JPH06252301A - Electronic device - Google Patents

Electronic device

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Publication number
JPH06252301A
JPH06252301A JP3512193A JP3512193A JPH06252301A JP H06252301 A JPH06252301 A JP H06252301A JP 3512193 A JP3512193 A JP 3512193A JP 3512193 A JP3512193 A JP 3512193A JP H06252301 A JPH06252301 A JP H06252301A
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JP
Japan
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cap
semiconductor chip
solder
package substrate
electronic device
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Pending
Application number
JP3512193A
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Japanese (ja)
Inventor
Toshihiko Sato
俊彦 佐藤
Tetsuya Hayashida
哲哉 林田
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH06252301A publication Critical patent/JPH06252301A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

PURPOSE:To raise the heat dissipating efficiency by a method wherein the area of a heat dissipating fin is made wider than that of a cap covering a semiconductor chip and bonded onto the rear surface of the same. CONSTITUTION:A semiconductor chip 4 is connected facedown to the main surface of a package substrate 2 comprising a wiring substrate through the intermediary of solder bumps 3. On the other hand, the main surface of the package substrate 2 is sealed with a cap 6 covering the semiconductor chip 4 through the intermediary of a sealing solder 5. Next, a heat dissipating fin 7 is fixed on the cap 6 furthermore leads 8 as outer terminals are fixed to the main surface of the package substrate 2. At this time, the flat main body 12 of the semiconductor chip 4 is formed wider than the other cap 6 part in the same size as that of the heat dissipating fin 7. In such a constitution, the heat dissipating efficiency can be raised thereby enabling the title electronic device to be made applicable to a cooling system in a simple mechanism.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は電子装置、特にLSI
(大規模集積回路)等高熱を発生する半導体チップを組
み込んだ電子装置(マイクロチップキャリヤ)の冷却技
術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to an electronic device, particularly an LSI.
(Large-scale integrated circuit) Cooling technology for electronic devices (microchip carriers) incorporating semiconductor chips that generate high heat.

【0002】[0002]

【従来の技術】コンピュータ等に使用されるIC(集積
回路),LSI等半導体装置は、信頼性が高いものが要
求されている。たとえば、日経BP社発行「日経エレク
トロニクス」1990年12月10日号、P209〜P241「大型コン
ピュータM−880の処理方式とハードウエア技術」に
は、コンピュータに組み込まれるLSIの実装構造につ
いて記載されている。また、同様の内容が日立評論社発
行「日立評論」1991年第2号、同年2月25日発行、P41
〜P48「超大形プロセッサグループ“HITACM−8
80”のハードウェア技術」にも記載されている。以
下、必要部分を要約する。
2. Description of the Related Art Semiconductor devices such as ICs (integrated circuits) and LSIs used in computers are required to have high reliability. For example, in the December 10, 1990 issue of Nikkei Electronics, "Nikkei Electronics", P209 to P241, "Processing Method and Hardware Technology of Large Computer M-880," the mounting structure of an LSI incorporated in a computer is described. There is. In addition, the same content is published by Hitachi Hyoronsha "Hitachi Hyoron", No. 1991, No. 2, February 25, the same year, P41
~ P48 "Super Large Processor Group" HITAC M-8
80 "Hardware Technology". The necessary parts are summarized below.

【0003】これらの文献によれば、コンピュータを構
成する命令プロセサおよびシステム制御装置のLSIチ
ップは、新たに開発されたMCC(micro carrier for
LSIchip)と呼ぶパッケージに封止されている。命令プ
ロセサを構成する大型のプロセッサ・ボードは、46層
の多層プリント基板(大きさは730mm×534m
m)と、この多層プリント基板の一面に配設された20
個のモジュール・コネクタと、これらモジュール・コネ
クタに取り付けられた高密度モジュールと、前記高密度
モジュールの水冷ジャケットに冷却水を循環させる冷却
機構等とからなっている。銅製からなる水冷ジャケット
には、2箇所に継手が設けられるとともに、これらの継
手にはパイプが接続されている。水冷ジャケットにあっ
ては、一方の継手のパイプは送り込み側パイプまたは上
流側の高密度モジュールの水冷ジャケットの継手に接続
され、他方の継手のパイプは下流側の高密度モジュール
の水冷ジャケットの継手または取り出し側水パイプに接
続されて、冷却水の循環による冷却が行われるようにな
っている。
According to these documents, the instruction processor and the LSI chip of the system controller constituting the computer are newly developed MCC (micro carrier for micro carrier for).
It is sealed in a package called LSI chip). The large processor board that makes up the instruction processor is a multilayer printed circuit board of 46 layers (the size is 730 mm x 534 m).
m) and 20 arranged on one surface of this multilayer printed circuit board.
Each module connector, a high-density module attached to these module connectors, a cooling mechanism for circulating cooling water in a water cooling jacket of the high-density module, and the like. The water cooling jacket made of copper is provided with joints at two locations, and pipes are connected to these joints. In the case of a water cooling jacket, the pipe of one fitting is connected to the inlet pipe or the fitting of the water cooling jacket of the upstream high-density module, and the pipe of the other fitting is the fitting of the water cooling jacket of the downstream high-density module or It is connected to a water pipe on the take-out side, and cooling is performed by circulating cooling water.

