JPH0624853A - Production of ceramic made closed loop structure - Google Patents

Production of ceramic made closed loop structure

Info

Publication number
JPH0624853A
JPH0624853A JP17647692A JP17647692A JPH0624853A JP H0624853 A JPH0624853 A JP H0624853A JP 17647692 A JP17647692 A JP 17647692A JP 17647692 A JP17647692 A JP 17647692A JP H0624853 A JPH0624853 A JP H0624853A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ceramic
closed loop
joining
temperature
ceramic elements
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP17647692A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3281645B2 (en
Inventor
Hisakiyo Hoshino
久清 星野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daihen Corp
Original Assignee
Daihen Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Daihen Corp filed Critical Daihen Corp
Priority to JP17647692A priority Critical patent/JP3281645B2/en
Publication of JPH0624853A publication Critical patent/JPH0624853A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3281645B2 publication Critical patent/JP3281645B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Ceramic Products (AREA)

Abstract

PURPOSE:To produce a ceramic made closed loop structure with high precision without decreasing the joining strength of a joining part. CONSTITUTION:Each of ceramic elements 1a-1d is held in a closed loop state by using a clamping devices 3-6 so as to allow the deformation caused by the expansion and the shrinkage of each of ceramic elements 1a-1d. Each of ceramic elements is joined by heating by the use of heating devices 7, 8 and 9 so that the elongation factor of each of the ceramic elements 1a-1d is substantially equal to each other when the temp. of each of butt joint parts of ceramic elements 1a-1d reaches an adequate joining temp.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、2以上のセラミックス
素子を閉ループを成すように接合してセラミックス製閉
ループ構造体を製造する方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a ceramic closed loop structure by joining two or more ceramic elements so as to form a closed loop.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来提案されているセラミックスの接合
技術は、2つの被接合セラミックスを接合するものが大
部分であった。そのため例えば図8(A)に示すような
4個のセラミックス素子101a〜101dを閉ループ
をなすように接合してセラミックス製閉ループ構造体を
製造することに関しては殆ど開発がなされていなかっ
た。
2. Description of the Related Art Most of the conventionally proposed ceramic joining techniques join two ceramics to be joined. Therefore, for example, almost no development has been made on manufacturing a ceramics closed loop structure by joining four ceramics elements 101a to 101d as shown in FIG. 8A to form a closed loop.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】発明者は、既存の種々
の技術を用いて図8(A)に示すような閉ループ構造体
を製造してみたが、満足いく結果が得られなかった。例
えば、図8(B)に示す例は、セラミックス素子101
aの両端に1個づつ順番に2個のセラミックス素子10
1b及び101dを電気接合法等の公知の接合を用いて
接合し、2個のセラミックス素子101b及び101d
の端部にセラミックス素子101cを接合しようとした
例である。図中102は接合済の接合完了部である。セ
ラミックス素子101cをセラミックス素子101bに
接合するために、両者の間に接合剤103を配置して突
合せ部を構成し、この突合せ部を電気接合法等の公知の
接合法を用いて加熱して接合剤103を溶融させた後、
溶融させた接合剤を圧縮するように圧力を加えて接合を
行った。しかしながらこの様にして接合して冷却した後
の状態を見ると、セラミックス素子101cとセラミッ
クス素子101dとの間の突合せ部分のギャップgが狭
くなり過ぎてしまい、このギャップgに両セラミックス
素子101a〜101dを接合するための接合剤または
加熱用インサート材を挿入することができなかった。
The inventor tried to manufacture a closed loop structure as shown in FIG. 8 (A) by using various existing techniques, but no satisfactory result was obtained. For example, the example shown in FIG.
Two ceramic elements 10 are provided, one at each end of a.
1b and 101d are joined together by using a known joining method such as an electrical joining method to form two ceramic elements 101b and 101d.
This is an example in which the ceramic element 101c is attempted to be bonded to the end of the. Reference numeral 102 in the drawing denotes a joining completed portion which has been joined. In order to bond the ceramics element 101c to the ceramics element 101b, a bonding agent 103 is arranged between them to form a butt portion, and the butt portion is heated and joined by a known joining method such as an electric joining method. After melting the agent 103,
Bonding was performed by applying pressure so as to compress the melted bonding agent. However, when looking at the state after joining and cooling in this way, the gap g at the abutting portion between the ceramic elements 101c and 101d becomes too narrow, and both the ceramic elements 101a to 101d fall into this gap g. It was not possible to insert a bonding agent or a heating insert material for bonding the.

【0004】そこで図8(C)に示すように、セラミッ
クス素子101cをセラミックス素子101b及び10
1dに同時に接合してみた。ところがこの方法では、接
合中にセラミックス素子101cに加えられる熱でセラ
ミックス素子101cが膨張して長手方向の端部がセラ
ミックス素子101b及び101dの端部を越えてはみ
出した状態またはずれた状態で接合が行なわれるため、
接合後の冷却によるセラミックス素子101cの収縮で
接合完了部104に曲げ応力が発生して接合完了部10
4及びセラミックス素子101b〜101dにクラック
が入ることが判った。仮にクラックが入らない場合で
も、この方法を用いると、はみ出し部分またはずれ部分
ができた状態で接合されるため、接合精度が非常に悪く
なる。
Therefore, as shown in FIG. 8C, the ceramic element 101c is replaced by the ceramic elements 101b and 10b.
I tried to join 1d at the same time. However, according to this method, the ceramic element 101c is expanded by the heat applied to the ceramic element 101c during the joining, and the joining is performed in a state where the end portions in the longitudinal direction extend beyond the end portions of the ceramic elements 101b and 101d or are displaced. To be done,
The shrinkage of the ceramics element 101c due to cooling after joining causes bending stress in the joining completed portion 104, and the joining completed portion 10
4 and the ceramic elements 101b to 101d were found to be cracked. Even if cracks do not occur, if this method is used, the joining is performed in the state where the protruding portion or the displaced portion is formed, so that the joining accuracy becomes extremely poor.

【0005】そこで4個のセラミックス素子101a〜
101dを同時に接合することを考えた。同時接合を可
能にするためには、各セラミックス素子を同時にクラン
プする必要があるため、図8(D)に示すように鉄鋼の
溶接技術で用いられているクランパ105a〜105d
を用いて各セラミックス素子をクランプして接合を行っ
てみた。ところが鉄鋼の溶接技術で用いるクランパは固
定式であるため、接合時の各セラミックス素子の伸び及
び接合後の各セラミックス素子の収縮に対処することが
できず、また接合剤が溶融した際に接合剤を圧縮するよ
うに各セラミックス素子を移動させることができず、高
い精度と十分な強度を得ることができなかった。
Therefore, four ceramic elements 101a ...
We considered joining 101d at the same time. In order to enable simultaneous bonding, it is necessary to clamp each ceramic element at the same time. Therefore, as shown in FIG. 8D, the clampers 105a to 105d used in the welding technique of steel are used.
Each ceramic element was clamped and bonded using. However, since the clamper used in the welding technology for steel is a fixed type, it is not possible to deal with the expansion of each ceramic element at the time of joining and the contraction of each ceramic element after joining, and when the bonding agent melts It was not possible to move each ceramic element so as to compress, and it was not possible to obtain high accuracy and sufficient strength.

【0006】本発明の目的は、接合部の接合強度を低下
させることなく、しかも高い精度でセラミックス製閉ル
ープ構造体を製造する方法を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a ceramic closed loop structure with high accuracy without lowering the bonding strength of the bonded portion.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明では、温
度上昇による各セラミックス素子の膨張及び温度低下に
よる各セラミックス素子の収縮が原因で生じる変形を許
容し且つ閉ループを構成するように2以上のセラミック
ス素子を保持する。そして隣接するセラミック素子間に
構成される各突合せ部の温度が適正接合温度に達した際
に、2以上のセラミックス素子の温度上昇による伸び率
が実質的に等しくなるように2以上のセラミックス素子
を加熱する。
According to the first aspect of the present invention, two or more members are formed so as to allow deformation caused by expansion of each ceramic element due to temperature rise and contraction of each ceramic element due to temperature drop and to form a closed loop. Holds the ceramic element. Then, when the temperature of each abutting part formed between the adjacent ceramic elements reaches an appropriate joining temperature, the two or more ceramic elements are made to have substantially the same elongation rate due to the temperature rise. To heat.

【0008】各セラミックス素子の保持は、X−Y方向
に移動可能なテーブルにクランパを取り付けたクランプ
装置や径方向に移動可能なテーブルにクランパを取り付
けたクランプ装置等の可動式クランプ装置、固定式クラ
ンプ装置及びデーブル駆動装置等を適宜に組合せること
により容易に実現可能である。
Each ceramic element is held by a movable clamp device such as a clamp device having a clamper attached to a table movable in the XY directions, a clamp device having a clamper attached to a table movable in the radial direction, or a fixed type. It can be easily realized by appropriately combining a clamp device, a table drive device, and the like.

