JPH06244478A - Laser gas mixer - Google Patents
Laser gas mixerInfo
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- JPH06244478A JPH06244478A JP2554893A JP2554893A JPH06244478A JP H06244478 A JPH06244478 A JP H06244478A JP 2554893 A JP2554893 A JP 2554893A JP 2554893 A JP2554893 A JP 2554893A JP H06244478 A JPH06244478 A JP H06244478A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明はレーザ発振器にレーザガ
スを供給するレーザガス混合装置に関し、特に２種類以
上の単組成ガスを混合してレーザガスを生成するレーザ
ガス混合装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser gas mixing apparatus for supplying a laser gas to a laser oscillator, and more particularly to a laser gas mixing apparatus for mixing two or more kinds of single composition gases to generate a laser gas.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来のレーザガス混合装置を図４に示
す。図において、レーザガス混合装置１０１は炭酸ガス
レーザ用である。このレーザガス混合装置１０１には、
レーザガスを構成する単組成ガス、ここでは窒素ガス、
ヘリウムガス及び炭酸ガスの３種類についての３系統の
ガス流路１０１ａ、１０１ｂ及び１０１ｃが設けられて
いる。2. Description of the Related Art A conventional laser gas mixing apparatus is shown in FIG. In the figure, a laser gas mixing device 101 is for a carbon dioxide laser. In this laser gas mixing device 101,
A single composition gas that constitutes the laser gas, here nitrogen gas,
Three gas flow paths 101a, 101b, and 101c for three types of helium gas and carbon dioxide gas are provided.
【０００３】窒素ガスはここでは図示されていないガス
ボンベから供給される。そのガスボンベのレギュレータ
でゲージ圧５ｋｇｆ／ｃｍ2 に減圧された窒素ガスは、
ガス流路１０１ａの入口ポート１０２ａに流入し、ガス
フィルタ１０３ａでゴミが取り除かれた後、質量ガス流
量計（マスフローメータ）１０５ａ及び電磁弁１０６ａ
を経由して出口ポート１０７に達する。一方、ヘリウム
ガス及び炭酸ガスについても、同様にガス流路１０１ｂ
及び１０１ｃを通って出口ポート１０７に達する。これ
ら３種類の単組成ガスは、出口ポート１０７の手前で合
流して混合され、出口ポート１０７からレーザ発振器５
０に供給される。このとき、質量ガス制御装置１０８
は、質量ガス流量計１０５ａ、１０５ｂ及び１０５ｃか
らの検出信号を受けて、それぞれのガス流量が所定の設
定流量に収まるように電磁弁１０６ａ、１０６ｂ及び１
０６ｃの弁開度を制御する。窒素ガス等の各設定流量
は、レーザガスの組成比により決められている。Nitrogen gas is supplied from a gas cylinder (not shown). Nitrogen gas reduced to a gauge pressure of 5 kgf / cm 2 with the regulator of the gas cylinder,
The mass gas flow meter (mass flow meter) 105a and the solenoid valve 106a flow into the inlet port 102a of the gas flow path 101a and the dust is removed by the gas filter 103a.
To reach the exit port 107 via. On the other hand, also for helium gas and carbon dioxide gas, the gas flow passage 101b is similarly formed.
And 101c to reach the exit port 107. These three kinds of single composition gases are merged and mixed before the exit port 107, and the laser oscillator 5 is fed from the exit port 107.
Supplied to zero. At this time, the mass gas control device 108
Receives the detection signals from the mass gas flow meters 105a, 105b, and 105c, and sets the solenoid valves 106a, 106b, and 1 so that the respective gas flow rates fall within a predetermined set flow rate.
The valve opening degree of 06c is controlled. Each set flow rate of nitrogen gas or the like is determined by the composition ratio of the laser gas.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかし、質量ガス制御
装置１０８は質量ガス流量計と電磁弁との組合せでガス
流量を制御しているため、その流量制御は、例えばガス
導入開始時とその後の安定供給時との間で生じるガスボ
ンベからの単組成ガスの流量変動に直ちに追随すること
ができず、その流量変動による影響を受けてしまう。こ
のため、各単組成ガスの流量制御の精度が数％Ｆ．Ｓ．
となる。この数％Ｆ．Ｓ．の流量制御の精度は、各単組
成ガスについて独立に生じ、最終的にレーザガスを構成
する各単組成ガスの混合比率が、比較的大きな幅で時間
とともに変動することになる。However, since the mass gas control device 108 controls the gas flow rate by the combination of the mass gas flow meter and the solenoid valve, the flow rate control is performed at the start of gas introduction and after that, for example. It is not possible to immediately follow the flow rate fluctuation of the single composition gas from the gas cylinder that occurs between the time of stable supply and the flow rate fluctuation. Therefore, the accuracy of the flow rate control of each single composition gas is several% F.S. S.
Becomes This few% F.S. S. The accuracy of the flow rate control is independently generated for each single composition gas, and finally, the mixing ratio of the single composition gases forming the laser gas fluctuates with a relatively large width over time.
【０００５】したがって、上記従来のレーザガス混合装
置１０１では、組成比が不安定なレーザガスをレーザ発
振器に供給してしまうという問題点を有していた。特に
高周波励起レーザ装置において組成比が不安定なレーザ
ガスが供給された場合、放電特性が不安定になりレーザ
出力の安定性が低下する。Therefore, the conventional laser gas mixing apparatus 101 has a problem that the laser gas having an unstable composition ratio is supplied to the laser oscillator. Particularly, when a laser gas having an unstable composition ratio is supplied to the high-frequency pump laser device, the discharge characteristic becomes unstable and the stability of the laser output is reduced.
