと同様の式(V)
の化合物の製造法。 - 【請求項11】 請求項3に記載された一般式(I
V): 【化8】 〔式中、P、R3およびP上の場合による置換基は、請
求項1で定義されたものと同様である〕で示される化合
物。 - 【請求項12】 請求項9に記載された一般式(VI
I): 【化9】 〔式中、P1、R10およびR12は、請求項8で定義され
たものと同様であり、P1上の場合による置換基は、請
求項8で定義されたものと同様である〕で示される化合
物。 - 【請求項13】 請求項10に記載された一般式(VI
II): 【化10】 〔式中、P1、R2、R10、R11、R12およびR13は、請
求項8で定義されたものと同様であり、P1上の場合に
よる置換基は、請求項8で定義されたものと同様であ
り、R14、R15およびR16は、独立にC1〜C6アルコキ
シ基、アリールオキシ基、ジ−C1〜C6アルキルアミノ
基およびジアリールアミノ基を表し、R14〜R16の任意
の2つは、o−フェニレンジオキシ基を代表するかまた
はR14〜R16の1つは、C1〜C4アルキル基、アリル
基、ベンジル基またはフェニル基を表し、他の2つのも
のは、独立にC1〜C4アルキル基、トリフルオロメチル
基またはフェニル基から選択されており、この場合、C
1〜C3アルキルまたはC1〜C3アルコキシで場合によっ
ては置換された任意のフェニル基を表し;この場合、任
意の官能基は、場合によっては保護されている〕で示さ
れる化合物。 - 【請求項14】 式(IX): 【化11】 〔式中、P1、R10、R12およびR17は、請求項8で定
義されたものと同様のものであり、R17は、保護基を表
す〕で示される化合物。 - 【請求項15】 式(XII): 【化12】 〔式中、P1、R2、R10、R11、R12およびR13は、請
求項8で定義されたものと同様のものである〕で示され
る化合物。 - 【請求項16】 式(XIV): 【化13】 〔式中、P1、R2、R10、R12およびR13は、請求項8
で定義されたものと同様である〕で示される化合物。
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---|---|---|---|
EP92400837 | 1992-03-26 | ||
EP92400839 | 1992-03-26 | ||
EP92402700 | 1992-10-02 | ||
FR92402700.6 | 1992-10-02 | ||
FR92400839.4 | 1992-10-02 | ||
FR92400837.8 | 1992-10-02 |
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---|---|
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