【0009】ここで適正接合温度は、接合剤を用いない
場合には使用するセラミックス素子の溶融温度を基準に
して定まり、接合剤を用いる場合には接合剤の溶融温度
を基準にして定まる。各セラミックス素子の温度上昇に
よる伸び率は、突合せ部が適正接合温度に達した際に実
質的に等しくなっていればよいが、各セラミック素子中
に大きな温度勾配ができると、熱応力が破壊応力よりも
大きくなってセラミックス素子にクラックや割れが入る
ため、突合せ部を適正接合温度まで加熱する途中の段階
では、各セラミックス素子の内部で発生する熱応力を破
壊応力より小さくするように徐々に加熱するのが好まし
い。なおセラミックス素子を加熱する加熱源としては、
バーナの熱や、電気接合法によるジュール熱や、誘導加
熱等を用いることができる。
Here, the proper joining temperature is determined on the basis of the melting temperature of the ceramic element used when the joining agent is not used, and is determined on the basis of the melting temperature of the joining agent when the joining agent is used. The elongation rate due to the temperature rise of each ceramic element should be substantially equal when the butted part reaches the proper joining temperature, but if a large temperature gradient is created in each ceramic element, the thermal stress causes the fracture stress When the butt joint is heated to the proper bonding temperature, the thermal stress generated inside each ceramic element is gradually heated so that it becomes smaller than the fracture stress. Preferably. As a heating source for heating the ceramic element,
Heat of a burner, Joule heat by an electric joining method, induction heating or the like can be used.

【0010】請求項2の発明では、2以上のセラミック
ス素子の接合端部間に適正接合温度まで加熱されると溶
融する接合剤を介在させて突合せ部を構成する。
According to the second aspect of the present invention, the abutting portion is formed between the joining ends of two or more ceramic elements by interposing a joining agent that melts when heated to an appropriate joining temperature.

【0011】請求項3の発明では、2以上のセラミック
ス素子の接合端部間に適正加熱温度まで加熱されると溶
融する接合剤が導電性セラミックスの両面に設けられて
なる加熱用インサート材を配置して突合せ部を構成す
る。そして本加熱を電気接合法により行う。
According to the third aspect of the invention, a heating insert material is provided between the joining ends of two or more ceramic elements, and a joining agent that is melted when heated to an appropriate heating temperature is provided on both surfaces of the conductive ceramic. To form a butt portion. Then, the main heating is performed by the electric bonding method.

【0012】請求項4の発明では、は突合せ部を加熱す
る主加熱装置と一緒に、セラミックス素子からの距離を
変えることなく突合せ部からセラミックス素子に沿って
離れるに従って放射熱量を減少させることができる補助
加熱装置を用いる。
According to the invention of claim 4, together with the main heating device for heating the butted portion, the amount of radiation heat can be reduced as the distance from the butted portion along the ceramic element is increased without changing the distance from the ceramic element. Use an auxiliary heating device.

【0013】請求項5の発明では、2以上のセラミック
ス素子を全ての対向する一対の辺が平行になる偶数多角
形状閉ループを成すようにセラミックス製閉ループ構造
体を製造する方法を対象とする。本発明では、温度上昇
による各セラミックス素子の膨張及び温度低下による各
セラミックス素子の収縮が原因で生じる変形を許容し且
つ閉ループを構成するように2以上のセラミックス素子
を保持する。そして隣接するセラミック素子間に構成さ
れる各突合せ部の温度が適正接合温度に達した際に閉ル
ープの少なくとも一つの対向する一対の辺の温度上昇に
よる伸び率が実質的に等しくなるように2以上のセラミ
ックス素子を加熱し且つ各突合せ部にずれを生じさせな
いようにして2以上のセラミックス素子間の接合を行
う。
The fifth aspect of the present invention is directed to a method of manufacturing a ceramic closed loop structure in which two or more ceramic elements form an even polygonal closed loop in which all opposing pairs of sides are parallel. In the present invention, two or more ceramic elements are held so as to allow the deformation caused by the expansion of each ceramic element due to the temperature rise and the contraction of each ceramic element due to the temperature drop and to form a closed loop. Then, when the temperature of each butt portion formed between the adjacent ceramic elements reaches an appropriate joining temperature, at least one pair of opposing sides of the closed loop have substantially equal elongation rates due to temperature rise so that they are equal to or more than two. The ceramic elements are heated and the two or more ceramic elements are joined together so as not to cause displacement at each butt portion.

【0014】[0014]

【作用】鉄鋼の溶接技術で用いられている固定式のクラ
ンプ装置だけを用いて各セラミックス素子をクランプす
ると、温度上昇による各セラミックス素子の膨張及び温
度低下による各セラミックス素子の収縮を許容できない
ため、セラミックス素子の端部が閉ループからずれた状
態で接合が行なわれるはみ出し現象またはずれ現象が発
生したり、内部に発生する応力が破壊応力以上になって
セラミックス製のセラミックス素子にクラックが入った
りする。請求項1の発明では、温度上昇による各セラミ
ックス素子の膨張及び温度低下による各セラミックス素
子の収縮を許容するようにして2以上のセラミックス素
子を閉ループ状態に保持するため、破壊応力を越えるよ
うな内部応力の発生を抑制できる。また接合剤が溶融し
た際の接合剤の圧縮作業も簡単に行える。各セラミック
ス素子の保持態様を変えただけでは、ずれ現象を無くす
ことはできない。ずれ現象の発生原因は、接合のために
セラミックス素子が加熱された際の各セラミックス素子
の伸びの量の相違にある。そこで本発明のように、セラ
ミック素子間に構成される各突合せ部の温度が適正接合
温度に達した際に、2以上のセラミックス素子の温度上
昇による伸び率が実質的に等しくなるように2以上のセ
ラミックス素子を加熱すると、接合時点でずれ現象が発
生するのを抑制できる。したがって請求項1の発明によ
れば、高い精度で閉ループ構造体を製造できる。
When each ceramic element is clamped using only the fixed type clamp device used in the welding technology of steel, expansion of each ceramic element due to temperature rise and contraction of each ceramic element due to temperature decrease cannot be tolerated. A protrusion phenomenon or a displacement phenomenon occurs in which joining is performed in a state where the ends of the ceramics element are displaced from the closed loop, or a crack is generated in the ceramics element made of ceramics because the stress generated inside is greater than or equal to the fracture stress. According to the invention of claim 1, since two or more ceramic elements are held in a closed loop state by allowing expansion of each ceramic element due to temperature rise and contraction of each ceramic element due to temperature decrease, an internal pressure that exceeds the fracture stress Generation of stress can be suppressed. Further, the work of compressing the bonding agent when the bonding agent is melted can be easily performed. The shift phenomenon cannot be eliminated only by changing the holding mode of each ceramic element. The cause of the displacement phenomenon is the difference in the amount of elongation of each ceramic element when the ceramic element is heated for bonding. Therefore, as in the present invention, when the temperatures of the abutting portions formed between the ceramic elements reach an appropriate joining temperature, the elongation rates of the two or more ceramic elements are substantially equal to each other due to the temperature rise. When the ceramic element of No. 1 is heated, it is possible to suppress the occurrence of the shift phenomenon at the time of joining. Therefore, according to the invention of claim 1, the closed loop structure can be manufactured with high accuracy.

【0015】請求項2の発明のように、接合剤を用いる
と、高い精度で閉ループ構造体を製造できる。また請求
項3の発明のように、電気接合法によって本加熱を行う
場合で、加熱用インサート材を用いれば、高温でも導電
性を有しないセラミックス素子を用いて閉ループ構造体
を製造できる。
When the bonding agent is used as in the second aspect of the invention, the closed loop structure can be manufactured with high accuracy. Further, when the main heating is performed by the electric bonding method as in the third aspect of the invention, if the insert material for heating is used, the closed loop structure can be manufactured using the ceramic element having no conductivity even at a high temperature.

【0016】各セラミックス素子の保持には、可動式ク
ランプ装置を用いることになるため、どうしても制御対
象物が増えることになる。その上移動するセラミックス
素子に対して移動式の加熱源を用いると、更に制御対象
物が増えることになり、接合時の制御が面倒になる。そ
こで請求項4の発明のように、突合せ部を加熱する主加
熱装置と一緒に、セラミックス素子からの距離を変える
ことなく突合せ部からセラミックス素子に沿って離れる
に従って放射熱量を減少させることができる補助加熱手
段を用いると、制御対象物の数が減るため、接合時の制
御が容易になる。
Since a movable clamp device is used to hold each ceramic element, the number of objects to be controlled inevitably increases. Furthermore, if a moving heating source is used for the moving ceramic element, the number of objects to be controlled increases, and the control at the time of joining becomes troublesome. Therefore, as in the invention of claim 4, together with the main heating device for heating the butt portion, the amount of radiant heat can be reduced as the distance from the butt portion along the ceramic element is increased without changing the distance from the ceramic element. When the heating means is used, the number of objects to be controlled is reduced, which facilitates the control at the time of joining.

【0017】請求項5の発明のように、全ての対向する
一対の辺が平行になる偶数多角形状閉ループ構造体を製
造する場合に、各突合せ部の温度が適正接合温度に達し
た際に閉ループの少なくとも一つの対向する一対の辺の
温度上昇による伸び率が実質的に等しくなるように2以
上のセラミックス素子を加熱し、しかも各突合せ部にず
れを生じさせないようにして各セラミックス素子の位置
調整を行えば、この一対の辺の温度上昇による伸び率と
他の対の辺の温度上昇による伸び率とが相違しても、ず
れ現象を生じさせずに接合を行える。
When an even polygonal closed loop structure in which all of a pair of opposing sides are parallel to each other is manufactured as in the fifth aspect of the present invention, the closed loop is generated when the temperature at each butting portion reaches an appropriate joining temperature. Position adjustment of each ceramic element by heating two or more ceramic elements so that the elongation rates of at least one pair of opposing sides of the above are substantially equal to each other due to temperature rise, and without causing misalignment at each butt portion. By doing so, even if the elongation rate of the pair of sides due to the temperature rise differs from the elongation rate of the other pair of sides due to the temperature rise, the joining can be performed without causing the shift phenomenon.