【0004】高密度モジュールは、44層のAlNを主
体とする多層セラミック基板(モジュール基板)と、こ
のモジュール基板に搭載される36〜41個のMCC
と、前記MCCの上に載るセラミック(AlN:窒化ア
ルミ)製の小型フィン(マイクロフィン)と、前記モジ
ュール基板に気密的に取り付けられかつ前記MCC等を
被うAlNからなるセラミック・キャップ(モジュール
・キャップ)と、前記モジュール・キャップ上に熱伝導
グリースを介して接触する水冷ジャケットとからなって
いる。前記モジュール基板の層数は、表裏2層,信号1
8層,整合用11層,電源・接地13層の合計44層で
ある。表面層には、MCCのボンディング・パッド、設
計変更や製造欠陥などの補修用パターン、インサーキッ
ト・テスト用のプロービング・パッドなど約4万個のパ
ターンがある。また、モジュール基板の裏面層には端子
ピンのろう付け用パッドと、裏面補修用パッドが準備さ
れている。裏面の端子ピンは合計2521ピンである。
端子ピンは2.7mmピッチの面心格子配列となってい
る。隣接するピンとの間隔は1.91mmである。一
方、前記マイクロフィンの上部は櫛の歯状に切り込み
(下櫛歯)が入っているとともに、モジュール・キャッ
プの前記MCCに対面する内面(天井面)にも櫛の歯状
に切り込み(上櫛歯)が入り、上・下櫛歯が噛み合って
熱を伝えるようになっている。また、セラミック・キャ
ップ内には、熱伝導性と不活性雰囲気を確保するために
Heガスが充填され、櫛歯間の微小な隙間では、Heガ
スを介して放熱がされる。モジュールの大きさは106
mm角である。
The high-density module comprises a multilayer ceramic substrate (module substrate) mainly composed of 44 layers of AlN, and 36 to 41 MCCs mounted on the module substrate.
And a ceramic (AlN: aluminum nitride) small fin (microfin) mounted on the MCC, and a ceramic cap (module) that is airtightly attached to the module substrate and covers the MCC and the like. Cap) and a water cooling jacket which contacts the module cap through a thermal grease. The number of layers of the module substrate is two layers on the front and back sides and one signal
There are a total of 44 layers, 8 layers, 11 layers for matching, and 13 layers for power supply / grounding. The surface layer has approximately 40,000 patterns such as MCC bonding pads, repair patterns for design changes and manufacturing defects, and probing pads for in-circuit testing. Further, on the back surface layer of the module substrate, there are prepared a brazing pad for the terminal pin and a back surface repairing pad. The total number of terminal pins on the back surface is 2521.
The terminal pins have a 2.7 mm pitch face-centered lattice arrangement. The space between adjacent pins is 1.91 mm. On the other hand, the upper part of the micro fin has a comb tooth-shaped cut (lower comb tooth), and the inner surface (ceiling surface) of the module cap facing the MCC has a comb tooth-shaped cut (upper comb tooth). Teeth) are inserted, and the upper and lower comb teeth mesh with each other to transfer heat. Further, He gas is filled in the ceramic cap in order to secure thermal conductivity and an inert atmosphere, and heat is dissipated via He gas in a minute gap between the comb teeth. Module size is 106
mm square.

【0005】MCCは、ムライト系セラミック(熱膨張
係数3.5×10-6/°C)からなるMCC基板と、こ
のMCC基板上にハンダ・バンプを介して搭載(フリッ
プチップ)するシリコン(Si:熱膨張係数3.0×1
-6/°C)からなるLSIチップと、前記LSIチッ
プを被うとともにMCC基板にハンダ封止されるAlN
(熱膨張係数3.8×10-6/°C)からなるMCCキ
ャップ(AlNキャップ)と、前記MCC基板の露出面
(下面)に設けられるハンダ・バンプとからなってい
る。また、前記LSIチップの背面は、放熱(伝熱)の
ためにハンダによってMCCキャップの天井に接続され
ている。前記MCC基板は、厚膜導体7層,薄膜導体5
層,薄膜抵抗1層からなる厚膜/薄膜混成基板構造とな
るとともに、LSIチップのバンプ・ピッチ(最小25
0μm間隔)と、MCCを搭載するモジュール基板の格
子ピッチ(ハンダ・バンプは450μm格子)の整合を
とるようになっている。MCCは10〜12mm角の大
きさとなるとともに、端子数は合計528ピンとなって
いる。端子(ピン)は、LSIの信号に252ピン、終
端抵抗に99ピン、残りは電源ピン,接地ピン,モニタ
・ピンに割り振られている。
The MCC is an MCC substrate made of mullite ceramic (coefficient of thermal expansion 3.5 × 10 −6 / ° C) and silicon (Si) mounted (flip-chip) on the MCC substrate via solder bumps. : Coefficient of thermal expansion 3.0 × 1
LSI chip consisting of 0 -6 / ° C) and AlN which covers the LSI chip and is solder-sealed on the MCC substrate
It is composed of an MCC cap (AlN cap) having a thermal expansion coefficient of 3.8 × 10 −6 / ° C. and a solder bump provided on the exposed surface (lower surface) of the MCC substrate. Further, the back surface of the LSI chip is connected to the ceiling of the MCC cap by soldering for heat dissipation (heat transfer). The MCC substrate includes a thick film conductor 7 layer and a thin film conductor 5
Layer / thin film resistor consisting of a thick film / thin film hybrid substrate structure and bump pitch of LSI chip (25 min minimum)
(0 μm interval) and the grid pitch (450 μm grid for solder bumps) of the module substrate on which the MCC is mounted are matched. The MCC has a size of 10 to 12 mm square, and the total number of terminals is 528 pins. Terminals (pins) are assigned to 252 pins for LSI signals, 99 pins for terminating resistors, and the remaining power pins, ground pins, and monitor pins.

【0006】また、接続・封止等に使っているハンダ材
料は、LSIチップのハンダ・バンプの融点が最も高
く、モジュール・キャップを封止するハンダの融点が最
も低くなるように選ばれ、組み立て工程での温度階層を
つけ、接続の信頼性を上げている。
The solder material used for connection and sealing is selected so that the solder bumps of the LSI chip have the highest melting point and the solder that seals the module cap has the lowest melting point. The temperature hierarchy in the process is added to increase the reliability of the connection.