【０００６】本発明はこのような点に鑑みてなされたも
のであり、レーザガスの混合比率が時間とともに変動す
ることなく、組成比の安定したレーザガスを供給するこ
とができるレーザガス混合装置を提供することを目的と
する。The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a laser gas mixing apparatus capable of supplying a laser gas having a stable composition ratio without changing the mixing ratio of the laser gas with time. With the goal.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明では上記課題を解
決するために、単組成ガスを混合してレーザガスを生成
しレーザ発振器に供給するレーザガス混合装置におい
て、前記レーザガスを構成する各々の単組成ガスを送り
出す単組成ガス供給部と、前記単組成ガス供給部から送
り出された前記単組成ガスのオンオフを行なう単組成ガ
ス導入部と、前記単組成ガス導入部を経由して順次供給
された前記単組成ガスを収容し混合するレーザガス混合
部と、前記単組成ガスのガス分圧が生成レーザガスの全
圧力と単組成ガスのレーザガス組成比の積で求めた所定
の単組成ガス分圧に達するまで前記単組成ガス導入部を
オンして前記単組成ガスを前記レーザガス混合部内に順
次注入し、各単組成ガスのガス分圧の累積によって所定
レーザガス組成比のレーザガスを前記レーザガス混合部
内に生成しレーザ発振器に供給するレーザガス制御部
と、を有することを特徴とするレーザガス混合装置が、
提供される。According to the present invention, in order to solve the above-mentioned problems, in a laser gas mixing device for mixing a single composition gas to generate a laser gas and supplying the laser gas to a laser oscillator, each single composition constituting the laser gas. A single-composition gas supply unit that sends out a gas, a single-composition gas introduction unit that turns on and off the single-composition gas supplied from the single-composition gas supply unit, and the single composition gas that is sequentially supplied via the single-composition gas introduction unit A laser gas mixing section for accommodating and mixing the single composition gas, until the gas partial pressure of the single composition gas reaches a predetermined single composition gas partial pressure obtained by the product of the total pressure of the generated laser gas and the laser gas composition ratio of the single composition gas. The single composition gas introduction section is turned on to sequentially inject the single composition gas into the laser gas mixing section, and the predetermined laser gas composition ratio is obtained by accumulating the gas partial pressures of the respective single composition gases. A laser gas control unit for supplying the generated laser oscillator to the laser gas mixture portion Zagasu, laser gas mixing device and having a,
Provided.
【０００８】[0008]
【作用】単組成ガス供給部は、レーザガスを構成する各
々の単組成ガスを送り出す。単組成ガス導入部は、その
単組成ガス供給部から送り出された単組成ガスのオンオ
フを行なう。レーザガス混合部は、単組成ガス導入部を
経由して順次供給された各単組成ガスを収容し混合す
る。The single composition gas supply section sends out each single composition gas constituting the laser gas. The single composition gas introduction unit turns on and off the single composition gas sent from the single composition gas supply unit. The laser gas mixing section accommodates and mixes each single composition gas sequentially supplied via the single composition gas introduction section.
【０００９】レーザガス制御部は、そのレーザガス混合
部内に供給される単組成ガスのガス分圧が所定の単組成
ガス分圧に達するまで、単組成ガス導入部をオンして単
組成ガスをレーザガス混合部内に順次注入する。なお、
この所定の単組成ガス分圧は、生成レーザガスの全圧力
と単組成ガスのレーザガス組成比の積で求めたガス分圧
である。レーザガス混合部内では、単組成ガスが注入さ
れて順次それぞれ所定の単組成ガス分圧に達する。その
単組成ガス分圧の累積によって所定レーザガス組成比の
レーザガスが生成し、レーザ発振器に供給される。The laser gas control section turns on the single composition gas introduction section to mix the single composition gas with the laser gas until the gas partial pressure of the single composition gas supplied to the laser gas mixing section reaches a predetermined single composition gas partial pressure. Inject sequentially into the department. In addition,
This predetermined single composition gas partial pressure is a gas partial pressure obtained by the product of the total pressure of the generated laser gas and the laser gas composition ratio of the single composition gas. In the laser gas mixing section, a single composition gas is injected and sequentially reaches respective predetermined single composition gas partial pressures. By accumulating the partial pressure of the single composition gas, a laser gas having a predetermined composition ratio of the laser gas is generated and supplied to the laser oscillator.
【００１０】このように、レーザガス混合部内に予め所
定レーザガス組成比のレーザガスを生成するようにした
ので、常時、組成比の安定したレーザガスをレーザ発振
器に供給することができる。As described above, since the laser gas having the predetermined composition ratio of the laser gas is generated in advance in the laser gas mixing section, the laser gas having the stable composition ratio can be constantly supplied to the laser oscillator.
【００１１】[0011]
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説
明する。図２は本発明が適用されるガスレーザ装置の全
体構成を示す図である。図において、ガスレーザ装置
は、レーザ発振器（放電管）５０、制御装置６０、レー
ザガス混合装置１００及びレーザガス排気装置１２０か
ら構成される。放電管５０の電極５２には、励起用電源
５１からの高周波電圧が印加され、レーザ発振器５０内
のレーザガスは、その高周波電圧によって励起されてレ
ーザ光として外部に出力される。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 2 is a diagram showing the overall configuration of a gas laser device to which the present invention is applied. In the figure, the gas laser device includes a laser oscillator (discharge tube) 50, a control device 60, a laser gas mixing device 100, and a laser gas exhaust device 120. A high frequency voltage from the excitation power source 51 is applied to the electrode 52 of the discharge tube 50, and the laser gas in the laser oscillator 50 is excited by the high frequency voltage and output as laser light to the outside.
【００１２】レーザ発振器５０内のレーザガスは、レー
ザガス混合装置１００及び圧力制御ユニット１１０から
供給される。レーザガス混合装置１００は、詳細は後述
するように、所定レーザガス組成比のレーザガスを生成
し、そのレーザガスは圧力制御ユニット１１０で供給圧
力が一定となるように制御されてレーザ発振器５０に送
られる。レーザ発振器５０内のレーザガスは、ここでは
図示されていない循環経路内を循環し、放電によって劣
化したレーザガスはレーザガス排気装置１２０から排気
される。The laser gas in the laser oscillator 50 is supplied from the laser gas mixing device 100 and the pressure control unit 110. As will be described later in detail, the laser gas mixing device 100 generates a laser gas having a predetermined laser gas composition ratio, and the laser gas is sent to the laser oscillator 50 under the control of the pressure control unit 110 so that the supply pressure becomes constant. The laser gas in the laser oscillator 50 circulates in a circulation path not shown here, and the laser gas deteriorated by the discharge is exhausted from the laser gas exhaust device 120.