【0018】[0018]

【実施例】以下図面を参照して本発明の実施例を詳細に
説明する。図1(A)〜(C)は、正四角のセラミック
ス製閉ループ構造体を製造する実施例を説明するための
図である。図1(A)は4個のセラミックス素子1a〜
1dの突合せ部に接合剤2を配置して構成した未接合閉
ループ構造体の閉ループ状態を4台のクランプ装置3〜
6を用いて保持している状態を模式的に示している。セ
ラミックス素子1a〜1dが同じセラミックス材料で形
成されていれば、接合は最も容易であるが、各セラミッ
クス素子がそれぞれ異なったセラミックス材料で形成さ
れていても良いのは勿論である。本実施例では、セラミ
ックス素子1a〜1dが同じセラミックス材料から形成
されているものとし、セラミックス素子1aと1cの長
手方向の長さが等しく、セラミックス素子1bと1dの
長手方向の長さが等しいものとする。
Embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the drawings. 1 (A) to 1 (C) are views for explaining an example of manufacturing a regular square ceramic closed loop structure. FIG. 1A shows four ceramic elements 1a-
The closed loop state of the unjoined closed loop structure formed by arranging the bonding agent 2 at the abutting portion of 1d includes four clamp devices 3 to
6 schematically shows the holding state. If the ceramic elements 1a to 1d are made of the same ceramic material, the joining is easiest, but it goes without saying that the respective ceramic elements may be made of different ceramic materials. In this embodiment, the ceramic elements 1a to 1d are made of the same ceramic material, the ceramic elements 1a and 1c have the same length in the longitudinal direction, and the ceramic elements 1b and 1d have the same length in the longitudinal direction. And

【0019】図1(B)は、セラミックス素子1a〜1
dを想像線で示して、4台のクランプ装置3〜6の構成
を概略的に示している。クランプ装置3は、固定式クラ
ンプ装置であり、ローラブラケット3aに2つの位置決
め用ローラ3b及び3cを所定の間隔をあけて回転自在
に固定して構成されている。このローラ3b及び3c
は、セラミックス素子1aの一つの側面に軸線方向の端
面が接触する大径筒状部3b1 及び3c1 とセラミック
ス素子1aの別の側面と外周面で接触する小径筒状部3
b2 及び3c2 とを具備しており、しかも弾性材料で形
成されて、セラミックス素子1aの幅方向の膨張及び収
縮をある程度許容している。クランプ装置4及び6は、
共に可動式クランプ装置であり、これらのクランプ装置
はX−Y方向に動き得るX−Yテーブル4a及び6aに
3つの位置決め用ローラ4b〜4d及び6b〜6dを回
転自在に固定して構成されている。2つのローラ4b,
4c及び6a,6cはセラミックス素子1bの長手方向
に沿って配置されており、これら2つのローラ4b,4
c及び6a,6cをそれぞれ結ぶ線は、クランプ装置3
の2つのローラ3a及び3bを結ぶ線と直交するように
なっている。また1つのローラ4d及び6dは2つのロ
ーラ4b,4c及び6a,6cから長手方向に直交する
方向に間隔をあけて配置されて、2つのローラ4b,4
c及び6a,6cとの間でセラミックス素子1b及び1
dを挾持する。この例では、ローラ4d及び6dが図示
しないバネやシリンダ等の付勢手段によってセラミック
ス素子1b及び1dを2つのローラ4b,4c及び6
a,6c側に付勢されて、セラミックス素子1b及び1
dが挾持されている。なおローラ4b〜4d及び6b〜
6dの構成は、前述のローラ3a及び3bと同様に構成
されている。X−Yテーブル4a及び6aは、軽い力に
よってX−Y方向に移動するようになっており、セラミ
ックス素子が膨張または収縮する際に発生する力でX−
Y方向に移動し、溶融した接合剤2を圧縮する際にクラ
ンプ装置5がクランプ装置3に向かって移動した際には
Y方向に移動する。クランプ装置5は、加圧用シリンダ
5aに球面軸受5bを介して連結された可動ローラブラ
ケット5cに2つの位置決め用ローラ5d及び5eが回
転自在に固定されて構成されている。可動ローラブラケ
ット5cを加圧用シリンダ5aに球面軸受5bを介して
連結しているのは、可動ローラブラケット5cの動きを
自由にして熱膨張及び収縮に伴うセラミックス素子1c
の変位を拘束しないようにするためである。加圧用シリ
ンダ5aは、常時は可動ローラブラケット5cの変位を
許容する程度に可動ローラブラケット5cを付勢してい
るが、接合剤2が溶融した後に接合剤を圧縮する際には
ある程度強い力で可動ローラブラケット5cをセラミッ
クス素子1c側に付勢する。
FIG. 1B shows the ceramic elements 1a-1.
D is shown by an imaginary line to schematically show the configuration of the four clamp devices 3 to 6. The clamp device 3 is a fixed clamp device, and is composed of two positioning rollers 3b and 3c which are rotatably fixed to a roller bracket 3a with a predetermined interval. These rollers 3b and 3c
Is a large-diameter cylindrical portion 3b1 or 3c1 whose end face in the axial direction contacts one side surface of the ceramic element 1a and a small-diameter cylindrical portion 3 which contacts another side surface of the ceramic element 1a on the outer peripheral surface.
b2 and 3c2, and is made of an elastic material to allow expansion and contraction of the ceramic element 1a in the width direction to some extent. The clamping devices 4 and 6 are
Both are movable clamp devices, and these clamp devices are configured by rotatably fixing three positioning rollers 4b to 4d and 6b to 6d on XY tables 4a and 6a which can move in the XY directions. There is. Two rollers 4b,
4c and 6a, 6c are arranged along the longitudinal direction of the ceramic element 1b, and these two rollers 4b, 4a
The lines connecting c and 6a, 6c are the clamp device 3
Are orthogonal to the line connecting the two rollers 3a and 3b. Further, one roller 4d and 6d is spaced from the two rollers 4b, 4c and 6a, 6c in a direction orthogonal to the longitudinal direction, and the two rollers 4b and 4d are spaced apart from each other.
c and 6a, 6c and ceramic elements 1b and 1
Hold d. In this example, the rollers 4d and 6d connect the ceramic elements 1b and 1d to the two rollers 4b, 4c and 6 by urging means such as springs or cylinders (not shown).
The ceramic elements 1b and 1 are urged toward the a and 6c sides.
d is held. The rollers 4b to 4d and 6b to
The configuration of 6d is similar to that of the rollers 3a and 3b described above. The XY tables 4a and 6a are adapted to move in the XY direction by a light force, and the force generated when the ceramic element expands or contracts causes the XY table
It moves in the Y direction and moves in the Y direction when the clamp device 5 moves toward the clamp device 3 when compressing the molten bonding agent 2. The clamp device 5 is configured such that two positioning rollers 5d and 5e are rotatably fixed to a movable roller bracket 5c connected to a pressurizing cylinder 5a via a spherical bearing 5b. The movable roller bracket 5c is connected to the pressurizing cylinder 5a via the spherical bearing 5b because the movable roller bracket 5c is free to move and the ceramic element 1c accompanying the thermal expansion and contraction.
This is so as not to restrain the displacement of. The pressurizing cylinder 5a normally urges the movable roller bracket 5c to the extent that the displacement of the movable roller bracket 5c is allowed. However, when the bonding agent 2 is melted and then the bonding agent is compressed, a certain strong force is applied. The movable roller bracket 5c is urged toward the ceramic element 1c.

【0020】図1(C)は、クランプ装置を図示せず
に、セラミックス素子1a,1b,1cに対する加熱装
置と通電電極の関係を概略的に示したものである。隣接
するセラミックス素子の間に接合剤を介して形成される
各突合せ部の厚み方向の両側には、一台の加熱通電ユニ
ット装置7と一台の加熱通電ユニット装置8とがそれぞ
れ配置されている。この一台の加熱通電ユニット装置7
と一台の加熱通電ユニット装置8とが組合されて、一つ
の突合せ部に対して設けられる一台の主加熱装置が構成
される。なお図1(C)に図示していない他の突合せ部
にも、一台の加熱通電ユニット装置7と一台の加熱通電
ユニット装置8とが組合されてなる主加熱装置がそれぞ
れ配置されている。後に詳細に説明するが、9は主加熱
装置と組合されて使用される補助加熱装置である。一台
の主加熱装置を構成する加熱通電ユニット装置7及び8
は、それぞれ通電電極7a及び8aと、該通電電極の周
囲からガス炎を吹出すガスバーナ7b及び8bと、通電
電極7a及び8aに通電を行うための通電装置を内蔵し
てしかも該通電電極及びガスバーナを個別に退避位置に
退避させる退避装置7c及び8cと、該退避装置に駆動
力を与える駆動源7d及び8dとから構成される。なお
退避装置7c及び8cに内蔵される通電装置には、図示
しない制御電源から電流が通電される。通電電極7a及
び8aは、突合せ部の幅寸法とほぼ等しい幅寸法を有す
る平板状の電極である。ガスバーナ7b及び8bは通電
電極7a及び8aの基部の周囲を同心的に囲むようにガ
ス炎口を有するリング状ガスバーナであり、通電電極7
a及び8aに通電を行って突合せ部の温度を適正接合温
度まで加熱する前に突合せ部を中心にして発生する熱応
力を小さくするためや、高温において導電性を示すセラ
ミックス及び接合剤の導電性を高めるために用いられ
る。退避装置7c及び8cは、通電電極7a及び8aの
先端とセラミックス素子の突合せ部との間の距離及びガ
スバーナ7b及び8bのガス炎口とセラミックス素子の
突合せ部との間の距離を個別に調整できるように構成さ
れている。駆動源7d及び8dには、エアシリンダ、ソ
レノイド、モータ等が用いられる。
FIG. 1C schematically shows the relationship between the heating device and the energizing electrodes for the ceramic elements 1a, 1b, 1c without showing the clamp device. One heating energization unit device 7 and one heating energization unit device 8 are arranged on both sides in the thickness direction of the abutting portions formed between the adjacent ceramic elements with a bonding agent interposed therebetween. . This one heating energizing unit device 7
And one heating energization unit device 8 are combined to form one main heating device provided for one butt portion. It should be noted that the main heating device formed by combining the one heating energization unit device 7 and the one heating energization unit device 8 is arranged at each of the other butting portions not shown in FIG. 1C. . As will be described later in detail, 9 is an auxiliary heating device used in combination with the main heating device. Heating and energizing unit devices 7 and 8 constituting one main heating device
Are energized electrodes 7a and 8a, gas burners 7b and 8b for blowing out a gas flame from the periphery of the energized electrodes, and an energization device for energizing the energized electrodes 7a and 8a, respectively. And retreat devices 7c and 8c for individually retreating to the retreat position, and drive sources 7d and 8d for giving a driving force to the retreat device. It should be noted that a current is supplied from a control power supply (not shown) to the energizing devices built in the retractors 7c and 8c. The current-carrying electrodes 7a and 8a are flat plate-shaped electrodes having a width dimension substantially equal to the width dimension of the butted portion. The gas burners 7b and 8b are ring-shaped gas burners having gas flame openings so as to concentrically surround the bases of the current-carrying electrodes 7a and 8a.
In order to reduce the thermal stress generated around the abutting part before heating the temperature of the abutting part to a proper joining temperature by energizing a and 8a, and the conductivity of the ceramic and the bonding agent which show conductivity at high temperature. It is used to increase The retractors 7c and 8c can individually adjust the distance between the tips of the current-carrying electrodes 7a and 8a and the abutting portion of the ceramic element, and the distance between the gas flame openings of the gas burners 7b and 8b and the abutting portion of the ceramic element. Is configured. An air cylinder, a solenoid, a motor, etc. are used for the drive sources 7d and 8d.

