JPH06246152A - 金属化合物粉体製造装置 - Google Patents

金属化合物粉体製造装置

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JPH06246152A
JPH06246152A JP5059310A JP5931093A JPH06246152A JP H06246152 A JPH06246152 A JP H06246152A JP 5059310 A JP5059310 A JP 5059310A JP 5931093 A JP5931093 A JP 5931093A JP H06246152 A JPH06246152 A JP H06246152A
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貴史 新子
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Nittetsu Mining Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 ファインセラミックスや磁性トナー、磁気記
録材料の原料として好適な、粒径1μm程度の金属化合
物粉体の製造に適した金属化合物製造装置を提供する。 【構成】 製造装置1は、加熱炉3と、内部に金属粉体
を初めとする原料粉体13及び粉砕媒体14が導入され
る反応容器2及び、反応容器2を回転させる回転駆動手
段4とから構成される。反応容器2には、ガス供給口5
を通じて反応性ガスやキャリアガスが流入し、排気口6
を通じて反応系外に流出される。原料粉体13は、反応
性ガスとの反応と同時に、粉砕媒体14により解砕ある
いは粉砕作用を受けるため、強制的に焼結が解かれ、粒
径1μm程度の金属化合物の粉体が多量に、しかも容易
に得られる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、金属化合物の製造装置
に関し、より詳細にはファインセラミックス原料粉体や
磁性トナー用原料粉体、磁気記録材料用原料粉体に好適
な金属化合物粉体の製造に適した装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、ファインセラミックスや磁性
トナー、磁気記録材料等の原料として、金属酸化物や金
属塩化物、金属窒化物等の金属化合物の粉体が、広く用
いられている。これらの金属化合物粉体を製造する装置
として、種々の構造を有する製造装置が提案、作成され
ている。
【0003】この種の製造装置の代表的なものは、ロー
タリキルン形の焼成装置である。これは、回転自在で、
一端に反応性ガスの供給口、他端に排気口を備える円筒
状の反応容器と、反応容器を取り囲むように配設された
加熱手段から構成され、金属粉体が装填された反応容器
を加熱手段により高温に保持し、反応容器を回転させな
がら酸化性ガスや窒化性ガス等の反応性ガスを導入する
ことにより、反応容器内部の金属粉体を、金属酸化物や
金属窒化物の粉体に変化させるものである。
【0004】また、上記焼成装置と同様の装置を用い
て、金属粉体の代わりに金属蒸気を、反応性ガスととも
に反応容器内に導入して金属化合物の微粉末を製造する
こともできる。この場合、金属蒸気を取り扱うために、
金属蒸気発生手段及び金属蒸気を反応容器内に導入する
ための供給手段を付加する必要がある。この装置は、主
に還元法により金属窒化物の粉体を製造する場合に用い
られ、反応容器内を還元性のガス雰囲気とし、金属蒸気
や金属塩化物の蒸気とアンモニアとを反応容器に導入し
て反応させて金属窒化物の粉体を生成する場合に好適に
使用される。
【0005】この他にも、例えば特開平2−16444
3号公報や、基礎粉体工学講座30、シリーズII(粉体
を扱う各種操作)第21章粉体の反応装置(1)、粉体工
学会誌、Vol.1、No.12(1991)、p.7
71−780に記載されているような、反応性ガスの供
給口及び排気口を備えるチャンバ(反応容器)に、高周
波の対向電極や誘導コイル、マイクロウェーブ空洞共振
器等のグロー放電プラズマ発生手段を配設した構造の製
造装置がある。このような製造装置を用いて、反応性ガ
ス雰囲気としたチャンバ内部にグロー放電プラズマを発
生させて、発生したグロー放電プラズマ中に金属粉末を
導入することにより金属化合物粉体を得ることができ
る。また、同様の装置を用いて、アーク放電発生手段に
よりチャンバ内部にアーク放電プラズマを発生させて、
このアーク放電プラズマによりチャンバ内部にチャージ
した金属を蒸発させて金属蒸気とし、これに反応性ガス
