JPH06244532A - Exfoliating method for resist - Google Patents

Exfoliating method for resist

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JPH06244532A
JPH06244532A JP3086993A JP3086993A JPH06244532A JP H06244532 A JPH06244532 A JP H06244532A JP 3086993 A JP3086993 A JP 3086993A JP 3086993 A JP3086993 A JP 3086993A JP H06244532 A JPH06244532 A JP H06244532A
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JP
Japan
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resist
stripping
substrate
pattern
executed
Prior art date
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JP3086993A
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Japanese (ja)
Inventor
Kanji Yamamoto
寛二 山本
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Abstract

PURPOSE:To achieve that a resist film is not left on the surface of a wiring line or the like in a resist exfoliating process which is executed after an etching operation by a method wherein a scribing operation for a figure, a pattern or the like is executed to the surface of a resist to be exfoliated and a treatment by an exfoliating liquid is executed. CONSTITUTION:An organic compound-based, a nonmetal-based or a metal-based resist film 3 as an etching resist is formed on a substrate to be treated. Before the resist is exfoliated, a scribing operation for a figure, a pattern or the like is executed to the surface of the resist to be exfoliated. In the scribing operation, the combination of its slit width, its depth and its interval is contrived. Thereby, the penetration into the resist of an exfoliating liquid and the degree of the subdivision of exfoliated pieces of the resist can be adjusted. In a successive process, the substrate is immersed in the exfoliating liquid, and the exfoliating treatment of the resist is executed. Then, the exfoliating liquid from a part to which the scribing operation has been executed penetrates into the inside of the resist film in the substrate on which the scribing operation has been executed to the face of the resist, the exfoliation of the resist is promoted, and the resist film is stripped from a preform.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、レジストの剥離方法に
係り、特に、プリント回路基板におけるレジストの剥離
方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a resist stripping method, and more particularly to a resist stripping method for a printed circuit board.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、多層プリント配線板の製造工程
においては、配線パターン等のパターンを形成するため
に、目的に応じた各種のレジストが用いられ、パターン
形成後レジストの剥離が行われる。このレジストの剥離
は、使用したレジストの種類等により異なる方法により
行われる。
2. Description of the Related Art Generally, in the process of manufacturing a multilayer printed wiring board, various resists are used according to the purpose in order to form a pattern such as a wiring pattern, and the resist is peeled off after the pattern formation. This peeling of the resist is performed by different methods depending on the type of resist used and the like.

【0003】例えば、パターンめっき工法によるプリン
ト配線板の製造工程では、樹脂及び銅箔から形成される
複合材料である熱硬化性樹脂銅張積層板(以下、単に基
板という)に有機化合物系レジスト膜を形成した後、露
光を行ってパターンを形成している。その後、パターン
に半田めっきを行い、パターンとして残したい銅の必要
部分を、半田めっき等の金属系レジストの被膜で覆い、
エッチング工程で銅の溶解を防止するための保護を行
う。エッチング後の金属系レジストの剥離は、その金
属、この例では、半田を選択的に除去する剥離液を用い
て行われる。
For example, in a manufacturing process of a printed wiring board by a pattern plating method, an organic compound resist film is formed on a thermosetting resin copper clad laminate (hereinafter simply referred to as a substrate) which is a composite material formed of resin and copper foil. After forming, the pattern is formed by performing exposure. After that, solder plating is performed on the pattern, and the necessary portion of the copper to be left as the pattern is covered with a metal-based resist film such as solder plating,
Protection is provided to prevent copper dissolution during the etching process. The stripping of the metal-based resist after etching is performed using a stripping solution that selectively removes the metal, in this example, solder.