【0021】補助加熱装置9,9は、各セラミックス素
子1a〜1dに対してそれぞれ2個づつ設けられてお
り、各突合せ部に対して設けた主加熱装置を使用する前
に、独立して使用されて各セラミックス素子を加熱した
後、各主加熱装置と併用されて、突合せ部の温度が適正
接合温度に達した際に各セラミックス素子の温度上昇に
よる伸び率が実質的に等しくなるように各セラミックス
素子を加熱するために用いられる。なおこの補助加熱装
置9,9は、突合せ部の温度が適正接合温度に達して接
合を行った後の冷却工程において、各セラミックス素子
の内部に発生する熱応力が破壊応力より小さくなるよう
にセラミックス素子を加熱する機能を果すものである。
補助加熱装置9,9としては、ガスバーナ、高周波誘導
加熱、赤外線ランプ、小型の電気炉等の加熱手段を用い
ることができる。なおこれらの加熱手段は、主加熱装置
にも用いることができる。
Two auxiliary heating devices 9 are provided for each of the ceramic elements 1a to 1d, and they are used independently before using the main heating device provided for each butt portion. After heating each ceramic element, it is used together with each main heating device so that when the temperature at the butt reaches the proper joining temperature, the elongation rate due to the temperature rise of each ceramic element becomes substantially equal. Used to heat ceramic elements. It should be noted that the auxiliary heating devices 9 and 9 are configured so that the thermal stress generated inside each ceramic element is smaller than the fracture stress in the cooling process after the temperature of the butt portion reaches the proper bonding temperature and the bonding is performed. It has the function of heating the element.
As the auxiliary heating devices 9 and 9, heating means such as a gas burner, high frequency induction heating, an infrared lamp, and a small electric furnace can be used. These heating means can also be used in the main heating device.

【0022】ここで突合せ部の温度が適正接合温度に達
した際に、全てのセラミックス素子の温度上昇による伸
び率が実質的に等しくなるように各セラミックス素子を
加熱することの意味を具体的に説明する。図2(A)
は、図1(A)の未接合閉ループ構造体を接合する前の
状態と、接合中の状態と、接合後に冷却を行った状態と
を段階的に示している。接合前の正四角形閉ループの各
辺の長さがそれぞれL1であったとすると、接合を行う
ときの各辺の長さがすべてL1 +λ1 になれば、すなわ
ち各辺の伸び量λ1 が等しくなれば、ずれ現象が発生す
ることはない。このことは言い替えると各セラミックス
素子1a〜1dの伸び率Kが、全てK=λ1 /L1 にな
るように加熱すればよいことを意味している。これによ
って接合前→接合中→接合冷却後のいずれの段階におい
ても閉ループは、ほぼ相似関係を維持することになる。
Here, specifically, the meaning of heating each ceramics element so that the elongation percentages due to the temperature rise of all the ceramics elements become substantially equal when the temperature of the butt portion reaches the proper bonding temperature. explain. Figure 2 (A)
1A shows in stages the state before joining the unjoined closed loop structure of FIG. 1A, the state during joining, and the state where cooling is performed after joining. Assuming that the lengths of the sides of the regular square closed loop before joining are L1 respectively, if the lengths of the sides when joining are all L1 + λ1, that is, if the elongation amounts λ1 of the sides are equal, The shift phenomenon does not occur. In other words, this means that all the ceramic elements 1a to 1d should be heated so that the elongation rate K becomes K = .lambda.1 / L1. As a result, the closed loop maintains a similar relationship at any stage of before joining → during joining → after joining cooling.

【0023】次に図1(B)及び(C)の装置を用いて
閉ループを接合する場合の具体的方法について説明す
る。ここでセラミックス素子1a及び1cとしては、1
2×12×1000mmの角柱状のSi3 N4 セラミック
スを用い、セラミックス素子1b及び1dとしては、1
2×12×976mmの角柱状のSi3 N4 セラミックス
を用いた。そして接合剤は高温で導電性を示すCaF2
系の接合剤を用いた。まず補助加熱装置9,9を作動さ
せて各セラミックス素子を全体的に加熱した。そして補
助加熱装置による加熱を維持した状態で、駆動源7d及
び8dの駆動力で退避装置7c及び8cを駆動して、ガ
スバーナ7b及び8bを所定位置まで前進させてガスバ
ーナ7b及び8bからガス炎を出した。ガスバーナ7b
及び8bは、プロパンガスを燃料とするものを用いた。
急激に火力の強い炎をセラミックスに当てると、セラミ
ックス素子にクラックが発生するため、最初は火力を弱
くして加熱を行い徐々に突合せ部及びその近傍の温度を
上げていった。火力の調整はガスの供給量を調整しても
よいが、退避装置7c及び8cによりガスバーナ7b及
び8bを徐々に突合せ部に近付けるようにガスバーナの
位置制御を行って火力を調整してもよい。補助加熱装置
9,9による加熱とガスバーナ7b及び8bによる加熱
との併用で、突合せ部を850〜900℃まで加熱し
た。突合せ部の温度が850〜900℃まで達したこと
を図示しない放射温度計や熱電対等を用いた温度検知器
で検知すると、予め定めた通性制御パターンに従って通
電電極7a及び8a間に電流を通電して、突合せ部の温
度が接合剤2が溶融する温度(1000〜1500℃)
になるまで加熱した。なお補助加熱装置9,9の温度調
整に関しては、予め実験を行って、ガスバーナ7b及び
8bによる加熱の調整パターンとの関係で適切な調整パ
ターンを求めておき、この調整パターンに従って行っ
た。ガスバーナ7b及び8bと補助加熱装置9,9とに
よる予備加熱のための調整パターンは、各セラミックス
素子の内部に発生する熱応力が破壊応力より小さくなる
ように各セラミックス素子を加熱するとともに、閉ルー
プが最終的に相似形になるように定めてある。
Next, a specific method for joining closed loops using the apparatus shown in FIGS. 1B and 1C will be described. Here, as the ceramic elements 1a and 1c, 1
2 × 12 × 1000 mm prismatic Si3 N4 ceramics are used, and the ceramic elements 1b and 1d are 1
2 × 12 × 976 mm prismatic Si3 N4 ceramics was used. And the bonding agent is CaF2 which shows conductivity at high temperature.
A system binder was used. First, the auxiliary heating devices 9 and 9 were operated to heat each ceramic element as a whole. Then, while maintaining the heating by the auxiliary heating device, the retracting devices 7c and 8c are driven by the driving force of the driving sources 7d and 8d, and the gas burners 7b and 8b are advanced to a predetermined position to generate a gas flame from the gas burners 7b and 8b. I put it out. Gas burner 7b
And 8b used propane gas as a fuel.
When a flame with a strong thermal power is suddenly applied to the ceramics, cracks are generated in the ceramics element. Therefore, the thermal power is weakened at the beginning to heat the ceramics and gradually raise the temperature of the abutting portion and its vicinity. The heat power may be adjusted by adjusting the amount of gas supplied, but the retractors 7c and 8c may be used to adjust the position of the gas burners so that the gas burners 7b and 8b are gradually brought closer to the abutting portion. The butt section was heated to 850 to 900 ° C. by using the heating by the auxiliary heating devices 9 and 9 and the heating by the gas burners 7b and 8b in combination. When the temperature of the abutting portion reaches 850 to 900 ° C. is detected by a temperature detector using a radiation thermometer or a thermocouple (not shown), a current is applied between the energizing electrodes 7a and 8a according to a predetermined conductivity control pattern. Then, the temperature of the butt portion is the temperature at which the bonding agent 2 melts (1000 to 1500 ° C.)
Heated until. Regarding the temperature adjustment of the auxiliary heating devices 9 and 9, experiments were conducted in advance to find an appropriate adjustment pattern in relation to the adjustment pattern of heating by the gas burners 7b and 8b, and the adjustment was performed according to this adjustment pattern. The adjustment pattern for preheating by the gas burners 7b and 8b and the auxiliary heating devices 9 and 9 is such that each ceramic element is heated so that the thermal stress generated inside each ceramic element becomes smaller than the fracture stress, and the closed loop It is set so that it will eventually become a similar figure.