を供給することにより金属化合物粉体を得ることもでき
る。このようなプラズマ発生手段を備える装置を用いる
ことにより、粒径0.01μm程度の金属化合物の超微
粒子を製造することができる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】これらの装置により生
成される金属化合物の粉体は、最終製品の性能の点で
は、一般的にその粒径が小さい程好ましいとされている
が、逆に粒径が小さくなりすぎるとその加工性に問題が
生じてくる。例えば、磁性トナーでは磁性体粒子を樹脂
などで被覆あるいは樹脂と混練する必要があるが、この
とき粒子が小さすぎると磁性体粒子の充填率が下がり磁
化が小さくなったり、凝集により製品にバラツキが発生
する。
【0007】このように、金属化合物粉体は、その用途
に応じた好ましい粒径範囲があり、ファインセラミック
ス原料としては、平均粒径が0.2〜10μm程度、磁
性トナー用磁性粉体としては数μm以下、また磁気記録
材料としては0.5〜数μm程度であることが望まし
く、概ね平均粒径が1μm程度であれば、これらの用途
に共通して、しかも好適な材料として使用することがで
きることが知られている。
【0008】しかし、前記の製造装置では、粒径1μm
程度の金属化合物の微粉末を、効率良く、しかも安価に
得ることは困難であり、例えば、プラズマ発生手段を備
える装置を用いた場合には、粒径が0.01μmという
超微粉末を得ることができるものの、逆に1μm程度の
粒径のものを多量に得ることが難しく、また、金属や金
属塩化物の蒸気の還元に適した製造装置では、生成金属
化合物が数珠状の凝集体となり、単粒子が得られないと
いう問題を抱えている。
【0009】これら生成金属化合物の生産性や形状の問
題に加えて、プラズマを発生させたり、原料を一度蒸発
させたりする必要があるため、製造装置自体が高価にな
るとともに、反応条件の制御等の製造プロセスも複雑に
なり、結果的に製造コストが上昇し、製品として高価な
ものになっている。一方、ロータリキルン等の焼成装置
は、装置自体が安価であるとともに、これを使用して金
属化合物粉体を製造する際のプロセスや制御が簡易であ
るために、金属化合物粉体を、安価に、しかも多量に製
造することができるという利点を有するものの、処理で
きる金属粉体の粒径に制限があり、通常粒径が数μm〜
数十μm程度の粗粒粉末は処理することができるが、粒
径1μm程度の粉体を処理しようとすると、粉体は、そ
の表面エネルギーが大きいために、反応中に反応容器の
内壁面に付着したり、粒子同士が焼結を起こして大きな
粒塊となるという欠点も兼ね備えている。この焼結体と
なった粒塊は、硬度が高いために、1μm程度の粒径ま
で粉砕するには非常に長い時間を要するという、後処理
工程に大きな問題を残している。
【0010】このように、従来の製造装置では、ファイ
ンセラミックスや磁性トナー、磁気記録材料等の原料と
して好適な粒径1μm程度の金属化合物の微粉末を、安
価に、しかも効率良く得ることは困難であった。従っ
て、本発明の目的は、粒径1μm程度の微細な金属化合
物粉体を、多量にかつ、反応後の粉砕等の後処理を必要
せずに効率良く、しかも安価に生成することが可能な製
造装置を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、金属化合
物粉体の製造装置に関する上記課題を解決すべく改良を
重ねた結果、安価な製造装置である焼成装置に改良を加
え、反応性ガスとの反応中に生ずる金属化合物の焼結を
強制的に解くことにより、所望の粒径1μm程度の微細
な金属化合物の粉体を多量にかつ効率良く、しかも安価
に得ることができることを見出し、本発明を完成するに
至った。
【0012】即ち、前記課題は、ガスの供給口及び排出
口を備え、回転手段により回転される反応容器と、該反
応容器を取り囲むように配設される加熱手段とから構成
される金属化合物製造装置において、反応容器内部には
原料粉体とともに粉砕媒体が導入されることを特徴とす
る金属化合物製造装置により解決することができる。ま
た、同様の課題は、上記反応容器を、ガスの供給口及び
排出口を備え、回転手段により回転される反応外管と、
ガスの供給部及び排出部を備え、原料粉体及び粉砕媒体
が導入される反応室とから構成するともに、この反応室
を、反応外管内部に内挿して、反応外管の回転に伴い回
転させることを特徴とする金属化合物製造装置によって
も解決することができる。
【0013】これにより、粒径1μm程度の微細な金属
化合物粉体を、多量にかつ、反応後の粉砕等の後処理を
必要せずに効率良く、しかも安価に生成することが可能