【0004】また、テンティング工法によるプリント配
線板の製造工程では、有機化合物系のレジストが用いら
れている。すなわち、この方法は、基板にレジスト膜を
形成した後露光を行ってパターン形成し、エッチング後
に有機化合物系レジストを剥離するものである。レジス
トの剥離は、レジストが溶剤タイプであれば塩化メチレ
ン、レジストが水溶性タイプであれば、水酸化ナトリウ
ムを使用して処理することにより行われる。
Also, in the manufacturing process of the printed wiring board by the tenting method, an organic compound type resist is used. That is, in this method, a resist film is formed on a substrate, then exposure is performed to form a pattern, and after etching, the organic compound-based resist is removed. The resist is peeled off by treating with methylene chloride if the resist is a solvent type and using sodium hydroxide if the resist is a water-soluble type.

【0005】そして、有機化合物系レジスト膜の除去
に、剥離液として強酸(酸の混合物)を用いる剥離方法
は、エッチングレジストとして金属系レジスト等が使用
され、レジスト膜の剥離後、水洗、乾燥する一連の処理
を実行するものである。
In the stripping method using a strong acid (mixture of acids) as a stripping solution for removing the organic compound type resist film, a metal type resist or the like is used as an etching resist. After stripping the resist film, it is washed with water and dried. It executes a series of processes.

【0006】また、レジスト膜を剥離する他の従来技術
として、例えば、特開平2−90172号公報等に記載
された技術が知られている。
As another conventional technique for removing the resist film, for example, the technique described in Japanese Patent Laid-Open No. 2-90172 is known.

【0007】この従来技術は、レジスト膜表面に真空中
でエキシマレーザー光を照射して、レジストを高度に架
橋、変質させ、このレジストパターンをアブレーション
(削磨)作用によって完全に分解、除去するというもの
である。
In this conventional technique, the resist film surface is irradiated with excimer laser light in a vacuum to highly crosslink and alter the resist, and the resist pattern is completely decomposed and removed by an ablation (polishing) action. It is a thing.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかし、一般に、前述
したような剥離液を使用する従来技術は、高度に架橋、
変質したレジストを完全に剥離することができないとい
う問題点を有している。
However, in general, the prior art using a stripping solution as described above is highly cross-linked,
There is a problem that the deteriorated resist cannot be completely peeled off.

【0009】一般に、基材への影響を最小限に抑え効率
よく完全にレジストの除去を行うための重要な要素は、 レジストの種類 剥離剤の種類 剥離設備の種類 レジストの硬化度及び密着程度 であり、レジスト膜の剥離は、これらを充分に勘案して
行う必要がある。前述の従来技術は、これらの要素を充
分に配慮することが困難であり、レジストの剥離条件に
バラツキを生じさせ、レジストの除去を完全に行うこと
が困難なものである。
Generally, the important factors for efficiently and completely removing the resist while minimizing the influence on the substrate are the type of resist, the type of stripping agent, the type of stripping equipment, the degree of curing and the degree of adhesion of the resist. Therefore, it is necessary to take these into consideration when peeling the resist film. In the above-mentioned conventional technology, it is difficult to fully consider these factors, and it is difficult to completely remove the resist by causing variations in the resist stripping conditions.

【0010】レジストとして金属が使用された場合のレ
ジストの剥離は、金属レジストが、剥離液に侵食されに
くい被膜をライン表面に形成しており、また、有機物
系、非金属系レジスト等の他のレジストに比べて強固で
あるので、剥離性が悪く、金属レジストをライン表面に
残してしまうという問題点を有している。
When a metal is used as the resist, the resist is peeled off because the metal resist forms a film on the line surface that is not easily corroded by a peeling solution, and other resists such as organic and non-metal resists are used. Since it is stronger than the resist, it has a problem that the peelability is poor and the metal resist is left on the line surface.

【0011】また、アルカリタイプのレジストが使用さ
れた場合のレジストの剥離は、剥離液としてアルカリ溶
液を使用して行われるが、この場合剥離液であるアルカ
リ溶液の濃度よって剥離時間が大きく変化し、レジスト
の剥離片の大きさが変わる場合があり、剥離片の効率的
な除去が困難であるという問題点を有している。
When an alkali type resist is used, the resist is stripped using an alkaline solution as a stripping solution. In this case, the stripping time greatly changes depending on the concentration of the alkaline solution which is the stripping solution. However, the size of the peeled pieces of the resist may change, and it is difficult to remove the peeled pieces efficiently.

【0012】この剥離方法は、剥離液の温度も剥離時間
に大きな影響を与え、通常、剥離作業条件として、40
℃〜50℃で行われる。そして、この方法は、処理温度
が高いと剥離時間を短くすることができるが、銅表面に
アルカリ焼けを生じさせ、黒色被膜を生じさせることが
あるという問題点を有すると共に、フェノール、ポリイ
ミド等のある種の基材を、アルカリ性剥離液により変質
させるという問題点を有している。
In this peeling method, the temperature of the peeling liquid also has a great influence on the peeling time.
It is carried out at 50 ° C to 50 ° C. And, this method can shorten the peeling time when the treatment temperature is high, but it has a problem that it causes alkaline burning on the copper surface, which may cause a black coating, and phenol, polyimide, etc. There is a problem that a certain type of substrate is denatured by an alkaline stripping solution.

【0013】溶剤タイプレジストの剥離は、塩素系有機
溶剤である塩化メチレンを使用する方法が用いられる
が、塩素系有機溶剤がエポキシ樹脂を侵す可能性があ
り、短時間のうちにレジストを除去する必要があるとい
う問題点を有している。
A method using methylene chloride, which is a chlorine-based organic solvent, is used for peeling the solvent-type resist, but the chlorine-based organic solvent may attack the epoxy resin, and the resist is removed in a short time. It has a problem that it is necessary.

【0014】さらに、強酸を用いたレジストの剥離方法
があるが、この方法は、剥離液として濃硫酸等を使用す
るため、レジストが比較的大きな薄片またはシート状で
剥離され、剥離設備において剥離片を効率的に回収する
ことが困難であるという問題点を有している。
Further, there is a method of stripping a resist using a strong acid. However, since this method uses concentrated sulfuric acid or the like as a stripping solution, the resist is stripped in a relatively large thin piece or sheet, and stripping pieces are stripped in stripping equipment. However, there is a problem that it is difficult to efficiently recover.

【0015】前述したように、有機化合物系、非金属、
金属系等のレジストの剥離に使用する剥離液は、その種
類が多い。そして、有機化合物系レジストの剥離には、
塩化メチレン等の塩素系有機溶剤、水酸化ナトリウム等
のアルカリ溶液が使用され、非金属、金属系レジストの
剥離には、硫酸等の強酸、その金属を選択的に除去する
剥離液が用いられる。
As described above, organic compound type, non-metal,
There are many types of stripping solutions used for stripping metal-based resists. And for peeling the organic compound-based resist,
A chlorine-based organic solvent such as methylene chloride or an alkaline solution such as sodium hydroxide is used, and a strong acid such as sulfuric acid or a stripping solution for selectively removing the metal is used for stripping a non-metal or metal-based resist.

【0016】このように、剥離液を使用するレジストの
剥離方法は、剥離液の選択が多岐に渡り、しかも、これ
らの剥離液の中には、地球環境問題に関連して、使用が
制限されてきている塩素系有機溶剤などの薬品が含まれ
ているという問題点を有している。
As described above, in the resist stripping method using the stripping solution, there are various choices of stripping solutions, and the use of these stripping solutions is restricted in relation to global environmental problems. It has a problem that it contains chemicals such as chlorine-based organic solvents that have been used.

【0017】また、プラズマを用いた剥離方法は、プラ
ズマ雰囲気にレジストをさらすことにより、450℃〜
550℃の温度でレジストを灰化して剥離するが、レジ
ストの硬化度及び密着の程度によって、剥離条件を異な
らせる必要があるという問題点を有している。そして、
プラズマは、スミア除去、レジスト剥離後の基板上に分
散している微細なレジスト片の除去等に使用されてい
る。このため、プラズマを使用する方法は、基材が有機
材であるプリント配線板への適用が困難であり実用性に
乏しいという問題点を有している。
Further, in the peeling method using plasma, by exposing the resist to a plasma atmosphere, a temperature of 450.degree.
Although the resist is ashed and peeled at a temperature of 550 ° C., there is a problem in that peeling conditions need to be changed depending on the degree of curing and adhesion of the resist. And
Plasma is used for smear removal, removal of fine resist pieces dispersed on the substrate after resist removal, and the like. For this reason, the method using plasma has a problem that it is difficult to apply to a printed wiring board whose base material is an organic material and is not practical.

【0018】すなわち、プラズマを使用するレジストの
剥離方法は、レジストの剥離工程における処理条件の選
択が煩雑で困難であり、安定したプリント配線板生産の
障害になるという問題点を有している。
That is, the resist stripping method using plasma has a problem that the selection of processing conditions in the resist stripping step is complicated and difficult, which hinders stable production of printed wiring boards.

【0019】この発明の目的は、前述した従来技術の問
題点を解決し、エッチング後に行うレジストの剥離工程
において、レジスト膜が配線ライン等の表面に残らない
ようにしたレジストの剥離方法を提供することにある。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art and to provide a resist stripping method in which a resist film is not left on the surface of a wiring line or the like in a resist stripping step performed after etching. Especially.

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】本発明によれば前記目的
は、有機化合物系、非金属系及び金属系のレジストを剥
離する方法において、剥離すべきレジストの表面に図
形、模様等のけがきを施すことにより達成される。
According to the present invention, the above-mentioned object is a method for removing organic compound-based, non-metal-based and metal-based resists, and markings such as figures and patterns on the surface of the resist to be removed. It is achieved by applying.

【0021】レジストの剥離条件は、レジストの種類、
剥離剤の種類、剥離設備の種類、レジストの硬化度及び
密着程度等により左右されるが、レジストに図形、模様
等のけがきを施すことにより、また、そのけがきのスリ
ットの幅と深さとの組合せを工夫することにより、剥離
条件のバラツキを解消し、基材への影響を最小限に抑え
て、レジストの剥離を効率良く行うことができる。
The resist stripping conditions are as follows:
It depends on the type of stripping agent, the type of stripping equipment, the degree of curing of the resist, the degree of adhesion, etc., but by marking the resist with figures, patterns, etc. By devising the combination of the above, it is possible to eliminate the variation in the stripping condition, minimize the influence on the base material, and efficiently strip the resist.

【0022】[0022]

【作用】本発明によるレジストの剥離は、従来と同様に
レジスト膜を形成した後、露光を行ってパターン形成し
エッチングを行った後に実行される。処理基板には、エ
ッチングレジストとして、有機化合物系、非金属及び金
属系のレジストが形成されている。
The stripping of the resist according to the present invention is carried out after the resist film has been formed in the same manner as in the conventional case, and then exposed to form a pattern and etched. Organic compound-based, non-metal and metal-based resists are formed on the processed substrate as etching resists.

【0023】レジストの剥離前、剥離するレジストの表
面に図形、模様等のけがきを施す。このけがきは、その
スリットの幅、深さ、間隔の組合せが工夫され、これに
より、剥離液のレジストへの浸透とレジストの剥離片の
細分化の度合いとを調整することができる。
Before the resist is peeled off, the surface of the resist to be peeled off is scribed with figures, patterns and the like. In this scribe, the combination of the width, depth and interval of the slit is devised, whereby the penetration of the stripping solution into the resist and the degree of fragmentation of the stripped pieces of the resist can be adjusted.

【0024】続く工程で、基板を剥離液に浸漬すること
によるレジストの剥離処理を行うと、レジスト面にけが
きが施された基板は、そのけがきの施された個所からの
剥離液がレジスト膜の内部に浸透することにより、レジ
ストの剥離が促進され、レジストの被膜が母材(この場
合は銅)より剥離される。
In the subsequent step, when the resist is stripped by immersing the substrate in the stripping solution, the substrate having the resist surface marked is marked with the stripping solution from the scratched portion. By penetrating into the inside of the film, the peeling of the resist is promoted and the resist coating is peeled from the base material (in this case, copper).

【0025】[0025]

【実施例】以下、本発明によるレジストの剥離方法の一
実施例を図面により詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a resist stripping method according to the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

【0026】図1は本発明の一実施例を説明する図であ
る。図1において、1はレジスト膜、2は銅箔、3は基
材である。
FIG. 1 is a diagram for explaining an embodiment of the present invention. In FIG. 1, 1 is a resist film, 2 is a copper foil, and 3 is a base material.

【0027】図1に示す本発明の一実施例の方法は、テ
ンティング工法によりプリント配線基板を作成する工程
に本発明を適用した例であり、以下、図1を参照して、
本発明によるレジストの剥離方法を含むプリント配線基
板の製造工程を説明する。
The method of one embodiment of the present invention shown in FIG. 1 is an example in which the present invention is applied to a step of producing a printed wiring board by a tenting method. Hereinafter, referring to FIG.
A process for manufacturing a printed wiring board including the method for removing a resist according to the present invention will be described.

【0028】(1)テンティング工法により、配線等の
パターンを形成する基板として、基材3、銅箔2が積層
された被処理基板を用意する。この基板の銅箔2上にレ
ジストを塗布し、レジスト膜1を形成する。レジストと
して、例えば、デュポン社製の溶剤タイプレジストT−
1220を用いる〔図1(a)〕。
(1) As a substrate on which a pattern such as wiring is formed by the tenting method, a substrate to be processed in which a base material 3 and a copper foil 2 are laminated is prepared. A resist is applied on the copper foil 2 of this substrate to form a resist film 1. As the resist, for example, a solvent type resist T- manufactured by DuPont
1220 is used [FIG. 1 (a)].

【0029】(2)配線パターン等のパターンを露光し
て、レジスト膜によるパターンを形成する〔図1
(b)〕。
(2) A pattern such as a wiring pattern is exposed to form a pattern of a resist film [FIG.
(B)].

【0030】(3)エッチングによりレジスト膜による
パターンが存在する部分以外の銅箔2を除去する。これ
により、その上部表面にレジストが残った銅箔のパター
ンが形成される〔図1(c)〕。
(3) The copper foil 2 other than the portion where the pattern of the resist film is present is removed by etching. As a result, a pattern of the copper foil with the resist remaining on its upper surface is formed [FIG. 1 (c)].

【0031】(4)パターン上のレジスト表面にカッタ
ー、レーザー光等により、スリットの幅150μm、ス
リットの間隔500μm、スリットの深さ50μmのけ
がきを格子状に施す〔図1(d)〕。
(4) Scribing with a slit width of 150 μm, a slit interval of 500 μm, and a slit depth of 50 μm is applied in a grid pattern on the resist surface on the pattern with a cutter, a laser beam or the like [FIG. 1 (d)].

【0032】(5)けがきの処理を終了した配線基板を
レジスト剥離液、本発明の一実施例では塩化メチレン液
に浸漬して、パターン上のレジスト膜1を剥離し、乾燥
する。これにより、銅パターンを持つ配線板が完成する
〔図1(e)〕。
(5) The wiring board which has been subjected to the scribing process is immersed in a resist stripping solution, which is a methylene chloride solution in one embodiment of the present invention, to strip the resist film 1 on the pattern and dry it. As a result, a wiring board having a copper pattern is completed [Fig. 1 (e)].

【0033】前述した本発明の一実施例において、パタ
ーン上のレジスト表面へのけがきを、カッター、レーザ
ー光等により行うとしたが、けかきは、切断、穴明け、
研磨、溶融、気化及びマーキングを含む加工方法により
行うことができ、また、けがき針、切断機、ナイフ等を
使用して行うことができる。
In the above-described one embodiment of the present invention, the marking on the resist surface on the pattern was carried out by a cutter, a laser beam or the like.
It can be carried out by a processing method including polishing, melting, vaporization and marking, and can also be carried out by using a scribing needle, a cutting machine, a knife or the like.

【0034】また、けがきのスリット幅、スリット間
隔、スリット深さは、使用レジストの種類、剥離液の種
類等に応じて、任意に設定することができる。スリット
の深さは、レジスト膜1の下部の銅箔2の表面に届く深
さ、すなわち、レジスト膜1の厚さに相当する深さが最
適であるが、銅箔2の表面に対する傷が、処理後に問題
となるような場合には、この深さより僅かに浅くしても
よい。
Further, the slit width, the slit interval, and the slit depth of the scribe can be arbitrarily set according to the type of resist used, the type of stripping solution, and the like. The depth of the slit is optimal to reach the surface of the copper foil 2 below the resist film 1, that is, the depth corresponding to the thickness of the resist film 1, but scratches on the surface of the copper foil 2 are The depth may be slightly shallower than this depth if a problem occurs after the treatment.

【0035】そして、このけがきは、立体・面・線・点
及びこれらの若干が集まった、その要素が総て同一平面
上にある平面図形、あるいは、その要素が総て同一平面
上にない立面図形、あるいは、染物、織物、縫物、彫刻
等を作り出す種々の形象、かた、紋、文彩、物の形を模
案化模様等になるように形成される。
In this scribing, a solid figure, a plane, a line, a point, and some of these are gathered, a plane figure whose elements are all on the same plane, or the elements are not all on the same plane. Elevated figures, or various shapes that create dyes, fabrics, sewing, sculptures, etc., are formed so that shapes of patterns, patterns, patterns, objects, etc. are patterned patterns.

【0036】また、前述した本発明の一実施例は、1つ
のパターン上のレジスト膜を剥離することについて図面
により説明したが、本発明は、基板全体のレジスト膜上
にけがきを施して、レジストの剥離を行うことができ
る。
In addition, although the above-described embodiment of the present invention has been described with reference to the drawings in which the resist film on one pattern is peeled off, the present invention shows that the resist film on the entire substrate is scribed, The resist can be stripped.

【0037】この場合、被処理基板の周辺部とそれ以外
の部分とにおける前述の図形、模様等の細かさ、すなわ
ち、スリットの線密度を変化させる、例えば、基板の周
辺部のけがき密度を中央部より高くすることにより、被
処理基板全体のレジストの剥離時間を均一にするように
することができる。
In this case, the fineness of the above-mentioned figures, patterns, etc., that is, the linear density of the slits in the peripheral portion of the substrate to be processed and other portions is changed, for example, the scribing density in the peripheral portion of the substrate is changed. By making the height higher than the central portion, it is possible to make the resist stripping time uniform over the entire substrate to be processed.

【0038】前述した本発明の一実施例によれば、プリ
ント配線基板等の製造工程におけるレジストの剥離にお
いて、有機化合物系、非金属系及び金属系レジストに図
形、模様等のけがきを施すことにより、また、そのけが
きのスリット幅、スリット間隔、スリット深さの組合せ
を工夫することにより、レジストの剥離条件のバラツキ
を解消し、剥離液の基材への影響を最小限に抑えて、レ
ジストの剥離を効率良く完全に行うことができる。
According to the above-described embodiment of the present invention, when the resist is peeled off in the manufacturing process of the printed wiring board or the like, the organic compound type, non-metal type and metal type resists are marked with figures, patterns and the like. By also, by devising the combination of the slit width of the scribe, the slit interval, and the slit depth, the variation in the stripping condition of the resist is eliminated, and the influence of the stripping solution on the substrate is minimized. The resist can be stripped efficiently and completely.