【0007】LSIチップで発生した熱は、LSIチッ
プ背面のハンダを通ってMCCキャップに伝わる。MC
Cキャップに伝わった熱は、マイクロフィン,モジュー
ル・キャップ,グリース,水冷ジャケットと伝わって冷
却水に放出される。この結果、LSIの接合部から冷却
水までの熱抵抗は2℃/W以下となる。
The heat generated in the LSI chip is transferred to the MCC cap through the solder on the back surface of the LSI chip. MC
The heat transmitted to the C cap is transmitted to the micro fin, the module cap, the grease, and the water cooling jacket, and is released to the cooling water. As a result, the thermal resistance from the LSI junction to the cooling water is 2 ° C./W or less.

【0008】また、特開昭63-310139 号公報には、超高
速メイン・フレーム・コンピュータのCPU(Central
Processing Unit)を構成する半導体チップを、多層配線
基板構造からなるキャリヤとキャップによるパッケージ
内に封止した構造(マイクロチップキャリヤ)が開示さ
れている。この文献に記載されたマイクロチップキャリ
ヤは、ムライト等のセラミックからなるキャリヤと、こ
のキャリヤ上に設けられる多層配線層と、この多層配線
層上にバンプ電極を介して接続される半導体チップと、
前記キャリヤに半田で接着されかつ前記半導体チップを
被うAlNあるいはSiCで形成されるキャップとから
なるとともに、前記半導体チップの裏面は半田によりキ
ャップに接着され、かつ前記キャリヤの下面にはバンプ
電極が設けられている。このマイクロチップキャリヤ
は、搭載基板に実装されるとともに、前記キャップ上に
下部放熱フィンが取り付けられ、空冷,伝熱によって冷
却されて使用される。前記キャップと下部放熱フィンの
大きさは同じとなっている。また、この文献には、前記
マイクロチップキャリヤの組立についても記載されてい
る。
Further, Japanese Patent Laid-Open No. 63-310139 discloses a CPU (Central CPU) of an ultra-high speed main frame computer.
There is disclosed a structure (microchip carrier) in which a semiconductor chip constituting a Processing Unit) is sealed in a package by a carrier having a multilayer wiring board structure and a cap. The microchip carrier described in this document includes a carrier made of ceramic such as mullite, a multilayer wiring layer provided on the carrier, and a semiconductor chip connected to the multilayer wiring layer via a bump electrode.
The semiconductor chip includes a cap formed of AlN or SiC that is soldered to the carrier and covers the semiconductor chip, the back surface of the semiconductor chip is bonded to the cap by solder, and bump electrodes are provided on the bottom surface of the carrier. It is provided. This microchip carrier is mounted on a mounting substrate, and a lower radiation fin is attached on the cap, and is cooled by air cooling or heat transfer for use. The cap and the lower radiating fin have the same size. This document also describes the assembly of the microchip carrier.

【0009】一方、光通信においては、大容量,長距離
伝送システム化が図られている。たとえば、日立評論社
発行「日立評論」1989年第9号、同年9月25日発行、P
39〜P46には、2.4G〜10Gビット/秒光伝送シス
テムについて記載されている。また、同誌同号P53〜P
60には、光通信用LSIについて記載されている。同文
献には、超高速伝送用ICとして、600Mビット/秒
および2.4Gビット/秒対応の伝送用ICが開示され
ている。
On the other hand, in optical communication, a large capacity, long distance transmission system is being developed. For example, “Hitachi Criticism”, No. 9, 1989, issued by Hitachi Hyoronsha, published on September 25, the same year, P
39 to P46 describe a 2.4 G to 10 Gbit / sec optical transmission system. Also, the same issue, P53-P
Reference 60 describes an optical communication LSI. The document discloses a transmission IC compatible with 600 Mbit / sec and 2.4 Gbit / sec as an ultra-high-speed transmission IC.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】前記のようなMCCあ
るいはマイクロチップキャリヤと呼称される電子装置に
おいては、実装密度向上によってパッケージはより小型
化されて小さくなっている。放熱に関しては、主たる放
熱面が平坦なキャップ上面となる。したがって、高発熱
体であるLSIチップを実装した電子装置においては、
冷却効率が高い液冷方式を採用する必要がある。しか
し、この液冷方式は設備が大掛かりとなる嫌いがある。
In the electronic device referred to as the MCC or the microchip carrier as described above, the package is made smaller and smaller due to the improvement of the mounting density. Regarding heat dissipation, the main heat dissipation surface is the flat top surface of the cap. Therefore, in an electronic device mounted with an LSI chip that is a high heating element,
It is necessary to adopt a liquid cooling system with high cooling efficiency. However, this liquid cooling method has the dislike of large-scale equipment.

【0011】一方、本発明者は光伝送用デジタルICの
冷却を含めたパッケージ構造を検討している。10Gビ
ット/秒の光伝送用デジタルICも高熱を発生するた
め、前記MCC構造の採用を検討している。しかし、前
記のように、液冷方式は設備が大掛かりとなる嫌いがあ
る。ところで、前記文献で開示されるMCCにおいて
は、放熱体であるマイクロフィンに比較してMCCキャ
ップが小さい。そこで、本発明者はキャップ部分での熱
の伝達を良好にすることによって、さらに熱放散効率の
向上を図ることができることに気が付き本発明をなし
た。
On the other hand, the present inventor is examining a package structure including cooling of a digital IC for optical transmission. Since a 10 Gbit / sec optical transmission digital IC also generates high heat, adoption of the MCC structure is being considered. However, as described above, the liquid cooling method has a dislike of large-scale equipment. By the way, in the MCC disclosed in the above document, the MCC cap is smaller than that of the micro fin which is a radiator. Therefore, the present inventor has realized that the heat dissipation efficiency can be further improved by improving the heat transfer in the cap portion, and has made the present invention.