【0024】接合剤2の溶融を確認した後に、クランプ
装置5の加圧用シリンダ5aを駆動して可動ローラブラ
ケット5cをクランプ装置3に向かって所定の距離移動
させることにより、溶融した接合剤2の圧縮を行った。
圧縮後は、急激に温度を低下させると熱応力によってセ
ラミックス素子にクラックが入るため、補助加熱装置
9,9とガスバーナ7b及び8bとによる加熱温度を徐
々に下げて冷却を行った。
After the melting of the bonding agent 2 is confirmed, the pressurizing cylinder 5a of the clamp device 5 is driven to move the movable roller bracket 5c toward the clamp device 3 by a predetermined distance, whereby the melted bonding agent 2 is removed. Compressed.
After the compression, when the temperature is drastically lowered, the ceramic element is cracked by the thermal stress. Therefore, the heating temperature by the auxiliary heating devices 9, 9 and the gas burners 7b and 8b is gradually lowered to perform cooling.

【0025】通電中並びに冷却中において、各セラミッ
クス素子を保持するクランプ装置4,5,及び6は、各
セラミックス素子の膨張による伸び及び冷却に伴なう収
縮に応じて閉ループの中心から離れたり近付いたりする
ように変位するが、各セラミックス素子どうしの間の角
度や平面度が損なわれることはない。
During energization and cooling, the clamp devices 4, 5, and 6 for holding each ceramic element move away from or approach the center of the closed loop according to the expansion of each ceramic element and the contraction accompanying cooling. However, the angle and flatness between the ceramic elements are not impaired.

【0026】このようにして製造したセラミックス製閉
ループ構造体では、ずれ現象や接合部及びセラミックス
素子におけるクラックの発生はなかった。また接合部の
接合強度も500Mpa以上になることが判った。
In the ceramic closed loop structure manufactured as described above, neither a displacement phenomenon nor a crack was generated in the joint portion and the ceramic element. It was also found that the joint strength of the joint was 500 MPa or more.

【0027】図1(B)に示す装置で、長方形状の閉ル
ープ構造体を接合する場合にも、全く同じように全ての
セラミックス素子の温度上昇による伸び率が実質的に等
しくなるように各セラミックス素子を加熱すれば良い。
図2(B)はこの場合の接合前→接合中→接合冷却後の
経過を図示している。この例では、接合前にL1 の長さ
を有する対向する2辺とL2 の長さを有する対向する2
辺とを突合せ部が適正接合温度になるまで加熱したとき
に、各辺がそれぞれL1 +λ1 とL2 +λ2 になるとし
た場合には、各辺の伸び率KがK=(λ1 /L1 )=
(λ2 /L2 )になるように、各セラミックス素子加熱
することになる。
In the apparatus shown in FIG. 1B, even when rectangular closed loop structures are joined, each ceramic is made to have substantially the same elongation rate due to temperature rise in all the ceramic elements. It suffices to heat the element.
FIG. 2 (B) illustrates the process in this case before joining → during joining → after joining cooling. In this example, two opposing sides having a length of L1 and two opposing sides having a length of L2 before joining.
When the sides are heated to the proper joining temperature at the butt portion, and the sides are L1 + λ1 and L2 + λ2 respectively, the elongation rate K of each side is K = (λ1 / L1) =
Each ceramic element is heated so as to become (λ2 / L2).

【0028】上記考え方はあらゆる多角形閉ループ構造
体に適用することができる。三角形閉ループに適用する
場合には、図2(C)に示す接合前→接合中→接合冷却
後の経過のようになる。この例では、接合前にL1 の長
さを有する辺とL2 の長さを有する辺とL3 の長さを有
する辺を有しているときに、各セラミックス素子の突合
せ部が適正接合温度になるまで加熱したときに、各辺が
それぞれL1 +λ1 とL2 +λ2 とL3 +λ3 とになっ
たした場合には、各辺の延び率KがK=(λ1/L1 )
=(λ2 /L2 )=(λ3 /L3 )になるように各セラ
ミックス素子を加熱することになる。
The above idea can be applied to any polygonal closed loop structure. When it is applied to a triangular closed loop, the process is as shown in FIG. 2 (C) before joining → during joining → after joining cooling. In this example, when there is a side having a length of L1, a side having a length of L2, and a side having a length of L3 before joining, the abutting portion of each ceramic element has an appropriate joining temperature. When each side becomes L1 + λ1 and L2 + λ2 and L3 + λ3 when heated up to, the elongation rate K of each side is K = (λ1 / L1)
Each ceramic element is heated so that = (λ2 / L2) = (λ3 / L3).

【0029】図3(A)及び(B)は、正六角形のセラ
ミックス製閉ループ構造体を製造する実施例を説明する
ための図である。図3(A)は6個のセラミックス製の
セラミックス素子11a〜11fの突合せ部に接合剤1
2を配置して構成した閉ループ状態を6台のクランプ装
置13〜18を用いて保持している状態を模式的に示し
ている。図3(B)はセラミックス素子11a〜11f
を想像線で示して、6台のクランプ装置13〜18の構
成を概略的に示している。これらのクランプ装置は、全
て同じ構成であるため、クランプ装置17を例にして構
造を説明する。クランプ装置17は、径方向に動き得る
テーブル17aに3つの位置決め用ローラ17b〜17
dが回転自在に固定され、テーブル17aに駆動源とし
てエアシンリダ17fのシリンダロッドが固定されて構
成されている。2つのローラ17b,17cはセラミッ
クス素子11eの長手方向に沿って配置されており、こ
れら2つのローラ17b,17cをそれぞれ結ぶ線は、
中心点CPを通る放射線と直交するようになっている。
また1つのローラ17dは2つのローラ17b,17c
から径方向内側に間隔をあけて配置されて、2つのロー
ラ17b,17との間でセラミックス素子11eを挾持
する。この例では、ローラ17dが図示しないバネやシ
リンダ等の付勢手段によってセラミックス素子11e側
に付勢されて、セラミックス素子11eが挾持されてい
る。なおローラ17b〜17dの構成は、前述のローラ
3a及び3bとは異なって単なる円筒状を呈している。
これらのローラ17b〜17dを前述のローラ3a及び
3bと同じ構成にしてもよいのは勿論である。
FIGS. 3A and 3B are views for explaining an embodiment for manufacturing a regular hexagonal ceramic closed loop structure. FIG. 3 (A) shows a case where the cement 1
2 schematically shows a state in which the closed loop state configured by arranging 2 is held by using six clamp devices 13 to 18. FIG. 3B shows the ceramic elements 11a to 11f.
Is indicated by an imaginary line to schematically show the configuration of the six clamp devices 13 to 18. Since all of these clamp devices have the same configuration, the structure will be described using the clamp device 17 as an example. The clamp device 17 includes three positioning rollers 17b to 17 on a table 17a that can move in the radial direction.
d is rotatably fixed, and a cylinder rod of an air thin lid 17f is fixed to the table 17a as a drive source. The two rollers 17b and 17c are arranged along the longitudinal direction of the ceramic element 11e, and the lines connecting the two rollers 17b and 17c are
It is orthogonal to the radiation passing through the center point CP.
Also, one roller 17d is two rollers 17b, 17c.
Are arranged radially inwardly from the two rollers 17b, 17 to hold the ceramic element 11e between them. In this example, the roller 17d is urged toward the ceramic element 11e by an urging means such as a spring or a cylinder (not shown) so that the ceramic element 11e is held. Note that the rollers 17b to 17d have a simple cylindrical shape, unlike the rollers 3a and 3b described above.
Needless to say, these rollers 17b to 17d may have the same structure as the rollers 3a and 3b described above.

【0030】この装置を用いる場合には、突合せ部の温
度が適正接合温度になるまでは、各クランプ装置13〜
18のエアシリンダ(17e)をある程度自由に動ける
ような状態にしておく。そして突合せ部の温度が適正接
合温度に達して、溶融した接合剤を圧縮する際には、全
てのクランプ装置13〜18のエアシリンダ(17e)
を駆動してテーブル(17a)を径方向内側に移動させ
る。そして冷却工程では、再度エアシリンダ(17e)
をある程度自由に動けるような状態に戻す。図3には加
熱通電ユニット装置は図示していないが、図1(C)に
示した加熱通電ユニット装置7及び8と同じ構成のもの
を各突合せ部に対してそのまま使用することができる。
また図3には補助加熱装置も図示していないが、図1及
び図2を用いて説明した先の実施例と同様の思想に基づ
いて、補助加熱装置を設ければよい。
When this device is used, each of the clamp devices 13 to 13 is operated until the temperature of the butt portion reaches the proper joining temperature.
The 18 air cylinders (17e) are set in a state where they can move freely to some extent. Then, when the temperature of the butt portion reaches the proper joining temperature and the molten joining agent is compressed, the air cylinders (17e) of all the clamp devices 13 to 18 are pressed.
Is driven to move the table (17a) radially inward. Then, in the cooling process, the air cylinder (17e) is again used.
Back to a state where it can move freely to some extent. Although the heating energizing unit device is not shown in FIG. 3, the heating energizing unit devices 7 and 8 shown in FIG. 1C can be used as they are for the abutting portions.
Further, although the auxiliary heating device is not shown in FIG. 3, the auxiliary heating device may be provided based on the same idea as that of the previous embodiment described with reference to FIGS. 1 and 2.