【0039】これにより、本発明の一実施例は、レジス
ト被膜を基板上に残存させることがないため、多層プリ
ント配線板等の信頼性を損なう要因を未然に除去するこ
とができ、また、地球環境問題にかかわる塩素系有機溶
剤及びのその他の薬剤の使用量を削減することができ
る。
As a result, in one embodiment of the present invention, since the resist coating does not remain on the substrate, it is possible to eliminate factors that impair the reliability of the multilayer printed wiring board, etc. It is possible to reduce the amount of chlorine-based organic solvents and other chemicals used that are related to environmental problems.

【0040】前述した本発明の一実施例は、本発明をテ
ンティング法による基板の製造に適用したものとして説
明したが、本発明は、パターンめっき法による基板の製
造にも適用することができる。
Although the above-described embodiment of the present invention has been described as being applied to the production of the substrate by the tenting method, the present invention can also be applied to the production of the substrate by the pattern plating method. .

【0041】[0041]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、エ
ッチング後に行うレジストの剥離工程において、レジス
ト膜が配線ライン等の表面に残らないように完全にレジ
ストを剥離することができる。
As described above, according to the present invention, in the resist stripping process performed after etching, the resist can be stripped completely so that the resist film does not remain on the surface of the wiring line or the like.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例を説明する図である。FIG. 1 is a diagram illustrating an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 レジスト膜 2 銅箔 3 基材 1 Resist film 2 Copper foil 3 Base material

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 有機物系、非金属系あるいは金属系のレ
ジストを剥離するレジスト剥離方法において、剥離すべ
きレジストの表面に図形、模様等のけがきを施し、剥離
液による処理を行うことを特徴とするレジストの剥離方
法。
1. A resist stripping method for stripping an organic, non-metallic or metallic resist, wherein the surface of the resist to be stripped is marked with a figure, pattern or the like and treated with a stripping solution. And a method for removing the resist.
【請求項2】 前記けがきは、切断、穴明け、研磨、溶
融、気化あるいはマーキングを含む加工方法により、カ
ッター、レーザー光、けがき針、切断機、ナイフ等使用
して施すこと特徴とする請求項1記載のレジストの剥離
方法。
2. The scribing is performed by a processing method including cutting, punching, polishing, melting, vaporizing or marking, using a cutter, a laser beam, a scribing needle, a cutting machine, a knife or the like. The method of stripping a resist according to claim 1.
【請求項3】 前記けがきは、立体・面・線・点及びこ
れらの若干が集まった、その要素が総て同一平面上にあ
る平面図形、あるいは、その要素が総て同一平面上にな
い立面図形、あるいは、染物、織物、縫物、彫刻等を作
り出す種々の形象、かた、紋、文彩、物の形を模案化し
た模様になるように形成されることを特徴とする請求項
1または2記載のレジストの剥離方法。
3. The scribing is a plane figure in which solids, planes, lines, points, and some of these are gathered, all the elements of which are on the same plane, or the elements are not all on the same plane. It is characterized by being formed into an elevational figure or various patterns that create dyes, fabrics, sewing, sculptures, etc., patterns, patterns, patterns, patterns The method for stripping a resist according to claim 1.
【請求項4】 前記けがきは、そのスリットの幅、スリ
ットの間隔、スリットの深さが任意に設定されることを
特徴とする請求項1、2または3記載のレジストの剥離
方法。
4. The resist stripping method according to claim 1, wherein the scribe has the slit width, slit spacing, and slit depth set arbitrarily.
【請求項5】 前記けがきは、被処理物である基板内の
位置により、そのけがき密度が異なったものとされるこ
とを特徴とする請求項1ないし4のうち1記載のレジス
トの剥離方法。
5. The resist stripping according to claim 1, wherein the scribes have different scribe densities depending on the position in the substrate which is the object to be treated. Method.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007173546A (en) * 2005-12-22 2007-07-05 Matsushita Electric Works Ltd Process for fabricating three-dimensional circuit board

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2007173546A (en) * 2005-12-22 2007-07-05 Matsushita Electric Works Ltd Process for fabricating three-dimensional circuit board

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