【0012】本発明の目的は、熱放散効率の高い電子装
置を提供することにある。本発明の前記ならびにそのほ
かの目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図
面からあきらかになるであろう。
An object of the present invention is to provide an electronic device having high heat dissipation efficiency. The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。すなわち、本発明の電子装置は、外
部電極端子を有する配線基板からなるパッケージ基板
と、前記パッケージ基板の上面にバンプ電極を介して搭
載された半導体チップと、前記パッケージ基板の上面に
気密的に接着されるとともに前記半導体チップを被いか
つ半導体チップの背面に接合材を介して接着されたキャ
ップと、前記キャップの上面に接合材を介して取り付け
られるキャップよりも面積が大きな放熱フィンとを有す
るとともに、前記半導体チップの背面から放熱フィンに
至るキャップ部分は他のキャップ部分よりも広くなり、
かつ前記放熱フィンと同じ大きさとなっている。
The outline of the representative ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. That is, the electronic device of the present invention includes a package substrate including a wiring substrate having external electrode terminals, a semiconductor chip mounted on the upper surface of the package substrate via bump electrodes, and airtightly bonded to the upper surface of the package substrate. While having the cap that is covered with the semiconductor chip and is bonded to the back surface of the semiconductor chip via a bonding material, and a heat radiation fin having a larger area than the cap attached to the upper surface of the cap via the bonding material, The cap portion from the back surface of the semiconductor chip to the heat radiation fin is wider than other cap portions,
Moreover, it has the same size as the heat radiation fin.

【0014】本発明の他の実施例では、前記キャップと
放熱フィンは一体的に形成されている。
In another embodiment of the present invention, the cap and the radiation fin are integrally formed.

【0015】[0015]

【作用】上記した手段によれば、本発明の電子装置はキ
ャップの下部は放熱フィンよりも小さくなっているが、
半導体チップの背面のキャップ部分は面積的に広くな
り、放熱フィンと同じ寸法となっている。半導体チップ
で発熱した熱は、半導体チップの背面の接合材からキャ
ップに伝わり、さらに放熱フィンに伝達されて放熱され
るが、半導体チップの背面のキャップ部分が広くなって
いることから、伝熱面積が増大し、熱放散効率が高くな
る。
According to the above-mentioned means, although the lower portion of the cap of the electronic device of the present invention is smaller than the radiation fin,
The cap portion on the back surface of the semiconductor chip is large in area and has the same size as the heat radiation fin. The heat generated in the semiconductor chip is transferred from the bonding material on the back surface of the semiconductor chip to the cap, and then to the heat radiation fins for heat dissipation, but since the cap part on the back surface of the semiconductor chip is wide, the heat transfer area And the heat dissipation efficiency is increased.

【0016】[0016]

【実施例】以下図面を参照して本発明の一実施例につい
て説明する。図1は本発明の一実施例による電子装置の
要部を示す断面図、図2は本発明の電子装置の実装状態
の要部を示す断面図、図3〜図6は本発明の電子装置の
製造各工程における要部を示す断面図であって、図3は
パッケージ基板に半導体チップを搭載する前の状態を示
す断面図、図4はパッケージ基板に半導体チップを搭載
した状態を示す断面図、図5はパッケージ基板にキャッ
プが組み合わされた状態を示す断面図、図6はパッケー
ジ基板にキャップが接着された状態を示す断面図であ
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 is a sectional view showing an essential part of an electronic device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a sectional view showing an essential part of a mounted state of the electronic device of the present invention, and FIGS. 3 to 6 are electronic devices of the present invention. FIG. 4 is a cross-sectional view showing the main part in each manufacturing process, FIG. 3 is a cross-sectional view showing a state before the semiconductor chip is mounted on the package substrate, and FIG. 4 is a cross-sectional view showing the state where the semiconductor chip is mounted on the package substrate. 5 is a cross-sectional view showing a state in which a cap is combined with the package substrate, and FIG. 6 is a cross-sectional view showing a state in which the cap is bonded to the package substrate.

【0017】この実施例では、10Gビット/秒の光伝
送用デジタルICを組み込んだ電子装置について説明す
る。本発明の電子装置1は、図1に示すように、多層配
線構造からなるパッケージ基板2と、このパッケージ基
板2の主面(上面)にフェイスダウンボンディングによ
って半田バンプ(電極端子)3を介して接続された半導
体チップ4と、この半導体チップ4を被うように前記パ
ッケージ基板2の主面に半田(封止用半田)5を介して
接着されたキャップ6と、このキャップ6上に取り付け
られた放熱フィン7と、前記パッケージ基板2の主面に
取り付けられた外部端子としてのリード8が取り付けら
れている。また、前記半導体チップ4の背面は半田(伝
熱用半田)10によってキャップ6の平坦な本体12の
天井部分に接着されている。
In this embodiment, an electronic device incorporating a 10 Gbit / sec optical transmission digital IC will be described. As shown in FIG. 1, an electronic device 1 of the present invention includes a package substrate 2 having a multilayer wiring structure and a solder bump (electrode terminal) 3 on a main surface (upper surface) of the package substrate 2 by face-down bonding. The connected semiconductor chip 4, the cap 6 adhered to the main surface of the package substrate 2 via the solder (sealing solder) 5 so as to cover the semiconductor chip 4, and the cap 6 mounted on the cap 6. Further, a heat radiation fin 7 and a lead 8 as an external terminal attached to the main surface of the package substrate 2 are attached. Further, the back surface of the semiconductor chip 4 is adhered to the ceiling portion of the flat main body 12 of the cap 6 with solder (heat transfer solder) 10.

【0018】前記パッケージ基板2は、ムライト系セラ
ミック(熱膨張係数3.5×10-6/°C)からなる多
層配線構造となっている。これは、前記半導体チップ4
がシリコン(Si:熱膨張係数3.0×10-6/°C)
で形成されているため、熱膨張係数の整合をとるためで
ある。また、このパッケージ基板2の主面(上面)に
は、図示しないが、前記半導体チップ4の半田バンプ3
に対応して電極パッドが設けられている。また、周辺に
も図示しない接続パッドが設けられ、この接続パッドに
リード8の内端部分が電気的に接続されている。前記電
極パッドおよび接続パッドは、パッケージ基板2の内部
に配線された内層配線9によって電気的に接続されてい
る。
The package substrate 2 has a multilayer wiring structure made of mullite ceramic (coefficient of thermal expansion: 3.5 × 10 -6 / ° C). This is the semiconductor chip 4
Is silicon (Si: coefficient of thermal expansion 3.0 × 10 −6 / ° C)
This is because the thermal expansion coefficient is matched because it is formed of. Although not shown, the solder bumps 3 of the semiconductor chip 4 are provided on the main surface (upper surface) of the package substrate 2.
An electrode pad is provided corresponding to. Further, a connection pad (not shown) is also provided in the periphery, and the inner end portion of the lead 8 is electrically connected to this connection pad. The electrode pad and the connection pad are electrically connected by an inner layer wiring 9 arranged inside the package substrate 2.

【0019】半導体チップ4は、10Gビット/秒の光
伝送用デジタルICを構成するLSIからなっている。
半導体チップ4の主面(下面)に設けられる半田バンプ
3は、たとえば1〜3重量%程度のSnを含有するPb
/Sn合金(溶融温度は320〜327℃程度)で形成
されている。
The semiconductor chip 4 comprises an LSI which constitutes a 10 Gbit / sec optical transmission digital IC.
The solder bumps 3 provided on the main surface (lower surface) of the semiconductor chip 4 contain Pb containing, for example, about 1 to 3% by weight of Sn.
/ Sn alloy (melting temperature is about 320 to 327 ° C.).

【0020】キャップ6は、たとえば熱膨張係数が3.
8×10-6/°Cとなる窒化アルミニウム(AlN)な
どの高熱伝導性セラミックで形成され、平坦な本体12
と、この本体12の一面側に設けられる枠状の脚部11
とからなっている。そして、この脚部11の先端面が前
記パッケージ基板2の主面に対面し、かつこの脚部11
部分でパッケージ基板2に封止用半田5で接続されてい
る。半導体チップ4の背面は伝熱用半田10によってキ
ャップ6の平坦な本体12に接着されている。これは、
半導体チップ4で発生した熱を伝熱用半田10を通じて
キャップ6に伝達するためである。前記伝熱用半田10
の濡れ性を向上させるため、キャップ6の本体12にお
いて半導体チップ4の背面と対向する箇所には、図示し
ないがメタライズ層が設けられている。封止用半田5お
よび伝熱用半田10は、たとえば、10重量%程度のS
nを含有するPb/Sn合金(溶融温度は275〜30
0℃程度)または20重量%程度のSnを含有するAu
/Sn合金(溶融温度は280℃)で形成されていて、
前記封止用半田5よりも融点が低くなっている。
The cap 6 has, for example, a coefficient of thermal expansion of 3.
A flat main body 12 made of high thermal conductive ceramic such as aluminum nitride (AlN) having a temperature of 8 × 10 −6 / ° C.
And a frame-shaped leg portion 11 provided on one surface side of the main body 12.
It consists of The tip surface of the leg portion 11 faces the main surface of the package substrate 2, and the leg portion 11
The portion is connected to the package substrate 2 with the sealing solder 5. The back surface of the semiconductor chip 4 is adhered to the flat body 12 of the cap 6 by the heat transfer solder 10. this is,
This is because the heat generated in the semiconductor chip 4 is transferred to the cap 6 through the heat transfer solder 10. The heat transfer solder 10
In order to improve the wettability of the cap 6, a metallization layer (not shown) is provided at a portion of the main body 12 of the cap 6 facing the back surface of the semiconductor chip 4. The sealing solder 5 and the heat transfer solder 10 are, for example, about 10% by weight of S.
Pb / Sn alloy containing n (melting temperature is 275-30
Au containing about 0 ° C.) or about 20 wt% Sn
/ Sn alloy (melting temperature is 280 ° C),
The melting point is lower than that of the sealing solder 5.

【0021】一方、これが本発明の特徴の一つである
が、前記キャップ6の半導体チップ4から放熱フィン7
に至る部分、すなわちキャップ6の平坦な本体12は面
積的に広く形成され、放熱フィン7と同じ大きさになっ
ている(縦横の寸法が放熱フィン7に一致)。一般に、
キャップの脚部11は、キャップ6の平坦な本体12の
周辺に沿って設けられる構造となっていて、パッケージ
基板2に対面する脚部11の先端面が封止用半田5によ
ってパッケージ基板2に固定される。これに対して本発
明では、脚部11はキャップ6の平坦な本体12の途中
部分に設けられることから、平坦な本体12の周辺は脚
部11を越えて張り出した構造となっている。前記MC
Cキャップでは、キャップの寸法は10mm□〜12m
m□となる。本発明のキャップ6では、パッケージ基板
2に対面する部分、すなわち脚部11の外形寸法は、従
来のキャップ同様に10mm□〜12mm□となるが、
キャップ6の平坦な本体12の大きさは、片側で2〜3
mm程度広くなり、全体で4〜6mm程度広くなってい
る。これによって、前記半導体チップ4で発生した熱
は、キャップ6の平坦な本体12に伝わると、急激に広
がりながら放熱フィン7に熱を伝達するため、放熱フィ
ン7よりも小さな従来のキャップの場合に比較して熱放
散性が高くなる。この構造であれば、10Gビット/秒
の光伝送用デジタルICを構成するLSIを組み込んだ
電子装置も、水冷構造を採用しなくとも、空冷で充分に
安定動作する。
On the other hand, this is one of the features of the present invention. The semiconductor chip 4 of the cap 6 to the heat radiation fin 7 are used.
Up to, that is, the flat main body 12 of the cap 6 is formed wide in area and has the same size as the heat radiation fin 7 (the vertical and horizontal dimensions match the heat radiation fin 7). In general,
The leg portion 11 of the cap has a structure provided along the periphery of the flat main body 12 of the cap 6, and the tip surface of the leg portion 11 facing the package substrate 2 is attached to the package substrate 2 by the sealing solder 5. Fixed. On the other hand, in the present invention, since the leg portion 11 is provided in the middle of the flat body 12 of the cap 6, the periphery of the flat body 12 has a structure protruding beyond the leg portion 11. The MC
With C cap, the size of the cap is 10 mm □ to 12 m
It becomes m □. In the cap 6 of the present invention, the outer dimension of the portion facing the package substrate 2, that is, the leg portion 11 is 10 mm □ to 12 mm □ as in the conventional cap.
The size of the flat body 12 of the cap 6 is 2-3 on one side.
It is wider by about mm, and is wider by about 4 to 6 mm as a whole. As a result, when the heat generated in the semiconductor chip 4 is transferred to the flat body 12 of the cap 6, the heat is transferred to the heat radiation fins 7 while spreading rapidly. Therefore, in the case of a conventional cap smaller than the heat radiation fins 7, The heat dissipation becomes higher in comparison. With this structure, an electronic device incorporating an LSI that constitutes a 10 Gbit / sec optical transmission digital IC can operate sufficiently stably with air cooling without using a water cooling structure.