【0031】本発明の方法は、上記各実施例におけるよ
うな多角形閉ループの閉ループ構造体を製造する場合に
限定されるものではなく、円形閉ループ及び楕円形閉ル
ープの閉ループ構造体を製造する場合にも適用できる。
図4(A)は、4個のセラミックス製の弧状のセラミッ
クス素子21a〜21dの突合せ部に接合剤22を配置
して構成した円形閉ループ状態を4台のクランプ装置2
3〜26を用いて保持している状態を模式的に示してい
る。これらのクランプ装置23〜26としては、図3
(B)に示したクランプ装置17と同様の構造のものを
用いることができる。なお補助加熱装置及び主加熱装置
は図示していない。図4(B)は、図4(A)の閉ルー
プを接合する前の状態と、接合中の状態と、接合後に冷
却を行った状態とを段階的に示している。接合前の弧状
のセラミックス素子21a〜21dの弧の長さ(外側ま
たは内側の長さ)がそれぞれL1 であり、予備加熱と通
電を行った時の各辺の長さがすべてL1 +λ1 になれ
ば、ずれ現象が発生することはない。このことは各セラ
ミックス素子の突合せ部の温度が適正接合温度に達した
時点における各セラミックス素子21a〜21dの伸び
率Kが、全てK=λ1 /L1 になるように予備加熱を行
えばよいことを意味している。これによって接合前→接
合中→接合冷却後のいずれの段階においても閉ループ
は、ほぼ相似関係を維持できる。
The method of the present invention is not limited to the case of manufacturing the closed loop structure of the polygonal closed loop as in each of the above-mentioned embodiments, but is applicable to the case of manufacturing the closed loop structure of the circular closed loop and the elliptical closed loop. Can also be applied.
FIG. 4 (A) shows a circular closed loop state in which the bonding agent 22 is arranged at the abutting portions of four ceramic arc-shaped ceramic elements 21a to 21d.
3 to 26 are used to schematically show the holding state. As these clamp devices 23 to 26, FIG.
The same structure as the clamp device 17 shown in (B) can be used. The auxiliary heating device and the main heating device are not shown. FIG. 4B shows a state before joining the closed loop of FIG. 4A, a state during joining, and a state in which cooling is performed after joining in a stepwise manner. If the arc length (outer or inner length) of each of the arc-shaped ceramic elements 21a to 21d before joining is L1, and the lengths of the respective sides when preheating and energizing are all L1 + λ1 The shift phenomenon does not occur. This means that the preheating may be performed so that the elongation rates K of the ceramic elements 21a to 21d at the time when the temperature of the abutting portion of each ceramic element reaches the proper joining temperature are all K = λ1 / L1. I mean. As a result, the closed loop can maintain a substantially similar relationship at any stage of before joining → during joining → after joining cooling.

【0032】図5は、8個のセラミックス製の弧状のセ
ラミックス素子31a〜31gの突合せ部に接合剤を配
置して構成した楕円形閉ループ状態を、8台の図示しな
いクランプ装置を用いて保持して接合を行う場合の、閉
ループを接合する前の状態と、接合中の状態と、接合後
に冷却を行った状態とを段階的に示している。閉ループ
の中心を間にして対向する対のセラミックス素子31a
及び31e並びに31b及び31fの弧の長さ(外側ま
たは内側の長さ)がそれぞれL2 であり、またセラミッ
クス素子31c及び31g並びに31d及び31hの弧
の長さ(外側または内側の長さ)がそれぞれL1 であっ
たとする。ずれ現象を防止するためには、各セラミック
ス素子の突合せ部の温度が適正接合温度に達した時点に
おける各セラミックス素子31a〜31hの伸び率を等
しくする。すなわち加熱を行って各素子の長さがL1 +
λ1 またはL2 +λ2 になった場合に、各セラミックス
素子の伸び率KがK=λ1 /L1 =λ2 /L2 となるよ
うに加熱を行う。これによって接合前→接合中→接合冷
却後のいずれの段階においても閉ループは、ほぼ相似関
係を維持することができる。
FIG. 5 shows that an elliptic closed loop state, in which a bonding agent is arranged at the abutting portions of eight ceramic arc-shaped ceramic elements 31a to 31g, is held using eight clamp devices (not shown). In the case of performing the joining by joining, the state before joining the closed loop, the state during joining, and the state where cooling is performed after joining are shown in stages. A pair of ceramic elements 31a facing each other with the center of the closed loop in between.
And 31e and 31b and 31f have an arc length (outer or inner length) of L2, and the ceramic elements 31c and 31g and 31d and 31h have an arc length (outer or inner length), respectively. Suppose it was L1. In order to prevent the displacement phenomenon, the elongation rates of the ceramic elements 31a to 31h at the time when the temperature of the abutting portion of each ceramic element reaches the proper joining temperature are made equal. That is, the length of each element is heated to L1 +
When λ1 or L2 + λ2 is reached, heating is performed so that the elongation rate K of each ceramic element is K = λ1 / L1 = λ2 / L2. As a result, the closed loop can maintain a substantially similar relationship at any stage of before joining → during joining → after joining cooling.

【0033】上記各実施例は、3個以上のセラミックス
素子を用いて任意形状の閉ループ構造体を製造する場合
に、各セラミックス素子の突合せ部の温度が適正接合温
度に達した際に、全てのセラミックス素子の伸び率が実
質的に等しくなるようにして加熱を行うものである。し
かしながら、全ての対向する一対の辺どうしが平行にな
る偶数多角形の閉ループ構造体を接合する場合には、各
セラミックス素子の突合せ部の温度が適正接合温度に達
した際に、少なくとも一つの対向する一対の辺を構成す
るセラミックス素子の伸び率が実質的に等しくなるよう
に加熱を行い、且つ適宜に各セラミックス素子の位置調
整を行うことによっても閉ループを接合できる。例えば
正四角形または長方形の閉ループを接合する、一つの対
向する一対の辺を構成するセラミックス素子の伸び率を
実質的に等しくするように加熱を行えば、また正六角形
の閉ループを接合する場合には、一つの対向する一対の
辺を構成するセラミックス素子の伸び率を、他の二つの
一対の辺を構成するセラミックス素子の伸び率と異なら
せて加熱を行ってもよい。そして各突合せ部に発生する
ずれは、適宜にクランプ装置を駆動させて閉ループ状態
を維持することにより解消できる。
In each of the above-mentioned embodiments, when a closed-loop structure having an arbitrary shape is manufactured using three or more ceramic elements, when the temperature at the abutting portion of each ceramic element reaches the proper joining temperature, all the The heating is performed so that the elongation percentages of the ceramic elements are substantially equal. However, when joining even-polygonal closed-loop structures in which all pairs of opposing sides are parallel to each other, at least one of the opposing sides is joined when the temperature at the abutting portion of each ceramic element reaches the proper joining temperature. The closed loop can be joined by heating so that the elongation percentages of the ceramic elements forming the pair of sides are substantially equal to each other and adjusting the positions of the respective ceramic elements appropriately. For example, when a regular quadrangular or rectangular closed loop is joined, heating is performed so that the elongation percentages of the ceramic elements forming one pair of opposite sides are substantially equal, and when a regular hexagonal closed loop is joined, The heating may be performed by setting the elongation rate of the ceramic element forming one pair of opposite sides to be different from that of the ceramic elements forming the other two pair of sides. Then, the misalignment generated at each butt portion can be eliminated by appropriately driving the clamp device to maintain the closed loop state.

【0034】また図6(A)及び(B)に示すように2
個のセラミックス素子を用いて閉ループ構造体を製造す
ることもできる。図6(A)の例では、I字状のセラミ
ックス素子33とコ字状のセラミックス素子34とを接
合する。また図6(B)の例では、コ字状のセラミック
ス素子35及び36を接合する。予備加熱では、これら
のセラミックス素子を組合せて作った未接合閉ループ構
造体を相似形を維持するように加熱し、本加熱では2つ
の突合せ部を同時に加熱する。
As shown in FIGS. 6A and 6B, 2
It is also possible to manufacture a closed loop structure using individual ceramic elements. In the example of FIG. 6A, the I-shaped ceramic element 33 and the U-shaped ceramic element 34 are joined. Further, in the example of FIG. 6B, the U-shaped ceramic elements 35 and 36 are joined. In the preheating, the unbonded closed loop structure made by combining these ceramic elements is heated so as to maintain the similar shape, and in the main heating, the two butt portions are simultaneously heated.