な製造装置を提供することができる。
【0014】
【実施例】本発明に係る金属化合物粉体の製造装置に関
して、添付図面を参照して詳細に説明する。ただし、本
発明は以下に記載される実施例に限定されずに、種々の
変更が可能である。金属化合物粉体の製造装置1は、図
1に示されるように、鉄、チタン等の金属あるいはステ
ンレススチール、インコネル等の合金からなり、水平に
配置される円筒状の反応容器2と、反応容器2を取り囲
むように配設される加熱炉3及び、反応容器2を図中矢
印R方向に回転させるモータ等の回転駆動装置4とから
構成される。
【0015】反応容器2は、その一端にガス供給口5、
他端にガス排気口6を備え、ガス供給口5には、ガスボ
ンベ7に充填された反応性ガスやキャリアガス等を反応
容器2内に供給するための供給管8が連結され、ガス排
気口6には、反応容器2の内部に流入したガスを外部に
排出するための排気管9が連結されている。ガス供給口
5と供給管8との隙間及び、ガス排気口6と排気管9と
の隙間は、適当な密封手段によりシールされている。排
気管9から排出されたガスは、空冷トラップ10、油ト
ラップ11及び水トラップ12を通り、浄化されて系外
に排出される。
【0016】また、反応容器2の内部には、金属粉体1
3とともに粉砕媒体14が導入される。粉砕媒体14
は、金属粉体を初め金属酸化物など目的とする金属化合
物粉体の原料となる原料粉体13に汚染の影響を与え
ず、かつ熱的、機械的強度に優れた小球体や棒状体から
なり、それらを単独にあるいはそれらを組み合わせたも
のである。ここで、原料粉体13及び粉砕媒体14は、
加熱手段3の温度分布を考慮すると、反応性ガスとの反
応中に加熱手段3の長手方向略中央に位置することが好
ましいが、反応容器2の回転に伴って、導入された原料
粉体13及び粉砕媒体14が、反応容器全長にわたって
分散することを防ぐために、反応容器2の略中央部に適
当な間隔を置いて、隔壁15を反応容器2の内壁全周に
わたって立設してもよい。この場合、ガス供給管8及び
排気管9は、反応性ガスを効率良く供給及び排気するた
めに、隔壁15にできるだけ接近するように設ける。
【0017】原料粉体13及び粉砕媒体14の反応容器
2内部への導入方法としては、ガス供給口5あるいは排
気口6を通じて隔壁15間に導入してもよいし、あるい
は、反応容器2のガス供給口5を備える面あるいは排気
口6を備える全体を取り外し可能な構造として、これら
の面を取り外して形成される開口部から隔壁15間に導
入してもよい。
【0018】また、原料粉体13及び粉砕媒体14の導
入方法に関連して、図2に示されるように、反応容器2
のガス供給口5側に、原料粉体13が装填された原料粉
体導入部材16を、また排気口6側には、反応により生
成する金属化合物17を回収するための金属化合物受け
部材18を各々付設して、原料粉体13を金属粉体導入
部材16から反応容器2に導入して、図中矢印方向へ移
動させながら反応性ガスと反応させて金属化合物粉体1
7に転化し、生成物を金属化合物受け部材18に回収す
るという連続製造装置とすることも可能である。
【0019】この時、粉砕媒体14は、予め反応容器2
に内蔵させておいて、金属粉体13だけを反応容器2の
外部から導入してもよいし、あるいは、金属粉体導入部
材16と同様の粉砕媒体導入部材(図示せず)を付設し
て、反応容器2内部に導入してもよい。更に、原料粉体
13及び粉砕媒体14の図中矢印方向への移動を制御す
るために、反応容器2の内壁に制御板19を螺旋状に立
設してもよい。また、反応容器2を水平から適切な角度
に傾斜させることは、この連続化の作用効果を増大させ
るのに好適である。
【0020】本発明に係る金属化合物の製造装置の他の
例として、図3に示される構造のものがある。製造装置
1は、図1に示された装置とは反応容器2の構造が異な
る以外は同様である。反応容器2は、インコネル等の金
属または合金からなり、その一端にガス供給口5、他端
にガス排気口6を備える円筒状の反応外管20と、反応
外管20とは別体に形成される反応室21とから構成さ
れる。
【0021】反応室21は、反応外管20よりも小径の
円筒体で、その一端にガス供給部22、他端にガス排出
部23を備える。また、反応室21は、その内部に原料
粉体13とともに粉砕媒体14が装填され、既述した理
由により反応外管20の長手方向略中央に内挿される。
反応室21の反応容器2内部への導入方法は、反応外管
20のガス供給口5を備える面あるいは排気口6を備え
る面全体を取り外し可能な構造として、これらの面を取
り外して形成される開口部から反応外管20の内部に挿
入する。反応終了後の反応室21の取り出しも同様にし
て行われる。
【0022】また、反応室21を独立部材としたことに
より、複数の種類の原料粉体を別々の反応室に装填し
て、これらを同時に反応外管20内に並べて配置するこ
とにより、一度の処理により複数の種類の金属化合物を
得ることも可能である。反応容器2の回転は、反応外管
20を回転させることにより行われる。この反応外管2
0の回転に伴い、内挿された反応室21も回転する。こ
の時、反応室21の直径が反応外管20のそれよりも小
さいために、反応室21の方がより高速で回転し、これ
により原料粉体13と粉砕媒体14との接触がより促進
される。
【0023】反応外管20に設けられたガス供給口5に
は、ガスボンベ7からの反応性ガスやキャリアガス等を
反応外管20及びその内部に挿入された反応室21に供
給するための供給管8が連結され、ガス排気口6には、
流入ガスを外部に排出するための排気管9が連結されて
いる。ガス供給口5と供給管8との隙間及び、ガス排気
口6と排気管9との隙間は、適当な密封手段によりシー
ルされている。また、排気管9から排出されたガスは、
空冷トラップ10、油トラップ11及び水トラップ12
を通り、浄化されて系外に排出される。
【0024】上記構造の製造装置1を用いて、原料粉体
13及び粉砕媒体14を反応容器2あるいは反応室21
に導入して、反応温度の下、所定時間反応容器2あるい
は反応室21を回転させながら反応性ガスを流して、原
料粉体を所望の金属化合物に転化させることにより、金
属化合物粉体が得られる。反応中、原料粉体13並びに
生成する金属化合物粉体は、粉砕媒体14により、絶え
ず解砕あるいは粉砕作用を受けるために、焼結が強制的
に抑制され、所望の1μm程度の金属化合物の粉体が得
られる。
【0025】
【発明の効果】以上説明したとおり、本発明によると、
金属化合物の製造装置を、原料粉体と反応性ガスとの反
応と同時に、生成する金属化合物の粉砕を行う構造とし
たことにより、従来の装置では得られなかった粒径1μ
m程度の金属化合物の粉体を多量にかつ安価に製造する
ことができる。
【0026】また、反応容器を反応外管と反応室との2
部材から構成することにより、原料粉体及び粉砕媒体の
取扱いがより簡単になり、作業性や生産性を向上させる
ことができる。さらに、反応室22を独立部材としたこ
とにより、複数の種類の金属粉体を別々の反応室に装填
して、これらを同時に反応外管内に並べて配置すること
により、一度の処理により複数の種類の金属化合物粉体
を得ることも可能である。
【0027】加えて、反応容器を連続製造方式とした場
合には、金属粉体の連続処理が可能になり、生産性を向
上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係る金属化合物製造装置の一実施例
を示す図である。
【図2】 図1に示される金属化合物製造装置を連続製
造装置とした図である。
【図3】 本発明に係る金属化合物製造装置の他の実施
例を示す図である。
【符号の説明】
1 金属化合物製造装置 2 反応容器 3 加熱炉 4 回転駆動手段 5 ガス供給口 6 ガス排気口 7 ガスボンべ 8 ガス供給管 9 ガス排気管 10 空冷トラップ 11 油トラップ 12 水トラップ 13 原料粉体 14 粉砕媒体 15 隔壁 16 原料粉体導入部材 17 金属化合物粉体 18 金属化合物受け部材 19 制御板 20 反応外管 21 反応室 22 ガス供給部 23 ガス排出部
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 F27B 7/14 7516−4K

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ガスの供給口及び排出口を備え、回転手
    段により回転される反応容器と、該反応容器を取り囲む
    ように配設される加熱手段とから構成される金属化合物
    製造装置において、前記反応容器内部には原料粉体とと
    もに粉砕媒体が導入されることを特徴とする金属化合物
    製造装置。
  2. 【請求項2】 前記反応容器は、ガスの供給口及び排出
    口を備え、回転手段により回転される反応外管と、ガス
    の供給部及び排出部を備え、原料粉体及び粉砕媒体が導
    入される反応室とから構成されるとともに、前記反応室
    は、前記反応外管内部に出し入れ可能に内挿されて該反
    応外管の回転に伴い回転することを特徴とする請求項1
    に記載の金属化合物製造装置。
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