【0022】放熱フィン7は熱伝導性の良好なアルミニ
ウム合金、たとえばジュラルミンで構成され、平坦な本
体部分15と、フィン16とからなっている。前記フィ
ン16の厚さおよび間隔は2〜3mmで、長さは30m
m以上となっている。この放熱フィン7は半田で接着し
たり、あるいはグリースで接着させて使用される。半田
が薄い場合は、熱抵抗は小さく、熱放散効率の低下を招
かない。
The radiating fin 7 is made of an aluminum alloy having a good thermal conductivity, for example, duralumin, and has a flat body portion 15 and a fin 16. The fins 16 have a thickness and interval of 2-3 mm and a length of 30 m.
It is more than m. The heat radiation fin 7 is used by being bonded with solder or grease. When the solder is thin, the thermal resistance is small and the heat dissipation efficiency is not reduced.

【0023】このような電子装置1は、図2に示すよう
に、実装基板20に実装されて使用される。実装基板2
0は、内部は詳述しないが配線基板構造となり、電子装
置1のリード8が図示しない配線層部分に接続される。
As shown in FIG. 2, such an electronic device 1 is mounted on a mounting board 20 for use. Mounting board 2
0 has a wiring board structure, although the inside is not described in detail, and leads 8 of the electronic device 1 are connected to a wiring layer portion (not shown).

【0024】つぎに、このような電子装置1の組立につ
いて、図3乃至図6を参照しながら説明する。最初に、
図3に示すように、半導体チップ4の主面に形成した半
田バンプ3をパッケージ基板2の主面の図示しない電極
パッドに正確に位置決めする。この位置決めは、チップ
マウンタ装置などの機械を用いて行う。つぎに、前記パ
ッケージ基板2を図示しないリフロー炉に搬送する。リ
フロー炉の内部は、半田バンプ3の表面の酸化を防止す
るために、窒素,アルゴンなどの不活性ガス雰囲気にな
っている。そして、炉内の温度を半田バンプ3の溶融温
度よりも幾分高め(340〜350℃程度)に設定して
半田バンプ3を加熱,溶融することにより、半導体チッ
プ4をパッケージ基板2の主面にフェイスダウンボンデ
ィングする(図4参照)。
Next, the assembly of the electronic device 1 will be described with reference to FIGS. At first,
As shown in FIG. 3, the solder bumps 3 formed on the main surface of the semiconductor chip 4 are accurately positioned on the electrode pads (not shown) on the main surface of the package substrate 2. This positioning is performed using a machine such as a chip mounter device. Next, the package substrate 2 is transferred to a reflow furnace (not shown). The inside of the reflow furnace is in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen or argon in order to prevent the surface of the solder bump 3 from being oxidized. Then, the temperature inside the furnace is set slightly higher than the melting temperature of the solder bumps 3 (about 340 to 350 ° C.) to heat and melt the solder bumps 3, so that the semiconductor chip 4 is placed on the main surface of the package substrate 2. Face down bonding is performed (see FIG. 4).

【0025】つぎに、図5に示すように封止を行う。キ
ャップ6は裏返しにされた状態で下治具30上に載置さ
れる。下治具30は、キャップ6と熱膨張係数が合うよ
うにAlNで形成されている。下治具30の主面中央に
は、前記キャップ6を載置する収容窪み31が設けられ
ている。また、この収容窪み31の途中部分には、前記
リード8が接触しないように逃げ空間32が設けられて
いる。つぎに、前記キャップ6のメタライズ層が設けら
れた上に、所定の体積を有する半田プリフォーム33を
載せ、さらにその上に半導体チップ4を位置決めして載
せる。半導体チップ4はパッケージ基板2に半田バンプ
3を介して取り付けられていることから、半導体チップ
4の背面が半田プリフォーム33上に載ることになる。
また、前記下治具30の上方に突出するパッケージ基板
2上には、上治具35が載せられる。この上治具35
は、前記上・下治具30を途中まで被う箱形となるとと
もに、その周縁部分には受片36が設けられている。そ
こで、この受片36上には、リング状の錘37が載せら
れる。これによって、キャップ6,半田プリフォーム3
3,半導体チップ4間には所定の加圧力が加わる。
Next, as shown in FIG. 5, sealing is performed. The cap 6 is placed on the lower jig 30 while being turned upside down. The lower jig 30 is formed of AlN so that the thermal expansion coefficient of the lower jig 30 matches that of the cap 6. In the center of the main surface of the lower jig 30, an accommodation recess 31 for mounting the cap 6 is provided. An escape space 32 is provided in the middle of the accommodation recess 31 so that the leads 8 do not come into contact with each other. Next, the solder preform 33 having a predetermined volume is placed on the metallized layer of the cap 6, and the semiconductor chip 4 is positioned and placed thereon. Since the semiconductor chip 4 is attached to the package substrate 2 via the solder bumps 3, the back surface of the semiconductor chip 4 is placed on the solder preform 33.
An upper jig 35 is placed on the package substrate 2 protruding above the lower jig 30. This upper jig 35
Has a box shape that covers the upper and lower jigs 30 halfway, and a receiving piece 36 is provided on the peripheral edge portion thereof. Therefore, a ring-shaped weight 37 is placed on the receiving piece 36. By this, the cap 6, the solder preform 3
3. A predetermined pressing force is applied between the semiconductor chips 4.

【0026】この状態でリフロー炉に搬送する。リフロ
ー炉の内部は、半田プリフォーム33表面の再酸化防止
および溶融した封止用半田5表面の酸化防止のために、
たとえば窒素などの不活性ガスまたは窒素に水素を加え
た還元性ガスを充填した雰囲気になっている。そして、
前記半田バンプ3が溶融しない温度域であり、かつ半田
プリフォーム33が溶融する半田プリフォーム33の溶
融温度よりも幾分高めの温度(310℃程度)に炉内の
温度を設定し、半田プリフォーム33を加熱して溶融す
る。これによって、半田プリフォーム33が溶融する
と、錘37による荷重でキャップ6と接触するまで半導
体チップ4が下がり、伝熱用半田量とキャビティ容量が
決まる。キャップ6の半導体チップ4を接着する領域お
よび脚部11の封止領域には、それぞれ図示しないメタ
ライズ層が設けられている。また、パッケージ基板2側
の封止領域にも図示しないメタライズ層が設けられてい
る。溶けた半田はキャップ6の脚部11の内壁面のメタ
ライズ層に接触すると、パッケージ基板2とキャップ6
の脚部11による封止部間隙に表面張力によって吸い込
まれる。吸い込まれた溶けた半田は、半田の表面張力に
よりリング状に配設された脚部11に沿って全周に広が
り、封止が完了する。残留した半田は半導体チップ4を
キャップ6の平坦な本体12に接着する伝熱用半田10
となる。溶けた半田の一部が脚部11の先端に吸い寄せ
られる動きは、前記半田プリフォーム33の厚さ,錘3
7の重量,リフローの温度および時間などによって決定
される。リフロー炉から取り出し、錘37や上・下治具
30を取り外し、かつ放熱フィン7を取り付けることに
よって、図1に示すような電子装置1を得ることができ
る。
In this state, it is conveyed to the reflow furnace. Inside the reflow furnace, in order to prevent reoxidation of the surface of the solder preform 33 and oxidation of the surface of the molten sealing solder 5,
For example, the atmosphere is filled with an inert gas such as nitrogen or a reducing gas obtained by adding hydrogen to nitrogen. And
The temperature in the furnace is set to a temperature range (about 310 ° C.) which is in a temperature range in which the solder bumps 3 do not melt and which is slightly higher than the melting temperature of the solder preform 33 in which the solder preform 33 melts. The reform 33 is heated and melted. As a result, when the solder preform 33 is melted, the semiconductor chip 4 is lowered until it comes into contact with the cap 6 under the load of the weight 37, and the amount of heat transfer solder and the cavity capacity are determined. A metallization layer (not shown) is provided in each of the region of the cap 6 to which the semiconductor chip 4 is bonded and the sealing region of the leg 11. Further, a metallization layer (not shown) is also provided in the sealing region on the package substrate 2 side. When the melted solder contacts the metallized layer on the inner wall surface of the leg 11 of the cap 6, the package substrate 2 and the cap 6
It is sucked into the gap of the sealing portion formed by the leg portion 11 of the sheet by surface tension. The melted solder sucked in spreads over the entire circumference along the leg portion 11 arranged in a ring shape due to the surface tension of the solder, and the sealing is completed. The remaining solder is heat transfer solder 10 for bonding the semiconductor chip 4 to the flat body 12 of the cap 6.
Becomes Part of the melted solder is attracted to the tips of the legs 11 by the thickness of the solder preform 33, the weight 3
7 weight, reflow temperature and time, etc. The electronic device 1 as shown in FIG. 1 can be obtained by taking out from the reflow furnace, removing the weight 37 and the upper / lower jig 30, and attaching the radiating fin 7.

【0027】[0027]

【発明の効果】(1)本発明の電子装置は、半導体チッ
プで発生した熱は、半導体チップの背面のキャップの本
体を介して放熱フィンに伝わる構造となっているが、キ
ャップの本体は他のキャップ部分に比較して面積的に大
きくなり、放熱フィンと同じ大きさとなっていることか
ら、熱伝達経路が多くなり、熱放散効率が向上するとい
う効果が得られる。
(1) The electronic device of the present invention has a structure in which the heat generated in the semiconductor chip is transmitted to the heat radiation fins via the body of the cap on the back surface of the semiconductor chip, but the body of the cap is different. Since the area is larger than that of the cap portion and the size is the same as that of the heat radiating fins, the heat transfer paths are increased and the heat dissipation efficiency is improved.

【0028】(2)上記(1)により、本発明の電子装
置は、放散効果増大により、組み込むLSIによって
は、水冷構造の冷却装置を付けることなく、機構が簡単
となる風による冷却装置(空冷)での使用も可能となる
という効果が得られる。
(2) According to the above (1), the electronic device of the present invention has an increased radiation effect, and depending on the LSI to be incorporated, a cooling device by air (air cooling) without a cooling device having a water cooling structure can be used without a cooling device. The effect that it can also be used in) is obtained.

【0029】(3)上記(1)〜(2)により、本発明
によれば、10Gビット/秒の光伝送用デジタルIC組
み込んだ空冷可能な電子装置(高パワーLSIの実装構
造)の提供も可能となるという相乗効果が得られる。
(3) Due to the above (1) and (2), according to the present invention, it is also possible to provide an air-coolable electronic device (high-power LSI mounting structure) incorporating a 10 Gbit / sec optical transmission digital IC. The synergistic effect of being possible is obtained.

【0030】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない、たとえば、
図7に示すように、キャップと放熱フィンを一体構造で
形成することによって、一層熱放散効率を向上させるこ
とができる。この実施例では、全体をジュラルミンで形
成し、放熱フィン付きキャップ40としている。また、
前記実施例では、パッケージ基板2の外部電極端子をリ
ードとしているが、バンプ電極等であってもよい。ま
た、本発明はMCCにそのまま適用しても、熱放散効率
の高いMCCともなる。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say, for example,
As shown in FIG. 7, the heat dissipation efficiency can be further improved by forming the cap and the radiation fin in an integrated structure. In this embodiment, the entire body is made of duralumin, and the cap 40 with the heat radiation fin is used. Also,
Although the external electrode terminals of the package substrate 2 are used as leads in the above-described embodiment, bump electrodes or the like may be used. Moreover, even if the present invention is applied to an MCC as it is, the MCC has a high heat dissipation efficiency.

【0031】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野である半田バ
ンプによるフェイスダウンボンディングのみの例を示し
たが、TAB等の他のボンディング方式にも適用でき
る。本発明は少なくとも冷却を必要とする半導体チップ
を組み込んだ電子装置には適用できる。
In the above description, the invention mainly made by the present inventor is shown as an example of only face-down bonding with solder bumps which is a field of application which is the background of the invention, but it is also applicable to other bonding methods such as TAB. . INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be applied to an electronic device incorporating a semiconductor chip that requires at least cooling.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の一実施例による電子装置の要部を示
す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing a main part of an electronic device according to an embodiment of the present invention.

【図2】 本発明の一実施例による電子装置の実装状態
の要部を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a main part of a mounted state of an electronic device according to an embodiment of the present invention.

【図3】 本発明の一実施例による電子装置の製造にお
いてパッケージ基板に半導体チップを搭載する状態を示
す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a state in which a semiconductor chip is mounted on a package substrate in manufacturing an electronic device according to an exemplary embodiment of the present invention.

【図4】 本発明の一実施例による電子装置の製造にお
いてパッケージ基板に半導体チップを搭載した状態を示
す断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a state in which a semiconductor chip is mounted on a package substrate in manufacturing an electronic device according to an exemplary embodiment of the present invention.

【図5】 本発明の一実施例による電子装置の製造にお
いてパッケージ基板にキャップが組み合わされた状態を
示す断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a state in which a cap is combined with a package substrate in manufacturing an electronic device according to an exemplary embodiment of the present invention.

【図6】 本発明の一実施例による電子装置の製造にお
いてパッケージ基板にキャップが接着された状態を示す
断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing a state in which a cap is adhered to a package substrate in manufacturing an electronic device according to an exemplary embodiment of the present invention.

【図7】 本発明の他の実施例による放熱フィン付きキ
ャップを有する電子装置の要部を示す断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a main part of an electronic device having a cap with a radiation fin according to another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…電子装置、2…パッケージ基板、3…半田バンプ、
4…半導体チップ、5…半田(封止用半田)、6…キャ
ップ、7…放熱フィン、8…リード、9…内部配線層、
10…半田(伝熱用半田)、11…脚部、12…本体
(平坦な本体)、15…本体部分、16…フィン、20
…実装基板、30…下治具、31…収容窪み、32…逃
げ空間、33…半田プリフォーム、35…上治具、36
…受片、37…錘、40…放熱フィン付きキャップ。
1 ... Electronic device, 2 ... Package substrate, 3 ... Solder bump,
4 ... Semiconductor chip, 5 ... Solder (sealing solder), 6 ... Cap, 7 ... Radiating fin, 8 ... Lead, 9 ... Internal wiring layer,
10 ... Solder (heat transfer solder), 11 ... Leg portion, 12 ... Main body (flat main body), 15 ... Main body portion, 16 ... Fin, 20
... Mounting board, 30 ... Lower jig, 31 ... Accommodation recess, 32 ... Escape space, 33 ... Solder preform, 35 ... Upper jig, 36
... Receiving piece, 37 ... Weight, 40 ... Cap with radiating fins.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 外部電極端子を有する配線基板からなる
パッケージ基板と、前記パッケージ基板の上面に電極端
子を介して搭載された半導体チップと、前記パッケージ
基板の上面に気密的に接着されるとともに前記半導体チ
ップを被いかつ半導体チップの背面に接着されたキャッ
プと、前記キャップの上面に取り付けられるキャップよ
りも面積が大きな放熱フィンとを有する電子装置であっ
て、前記半導体チップの背面から放熱フィンに至るキャ
ップ部分は、他のキャップ部分よりも広くなりかつ前記
放熱フィンと同じ大きさとなっていることを特徴とする
電子装置。
1. A package substrate comprising a wiring substrate having external electrode terminals, a semiconductor chip mounted on the upper surface of the package substrate via electrode terminals, and airtightly adhered to the upper surface of the package substrate and An electronic device having a cap that covers a semiconductor chip and is adhered to the back surface of the semiconductor chip, and a heat dissipation fin that has a larger area than the cap that is attached to the upper surface of the cap, the heat dissipation fin extending from the back surface of the semiconductor chip to the heat dissipation fin. The electronic device is characterized in that the cap portion is wider than the other cap portions and has the same size as the heat radiation fins.
【請求項2】 前記キャップと放熱フィンは一体的に形
成されていることを特徴とする請求項1記載の電子装
置。
2. The electronic device according to claim 1, wherein the cap and the radiation fin are integrally formed.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100680910B1 (en) * 2005-04-08 2007-02-08 매그나칩 반도체 유한회사 Semiconductor package and method for fabricating the same
JP2011134769A (en) * 2009-12-22 2011-07-07 Shinko Electric Ind Co Ltd Heat-radiating component, and electronic component device

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