【0035】本発明の方法を実施する場合に用いる補助
加熱装置としては、あらゆるタイプの加熱装置を用いる
ことができるが、設置スペースや制御の簡素化の点か
ら、セラミックス素子からの距離を変えることなく突合
せ部からセラミックス素子に沿って離れるに従って放射
熱量を減少させることができる補助加熱装置を用いるこ
とが好ましい。図7(A)及び(B)は、本発明の方法
を実施する場合に用いるのに好適な補助加熱装置の概略
構成を示している。図7(A)において40が補助加熱
装置、50が主加熱装置、そして60がセラミックス素
子である。この補助加熱装置40は、ケース41内にガ
スバーナ、熱風発生器等の発熱源を備えており、ケース
41の上蓋には熱放出用の開口部42が形成されてい
る。この開口部42は主加熱装置50からセラミックス
素子60の長手方向に沿って離れるに従って開口幅が徐
々に狭くなっている。開口幅が狭くなるほどその部分か
ら放射される熱量が小さくなる。従って、このような開
口部42を設けることにより、補助加熱装置40とセラ
ミックス素子60との間の距離を変えることなく、また
複雑な制御を必要することなく、セラミックス素子60
に沿って徐々に放射熱量を変えることができる。図7
(B)に示した補助加熱装置40´は、前述の補助加熱
装置40と同じ内部構造を有しており、ケース41´の
上蓋に所定の間隔をあけて複数の開口部42´…が形成
されている点で相違する。各開口部42´…の直径は、
主加熱装置50からセラミックス素子60の長手方向に
沿って離れるに従って小さくなっている。開口部の直径
が小さくなるほどその開口部から放射される熱量が小さ
くなる。従って、このような開口部42´…を設けるこ
とによっても、補助加熱装置40とセラミックス素子6
0との間の距離を変えることなく、また複雑な制御を必
要することなく、セラミックス素子60に沿って徐々に
放射熱量を変えることができる。
Although any type of heating device can be used as the auxiliary heating device when carrying out the method of the present invention, the distance from the ceramic element can be changed in terms of installation space and simplification of control. Instead, it is preferable to use an auxiliary heating device that can reduce the amount of radiant heat as it goes away from the abutting portion along the ceramic element. 7 (A) and 7 (B) show a schematic configuration of an auxiliary heating device suitable for use when carrying out the method of the present invention. In FIG. 7A, 40 is an auxiliary heating device, 50 is a main heating device, and 60 is a ceramic element. The auxiliary heating device 40 includes a heat source such as a gas burner and a hot air generator in a case 41, and an opening 42 for releasing heat is formed in the upper lid of the case 41. The opening width of the opening 42 gradually becomes narrower as it goes away from the main heating device 50 along the longitudinal direction of the ceramic element 60. The smaller the opening width, the smaller the amount of heat radiated from that portion. Therefore, by providing such an opening 42, the ceramic element 60 does not have to change the distance between the auxiliary heating device 40 and the ceramic element 60 and does not require complicated control.
The amount of radiant heat can be gradually changed along. Figure 7
The auxiliary heating device 40 'shown in (B) has the same internal structure as the auxiliary heating device 40 described above, and a plurality of openings 42' ... Is formed at a predetermined interval on the upper lid of the case 41 '. It is different in that it is done. The diameter of each opening 42 '...
It becomes smaller as it goes away from the main heating device 50 along the longitudinal direction of the ceramic element 60. The smaller the diameter of the opening, the smaller the amount of heat radiated from the opening. Therefore, the auxiliary heating device 40 and the ceramic element 6 are also provided by providing such openings 42 '.
It is possible to gradually change the amount of radiant heat along the ceramic element 60 without changing the distance from 0 and without requiring complicated control.

【0036】主加熱に電気接合法を用いる場合で、絶縁
性のセラミックス素子を接合する場合には、導電性の接
合剤を用いたり、導電性セラミックスの両面に接合剤を
設けてなる加熱用インサート材を用いてもよいのは勿論
である。
When an electric bonding method is used for main heating and an insulating ceramic element is bonded, a conductive bonding agent is used, or a heating insert is prepared by providing a bonding agent on both surfaces of the conductive ceramics. Of course, a material may be used.

【0037】[0037]

【発明の効果】請求項1の発明によれば、セラミック素
子間に構成される各突合せ部の温度が適正接合温度に達
した際に、2以上のセラミックス素子の温度上昇による
伸び率が実質的に等しくなるように2以上のセラミック
ス素子を加熱するため、接合時点でずれ現象が発生する
のを抑制することができ、高い精度で閉ループ構造体を
製造できる。
According to the first aspect of the present invention, when the temperature of each butted portion formed between the ceramic elements reaches the proper joining temperature, the elongation rate of two or more ceramic elements due to the temperature rise is substantially increased. Since two or more ceramic elements are heated so as to be equal to, it is possible to suppress the occurrence of the shift phenomenon at the time of joining, and it is possible to manufacture the closed loop structure with high accuracy.

【0038】請求項2及び3の発明によれば、接合剤及
び加熱用インサート材を用いて高い精度で閉ループ構造
体を製造できる。
According to the second and third aspects of the present invention, the closed loop structure can be manufactured with high accuracy using the bonding agent and the heating insert material.

【0039】請求項4の発明によれば、セラミックス素
子からの距離を変えることなく突合せ部からセラミック
ス素子に沿って離れるに従って放射熱量を減少させるこ
とができる補助加熱手段を用いるため、制御対象物の数
を減らせることができ、接合時の制御が容易になる利点
がある。
According to the fourth aspect of the present invention, since the auxiliary heating means that can reduce the amount of radiant heat as the distance from the abutting portion moves along the ceramic element without changing the distance from the ceramic element, the number of control objects is reduced. There is an advantage that it can be reduced and control at the time of joining becomes easy.

【0040】請求項5の発明によれば、全ての対向する
一対の辺が平行になる偶数多角形状閉ループ構造体を製
造する場合に、全てのセラミックス素子の伸び率を実質
的に等しくしなくても偶数多角形状閉ループ構造体を製
造することができる利点がある。
According to the invention of claim 5, when manufacturing an even polygonal closed loop structure in which all the pair of opposing sides are parallel to each other, the elongation percentages of all the ceramic elements do not have to be substantially equal. Also has the advantage that an even polygonal shape closed loop structure can be manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】(A)は正四角形の閉ループ構造体を製造する
場合のセラミックス素子とクランプ装置との関係を模式
的に示す図であり、(B)はクランプ装置の概略構成図
であり、(C)はセラミックス素子に対する加熱装置と
通電電極の関係を概略的に示す図である。
FIG. 1A is a diagram schematically showing a relationship between a ceramics element and a clamp device in the case of manufacturing a square closed loop structure, and FIG. 1B is a schematic configuration diagram of the clamp device. C) is a diagram schematically showing the relationship between the heating device and the current-carrying electrodes for the ceramic element.

【図2】(A)は図1(A)の閉ループを接合する前の
状態と、接合中の状態と、接合後に冷却を行った状態と
を段階的に示す図であり、(B)は長方形の閉ループを
接合する前の状態と、接合中の状態と、接合後に冷却を
行った状態とを段階的に示す図であり、(C)は三角形
の閉ループを接合する前の状態と、接合中の状態と、接
合後に冷却を行った状態とを段階的に示す図である。
FIG. 2A is a diagram showing stepwise a state before joining the closed loop of FIG. 1A, a state during joining, and a state where cooling is performed after joining, and FIG. It is a figure which shows the state before joining a rectangular closed loop, the state during joining, and the state which cooled after joining stepwise, (C) shows the state before joining a triangular closed loop, and joining. It is a figure which shows the state inside and the state which cooled after joining stepwise.

【図3】(A)は正六角形の閉ループ構造体を製造する
場合のセラミックス素子とクランプ装置との関係を模式
的に示す図であり、(B)はクランプ装置の概略構成図
である。
FIG. 3A is a diagram schematically showing the relationship between a ceramic device and a clamp device when manufacturing a regular hexagonal closed loop structure, and FIG. 3B is a schematic configuration diagram of the clamp device.

【図4】(A)は円形閉ループ構造体を製造する場合の
セラミックス素子とクランプ装置との関係を模式的に示
す図であり、(B)は円形閉ループを接合する前の状態
と、接合中の状態と、接合後に冷却を行った状態とを段
階的に示す図である。
FIG. 4A is a diagram schematically showing a relationship between a ceramics element and a clamp device when manufacturing a circular closed loop structure, and FIG. 4B is a state before the circular closed loop is joined and a state during joining. It is a figure which shows the state of and the state which cooled after joining stepwise.

【図5】楕円形閉ループを接合する前の状態と、接合中
の状態と、接合後に冷却を行った状態とを段階的に示す
図である。
FIG. 5 is a diagram showing stepwise a state before joining the elliptical closed loops, a state during joining, and a state in which cooling is performed after joining.

【図6】(A)及び(B)は2個のセラミックス素子を
用いて閉ループ構造体を製造する場合の例を説明するた
めの図である。
6A and 6B are views for explaining an example of manufacturing a closed loop structure using two ceramic elements.

【図7】(A)及び(B)はそれぞれ補助加熱装置の例
を示す図である。
7 (A) and 7 (B) are diagrams showing examples of an auxiliary heating device.