【００１３】制御装置６０は、ガスレーザ装置全体の動
作を制御する。例えば、励起用電源５１の出力電圧を制
御すると共に、圧力センサ５３によって検出されたレー
ザ発振器５０内のレーザガス圧力が一定となるように、
圧力制御ユニット１１０及びレーザガス排気装置１２０
を制御する。また、レーザガス混合装置１００内の生成
レーザガスが所定圧力以下になると、その検出信号をレ
ーザガス混合装置１００内に設けた圧力センサ３１から
受けてレーザガス生成の指令をレーザガス混合装置１０
０に送る。The control device 60 controls the operation of the entire gas laser device. For example, the output voltage of the excitation power source 51 is controlled, and the laser gas pressure in the laser oscillator 50 detected by the pressure sensor 53 becomes constant,
Pressure control unit 110 and laser gas exhaust device 120
To control. Further, when the generated laser gas in the laser gas mixing device 100 has a predetermined pressure or lower, a detection signal thereof is received from the pressure sensor 31 provided in the laser gas mixing device 100 to give a command for laser gas generation to the laser gas mixing device 10.
Send to 0.
【００１４】図３は本発明に係るレーザガス生成方法を
概念的に示す図である。図において、レーザガス混合容
器３００内に、複数の単組成ガス、ここでは炭酸ガス、
ヘリウムガス及び窒素ガスの３種類から成るレーザガス
が生成される場合を想定する。その３種類の単組成ガス
の目標組成比をａ：ｂ：ｃとする。例えば、体積比で、
炭酸ガスの目標組成比ａは５±０．２５％、ヘリウムガ
スの目標組成比ｂは４０±２．００％、窒素ガスの目標
組成比ｃは５５±２．７５％である。また、レーザガス
全体の目標圧力をＴｋｇｆ／ｃｍ2 とする。FIG. 3 is a diagram conceptually showing a laser gas generating method according to the present invention. In the figure, in the laser gas mixing container 300, a plurality of single composition gases, here carbon dioxide gas,
It is assumed that a laser gas composed of three types of helium gas and nitrogen gas is generated. The target composition ratios of the three kinds of single composition gases are a: b: c. For example, by volume ratio,
The target composition ratio a of carbon dioxide gas is 5 ± 0.25%, the target composition ratio b of helium gas is 40 ± 2.00%, and the target composition ratio c of nitrogen gas is 55 ± 2.75%. Further, the target pressure of the entire laser gas is set to Tkgf / cm 2 .
【００１５】先ず、組成比がａの炭酸ガスをレーザガス
混合容器３００に入れる。このとき、炭酸ガスのガス分
圧Ｘを計算するとＸ＝ａ×Ｔ／（ａ＋ｂ＋ｃ）であるの
で、レーザガス混合容器３００内のガス圧力がこのガス
分圧Ｘになるまで注入する。次に組成比がｂのヘリウム
ガスをレーザガス混合容器３００に入れる。このとき、
ヘリウムガスのガス分圧を計算するとｂ×Ｔ／（ａ＋ｂ
＋ｃ）であり、炭酸ガスとヘリウムガスの各ガス分圧を
累積したときのガス圧力ＹはＹ＝（ａ＋ｂ）×Ｔ／（ａ
＋ｂ＋ｃ）となるので、レーザガス混合容器３００内の
ガス圧力がこのガス圧力Ｙになるまでヘリウムガスを注
入する。最後に組成比がｃの窒素ガスをレーザガス混合
容器３００に入れる。このとき、窒素ガスのガス分圧を
計算するとｃ×Ｔ／（ａ＋ｂ＋ｃ）であり、炭酸ガスと
ヘリウムガスと窒素ガスの各ガス分圧を累積したときの
ガス圧力ＺはＺ＝（ａ＋ｂ＋ｃ）×Ｔ／（ａ＋ｂ＋
ｃ）、すなわちレーザガス全体の目標圧力Ｔとなるの
で、レーザガス混合容器３００内のガス圧力がこのガス
圧力Ｔになるまで窒素ガスを注入する。First, carbon dioxide gas having a composition ratio of a is placed in the laser gas mixing container 300. At this time, when the gas partial pressure X of the carbon dioxide gas is calculated, X = a × T / (a + b + c), so that the gas pressure in the laser gas mixing container 300 is injected until the gas partial pressure X is reached. Next, a helium gas having a composition ratio of b is placed in the laser gas mixing container 300. At this time,
Calculating the gas partial pressure of helium gas, b × T / (a + b
+ C), and the gas pressure Y when the partial pressures of carbon dioxide gas and helium gas are accumulated is Y = (a + b) × T / (a
+ B + c), helium gas is injected until the gas pressure in the laser gas mixing container 300 reaches the gas pressure Y. Finally, nitrogen gas having a composition ratio of c is put into the laser gas mixing container 300. At this time, the gas partial pressure of the nitrogen gas is calculated to be c × T / (a + b + c), and the gas pressure Z when the gas partial pressures of carbon dioxide gas, helium gas, and nitrogen gas are accumulated is Z = (a + b + c) × T / (a + b +
c) That is, the target pressure T of the entire laser gas is reached, so nitrogen gas is injected until the gas pressure in the laser gas mixing container 300 reaches this gas pressure T.
【００１６】このように、炭酸ガス等の単組成ガスが上
記の所定ガス分圧に成るように単組成ガスを順次注入
し、そのときの各ガス圧力を正確に管理することによ
り、レーザガス混合容器３００内には、所定のレーザガ
ス組成比を持つレーザガスが精度よく生成される。次
に、上記レーザガス生成方法に基づいて構成した本発明
のレーザガス混合装置について説明する。As described above, the single composition gas such as carbon dioxide gas is sequentially injected so as to have the above-mentioned predetermined gas partial pressure, and each gas pressure at that time is accurately controlled, whereby the laser gas mixing container is accurately controlled. A laser gas having a predetermined laser gas composition ratio is accurately generated in 300. Next, the laser gas mixing apparatus of the present invention constructed based on the above laser gas generation method will be described.
【００１７】図１は本発明のレーザガス混合装置の全体
構成を示す図である。図において、レーザガス混合装置
１００は炭酸ガスレーザ用であり、単組成ガス供給部１
０、単組成ガス導入部２０及びレーザガス混合部３０か
ら構成される。単組成ガス供給部１０及び単組成ガス導
入部２０は、レーザガスを構成している炭酸ガス、ヘリ
ウムガス及び窒素ガスの３種類の単組成ガスに対応して
３系統のガス流路１００ａ、１００ｂ及び１００ｃが設
けられている。次に、この３系統のガス流路１００ａ、
１００ｂ及び１００ｃの内、ガス流路１００ａの構成に
ついて説明する。FIG. 1 is a diagram showing the overall configuration of the laser gas mixing apparatus of the present invention. In the figure, a laser gas mixing device 100 is for a carbon dioxide gas laser, and a single composition gas supply unit 1
0, a single composition gas introducing section 20, and a laser gas mixing section 30. The single composition gas supply unit 10 and the single composition gas introduction unit 20 correspond to three kinds of single composition gases of carbon dioxide, helium gas, and nitrogen gas, which constitute the laser gas, and have three gas flow paths 100a, 100b and 100c is provided. Next, the gas flow paths 100a of these three systems,
The configuration of the gas flow channel 100a of 100b and 100c will be described.
【００１８】ガス流路１００ａにおいて、その単組成ガ
ス供給部１０は、ガスボンベ１１ａ及び入口ポート１２
ａから成る。ガスボンベ１１ａには、レーザガスを構成
する単組成ガスとしての炭酸ガスが充填されている。ガ
スボンベ１１ａは、炭酸ガスをレギュレータバルブ１１
０ａでゲージ圧９．５ｋｇｆ／ｃｍ2 に減圧して入口ポ
ート１２ａに送り出す。その入口ポート１２ａの後段に
は、単組成ガス導入部２０のガスフィルタ２２ａが設け
られている。In the gas flow path 100a, the single composition gas supply section 10 includes a gas cylinder 11a and an inlet port 12.
It consists of a. The gas cylinder 11a is filled with carbon dioxide gas as a single composition gas that constitutes the laser gas. The gas cylinder 11a uses carbon dioxide gas as a regulator valve 11
At 0a, the gauge pressure is reduced to 9.5 kgf / cm 2, and the pressure is sent to the inlet port 12a. A gas filter 22a of the single-component gas introducing section 20 is provided at the subsequent stage of the inlet port 12a.
【００１９】単組成ガス導入部２０は、ドレインバルブ
２１ａ、ガスフィルタ２２ａ、荒注入バルブ（粗調整用
バルブ）２３ａ、流量調整用バルブ２４ａ及び微流量用
バルブ（微調整用バルブ）２５ａから構成される。ドレ
インバルブ２１ａは、入口ポート１２ａとガスフィルタ
２２ａとの間で枝分かれして設けられ、ドレインバルブ
２１ａの電磁弁を開にすることによりガス流路１００ａ
が大気に直結するようになっている。The single composition gas introduction section 20 is composed of a drain valve 21a, a gas filter 22a, a rough injection valve (coarse adjustment valve) 23a, a flow rate adjustment valve 24a, and a fine flow rate valve (fine adjustment valve) 25a. It The drain valve 21a is provided so as to be branched between the inlet port 12a and the gas filter 22a, and by opening an electromagnetic valve of the drain valve 21a, the gas flow path 100a is opened.
Are directly connected to the atmosphere.
【００２０】荒注入バルブ２３ａは、ガスフィルタ２２
ａの後段に直列に設けられる。また、その荒注入バルブ
２３ａと並列に流量調整用バルブ２４と微流量用バルブ
２５ａが設けられる。微流量用バルブ２５ａは流量調整
用バルブ２４の後段に直列に設けられている。The rough injection valve 23a is used for the gas filter 22.
It is provided in series after the a. Further, a flow rate adjusting valve 24 and a fine flow rate valve 25a are provided in parallel with the rough injection valve 23a. The minute flow rate valve 25a is provided in series after the flow rate adjustment valve 24.
【００２１】上記構成のガス流路１００ａは、他のガス
流路１００ｂ及び１００ｃと出口側で互いに結合して一
本化しており、その後段にはレーザガス混合部３０が設
けられている。The gas flow passage 100a having the above-described structure is connected to the other gas flow passages 100b and 100c at the outlet side so as to be integrated with each other, and the laser gas mixing section 30 is provided at the subsequent stage.
【００２２】なお、ガス流路１００ｂ及び１００ｃは、
上記ガス流路１００ａと同様に構成されているので、ガ
ス流路１００ａの各構成要素に付した符号ａを符号ｂま
たはｃに書き換えるのみとし、ここではその説明を省略
する。The gas flow paths 100b and 100c are
Since the gas flow channel 100a has the same configuration as that of the gas flow channel 100a, the symbol a attached to each component of the gas flow channel 100a is simply rewritten to the symbol b or c, and the description thereof is omitted here.
【００２３】レーザガス混合部３０は、レーザガス生成
経路１００ｄ及び１００ｅ、並びに排気経路１００ｆの
３経路から構成される。排気経路１００ｆは、レーザガ
ス生成経路１００ｄとレーザガス生成経路１００ｅとの
間に設けられ、大気開放用三方バルブ３３、真空ポンプ
切り換え用三方バルブ３４及び真空ポンプ３６が直列に
接続されて構成されている。また、真空ポンプ切り換え
用三方バルブ３４の３ポートの内１ポートには真空ポン
プ用フィルタ３５が設けられている。The laser gas mixing section 30 is composed of three laser gas generation paths 100d and 100e and an exhaust path 100f. The exhaust path 100f is provided between the laser gas generation path 100d and the laser gas generation path 100e, and is configured by connecting an atmosphere opening three-way valve 33, a vacuum pump switching three-way valve 34, and a vacuum pump 36 in series. A vacuum pump filter 35 is provided at one of the three ports of the vacuum pump switching three-way valve 34.
【００２４】レーザガス生成経路１００ｄには、容器流
入切り換え用バルブ３２ａ、レーザガス混合容器３０ａ
及び容器流出切り換え用バルブ３９ａが直列に設けられ
ている。また、レーザガス混合容器３０ａの側壁の一部
には、直列に接続された安全弁３８ａと容器ドレインバ
ルブ３７ａが設けられている。さらに、レーザガス混合
容器３０ａには、圧力センサ３１ａが設けられ、レーザ
ガス混合容器３０ａ内のガス圧力を検出している。A container inflow switching valve 32a and a laser gas mixing container 30a are provided in the laser gas generation path 100d.
And a container outflow switching valve 39a are provided in series. A safety valve 38a and a container drain valve 37a connected in series are provided on a part of the side wall of the laser gas mixing container 30a. Further, the laser gas mixing container 30a is provided with a pressure sensor 31a to detect the gas pressure in the laser gas mixing container 30a.
【００２５】上記構成のレーザガス生成経路１００ｄ
は、もう１つのレーザガス生成経路１００ｅと出口側で
結合して一本化しており、その後段には減圧弁４０が設
けられ、その減圧弁４０の後段にはさらにレーザガス供
給ポート４２が設けられている。また、その減圧弁４０
と並列に外部真空ポンプ切り換え用バルブ４１が設けら
れている。The laser gas generation path 100d having the above structure
Is connected to another laser gas generation path 100e on the outlet side to be integrated, and a pressure reducing valve 40 is provided at the subsequent stage, and a laser gas supply port 42 is further provided at the stage subsequent to the pressure reducing valve 40. There is. Also, the pressure reducing valve 40
An external vacuum pump switching valve 41 is provided in parallel with the above.
【００２６】なお、レーザガス生成経路１００ｅは、上
記レーザガス生成経路１００ｄと同様に構成されている
ので、レーザガス生成経路１００ｄの各構成要素に付し
た符号ｄを符号ｅに書き換えるのみとし、ここではその
説明を省略する。Since the laser gas generation path 100e has the same structure as the laser gas generation path 100d, the reference numeral d attached to each component of the laser gas generation path 100d is simply rewritten to the reference numeral e. Is omitted.
【００２７】上記レーザガス混合装置１００において、
ドレインバルブ２１ａ、２１ｂ、２１ｃ、荒注入バルブ
２３ａ、２３ｂ、２３ｃ、微流量用バルブ２５ａ、２５
ｂ、２５ｃ、容器流入切り換え用バルブ３２ａ、３２
ｂ、容器流出切り換え用バルブ３９ａ、３９ｂ、及び外
部真空ポンプ切り換え用バルブ４１には、それぞれ電磁
弁が設けられ、その電磁弁の開度は前述したガスレーザ
装置の制御装置６０によって制御されている。In the above laser gas mixing apparatus 100,
Drain valves 21a, 21b, 21c, rough injection valves 23a, 23b, 23c, minute flow valves 25a, 25
b, 25c, valves 32a, 32 for switching the container inflow
b, the container outflow switching valves 39a and 39b, and the external vacuum pump switching valve 41 are each provided with an electromagnetic valve, and the opening degree of the electromagnetic valve is controlled by the control device 60 of the gas laser device.
【００２８】次に、上記構成のレーザガス混合装置１０
０の動作手順を順を追って説明する。 （１）設置及び初期状態 荒注入バルブ２３ａ等のすべてのバルブが閉まった状態
において、入口ポート１２ａ、１２ｂ及び１２ｃにレギ
ュレータ１１０ａ、１１０ｂ及び１１０ｃにより減圧し
た各単組成ガス用のガスボンベ１１ａ、１１ｂ及び１１
ｃを接続する。そしてドレインバルブ２１ａ、２１ｂ及
び２１ｃを開き、入口ポート１２ａ等と荒注入バルブ２
３ａ等間もしくは入口ポート１２ａ等と流量調整用バル
ブ２４ａ等間に入った空気を排出する。 （２）ガス生成準備（状態１） すべてのバルブが閉まった状態から、容器流入切り換え
用バルブ３２ａ及び３２ｂを開き、真空ポンプ切り換え
三方バルブ３４及び大気開放用三方バルブ３３をオンに
し、その状態で真空ポンプ３６を作動させる。この真空
ポンプ３６の作動によって、荒注入バルブ２３ａ、２３
ｂ、２３ｃから容器流出切り換え用バルブ３９ａ、３９
ｂ間、並びに流量調整用バルブ２４ａ、２４ｂ、２４ｃ
から容器流出切り換え用バルブ３９ａ、３９ｂ間が真空
に引かれる。その間のガス圧力を圧力センサ３１ａ及び
３１ｂで検出し、所定の真空度に達したかを確認する。
一定時間内に所定の真空度に達しない場合は、アラーム
とする。Next, the laser gas mixing apparatus 10 having the above structure
The operation procedure of 0 will be described step by step. (1) Installation and initial state In a state where all valves such as the rough injection valve 23a are closed, gas cylinders 11a, 11b for each single composition gas decompressed by the regulators 110a, 110b, 110c to the inlet ports 12a, 12b, 12c and 11
Connect c. Then, the drain valves 21a, 21b and 21c are opened, the inlet port 12a and the like and the rough injection valve 2 are opened.
The air that has entered between 3a and the like or between the inlet port 12a and the flow rate adjusting valve 24a and the like is discharged. (2) Gas generation preparation (state 1) From the state where all valves are closed, the container inflow switching valves 32a and 32b are opened, the vacuum pump switching three-way valve 34 and the atmosphere opening three-way valve 33 are turned on, and in that state The vacuum pump 36 is operated. By the operation of the vacuum pump 36, the rough injection valves 23a, 23
b, 23c to the container outflow switching valve 39a, 39
b, and flow rate adjusting valves 24a, 24b, 24c
A vacuum is drawn between the container outflow switching valves 39a and 39b. The gas pressure during that time is detected by the pressure sensors 31a and 31b, and it is confirmed whether a predetermined degree of vacuum has been reached.
If the specified vacuum level is not reached within a certain period of time, an alarm will occur.
【００２９】真空引きが終了した時点で、真空ポンプ切
り換え三方バルブ３４をオフにし、真空ポンプ用フィル
タ３５経由で真空ポンプ３６に外気を入れ、その状態で
真空ポンプ３６を停止する。この動作により真空ポンプ
３６からポンプ用油が真空系に逆流することを防止す
る。 （３）ガス生成（状態１） 次に、単組成ガスを順番に注入する。ここでは、炭酸ガ
ス、ヘリウムガス、窒素ガスの順に注入する。まず、荒
注入バルブ２３ａと容器流入切り換え用バルブ３２ａの
みを開き、他のバルブを閉じて、炭酸ガスをレーザガス
混合容器３０ａ内に導入する。レーザガス混合容器３０
ａ内のガス圧力を圧力センサ３１ａで検出し、レーザガ
ス混合容器３０ａ内のガス圧力が所定のガス分圧より低
く設定したガス圧力に達するまで炭酸ガスを注入する。
ガス圧力がその低く設定したガス圧力に達すると、荒注
入バルブ２３ａを閉じ、流量調整用バルブ２４ａにより
調整された炭酸ガスを微流量用バルブ２５ａを開くこと
により、レーザガス混合容器３０ａにさらに注入する。
このとき、レーザガス混合容器３０ａ内のガス圧力はゆ
っくり上昇し、圧力センサ３１ａによってその所定のガ
ス分圧が検出されたとき、炭酸ガスの導入を停止する。When the evacuation is completed, the vacuum pump switching three-way valve 34 is turned off, the outside air is introduced into the vacuum pump 36 through the vacuum pump filter 35, and the vacuum pump 36 is stopped in that state. This operation prevents the pump oil from flowing back from the vacuum pump 36 to the vacuum system. (3) Gas Generation (State 1) Next, a single composition gas is sequentially injected. Here, carbon dioxide gas, helium gas, and nitrogen gas are injected in this order. First, only the rough injection valve 23a and the container inflow switching valve 32a are opened, the other valves are closed, and carbon dioxide gas is introduced into the laser gas mixing container 30a. Laser gas mixing container 30
The gas pressure in a is detected by the pressure sensor 31a, and carbon dioxide gas is injected until the gas pressure in the laser gas mixing container 30a reaches a set gas pressure lower than a predetermined gas partial pressure.
When the gas pressure reaches the low set gas pressure, the rough injection valve 23a is closed and the carbon dioxide gas adjusted by the flow rate adjusting valve 24a is further injected into the laser gas mixing container 30a by opening the minute flow rate valve 25a. .
At this time, the gas pressure in the laser gas mixing container 30a slowly rises, and when the pressure sensor 31a detects the predetermined gas partial pressure, the introduction of carbon dioxide gas is stopped.
【００３０】このように、ガス導入時には荒注入バルブ
２３ａを用いることにより、短時間でレーザガス混合容
器３０ａ内に炭酸ガスを導入することができる。また、
その後は微流量用バルブ２５ａを用いるので、炭酸ガス
を所定のガス分圧まで精度よく注入することができる。As described above, the carbon dioxide gas can be introduced into the laser gas mixing container 30a in a short time by using the rough injection valve 23a when introducing the gas. Also,
After that, since the minute flow rate valve 25a is used, carbon dioxide gas can be accurately injected up to a predetermined gas partial pressure.
【００３１】続いて、ヘリウムガス及び窒素ガスについ
ても、上記と同様の操作を行ない、操作が完了した時点
で、容器流入切り換え用バルブ３２ａを閉じる。このと
き、レーザガス混合容器３０ａ内には、目標とする組成
比を持つレーザガスが生成されている。Subsequently, the same operation as described above is performed for the helium gas and the nitrogen gas, and when the operation is completed, the container inflow switching valve 32a is closed. At this time, laser gas having a target composition ratio is generated in the laser gas mixing container 30a.
【００３２】レーザガス混合容器３０ｂについても同様
の操作を行なうことで、レーザガス混合容器３０ｂ内に
目標とする組成比を持つレーザガスが生成される。 （４）ガス供給（状態２） 次に、レーザガス混合容器３０ａに生成されたレーザガ
スを放出する。容器流出切り換え用バルブ３９ａを開い
てレーザガスを減圧弁４０に導入し、減圧弁４０でレー
ザ発振器５０の仕様圧力に減圧した後、レーザガス供給
ポート４２からレーザ発振器５０に供給する。このレー
ザガス放出時に、圧力センサ３１ａによってレーザガス
混合容器３０ａ内のガス圧力を計測し、レーザガス混合
容器３０ａ内のガス圧力がレーザ発振器５０の仕様圧力
以下になった場合には、容器流出切り換え用バルブ３９
ａを閉じ、容器流出切り換え用バルブ３９ｂを開き、レ
ーザガス混合容器３０ｂに切り換える。By performing the same operation for the laser gas mixing container 30b, a laser gas having a target composition ratio is generated in the laser gas mixing container 30b. (4) Gas Supply (State 2) Next, the laser gas generated in the laser gas mixing container 30a is released. The container outflow switching valve 39a is opened to introduce the laser gas into the pressure reducing valve 40, and the pressure reducing valve 40 reduces the pressure to the specification pressure of the laser oscillator 50, and then supplies the laser gas from the laser gas supply port 42 to the laser oscillator 50. At the time of releasing the laser gas, the gas pressure in the laser gas mixing container 30a is measured by the pressure sensor 31a. When the gas pressure in the laser gas mixing container 30a becomes equal to or lower than the specified pressure of the laser oscillator 50, the container outflow switching valve 39
a is closed and the container outflow switching valve 39b is opened to switch to the laser gas mixing container 30b.
【００３３】このように、２つのレーザガス混合容器３
０ａ、３０ｂを交互に切り換えて使用するようにしたの
で、レーザ発振器５０にレーザガスを連続的に供給する
ことができる。 （５）ガス生成（状態２） （４）においてレーザ発振器５０の仕様圧力以下になっ
たレーザガス混合容器３０ａ内にレーザガスを生成す
る。先ず、容器流入切り換え用バルブ３２ａを開く。大
気開放用三方バルブ３３を開き、内部圧力を大気に開放
する。次にこの大気開放用三方バルブ３３を閉じる。そ
の後、（２）、（３）の動作を行い、目標とする組成比
を持つレーザガスを生成する。レーザガス混合容器３０
ｂ内のガス圧力がレーザ発振器５０の仕様圧力以下にな
ったときも、同様の手順でレーザガスを生成する。 （６）レ−ザ発振器立ち上げ時 レーザ発振器５０の立ち上げ時、外部真空ポンプ切り換
え用バルブ４１を開き、レーザ発振器５０側の真空ポン
プにより、本レーザガス混合装置１００とレーザ発振器
５０間の配管内の真空引きを行う。これは、レーザガス
混合装置１００とレーザ発振器５０間の配管の不備によ
る微小リークの影響を小さくするために行う。 （７）レーザガス混合容器移動時 レーザガス混合容器３０ａ、３０ｂを移動させる必要が
生じたときは、容器ドレインバルブ３７ａ、３７ｂを開
け、レーザガス混合容器３０ａ、３０ｂ内の高圧ガスを
外部に放出させた後に移動を行うようにする。 （８）異常時 一定時間内にレーザガス混合容器３０ａ、３０ｂ内のガ
ス圧力が設定圧力に到達しない場合には、アラームとす
る。また、バルブと圧力センサ３１ａ、３１ｂの故障が
重なり、レーザガス混合容器３０ａ、３０ｂ内のガス圧
力が設定圧力を超えた場合には、安全弁３８ａ、３８ｂ
によりレーザガス混合容器３０ａ、３０ｂ内圧力が開放
される。Thus, the two laser gas mixing vessels 3
Since 0a and 30b are alternately switched and used, laser gas can be continuously supplied to the laser oscillator 50. (5) Gas Generation (State 2) In (4), the laser gas is generated in the laser gas mixing container 30a that has become the specified pressure of the laser oscillator 50 or less. First, the container inflow switching valve 32a is opened. The atmosphere opening three-way valve 33 is opened to open the internal pressure to the atmosphere. Next, the three-way valve 33 for opening to the atmosphere is closed. Then, the operations (2) and (3) are performed to generate a laser gas having a target composition ratio. Laser gas mixing container 30
Even when the gas pressure in b becomes equal to or lower than the specified pressure of the laser oscillator 50, the laser gas is generated in the same procedure. (6) At the time of starting the laser oscillator At the time of starting the laser oscillator 50, the valve 41 for switching the external vacuum pump is opened, and the vacuum pump on the laser oscillator 50 side is used to connect the laser gas mixer 100 and the laser oscillator 50 with each other. Evacuate. This is performed in order to reduce the influence of a minute leak due to a defective pipe between the laser gas mixing device 100 and the laser oscillator 50. (7) Moving Laser Gas Mixing Container When it is necessary to move the laser gas mixing containers 30a and 30b, after opening the container drain valves 37a and 37b and releasing the high pressure gas in the laser gas mixing containers 30a and 30b to the outside. Try to move. (8) Abnormality When the gas pressure in the laser gas mixing containers 30a and 30b does not reach the set pressure within a fixed time, an alarm is generated. Further, when the failure of the valve and the pressure sensor 31a, 31b overlaps and the gas pressure in the laser gas mixing containers 30a, 30b exceeds the set pressure, the safety valves 38a, 38b are released.
Thus, the pressure inside the laser gas mixing containers 30a and 30b is released.
【００３４】なお、上記の状態１とは、レーザガス混合
装置１００の始動時を表し、状態２とは、レーザガス混
合装置１００の連続運転時を表す。このように、本実施
例では、レーザガスを構成する単組成ガスである炭酸ガ
ス、ヘリウムガス及び窒素ガスがそれぞれ所定のガス分
圧と成るようにレーザガス混合容器３０ａ、３０ｂ内に
順次注入するようにした。そのときのレーザガス混合容
器３０ａ、３０ｂ内のガス圧力は、圧力センサ３１ａ、
３１ｂを用いて精度良く検出される。このため、これら
の単組成ガスのガス分圧の累積和によって、レーザガス
混合容器３０ａ、３０ｂ内に所定のレーザガス組成比を
持つ圧縮レーザガスを精度良く生成することができる。
したがって、混合比率が時間とともに変動したりせず、
安定した組成比を持つレーザガスをレーザ発振器５０に
供給することができる。その結果、レーザ発振器５０の
安定した放電特性を得ることができ、また、レーザビー
ムの品質も向上させることができる。The above state 1 represents the start-up of the laser gas mixing apparatus 100, and the state 2 represents the continuous operation of the laser gas mixing apparatus 100. As described above, in the present embodiment, the carbon dioxide gas, the helium gas and the nitrogen gas, which are the single composition gases constituting the laser gas, are sequentially injected into the laser gas mixing containers 30a and 30b so that they have predetermined gas partial pressures. did. The gas pressure in the laser gas mixing containers 30a and 30b at that time is measured by the pressure sensor 31a
31b is used for accurate detection. Therefore, the compressed laser gas having a predetermined laser gas composition ratio can be accurately generated in the laser gas mixing containers 30a and 30b by the cumulative sum of the gas partial pressures of these single composition gases.
Therefore, the mixing ratio does not change over time,
A laser gas having a stable composition ratio can be supplied to the laser oscillator 50. As a result, stable discharge characteristics of the laser oscillator 50 can be obtained, and the quality of the laser beam can be improved.
【００３５】上記の説明では、制御装置を用いて自動的
にレーザガスを生成するようにしたが、制御装置が行な
う手順をオペレータが手動で行なうように構成すること
もできる。In the above description, the control device is used to automatically generate the laser gas, but the procedure performed by the control device may be manually performed by the operator.
【００３６】[0036]
【発明の効果】以上説明したように本発明では、レーザ
ガスを構成する複数の単組成ガスがそれぞれ所定のガス
分圧と成るようにその単組成ガスをレーザガス混合部内
に順次注入する構成とした。このため、これらの単組成
ガスのガス分圧の累積和によって、レーザガス混合部内
に所定のレーザガス組成比を持つレーザガスを精度良く
生成することができる。As described above, in the present invention, the single composition gases constituting the laser gas are sequentially injected into the laser gas mixing section so that each of them has a predetermined gas partial pressure. Therefore, it is possible to accurately generate a laser gas having a predetermined laser gas composition ratio in the laser gas mixing section by the cumulative sum of the gas partial pressures of these single composition gases.
【００３７】したがって、混合比率が時間とともに変動
したりせず、安定した組成比を持つレーザガスをレーザ
発振器側に供給することができる。その結果、レーザ発
振器の安定した放電特性を得ることができ、また、レー
ザ出力の安定性も向上させることができる。Therefore, the mixing ratio does not change with time, and the laser gas having a stable composition ratio can be supplied to the laser oscillator side. As a result, a stable discharge characteristic of the laser oscillator can be obtained, and the stability of the laser output can be improved.
【図１】本発明のレーザガス混合装置の全体構成を示す
図である。FIG. 1 is a diagram showing an overall configuration of a laser gas mixing apparatus of the present invention.
【図２】本発明が適用されるガスレーザ装置の全体構成
を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing an overall configuration of a gas laser device to which the present invention is applied.
【図３】本発明に係るレーザガス生成方法を概念的に示
す図である。FIG. 3 is a diagram conceptually showing a laser gas generation method according to the present invention.
【図４】従来のレーザガス混合装置を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a conventional laser gas mixing device.
１０ 単組成ガス供給部 １１ａ，１１ｂ，１１ｃ ガスボンベ ２０ 単組成ガス導入部 ２３ａ，２３ｂ，２３ｃ 荒注入バルブ ２４ａ，２４ｂ，２４ｃ 流量調整用バルブ ２５ａ，２５ｂ，２５ｂ 微流量用バルブ ３０ レーザガス混合部 ３０ａ，３０ｂ レーザガス混合容器 ３１ａ，３１ｂ 圧力センサ １００ レーザガス混合装置 １００ａ，１００ｂ，１００ｃ ガス流路 １００ｄ，１００ｅ レーザガス生成経路 １００ｆ 排気経路 10 Single Composition Gas Supply Sections 11a, 11b, 11c Gas Cylinder 20 Single Composition Gas Introduction Sections 23a, 23b, 23c Rough Injection Valves 24a, 24b, 24c Flow Rate Adjustment Valves 25a, 25b, 25b Fine Flow Rate Valve 30 Laser Gas Mixing Section 30a, 30b Laser gas mixing container 31a, 31b Pressure sensor 100 Laser gas mixing device 100a, 100b, 100c Gas flow path 100d, 100e Laser gas generation path 100f Exhaust path
Claims (7)
しレーザ発振器に供給するレーザガス混合装置におい
て、 前記レーザガスを構成する各々の単組成ガスを送り出す
単組成ガス供給部と、 前記単組成ガス供給部から送り出された各単組成ガスの
オンオフを行なう単組成ガス導入部と、 前記単組成ガス導入部を経由して順次供給された前記単
組成ガスを収容し混合するレーザガス混合部と、 前記単組成ガスのガス分圧が生成レーザガスの全圧力と
単組成ガスのレーザガス組成比の積で求めた所定の単組
成ガス分圧に達するまで前記単組成ガス導入部をオンし
て前記単組成ガスを前記レーザガス混合部内に順次注入
し、各単組成ガスのガス分圧の累積によって所定レーザ
ガス組成比のレーザガスを前記レーザガス混合部内に生
成しレーザ発振器に供給するレーザガス制御部と、 を有することを特徴とするレーザガス混合装置。1. A laser gas mixing apparatus for mixing a single composition gas to generate a laser gas and supplying the laser gas to a laser oscillator, wherein a single composition gas supply unit for sending out each single composition gas constituting the laser gas, and the single composition gas supply A single composition gas introduction part for turning on and off each single composition gas sent from the unit, a laser gas mixing part for accommodating and mixing the single composition gas sequentially supplied via the single composition gas introduction part, and the single composition gas The single composition gas introduction unit is turned on until the gas partial pressure of the composition gas reaches a predetermined single composition gas partial pressure obtained by the product of the total pressure of the generated laser gas and the laser gas composition ratio of the single composition gas The laser gas is sequentially injected into the laser gas mixing section, and a laser gas having a predetermined laser gas composition ratio is generated in the laser gas mixing section by accumulating the gas partial pressures of the single composition gases to generate a laser beam. Laser gas mixing device and having a laser gas control unit supplies the vessel.
ス混合部に設けられたレーザガス圧力検出部からの検出
信号に基づいて前記レーザガス導入部のオンオフ制御を
行ない、前記単組成ガスが前記所定の単組成ガス分圧に
達するまでの注入を順次行なうことを特徴とする請求項
１記載のレーザガス混合装置。2. The laser gas control unit controls on / off of the laser gas introduction unit based on a detection signal from a laser gas pressure detection unit provided in the laser gas mixing unit, and the single composition gas is the predetermined single composition. The laser gas mixing device according to claim 1, wherein the injection is sequentially performed until the gas partial pressure is reached.
って切り換え可能な２以上のレーザガス混合容器から成
り、一方のレーザガス混合容器において生成したレーザ
ガスのレーザ発振器への供給により前記一方のレーザガ
ス混合容器内の圧力が所定の圧力以下になった場合に、
前記切り換え弁により他方のレーザガス混合容器に切り
換えて前記レーザ発振器へのレーザガス供給を継続する
ことを特徴とする請求項１記載のレーザガス混合装置。3. The laser gas mixing section is composed of two or more laser gas mixing vessels that can be switched by a switching valve, and the laser gas generated in one of the laser gas mixing vessels is supplied to a laser oscillator so that the pressure in the one of the laser gas mixing vessels is increased. Is below a predetermined pressure,
2. The laser gas mixing apparatus according to claim 1, wherein the laser gas is continuously supplied to the laser oscillator by switching to the other laser gas mixing container by the switching valve.
混合容器への切り換え後に、前記一方のレーザガス混合
容器における前記レーザガス生成を開始することを特徴
とする請求項３記載のレーザガス混合装置。4. The laser gas mixing apparatus according to claim 3, wherein the laser gas generation in the one laser gas mixing container is started after switching to the other laser gas mixing container by the switching valve.
と微調整用バルブとを備え、目標とする前記単組成ガス
分圧と前記レーザガス混合部内のレーザガス圧力との差
に応じて前記粗調整用バルブと前記微調整用バルブを切
り換えて前記単組成ガスの流量を調整することを特徴と
する請求項１記載のレーザガス混合装置。5. The laser gas introduction unit includes a coarse adjustment valve and a fine adjustment valve, and the coarse adjustment valve is used in accordance with a difference between the target single composition gas partial pressure and the laser gas pressure in the laser gas mixing unit. The laser gas mixing device according to claim 1, wherein a flow rate of the single composition gas is adjusted by switching a valve and the fine adjustment valve.
振器用コントローラ内に設けられることを特徴とする請
求項１記載のレーザガス混合装置。6. The laser gas mixing device according to claim 1, wherein the laser gas control unit is provided in the controller for the laser oscillator.
で行なうように構成したことを特徴とする請求項１記載
のレーザガス混合装置。7. The laser gas mixing apparatus according to claim 1, wherein the control operation of the laser gas control unit is manually performed.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2554893A JPH06244478A (en) | 1993-02-15 | 1993-02-15 | Laser gas mixer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2554893A JPH06244478A (en) | 1993-02-15 | 1993-02-15 | Laser gas mixer |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06244478A true JPH06244478A (en) | 1994-09-02 |
Family
ID=12169026
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2554893A Pending JPH06244478A (en) | 1993-02-15 | 1993-02-15 | Laser gas mixer |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06244478A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102015004038A1 (en) | 2014-04-03 | 2015-10-08 | Fanuc Corporation | Carbon dioxide gas laser oscillator that can estimate the composition ratio of laser gas |
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-
1993
- 1993-02-15 JP JP2554893A patent/JPH06244478A/en active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20030304 |