【図8】(A),(B),(C)及び(D)はそれぞれ
既存の技術を用いてセラミックス製閉ループ構造体を製
造する場合に生じる問題を説明するための図である。
8 (A), (B), (C) and (D) are diagrams for explaining problems that occur when a ceramic closed loop structure is manufactured by using an existing technique.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1a〜1d,11a〜11f,21a〜21d,31a
〜31h セラミックス素子 2,12,22 接合剤 3〜6,13〜18,23〜26 クランプ装置 7,8 加熱通電ユニット装置 9 補助加熱装置
1a to 1d, 11a to 11f, 21a to 21d, 31a
~ 31h Ceramics element 2,12,22 Bonding agent 3-6,13-18,23-26 Clamping device 7,8 Heating energizing unit device 9 Auxiliary heating device

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 2以上のセラミックス素子を閉ループを
成すように接合してセラミックス製閉ループ構造体を製
造する方法であって、 温度上昇による各セラミックス素子の膨張及び温度低下
による各セラミックス素子の収縮が原因で生じる変形を
許容し且つ閉ループを構成するように前記2以上のセラ
ミックス素子を保持し、 隣接する前記セラミック素子間に構成される各突合せ部
の温度が適正接合温度に達した際に前記2以上のセラミ
ックス素子の温度上昇による伸び率が実質的に等しくな
るように前記2以上のセラミックス素子を加熱して前記
2以上のセラミックス素子間の接合を行うことを特徴と
するセラミックス製閉ループ構造体の製造方法。
1. A method for manufacturing a ceramic closed loop structure by joining two or more ceramic elements so as to form a closed loop, wherein expansion of each ceramic element due to temperature increase and contraction of each ceramic element due to temperature decrease. The two or more ceramic elements are held so as to allow the deformation caused by the cause and form a closed loop, and when the temperature of each abutting part formed between the adjacent ceramic elements reaches an appropriate joining temperature, A ceramic closed loop structure, characterized in that the two or more ceramic elements are heated to bond the two or more ceramic elements so that the elongation rates due to temperature rise of the ceramic elements are substantially equal. Production method.
【請求項2】 前記2以上のセラミックス素子の接合端
部間には前記適正接合温度まで加熱されると溶融する接
合剤が介在されて前記突合せ部が構成されている請求項
1に記載のセラミックス製閉ループ構造体の製造方法。
2. The ceramics according to claim 1, wherein a joining agent that melts when heated to the proper joining temperature is interposed between the joining ends of the two or more ceramic elements to form the butting portion. Method for manufacturing closed loop structure.
【請求項3】 前記2以上のセラミックス素子の接合端
部間には前記適正接合温度まで加熱されると溶融する接
合剤が導電性セラミックスの両面に設けられてなる加熱
用インサート材が配置されて前記突合せ部が構成され、 前記突合せ部の加熱を電気接合法により行う請求項1に
記載のセラミックス製閉ループ構造体の製造方法。
3. A heating insert material, in which a bonding agent that melts when heated to the proper bonding temperature is provided on both surfaces of the conductive ceramics is arranged between the bonding ends of the two or more ceramic elements. The method for manufacturing a ceramic closed loop structure according to claim 1, wherein the butt portion is configured, and heating of the butt portion is performed by an electric joining method.
【請求項4】 前記加熱には、前記突合せ部を加熱する
主加熱装置と一緒に、前記セラミックス素子からの距離
を変えることなく前記突合せ部から前記セラミックス素
子に沿って離れるに従って放射熱量を減少させることが
できる補助加熱装置を用いる請求項1,2または3に記
載のセラミックス製閉ループ構造体の製造方法。
4. In the heating, together with a main heating device for heating the butted portion, the amount of radiant heat is decreased as the distance from the butted portion along the ceramic element is increased without changing the distance from the ceramic element. The method for manufacturing a ceramic closed loop structure according to claim 1, wherein an auxiliary heating device that can be used is used.
【請求項5】 2以上のセラミックス素子を全ての対向
する一対の辺が平行になる偶数多角形状閉ループを成す
ようにセラミックス製閉ループ構造体を製造する方法で
あって、 温度上昇による各セラミックス素子の膨張及び温度低下
による各セラミックス素子の収縮が原因で生じる変形を
許容し且つ閉ループを構成するように前記2以上のセラ
ミックス素子を保持し、 隣接する前記セラミック素子間に構成される各突合せ部
の温度が適正接合温度に達した際に前記閉ループの少な
くとも一つの前記対向する一対の辺の温度上昇による伸
び率が実質的に等しくなるように前記2以上のセラミッ
クス素子を加熱し且つ前記各突合せ部にずれを生じさせ
ないようにして前記2以上のセラミックス素子間の接合
を行うことを特徴とするセラミックス製閉ループ構造体
の製造方法。
5. A method for producing a ceramic closed loop structure in which two or more ceramic elements form an even polygonal closed loop in which all opposing pairs of parallel sides are parallel to each other. The temperature of each butting portion formed between adjacent ceramic elements, which holds the two or more ceramic elements so as to form a closed loop while allowing deformation caused by expansion and contraction of each ceramic element due to temperature decrease. The two or more ceramic elements are heated so that the elongation rates of at least one of the pair of opposed sides of the closed loop due to the temperature rise become substantially equal when the temperature reaches an appropriate bonding temperature. Ceramics characterized in that the two or more ceramic elements are joined together without causing a displacement Method for manufacturing a loop structure.
【請求項6】 前記2以上のセラミックス素子の接合端
部間には前記適正接合温度まで加熱されると溶融する接
合剤が介在されて前記突合せ部が構成されている請求項
5に記載のセラミックス製閉ループ構造体の製造方法。
6. The ceramics according to claim 5, wherein a joining agent that melts when heated to the proper joining temperature is interposed between the joining ends of the two or more ceramic elements to form the butting portion. Method for manufacturing closed loop structure.
【請求項7】 前記2以上のセラミックス素子の接合端
部間には前記適正接合温度まで加熱されると溶融する接
合剤が導電性セラミックスの両面に設けられてなる加熱
用インサート材が配置されて前記突合せ部が構成され、 前記突合せ部の加熱を電気接合法により行う請求項5に
記載のセラミックス製閉ループ構造体の製造方法。
7. A heating insert material, in which a bonding agent that melts when heated to the proper bonding temperature is provided on both surfaces of a conductive ceramic, is disposed between the bonding ends of the two or more ceramic elements. The method for manufacturing a ceramic closed loop structure according to claim 5, wherein the butt portion is configured, and the butt portion is heated by an electric joining method.
【請求項8】 前記加熱には、前記突合せ部を加熱する
主加熱装置と一緒に、前記セラミックス素子からの距離
を変えることなく前記突合せ部から前記セラミックス素
子に沿って離れるに従って放射熱量を減少させることが
できる補助加熱装置を用いる請求項5,6または7に記
載のセラミックス製閉ループ構造体の製造方法。
8. In the heating, together with a main heating device for heating the butted portion, the amount of radiant heat is reduced as the distance from the butted portion is increased along the ceramic element without changing the distance from the ceramic element. The method for manufacturing a ceramic closed loop structure according to claim 5, 6 or 7, which uses an auxiliary heating device that can be used.
JP17647692A 1992-07-03 1992-07-03 Method for manufacturing ceramic closed loop structure Expired - Fee Related JP3281645B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17647692A JP3281645B2 (en) 1992-07-03 1992-07-03 Method for manufacturing ceramic closed loop structure

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17647692A JP3281645B2 (en) 1992-07-03 1992-07-03 Method for manufacturing ceramic closed loop structure

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0624853A true JPH0624853A (en) 1994-02-01
JP3281645B2 JP3281645B2 (en) 2002-05-13

Family

ID=16014343

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP17647692A Expired - Fee Related JP3281645B2 (en) 1992-07-03 1992-07-03 Method for manufacturing ceramic closed loop structure

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3281645B2 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7189148B2 (en) 2002-01-09 2007-03-13 Hoya Corporation Polishing apparatus
US7813059B2 (en) 2003-11-10 2010-10-12 Hoya Corporation Optical lens base with protective film and process for producing optical lens base
WO2012081157A1 (en) * 2010-12-15 2012-06-21 パナソニック株式会社 Method for manufacturing semi-finished blank for variable-focus lens

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7189148B2 (en) 2002-01-09 2007-03-13 Hoya Corporation Polishing apparatus
US7500903B2 (en) 2002-01-09 2009-03-10 Hoya Corporation Polishing apparatus
US7813059B2 (en) 2003-11-10 2010-10-12 Hoya Corporation Optical lens base with protective film and process for producing optical lens base
WO2012081157A1 (en) * 2010-12-15 2012-06-21 パナソニック株式会社 Method for manufacturing semi-finished blank for variable-focus lens
US8815045B2 (en) 2010-12-15 2014-08-26 Panasonic Healthcare Co., Ltd. Method for manufacturing semi-finished blank for varifocal lens

Also Published As

Publication number Publication date
JP3281645B2 (en) 2002-05-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0471865B2 (en)
JP2003026433A (en) Method of joining quartz glass member and joining equipment used for this method
JP2008030097A (en) High-pressure diffusion welding equipment
JP3281645B2 (en) Method for manufacturing ceramic closed loop structure
WO1992000257A1 (en) Method of electrically joining ceramics, device used therefor and adhesive agent therefor
CN113060931A (en) Method and device for high-temperature butt-extrusion welding of quartz glass component
JP2004174507A (en) Friction stir welding device, and friction stir welding method
JP5693075B2 (en) Manufacturing method of bent product and combustor
JP3876131B2 (en) MoSi2 arc heater and method and apparatus for manufacturing the same
KR101866730B1 (en) Process and device for connecting oxide-dispersed precious metal sheet using hammer welding
US20040056076A1 (en) Method of joining coiled sucker rod in the field
JPH0275478A (en) Method for joining bar materials
RU2449866C2 (en) Method of soldering and device to this end
JP3103124B2 (en) Electric joining method of ceramics
JP3447891B2 (en) How to join the end of the strip to a flat surface
JP6868733B1 (en) Manufacturing method and manufacturing equipment for joined articles
KR101675005B1 (en) High frequency heating equipment and method using the same
JP6882581B1 (en) Manufacturing method and manufacturing equipment for joined articles
JP2773257B2 (en) Electric bonding method between Si-containing silicon carbide ceramics
JPH01176282A (en) Method for electrically joining ceramics
JPH01226775A (en) Method for electrically bonding ceramic and heating member for bonding
JPH027006A (en) Discharge fusion splicing method of optical fiber
JPS62183331A (en) Joining method for filmy member
JPH05145122A (en) Thermo-electric conversion module joint jigs
JPH0262514B2 (en)

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080222

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090222

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 8

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100222

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees