JPH06240443A - Device for producing thin film in vacuum and production of magnetic recording medium using the same - Google Patents

Device for producing thin film in vacuum and production of magnetic recording medium using the same

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JPH06240443A
JPH06240443A JP5329315A JP32931593A JPH06240443A JP H06240443 A JPH06240443 A JP H06240443A JP 5329315 A JP5329315 A JP 5329315A JP 32931593 A JP32931593 A JP 32931593A JP H06240443 A JPH06240443 A JP H06240443A
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JP
Japan
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thin film
vacuum
vacuum chamber
manufacturing apparatus
roll
Prior art date
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Pending
Application number
JP5329315A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshikatsu Kato
吉克 加藤
Tomoyuki Sekino
智之 関野
Hideetsu Kumagai
秀悦 熊谷
Makoto Shimanuki
誠 島貫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP5329315A priority Critical patent/JPH06240443A/en
Publication of JPH06240443A publication Critical patent/JPH06240443A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Thin Magnetic Films (AREA)

Abstract

PURPOSE:To prevent the deformation of a running system as well as a fitting pedestal even when a vacuum vessel is evacuated, to produce a high quality thin film medium and to enhance production yield. CONSTITUTION:When a fitting pedestal 16 mounted with a thin film forming means with an upper running system composed essentially of a sending roll 3 and a cooling can 5 is disposed in a vacuum vessel 1, opposite two faces, e.g. outer faces 16a, 16b of the pedestal 16 are exposed to the air or the pedestal 16 is fitted to the vacuum vessel 1 through an elastic member.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、例えば蒸着テープ等の
薄膜媒体の製造を行う真空薄膜製造装置、およびこれを
用いた磁気記録媒体の製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a vacuum thin film manufacturing apparatus for manufacturing a thin film medium such as a vapor deposition tape and a magnetic recording medium manufacturing method using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】金属或いはCo−Ni系合金等の磁性材
料を非磁性支持体上に直接被着して強磁性金属薄膜を形
成した薄膜媒体は、抗磁力、角形比及び短波長域におけ
る電磁変換特性に優れていること、磁性層の薄膜化が可
能なため記録減磁や再生時の厚み損失が著しく小さいこ
と、或いは、磁性層中に非磁性体であるバインダー等を
含有しないために磁性材料の充填密度を高くできる等、
数々の利点を有している。
2. Description of the Related Art A thin film medium in which a ferromagnetic metal thin film is formed by directly depositing a magnetic material such as metal or Co--Ni alloy on a non-magnetic support has a coercive force, a squareness ratio and an electromagnetic wave in a short wavelength range. It has excellent conversion characteristics, the magnetic layer can be made thin, and the thickness loss during recording demagnetization and reproduction is extremely small, or because the magnetic layer does not contain a binder that is a non-magnetic material, it is magnetic. For example, the packing density of materials can be increased.
It has a number of advantages.

【0003】そして、上述の薄膜媒体の製造には、通
常、大量生産性に適するという点から真空蒸着法が採用
され、長手方向の角形比を高めることのできる斜め蒸着
法が広く用いられている。
In the production of the above-mentioned thin film medium, the vacuum vapor deposition method is usually adopted from the viewpoint of suitability for mass production, and the oblique vapor deposition method capable of increasing the squareness ratio in the longitudinal direction is widely used. .

【0004】上記のような斜め蒸着法を適用した真空薄
膜製造装置としては、例えば図1に示すような装置が挙
げられる。この真空薄膜製造装置においては、底部に設
けられた2箇所の排気口15から排気されて内部が真空
状態となされた真空槽1内に、図中矢印aで示す時計回
り方向に定速回転する送りロール3,図中矢印cで示す
時計回り方向に定速回転する冷却キャン5,図中矢印b
で示す時計回り方向に定速回転する巻取りロール4とが
設けられ、これら送りロール3から冷却キャン5、巻取
りロール4の周面上をテープ状の非磁性支持体2が順次
走行するようになされている。尚、上記送りロール3、
巻取りロール4、及び冷却キャン5は、それぞれ非磁性
支持体2の幅と略同じ長さからなる円筒状をなすもので
ある。
An example of the vacuum thin film manufacturing apparatus to which the oblique deposition method as described above is applied is the apparatus shown in FIG. In this vacuum thin film manufacturing apparatus, the vacuum tank 1 is evacuated from two exhaust ports 15 provided at the bottom and the inside thereof is in a vacuum state, and is rotated at a constant speed in a clockwise direction indicated by an arrow a in the figure. Feed roll 3, cooling can 5, which rotates at a constant speed in the clockwise direction indicated by arrow c in the figure, and arrow b in the figure
A winding roll 4 which rotates at a constant speed in the clockwise direction indicated by is provided so that the tape-shaped non-magnetic support 2 may sequentially run from the feed roll 3 on the peripheral surface of the cooling can 5 and the winding roll 4. Has been done. The feed roll 3,
The take-up roll 4 and the cooling can 5 each have a cylindrical shape having a length substantially the same as the width of the nonmagnetic support 2.

【0005】また、上記送りロール3と上記冷却キャン
5との間及び該冷却キャン5と上記巻取りロール4との
間には、非磁性支持体2に所定のテンションをかけるこ
とにより該非磁性支持体2の走行を円滑に行わせるガイ
ドロール6,7がそれぞれ3箇所ずつ配設されている。
すなわち、送りロール3と冷却キャン5との間には3箇
所のガイドロール6a,6b,6cが設けられ、冷却キ
ャン5と巻取りロール4との間にも3箇所のガイドロー
ル7a,7b,7cが設けられることとなる。従って、
送りロール3,ガイドロール6,冷却キャン5,ガイド
ロール7,巻取りロール4によって非磁性支持体2の走
行系は構成されることとなる。
Further, a predetermined tension is applied to the non-magnetic support 2 between the feed roll 3 and the cooling can 5 and between the cooling can 5 and the take-up roll 4 to support the non-magnetic support. Guide rolls 6 and 7 are provided at three locations, respectively, for smoothly moving the body 2.
That is, three guide rolls 6a, 6b, 6c are provided between the feed roll 3 and the cooling can 5, and three guide rolls 7a, 7b, 7b are also provided between the cooling can 5 and the winding roll 4. 7c will be provided. Therefore,
The feed roll 3, the guide roll 6, the cooling can 5, the guide roll 7, and the take-up roll 4 constitute a traveling system of the non-magnetic support 2.

【0006】さらに、上記真空槽1内には、上記冷却キ
ャン5の下方に金属磁性材料9の充填されたルツボ8が
設けられ、該金属磁性材料9は真空槽1の側壁部に設け
られた電子銃10により加熱蒸発させられ、冷却キャン
5の周面を定速走行する非磁性支持体2上に磁性層とし
て被着形成されるようになっている。
Further, in the vacuum chamber 1, a crucible 8 filled with a metallic magnetic material 9 is provided below the cooling can 5, and the metallic magnetic material 9 is provided on a side wall of the vacuum chamber 1. It is heated and evaporated by the electron gun 10, and is deposited and formed as a magnetic layer on the non-magnetic support 2 that runs at a constant speed on the peripheral surface of the cooling can 5.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところが、上述のよう
な真空薄膜製造装置によって薄膜媒体の製造を行うと、
媒体表面にシワが発生し易く、製品の品質を低下させ、
製造歩留りを低下させてしまうといった問題が発生す
る。
However, when a thin film medium is manufactured by the vacuum thin film manufacturing apparatus as described above,
Wrinkles are likely to occur on the medium surface, reducing the product quality,
There is a problem that the manufacturing yield is reduced.

【0008】前述のように、上記真空薄膜製造装置にお
いては、送りロール3、冷却キャン5、巻取りロール
4、ガイドロール6,7によって非磁性支持体2の走行
系が構成されているが、これらロールはいずれも真空槽
内に配される取付け台座上に設けられる支持体に支持さ
れている。
As described above, in the above vacuum thin film manufacturing apparatus, the feed roll 3, the cooling can 5, the winding roll 4, and the guide rolls 6 and 7 constitute a traveling system of the non-magnetic support 2. Each of these rolls is supported by a support provided on a mounting base arranged in the vacuum chamber.

【0009】すなわち、図9に示すような所謂縦型の真
空薄膜製造装置においては、真空槽1の底部を密閉する
ようにして内部26aが空洞となされた筺体状の取付け
台座26が設けられ、この取付け台座26上に相対向し
て平行に配置された一対の支持体27,28に上記送り
ロール3,冷却キャン5,巻取りロール4,ガイドロー
ル6,7(図9中には送りロール3,冷却キャン5のみ
を示す。)が回動可能に支持されている。
That is, in a so-called vertical type vacuum thin film manufacturing apparatus as shown in FIG. 9, a casing-like mounting pedestal 26 having a hollow inside 26a is provided so as to seal the bottom of the vacuum chamber 1. The feed roll 3, the cooling can 5, the winding roll 4, the guide rolls 6, 7 (in FIG. 9, the feed rolls are provided on the pair of supports 27, 28 arranged in parallel on the mounting base 26 so as to face each other and are parallel to each other. 3, cooling can 5 only) are rotatably supported.

【0010】また、図10に示すような所謂横型の真空
薄膜製造装置においては、真空槽1の側壁部を密閉する
ようにして内部26aが空洞となされた筺体状の取付け
台座26が設けられ、この取付け台座26上に支柱37
が垂直に設けられ、該支柱37に支持されて上記取付け
台座26と平行に設けられた支持体38に上記送りロー
ル3,冷却キャン5,巻取りロール4,ガイドロール
6,7(図10中には送りロール3,冷却キャン5のみ
を示す。)が回動可能に支持されている。
Further, in the so-called horizontal type vacuum thin film manufacturing apparatus as shown in FIG. 10, a housing-like mounting pedestal 26 having a hollow inside 26a is provided so as to seal the side wall of the vacuum chamber 1. Support 37 on this mounting base 26
Is provided vertically, and is supported by the supporting column 37 and is provided on a support 38 provided in parallel with the mounting base 26, the feed roll 3, the cooling can 5, the winding roll 4, the guide rolls 6, 7 (in FIG. 10). In the figure, only the feed roll 3 and the cooling can 5 are shown) rotatably supported.

【0011】すなわち、例えば、図9に示した縦型の真
空薄膜製造装置のように取付け台座26を真空槽1の底
部に配した場合、該取付け台座26は真空槽1の一部を
兼ねることになる。このため、真空槽1を排気すると、
この真空槽1には図11に示すように、頭部からの大気
圧P11と側面からの大気圧P12,P13がかかる。一方、
取付け台座26には底部からの大気圧P14と側面からの
大気圧P15,P16がかかる。すると、真空槽内1aに臨
む取付け台座26の支持体設置面26bは大気と真空と
の差圧により、同図中に示すように歪んで湾曲し、これ
により各ロールを支持する支持体27,28も湾曲して
大気中で精度よく組み立てられた送りロール3,冷却キ
ャン5が変形する。
That is, for example, when the mounting base 26 is arranged at the bottom of the vacuum chamber 1 as in the vertical vacuum thin film manufacturing apparatus shown in FIG. 9, the mounting base 26 also serves as a part of the vacuum chamber 1. become. Therefore, when the vacuum chamber 1 is evacuated,
As shown in FIG. 11, an atmospheric pressure P 11 from the head and atmospheric pressures P 12 and P 13 from the side surfaces are applied to the vacuum chamber 1. on the other hand,
The mounting pedestal 26 is subjected to the atmospheric pressure P 14 from the bottom and the atmospheric pressures P 15 and P 16 from the side surfaces. Then, the support body mounting surface 26b of the mounting base 26 facing the inside of the vacuum chamber 1a is distorted and curved as shown in the figure by the pressure difference between the atmosphere and the vacuum, whereby the support body 27 supporting each roll, 28 is also curved, and the feed roll 3 and the cooling can 5 assembled accurately in the atmosphere are deformed.

【0012】上記のような現象は、図10に示した横型
の真空薄膜製造装置においても同様に発生する。横型の
真空薄膜製造装置においては、取付け台座26を真空槽
1の側壁部に配しており、該取付け台座26は真空槽1
の一部を兼ねることになる。このため、真空槽1を排気
すると、この真空槽1には図12に示すように、頭部か
らの大気圧P22と側面からの大気圧P21及び底部からの
大気圧P23がかかる。一方、取付け台座26には頭部か
らの大気圧P25と側面からの大気圧P24及び底部からの
大気圧P26がかかる。すると、真空槽内1aに臨む取付
け台座26の支持体設置面26bは大気と真空との差圧
により、同図中に示すように歪んで湾曲し、これにより
支持体設置面26b上に設けられる支柱37及び各ロー
ルを支持する支持体38も湾曲して大気中で精度よく組
み立てられた送りロール3,冷却キャン5が変形する。
The above phenomenon similarly occurs in the horizontal vacuum thin film manufacturing apparatus shown in FIG. In the horizontal vacuum thin film manufacturing apparatus, the mounting base 26 is arranged on the side wall of the vacuum chamber 1, and the mounting base 26 is mounted on the vacuum chamber 1.
Will also serve as a part of. Therefore, when the vacuum chamber 1 is evacuated, the atmospheric pressure P 22 from the head, the atmospheric pressure P 21 from the side surface, and the atmospheric pressure P 23 from the bottom are applied to the vacuum chamber 1 as shown in FIG. On the other hand, the mounting base 26 receives an atmospheric pressure P 25 from the head, an atmospheric pressure P 24 from the side surface, and an atmospheric pressure P 26 from the bottom. Then, the supporting body installation surface 26b of the mounting pedestal 26 facing the inside of the vacuum chamber 1a is distorted and curved as shown in the figure due to the pressure difference between the atmosphere and the vacuum, and thus is provided on the supporting body installation surface 26b. The column 37 and the support 38 that supports each roll are also curved, and the feed roll 3 and the cooling can 5 assembled accurately in the atmosphere are deformed.

【0013】そしてこのような状態で、上記のように非
磁性支持体2を走行させて薄膜媒体を製造した場合、こ
れら変形したロールにより上記非磁性支持体2を円滑に
走行させることは困難であり、非磁性支持体2の表面に
シワが発生し、その結果磁性層が形成された薄膜媒体表
面にもシワが生じ、製品の品質を低下させ、製造歩留り
を低下させてしまう。
In such a state, when the non-magnetic support 2 is run as described above to manufacture a thin film medium, it is difficult to smoothly run the non-magnetic support 2 by these deformed rolls. Therefore, wrinkles are generated on the surface of the non-magnetic support 2, and as a result, wrinkles are also generated on the surface of the thin film medium on which the magnetic layer is formed, which deteriorates the quality of the product and decreases the manufacturing yield.

【0014】上記のような問題を解決するための解決策
としては、取付け台座26の厚さを厚くして機械的強度
を高めることにより、大気圧による歪みの発生を防止す
ることが考えられるが、真空槽が大型化し、大重量とな
ってしまうといった不都合が生じる。
As a solution for solving the above problem, it is considered that the mounting base 26 is made thick to increase its mechanical strength to prevent the distortion due to the atmospheric pressure. However, there is an inconvenience that the vacuum chamber becomes large and heavy.

【0015】また、非磁性支持体の走行系中に該非磁性
支持体に幅方向のテンションを加えることによりシワを
伸ばすゴム製のシワ取りロールを組み込むことも考えら
れる。例えば、図13に示すような、図1に示した真空
薄膜製造装置と略同様の構成を有する真空薄膜製造装置
の非磁性支持体2の走行系を若干変更し、この走行系に
ゴム製のシワ取りロール11,12を組み込めば良い。
なお、図13に示す真空薄膜製造装置中における図1に
示す真空薄膜製造装置と重複する部分については、説明
を省略する。
It is also conceivable to incorporate a wrinkle removing roll made of rubber into the running system of the non-magnetic support to extend wrinkles by applying tension in the width direction to the non-magnetic support. For example, as shown in FIG. 13, the traveling system of the non-magnetic support 2 of the vacuum thin film manufacturing apparatus having a configuration substantially similar to that of the vacuum thin film manufacturing apparatus shown in FIG. 1 is slightly modified, and this traveling system is made of rubber. The wrinkle removing rolls 11 and 12 may be incorporated.
Note that, in the vacuum thin film manufacturing apparatus shown in FIG. 13, the description of the portions overlapping the vacuum thin film manufacturing apparatus shown in FIG. 1 will be omitted.

【0016】すなわち、図13中に示すように、送りロ
ール3,冷却キャン5間のガイドロール6を2箇所、ガ
イドロール6b,6cのみとし、送りロール3,ガイド
ロール6b間とガイドロール6b,6c間にそれぞれゴ
ム製のシワ取りロール11a,11bを設け、冷却キャ
ン5,巻取りロール4間のガイドロール7を2箇所、ガ
イドロール7a,7bのみとし、ガイドロール7a,7
b間とガイドロール7b,巻取りロール4間にもそれぞ
れゴム製のシワ取りロール12a,12bを設ける。
That is, as shown in FIG. 13, there are two guide rolls 6 between the feed rolls 3 and the cooling cans 5, only the guide rolls 6b and 6c, and between the feed rolls 3 and the guide rolls 6b and the guide rolls 6b and 6b. Rubber wrinkle removing rolls 11a and 11b are respectively provided between 6c, and there are two guide rolls 7 between the cooling can 5 and the winding roll 4, only the guide rolls 7a and 7b.
Rubber wrinkle removing rolls 12a and 12b are also provided between b and between the guide roll 7b and the winding roll 4, respectively.

【0017】しかしながら、この方法では、走行系の複
雑化、シワ取りロール11,12へのゴミの付着、シワ
取りロール11,12からのゴムの脱落、シワ取りロー
ル11,12のゴムからのガスの放出による真空度の劣
化等の不都合が生じ、好ましくない。また、シワ取りロ
ール11,12に付着したゴミやシワ取りロール11,
12から脱落したゴムが、その上を走行する非磁性支持
体2に付着したり、傷を付けてしまい、製造される薄膜
媒体のドロップアウトを引き起こし、薄膜媒体の特性の
低下を招いている。
However, in this method, the traveling system is complicated, dust is attached to the wrinkle removing rolls 11 and 12, rubber is dropped from the wrinkle removing rolls 11 and 12, and gas is generated from the rubber of the wrinkle removing rolls 11 and 12. This is not preferable because it causes inconveniences such as deterioration of the degree of vacuum due to the release of the. In addition, dust attached to the wrinkle removing rolls 11 and 12 and wrinkle removing rolls 11 and 12
The rubber dropped from 12 adheres to or scratches the non-magnetic support 2 running on it, causing dropout of the thin film medium to be produced, resulting in deterioration of the characteristics of the thin film medium.

【0018】そこで本発明は、従来の実情に鑑みて提案
されたものであり、大気圧による歪みが走行系を構成す
る薄膜形成手段に伝わらず、しかも小型軽量の真空薄膜
製造装置の提供と、これを用いて特性の良好な磁気記録
媒体を製造する方法の提供を目的とする。
Therefore, the present invention has been proposed in view of the conventional circumstances, and provides a vacuum thin film manufacturing apparatus which is small in size and light in weight and does not transmit strain due to atmospheric pressure to the thin film forming means constituting the traveling system. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a magnetic recording medium having excellent characteristics by using this.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに本願の第1の発明は、真空槽内に取付け台座が配さ
れ、該取付け台座上に複数のロールによって構成される
走行系を有する薄膜形成手段が設けられてなる真空薄膜
製造装置において、上記取付け台座の相対向する2面が
大気中に露出していることを特徴とするものである。
In order to achieve the above object, the first invention of the present application provides a traveling system in which a mounting base is arranged in a vacuum chamber and a plurality of rolls are mounted on the mounting base. In the vacuum thin film manufacturing apparatus provided with the thin film forming means, it is characterized in that the two opposite surfaces of the mounting pedestal are exposed to the atmosphere.

【0020】また、本願の第2の発明は、真空槽内に取
付け台座が配され、該取付け台座上に複数のロールによ
って構成される走行系を有する薄膜形成手段が設けられ
てなる真空薄膜製造装置において、上記取付け台座が上
記真空槽に対して弾性部材を介して取り付けられている
ことを特徴とするものである。
A second invention of the present application is a vacuum thin film manufacturing method in which a mounting base is arranged in a vacuum chamber, and a thin film forming means having a traveling system constituted by a plurality of rolls is provided on the mounting base. In the apparatus, the mounting base is attached to the vacuum chamber via an elastic member.

【0021】そして、本願の第3の発明は、磁気記録媒
体の製造方法において、上記の真空薄膜製造装置を用
い、走行系にゴム製しわ取りロールを配することなく非
磁性支持体を走行させ、金属磁性薄膜を成膜することを
特徴とするものである。
A third invention of the present application is a method of manufacturing a magnetic recording medium, wherein the above-mentioned vacuum thin film manufacturing apparatus is used to run a non-magnetic support without disposing a rubber wrinkle removing roll in the running system. It is characterized in that a metal magnetic thin film is formed.

【0022】[0022]

【作用】本願の第1の発明においては、真空槽内に配さ
れ、複数のロールによって構成される走行系を有する薄
膜形成手段が設けられた取付け台座の相対向する2面が
大気中に露出しているので、真空槽内を真空状態とした
場合には、取付け台座の相対向する2面にそれぞれ大気
圧がかかるが、これら大気圧は互いに打ち消される方向
とされるので相殺されることになり、該取付け台座には
歪みが発生しない。これにより、取付け台座上に設けら
れる複数のロールによって構成される走行系を有する薄
膜形成手段には歪みが伝わらない。
In the first aspect of the present invention, the two opposing surfaces of the mounting pedestal, which is arranged in the vacuum chamber and provided with the thin film forming means having the traveling system constituted by a plurality of rolls, are exposed to the atmosphere. Therefore, when the inside of the vacuum chamber is in a vacuum state, the atmospheric pressures are applied to the two surfaces of the mounting pedestal which face each other, but these atmospheric pressures are canceled out by each other. Therefore, the mounting base is not distorted. As a result, no strain is transmitted to the thin film forming means having the traveling system constituted by the plurality of rolls provided on the mounting base.

【0023】また、本願の第2の発明においては、真空
槽内に配され、複数のロールによって構成される走行系
を有する薄膜形成手段が設けられた取付け台座が真空槽
に対して弾性部材を介して取り付けられているので、上
記真空槽内を真空状態とした場合、該真空槽にかかる大
気圧は上記弾性部材に吸収され、上記取付け台座へは伝
達されることがない。従って、取付け台座上に設けられ
る複数のロールによって構成される走行系を有する薄膜
形成手段には歪みが伝わらない。
In the second invention of the present application, the mounting pedestal provided in the vacuum chamber with the thin film forming means having a traveling system constituted by a plurality of rolls has an elastic member for the vacuum chamber. When the inside of the vacuum chamber is in a vacuum state, the atmospheric pressure applied to the vacuum chamber is absorbed by the elastic member and is not transmitted to the mounting pedestal. Therefore, the strain is not transmitted to the thin film forming means having the traveling system constituted by the plurality of rolls provided on the mounting base.

【0024】一方、上記真空薄膜製造装置では、薄膜形
成手段に歪みが伝わらないことから、ゴム製のしわ取り
ロールは不要である。従って、上記真空薄膜製造装置を
用い、走行系にゴム製しわ取りロールを配することなく
非磁性支持体を走行させ、金属磁性薄膜を成膜する本発
明の磁気記録媒体の製造方法では、ゴム等が金属磁性薄
膜表面に付着することなく、また真空度の劣化や傷つき
が発生することもない。
On the other hand, in the above vacuum thin film manufacturing apparatus, since the strain is not transmitted to the thin film forming means, the wrinkle removing roll made of rubber is unnecessary. Therefore, in the method for producing a magnetic recording medium of the present invention in which a nonmagnetic support is run without disposing a rubber wrinkle removing roll in the running system by using the above vacuum thin film manufacturing apparatus, and a magnetic recording medium of the present invention is formed, Does not adhere to the surface of the metal magnetic thin film, and the degree of vacuum is not deteriorated or scratched.

【0025】[0025]

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて図面を参照しながら説明する。なお、本実施例は、
所謂縦型の真空薄膜製造装置の例である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Specific embodiments to which the present invention is applied will be described below with reference to the drawings. In this example,
This is an example of a so-called vertical vacuum thin film manufacturing apparatus.

【0026】本実施例の真空薄膜製造装置は、図1に示
すように、底部に設けられた2箇所の排気口15から排
気されて内部が真空状態となされた真空槽1内に、同図
中矢印aで示す時計回り方向に定速回転する送りロール
3と同様に矢印bで示す時計回り方向に定速回転する巻
取りロール4とが設けられ、これら送りロール3から巻
取りロール4にテープ状の非磁性支持体2が順次走行す
るようになされている。
As shown in FIG. 1, the vacuum thin film manufacturing apparatus of the present embodiment has a vacuum chamber 1 in which the inside is brought into a vacuum state by being exhausted from two exhaust ports 15 provided at the bottom. Similarly to the feed roll 3 which rotates at a constant speed in the clockwise direction indicated by the middle arrow a, and a winding roll 4 which rotates at a constant speed in the clockwise direction indicated by an arrow b are provided. The tape-shaped non-magnetic support 2 is designed to run sequentially.

【0027】これら送りロール3から巻取りロール4側
に上記非磁性支持体2が走行する中途部には、上記各ロ
ール3,4の径よりも大径となされた冷却キャン5が設
けられている。この冷却キャン5は、上記非磁性支持体
2を図中左方に引き出す様に設けられ、やはり同図中矢
印cで示す時計回り方向に定速回転するようになされて
いる。尚、上記送りロール3、巻取りロール4、及び冷
却キャン5は、それぞれ非磁性支持体2の幅と略同じ長
さからなる円筒状をなすものであり、上記冷却キャン5
には、内部に図示しない冷却装置が設けられ、上記非磁
性支持体2の温度上昇による変形等を抑制し得るように
なされている。
A cooling can 5 having a diameter larger than that of each of the rolls 3 and 4 is provided in the middle of the non-magnetic support 2 traveling from the feed roll 3 to the take-up roll 4 side. There is. The cooling can 5 is provided so as to pull out the non-magnetic support 2 to the left in the figure, and is also adapted to rotate at a constant speed in the clockwise direction indicated by an arrow c in the figure. The feed roll 3, the take-up roll 4, and the cooling can 5 each have a cylindrical shape having a length substantially the same as the width of the nonmagnetic support 2.
Is provided with a cooling device (not shown) inside so that deformation of the non-magnetic support 2 due to temperature rise can be suppressed.

【0028】従って、上記非磁性支持体2は送りロール
3から順次送り出され、さらに上記冷却キャン5の周面
を通過し、巻取りロール4に巻取られていくようになさ
れている。尚、上記送りロール3と上記冷却キャン5と
の間及び該冷却キャン5と上記巻取りロール4との間に
はそれぞれガイドロール6,7が3箇所ずつ配設され、
これらガイドロール6,7によって上記送りロール3か
ら冷却キャン5及び該冷却キャン5から巻取りロール4
にわたって走行する非磁性支持体2に所定のテンション
をかけ、該非磁性支持体2が円滑に走行するようになさ
れている。すなわち、送りロール3と冷却キャン5との
間には3箇所のガイドロール6a,6b,6cが設けら
れ、冷却キャン5と巻取りロール4との間にも3箇所の
ガイドロール7a,7b,7cが設けられることとな
る。従って、送りロール3,ガイドロール6,冷却キャ
ン5,ガイドロール7,巻取りロール4によって非磁性
支持体2の走行系が構成されることとなる。
Therefore, the non-magnetic support 2 is sequentially fed from the feed roll 3, passes through the peripheral surface of the cooling can 5, and is wound up by the winding roll 4. Three guide rolls 6 and 7 are provided between the feed roll 3 and the cooling can 5 and between the cooling can 5 and the take-up roll 4, respectively.
By these guide rolls 6 and 7, the feeding roll 3 to the cooling can 5 and the cooling can 5 to the winding roll 4
A predetermined tension is applied to the non-magnetic support 2 that runs over the non-magnetic support 2 so that the non-magnetic support 2 runs smoothly. That is, three guide rolls 6a, 6b, 6c are provided between the feed roll 3 and the cooling can 5, and three guide rolls 7a, 7b, 7b are also provided between the cooling can 5 and the winding roll 4. 7c will be provided. Therefore, the feed roll 3, the guide roll 6, the cooling can 5, the guide roll 7, and the winding roll 4 constitute a traveling system of the non-magnetic support 2.

【0029】また、上記真空槽1内には、上記冷却キャ
ン5の下方にルツボ8が設けられ、このルツボ8内に金
属磁性材料9が充填されている。このルツボ8は、上記
冷却キャン5のロール長さと略同一長さの容器として形
成されている。
A crucible 8 is provided below the cooling can 5 in the vacuum chamber 1, and a metal magnetic material 9 is filled in the crucible 8. The crucible 8 is formed as a container having substantially the same length as the roll length of the cooling can 5.

【0030】一方、上記真空槽1の側壁部には、上記ル
ツボ8内に充填された金属磁性材料9を加熱蒸発させる
ための電子銃10が取り付けられている。この電子銃1
0は、当該電子銃10より放出される電子線Xが上記ル
ツボ8内の金属磁性材料9に照射されるような位置に配
設される。そして、この電子銃10によって蒸発した金
属磁性材料9が上記冷却キャン5の周面を定速走行する
非磁性支持体2上に磁性層として被着形成されるように
なっている。
On the other hand, an electron gun 10 for heating and evaporating the metallic magnetic material 9 filled in the crucible 8 is attached to the side wall of the vacuum chamber 1. This electron gun 1
0 is arranged at a position such that the electron beam X emitted from the electron gun 10 irradiates the metallic magnetic material 9 in the crucible 8. The metallic magnetic material 9 evaporated by the electron gun 10 is deposited and formed as a magnetic layer on the non-magnetic support 2 that runs at a constant speed on the peripheral surface of the cooling can 5.

【0031】また、上記冷却キャン5と上記ルツボ8と
の間にあって該冷却キャン5の近傍には、シャッタ13
が配設されている。このシャッタ13は、上記冷却キャ
ン5の周面を定速走行する非磁性支持体2の所定領域を
覆う形で形成されている。そして、このシャッタ13に
より蒸発せしめられた金属磁性材料9が上記非磁性支持
体2に対して所定の角度範囲で斜めに蒸着されるように
なっている。更に、このような蒸着に際し、上記真空槽
1の底部を貫通して設けられる酸素ガス導入口14を介
して非磁性支持体2の表面に酸素ガスが供給され、磁気
特性、耐久性及び耐候性の向上が図られている。
A shutter 13 is provided between the cooling can 5 and the crucible 8 and near the cooling can 5.
Is provided. The shutter 13 is formed so as to cover a predetermined region of the non-magnetic support 2 that runs at a constant speed on the peripheral surface of the cooling can 5. The metallic magnetic material 9 evaporated by the shutter 13 is obliquely deposited on the non-magnetic support 2 within a predetermined angle range. Further, during such vapor deposition, oxygen gas is supplied to the surface of the non-magnetic support 2 through an oxygen gas inlet 14 provided penetrating the bottom of the vacuum chamber 1 to provide magnetic properties, durability and weather resistance. Is being improved.

【0032】ところで、走行系を構成する薄膜形成手段
たる送りロール3や巻取りロール4等は、図2に示すよ
うに、いずれも真空槽1内に配設される取付け台座16
上に設けられている。上記取付け台座16は、真空槽1
内に配設されるに足る大きさとされた平面矩形状をなす
支持台として形成され、その四辺である外側面16a,
16b(残り2つの外側面は図示を省略する。)を大気
中に露出させるようにして上記真空槽1に取付けられて
いる。換言すれば、取付け台座16は、その四辺である
外側面16a,16bのみが大気中に露出するように、
上記真空槽1に取付けられている。従って、上記取付け
台座16の外側面16a,16bが真空槽1の一部を構
成することとなる。なお、上記取付け台座16と真空槽
1の接合部分には、該真空槽1内の真空度を維持するた
めに気密性に優れたゴムシール等よりなるシール部材等
が設けられている。
By the way, as shown in FIG. 2, the feed roll 3 and the take-up roll 4 which are the thin film forming means constituting the traveling system are all mounted in the vacuum chamber 1 as shown in FIG.
It is provided above. The mounting base 16 is a vacuum chamber 1
Is formed as a support base in the shape of a plane rectangle that is large enough to be placed inside, and its four sides are outer surfaces 16a,
16b (the remaining two outer surfaces are not shown) is attached to the vacuum chamber 1 so as to be exposed to the atmosphere. In other words, the mounting pedestal 16 is such that only the four outer sides 16a and 16b of the mounting pedestal 16 are exposed to the atmosphere.
It is attached to the vacuum chamber 1. Therefore, the outer surfaces 16a and 16b of the mounting base 16 form a part of the vacuum chamber 1. A seal member made of a rubber seal or the like having excellent airtightness is provided at the joint between the mounting base 16 and the vacuum chamber 1 in order to maintain the degree of vacuum in the vacuum chamber 1.

【0033】そして、上記取付け台座16には、上記各
ロール3,4・・・7及び冷却キャン5を支持するため
の一対の支持体17a,17bが設けられている。これ
ら支持体17a,17bは、所定間隔を隔てて略平行と
なるように上記取付け台座16に対して垂直に設けら
れ、それらの間に上記各ロール3,4・・・7及び冷却
キャン5(図中には送りロール3及び冷却キャン5のみ
を示す。)を回転可能となるように支持している。すな
わち、上記各ロール3,4・・・7及び冷却キャン5
は、回転軸の両端部を上記支持体17a,17bにそれ
ぞれ支持させることにより、軸回り方向に回転するよう
になっている。
The mounting pedestal 16 is provided with a pair of supports 17a and 17b for supporting the rolls 3, 4, ... 7 and the cooling can 5. These supporting members 17a and 17b are provided perpendicularly to the mounting base 16 so as to be substantially parallel to each other with a predetermined space therebetween, and between the supporting members 17a and 17b, the rolls 3, 4 ... 7 and the cooling can 5 ( Only the feed roll 3 and the cooling can 5 are shown in the figure) so as to be rotatable. That is, each of the rolls 3, 4, ... 7 and the cooling can 5
Is rotated about the axis by supporting both ends of the rotary shaft by the supports 17a and 17b, respectively.

【0034】さらに、上記取付け台座16には、上記各
ロール3,4・・・7及び冷却キャン5が設けられる面
とは反対側の面に、これらロール3,4・・・7及び冷
却キャン5の重さにより取り付け台座16が撓まないよ
うに下から支えて該取り付け台座16の機械的強度を高
めるための橋桁の如き補強部材18が、所定間隔で縦横
に複数設けられている。この結果、上記一対の支持体1
7a,17bによって回動可能に支持された各ロール
3,4・・・7及び冷却キャン5は、回動軸が曲がった
りすることなく大気状態で高精度に組立てられる。な
お、これら補強部材18は、真空槽1には接触しないよ
うになっている。
Further, the mounting pedestal 16 is provided on the surface opposite to the surface on which the rolls 3, 4, ... 7 and the cooling can 5 are provided, on the surface opposite to the rolls 3, 4 ,. A plurality of reinforcing members 18 such as bridge girders are provided vertically and horizontally at predetermined intervals to support the mounting base 16 from the bottom so as to prevent it from being bent by the weight of 5 and increase the mechanical strength of the mounting base 16. As a result, the pair of supports 1
The rolls 3, 4, ... 7 and the cooling can 5, which are rotatably supported by 7a and 17b, are assembled with high accuracy in the atmospheric state without the rotation shaft being bent. Note that these reinforcing members 18 do not come into contact with the vacuum chamber 1.

【0035】このように構成された真空薄膜製造装置の
真空槽1を真空状態とした場合には、図3に示すよう
に、真空槽1には頭部からの大気圧P1 と側面からの大
気圧P 2 ,P3 及び底部からの大気圧P4 がかかり、該
真空槽1は同図に示すように変形する。一方、取付け台
座16には、大気中に露出する外側面16a,16bの
みに大気圧P5 ,P6 がかかる。しかしながら、この取
付け台座16にかかる大気圧P5 ,P6 は、互いに打ち
消し合う方向であり、しかも大気中に露出する面積も同
じであることからその圧力も同一であるため、相殺され
る。この結果、取付け台座16には大気圧による歪みが
生じず、該取付け台座16は変形しない。
The vacuum thin film manufacturing apparatus configured as described above
When the vacuum chamber 1 is in a vacuum state, as shown in FIG.
In addition, the vacuum chamber 1 has an atmospheric pressure P from the head.1And large from the side
Barometric pressure P 2, P3And atmospheric pressure P from the bottomFourIt costs
The vacuum chamber 1 is deformed as shown in FIG. Meanwhile, the mounting base
The seat 16 has outer surfaces 16a and 16b exposed to the atmosphere.
Atmospheric pressure PFive, P6Takes. However, this
Atmospheric pressure P on mounting base 16Five, P6Hit each other
The areas are exposed to each other, and the area exposed to the atmosphere is the same.
Since the pressure is the same because they are the same, they are offset.
It As a result, the mounting base 16 is not distorted by atmospheric pressure.
It does not occur and the mounting base 16 does not deform.

【0036】従って、上記取付け台座16上に配される
支持体17a,17bには大気圧による歪みが伝わら
ず、これによって支持される各ロール3,4・・・7及
び冷却キャン5にも歪みが発生しない。この結果、各ロ
ール3,4・・・7及び冷却キャン5により走行せしめ
られる非磁性支持体2上にはシワが発生せず、且つ磁性
層が蒸着されて得られる薄膜媒体表面のシワも生じず、
良好な品質を有する薄膜媒体を歩留り良く製造すること
ができる。
Therefore, the distortion due to the atmospheric pressure is not transmitted to the supports 17a and 17b arranged on the mounting pedestal 16, and the rolls 3, 4 ... 7 and the cooling can 5 supported thereby are also distorted. Does not occur. As a result, wrinkles do not occur on the non-magnetic support 2 run by the rolls 3, 4 ... 7 and the cooling can 5, and wrinkles also occur on the surface of the thin film medium obtained by vapor deposition of the magnetic layer. No
A thin film medium having good quality can be manufactured with high yield.

【0037】また、このことによりシワ取りロール等を
非磁性支持体の走行系中に配する必要がなくなり、真空
薄膜製造装置の構成を単純化することが可能である。さ
らに、装置の単純化により真空槽,排気系の小型化も可
能となる。
Further, as a result, it is not necessary to dispose a wrinkle removing roll or the like in the traveling system of the non-magnetic support, and the structure of the vacuum thin film manufacturing apparatus can be simplified. Further, the vacuum chamber and the exhaust system can be downsized by simplifying the device.

【0038】さらにまた、非磁性支持体の走行系中にシ
ワ取りロールを配する必要がないことから、シワ取りロ
ールからのゴムの脱落、シワ取りロールのゴムからのガ
スの放出による真空度の劣化等の不都合が生じない。ま
た、シワ取りロールに付着したゴミやシワ取りロールか
ら脱落したゴムが、その上を走行する非磁性支持体に付
着したり、傷を付けたりすることもなく、製造される薄
膜媒体のドロップアウト等が発生せず、特性が劣化する
こともない。
Furthermore, since it is not necessary to dispose a wrinkle removing roll in the running system of the non-magnetic support, the rubber is removed from the wrinkle removing roll, and the degree of vacuum is reduced due to the release of gas from the rubber of the wrinkle removing roll. Inconvenience such as deterioration does not occur. In addition, dust adhered to the wrinkle removing roll or rubber dropped from the wrinkle removing roll does not adhere to the non-magnetic support running on it or scratch it, and the dropout of the thin film medium to be produced. Does not occur and the characteristics do not deteriorate.

【0039】なお、上述の実施例では、取付け台座16
の一部を真空槽1の一部としたが、例えばこの取付け台
座16を完全に真空槽1内に配設するようにしてもよ
い。すなわち、図4に示すように、筺体状をなす真空槽
1を床面23上に載置し、その内部に一対の支持体17
a,17bによって各ロール3,4・・・7及び冷却キ
ャン5(図中には送りロール3及び冷却キャン5のみを
示す。)を回転可能に支持してなる取付け台座16を設
ける。
In the above embodiment, the mounting pedestal 16
Although a part of the above is a part of the vacuum chamber 1, for example, the mounting pedestal 16 may be completely arranged in the vacuum chamber 1. That is, as shown in FIG. 4, the vacuum chamber 1 having a housing shape is placed on the floor surface 23, and the pair of support members 17 are provided inside the vacuum tank 1.
7 and a cooling can 5 (only the feed roll 3 and the cooling can 5 are shown in the drawing) are rotatably supported by a mounting base 16.

【0040】このとき、上記取付け台座16を真空槽1
と接触しないように支持するために、図5に示すように
該真空槽1の底板部1aに開口26を設け、例えば円柱
状又は角柱状をなす複数の脚部20をこの開口26より
臨ませてこれら脚部20によって上記取付け台座16を
床面23上に支持する。そしてさらに、上記脚部20と
上記開口26との間に、該真空槽1を真空状態としたと
きに大気圧による真空槽1の歪みを吸収するゴムシール
等からなる弾性部材22を介在させる。換言すれば、取
付け台座16を支持する脚部20と真空槽1との接合部
24に、該真空槽1の気密状態を保持するとともに大気
圧による真空槽1の歪みを吸収する弾性部材22を設け
る。
At this time, the mounting base 16 is attached to the vacuum chamber 1
As shown in FIG. 5, an opening 26 is provided in the bottom plate portion 1a of the vacuum chamber 1 so as to support it so as not to come into contact therewith, and a plurality of columnar or prismatic leg portions 20 are exposed from the opening 26, for example. The mounting base 16 is supported on the floor surface 23 by these legs 20. Further, an elastic member 22 made of a rubber seal or the like is interposed between the leg portion 20 and the opening 26 to absorb strain of the vacuum chamber 1 due to atmospheric pressure when the vacuum chamber 1 is in a vacuum state. In other words, an elastic member 22 that maintains the airtight state of the vacuum chamber 1 and absorbs the strain of the vacuum chamber 1 due to the atmospheric pressure is provided at the joint 24 between the leg 20 supporting the mounting base 16 and the vacuum chamber 1. Set up.

【0041】この他、図6に示すように、取付け台座1
6を支持する脚部20と真空槽1との接合部24である
該真空槽1の底板部1aと取付け台座16間に、上記脚
部20を取り囲むようにしてジャバラ状の金属シール
(ベローズ)等よりなる弾性部材25を介在させるよう
にしてもよい。
In addition to this, as shown in FIG.
A bellows-shaped metal seal (bellows) that surrounds the leg 20 between the mounting base 16 and the bottom plate 1a of the vacuum chamber 1 which is the joint 24 between the leg 20 supporting the vacuum chamber 6 and the vacuum chamber 1. You may make it interpose the elastic member 25 which consists of etc.

【0042】このような構成とすれば、図7に示すよう
に、真空槽1を真空状態とした場合には頭部からの大気
圧P1 と側面からの大気圧P2 ,P3 及び底部からの大
気圧P4 がかかり、真空槽1は同図に示すように変形す
るものの、真空槽1に生じた歪みは、上記脚部20と真
空槽1との間に介在された弾性部材22によって吸収さ
れ、該脚部20には歪みが伝達されず、取付け台座16
にも歪が伝達されない。また、弾性部材22としてゴム
シールを用いた場合には、真空槽1の密閉度を高めるこ
ともでき、その真空度を高めることができる。同様に、
真空槽1と取付け台座16間に金属シールを配した場合
も取付け台座16には歪みが伝達されない。
With this structure, as shown in FIG. 7, when the vacuum chamber 1 is in a vacuum state, the atmospheric pressure P 1 from the head, the atmospheric pressures P 2 and P 3 from the side surface, and the bottom portion. Although the vacuum chamber 1 is deformed as shown in the figure by the atmospheric pressure P 4 from the above, the strain generated in the vacuum chamber 1 causes the elastic member 22 interposed between the leg portion 20 and the vacuum chamber 1. Is absorbed by the mounting portion 16 and the strain is not transmitted to the legs 20.
No distortion is transmitted. Further, when a rubber seal is used as the elastic member 22, the degree of airtightness of the vacuum chamber 1 can be increased and the degree of vacuum can be increased. Similarly,
Even if a metal seal is arranged between the vacuum chamber 1 and the mounting base 16, no strain is transmitted to the mounting base 16.

【0043】従って、上記取付け台座16上に配される
支持体17a,17bには大気圧による歪みが伝わら
ず、これによって支持される各ロール3,4・・・7及
び冷却キャン5にも歪みが発生しない。この結果、各ロ
ール3,4・・・7及び冷却キャン5により走行せしめ
られる非磁性支持体2上にはシワが発生せず、且つ磁性
層が蒸着されて得られる薄膜媒体表面のシワも生じず、
良好な品質を有する薄膜媒体を歩留り良く製造すること
ができる。
Therefore, the distortion due to the atmospheric pressure is not transmitted to the supports 17a and 17b arranged on the mounting pedestal 16, and the rolls 3, 4 ... 7 and the cooling can 5 supported thereby are also distorted. Does not occur. As a result, wrinkles do not occur on the non-magnetic support 2 run by the rolls 3, 4, ... 7 and the cooling can 5, and wrinkles occur on the surface of the thin film medium obtained by vapor deposition of the magnetic layer. No
A thin film medium having good quality can be manufactured with high yield.

【0044】また、このことによりシワ取りロール等を
非磁性支持体の走行系中に配する必要がなくなり、真空
薄膜製造装置の構成を単純化することが可能である。さ
らに、装置の単純化により真空槽,排気系の小型化も可
能となる。
Further, as a result, it is not necessary to dispose a wrinkle removing roll or the like in the traveling system of the non-magnetic support, and the structure of the vacuum thin film manufacturing apparatus can be simplified. Further, the vacuum chamber and the exhaust system can be downsized by simplifying the device.

【0045】さらにまた、非磁性支持体の走行系中にシ
ワ取りロールを配する必要がないことから、シワ取りロ
ールからのゴムの脱落、シワ取りロールのゴムからのガ
スの放出による真空度の劣化等の不都合が生じない。ま
た、シワ取りロールに付着したゴミやシワ取りロールか
ら脱落したゴムが、その上を走行する非磁性支持体に付
着したり、傷を付けたりすることもなく、製造される薄
膜媒体のドロップアウト等が発生せず、特性が劣化する
こともない。
Furthermore, since it is not necessary to dispose a wrinkle removing roll in the traveling system of the non-magnetic support, the rubber is removed from the wrinkle removing roll, and the degree of vacuum is reduced due to the release of gas from the rubber of the wrinkle removing roll. Inconvenience such as deterioration does not occur. In addition, dust adhered to the wrinkle removing roll or rubber dropped from the wrinkle removing roll does not adhere to the non-magnetic support running on it or scratch it, and the dropout of the thin film medium to be produced. Does not occur and the characteristics do not deteriorate.

【0046】本実施例においては、これまで縦型の真空
薄膜製造装置の例について述べてきたが、横型の真空薄
膜製造装置においても同様の作用効果が期待できること
は言うまでもない。
In this embodiment, the example of the vertical vacuum thin film manufacturing apparatus has been described so far, but it is needless to say that similar effects can be expected in the horizontal vacuum thin film manufacturing apparatus.

【0047】本実施例においては、真空槽1内に取付け
台座16が配され、該取付け台座16上に複数のロール
によって構成される走行系を有する薄膜形成手段が設け
られてなる真空薄膜製造装置について述べてきたが、本
発明の思想は真空槽1内に配される取付け台座16上に
高い組み立て精度を要求される機器が設けられる装置に
おいて適用可能であり、真空槽を真空状態とした場合に
おいても設置機器の組み立て精度を損なうことがなく、
設置機器の能力を損なうことがない。
In this embodiment, a vacuum thin film manufacturing apparatus is provided with a mounting base 16 arranged in the vacuum chamber 1, and a thin film forming means having a traveling system constituted by a plurality of rolls is provided on the mounting base 16. However, the idea of the present invention can be applied to an apparatus in which a device requiring high assembly accuracy is provided on the mounting pedestal 16 arranged in the vacuum chamber 1, and when the vacuum chamber is in a vacuum state. Even in the
Does not impair the ability of the installed equipment.

【0048】次に本実施例の真空薄膜製造装置の効果を
確認すべく、これを用いて薄膜媒体を製造し、上記薄膜
媒体の特性を評価した。
Next, in order to confirm the effect of the vacuum thin film manufacturing apparatus of this example, a thin film medium was manufactured using this, and the characteristics of the above thin film medium were evaluated.

【0049】すなわち、図1及び図2に示すような本実
施例の真空薄膜製造装置と、図13に示すような従来の
真空薄膜製造装置を用い、8mm幅のサンプルテープを
それぞれ製造し、これらのドロップアウトを測定した。
That is, using the vacuum thin film manufacturing apparatus of this embodiment as shown in FIGS. 1 and 2 and the conventional vacuum thin film manufacturing apparatus as shown in FIG. 13, sample tapes each having a width of 8 mm are manufactured. Was measured for dropout.

【0050】なお、サンプルテープは、以下のようにし
て製造した。まず、非磁性支持体上に磁性層を蒸着によ
り形成した。このとき、上記非磁性支持体としては、厚
さ10μm,幅150mmのポリエチレンテレフタレー
トフィルムにアクリルエステルを主成分とする水溶性ラ
テックス(密度1000万個/mm2 )を下塗り層とし
て形成したものを使用した。一方、磁性層を形成する金
属磁性材料としては、Co80−Ni20wt%を使用し
た。そして、磁性層の蒸着条件であるが、金属磁性磁性
材料の入射角を40〜90゜とし、非磁性支持体走行速
度を0.17m/secとし、形成される磁性層の厚さ
を0.2μmとし、酸素導入量を3.3×10-63
secとし、蒸着時の真空度を7.0×10-2Paとし
た。
The sample tape was manufactured as follows. First, a magnetic layer was formed on a non-magnetic support by vapor deposition. At this time, as the non-magnetic support, a polyethylene terephthalate film having a thickness of 10 μm and a width of 150 mm formed with a water-soluble latex containing acrylic ester as a main component (a density of 10 million pieces / mm 2 ) as an undercoat layer is used. did. On the other hand, Co 80 —Ni 20 wt% was used as the metallic magnetic material forming the magnetic layer. The deposition conditions for the magnetic layer are as follows: the incident angle of the metallic magnetic material is 40 to 90 °, the running speed of the non-magnetic support is 0.17 m / sec, and the thickness of the magnetic layer to be formed is 0. 2 μm and the amount of oxygen introduced is 3.3 × 10 −6 m 3 /
sec, and the degree of vacuum during vapor deposition was 7.0 × 10 -2 Pa.

【0051】次に、磁性層の形成された非磁性支持体
に、バックコート及びトップコートを形成し、8mm幅
にスリットしてサンプルテープとした。なお、上記バッ
クコートは、カーボン及びウレタンバインダーを混合し
たものを0.6μmの厚さに塗布して形成し、トップコ
ートはパーフルオロポリエーテルを塗布して形成した。
なお、本実施例の真空薄膜製造装置を用いて製造された
サンプルテープを実施サンプルテープとし、従来の真空
薄膜製造装置を用いて製造されたサンプルテープを比較
サンプルテープとする。
Next, a back coat and a top coat were formed on the non-magnetic support on which the magnetic layer was formed and slit into a width of 8 mm to obtain a sample tape. The back coat was formed by applying a mixture of carbon and urethane binder to a thickness of 0.6 μm, and the top coat was formed by applying perfluoropolyether.
The sample tape manufactured using the vacuum thin film manufacturing apparatus of this example is referred to as a working sample tape, and the sample tape manufactured using the conventional vacuum thin film manufacturing apparatus is referred to as a comparative sample tape.

【0052】そして、上記のようにして形成された各サ
ンプルテープのドロップアウトを以下のようにして測定
した。すなわち、8mmビデオデッキを記録波長λ=
0.50μmの単一周波数で記録・再生可能なように改
造し、該8mmビデオデッキにて各サンプルテープに上
記記録波長で記録を行い、その再生出力波形をエンベロ
ープ検波し、信号のぬけ(ドロップアウト)の個数をド
ロップアウトカウンターにより測定した。
Then, the dropout of each sample tape formed as described above was measured as follows. That is, the recording wavelength λ = 8 mm video deck
Modified to record / reproduce at a single frequency of 0.50 μm, record on each sample tape at the above recording wavelength with the 8 mm video deck, envelope-detect the reproduced output waveform, and drop the signal (drop). Out) was counted by a dropout counter.

【0053】なお、ドロップアウトであるか否かは、図
8に示すようなエンベロープ検波によって測定された波
形において、波形中のドロップアウト部分の時間t及び
その深さdによって判断した。ただし、深さdは、図中
ドロップアウト部分の実測深さaと波形の深さbによっ
て決定される値とし、d=−20log(b/a)dB
として規定した。そして、深さdが−16dB以下,時
間tが10μsec以上のものをドロップアウト1と
し、深さdが−10dB以下,時間tが10μsec以
上のものをドロップアウト2としてこれらの個数を測定
した。結果を表1に示す。
Whether or not it is a dropout is determined by the time t of the dropout portion in the waveform and its depth d in the waveform measured by envelope detection as shown in FIG. However, the depth d is a value determined by the measured depth a of the dropout portion in the figure and the depth b of the waveform, and d = −20 log (b / a) dB
Stipulated as. Then, those having a depth d of -16 dB or less and a time t of 10 µsec or more were designated as dropout 1, and those having a depth d of -10 dB or less and a time t of 10 µsec or more were designated as dropout 2, and the numbers thereof were measured. The results are shown in Table 1.

【0054】[0054]

【表1】 [Table 1]

【0055】表1の結果を見て明らかなように、実施サ
ンプルテープの方が比較サンプルテープよりもドロップ
アウトの個数が少なくなっている。これは、実施サンプ
ルテープにおいては、真空薄膜製造装置中にゴム製のシ
ワ取りロールを配しておらず、シワ取りロールに付着し
たゴミやシワ取りロールから脱落したゴムが、その上を
走行する非磁性支持体に付着したり、傷を付けたりする
ことがないためと思われる。従って、本実施例の真空薄
膜製造装置を使用すれば、特性の良好な薄膜媒体を製造
できることが確認された。
As is clear from the results shown in Table 1, the number of dropouts in the practical sample tape is smaller than that in the comparative sample tape. This is because in the implementation sample tape, the rubber thin wrinkle removing roll is not arranged in the vacuum thin film manufacturing apparatus, and the dust adhering to the wrinkle removing roll and the rubber dropped from the wrinkle removing roll run on it. This is probably because it does not adhere to or scratch the non-magnetic support. Therefore, it was confirmed that a thin film medium having excellent characteristics can be manufactured by using the vacuum thin film manufacturing apparatus of this example.

【0056】[0056]

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明は、真空槽内に取付け台座が配され、該取付け台座上
に複数のロールによって構成される走行系を有する薄膜
形成手段が設けられてなる真空薄膜製造装置において、
上記取付け台座の相対向する2面が大気中に露出してい
るため、真空槽内を真空状態とした場合に取付け台座に
は相対向する2面からのみ大気圧がかかり、これら大気
圧は互いに打ち消し合う方向に働くので相殺される。従
って、取付け台座には歪みが発生せず、走行系にも歪み
が発生せず、品質の良好な薄膜媒体を製造することがで
き、製造歩留りを向上させることができる。
As is apparent from the above description, according to the present invention, a mounting base is arranged in a vacuum chamber, and a thin film forming means having a traveling system constituted by a plurality of rolls is provided on the mounting base. In the vacuum thin film manufacturing equipment
Since the two opposite surfaces of the mounting pedestal are exposed to the atmosphere, atmospheric pressure is applied to the mounting pedestal only from the two opposite surfaces when the vacuum chamber is evacuated, and these atmospheric pressures are mutually different. They cancel each other out because they work in the direction of canceling each other. Therefore, the mounting pedestal is not distorted, the traveling system is not distorted, and a thin film medium of good quality can be manufactured, and the manufacturing yield can be improved.

【0057】また、本発明は、真空槽内に取付け台座が
配され、該取付け台座上に複数のロールによって構成さ
れる走行系を有する薄膜形成手段が設けられてなる真空
薄膜製造装置において、上記真空槽の接合部に弾性部材
を介して取付け台座を取り付けたため、真空槽内を真空
状態とした場合に真空槽にかかる大気圧は上記弾性部材
に吸収されて取付け台座に伝達されることがない。従っ
て、取付け台座には歪みが発生せず、走行系にも歪みが
発生せず、品質の良好な薄膜媒体を製造することがで
き、製造歩留りを向上させることができる。
The present invention also provides a vacuum thin film manufacturing apparatus, wherein a mounting base is arranged in a vacuum chamber, and a thin film forming means having a traveling system constituted by a plurality of rolls is provided on the mounting base. Since the mounting pedestal is attached to the joint of the vacuum chamber via the elastic member, the atmospheric pressure applied to the vacuum chamber is not absorbed by the elastic member and transmitted to the mounting pedestal when the vacuum chamber is in a vacuum state. . Therefore, the mounting pedestal is not distorted, the traveling system is not distorted, and a thin film medium of good quality can be manufactured, and the manufacturing yield can be improved.

【0058】さらに本発明の真空薄膜製造装置において
は、従来のように取付け台座の厚さを厚くする、又はシ
ワ取りロールを走行系に配するといったことが必要でな
く、真空薄膜製造装置の構造を単純化することができ
る。さらにまた、装置の単純化により真空槽,排気系の
小型化も可能となり、その工業的価値は非常に高い。
Further, in the vacuum thin film manufacturing apparatus of the present invention, it is not necessary to increase the thickness of the mounting pedestal or to dispose the wrinkle removing roll in the traveling system as in the conventional case, and the structure of the vacuum thin film manufacturing apparatus is improved. Can be simplified. Furthermore, the vacuum chamber and the exhaust system can be downsized by simplifying the device, and its industrial value is very high.

【0059】さらにまた、本発明の真空薄膜製造装置を
用い、走行系にゴム製しわ取りロールを配することなく
非磁性支持体を走行させ、金属磁性薄膜を成膜する磁気
記録媒体の製造方法においては、非磁性支持体の走行系
中にシワ取りロールを配する必要がないことから、シワ
取りロールの構成材料、例えばゴムの脱落、ゴムからの
ガスの放出による真空度の劣化等の不都合が生じない。
また、シワ取りロールに付着したゴミやシワ取りロール
から脱落したゴムが、その上を走行する非磁性支持体に
付着したり、傷を付けたりすることもなく、製造される
薄膜媒体のドロップアウト等が発生せず、特性が劣化す
ることもない。
Furthermore, using the vacuum thin film manufacturing apparatus of the present invention, a method for manufacturing a magnetic recording medium in which a metal magnetic thin film is formed by running a non-magnetic support without disposing a rubber wrinkle removing roll in the running system. In the above, since it is not necessary to dispose a wrinkle removing roll in the traveling system of the non-magnetic support, there are inconveniences such as the loss of the constituent material of the wrinkle removing roll, for example, the loss of the rubber and the deterioration of the degree of vacuum due to the release of gas from the rubber. Does not occur.
In addition, dust adhered to the wrinkle removing roll or rubber dropped from the wrinkle removing roll does not adhere to the non-magnetic support running on it or scratch it, and the dropout of the thin film medium to be produced. Does not occur and the characteristics do not deteriorate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】真空薄膜製造装置を示す要部概略模式図であ
る。
FIG. 1 is a schematic view of a main part of a vacuum thin film manufacturing apparatus.

【図2】本発明を適用した真空薄膜製造装置の一例を模
式的に示す要部概略断面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a main part schematically showing an example of a vacuum thin film manufacturing apparatus to which the present invention is applied.

【図3】本発明を適用した真空薄膜製造装置の真空槽を
真空状態とした状態の一例を模式的に示す要部概略断面
図である。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a main part schematically showing an example of a state in which a vacuum tank of a vacuum thin film manufacturing apparatus to which the present invention is applied is in a vacuum state.

【図4】本発明を適用した真空薄膜製造装置の他の例を
模式的に示す要部概略断面図である。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a main part schematically showing another example of the vacuum thin film manufacturing apparatus to which the present invention is applied.

【図5】本発明を適用した真空薄膜製造装置の真空槽と
脚部の接合部の一例を模式的に示す要部拡大断面図であ
る。
FIG. 5 is an enlarged sectional view of an essential part schematically showing an example of a joint between a vacuum chamber and a leg of a vacuum thin film manufacturing apparatus to which the present invention is applied.

【図6】本発明を適用した真空薄膜製造装置の真空槽と
脚部の接合部の他の例を模式的に示す要部拡大断面図で
ある。
FIG. 6 is an enlarged cross-sectional view of a main part schematically showing another example of the joining portion between the vacuum tank and the leg portion of the vacuum thin film manufacturing apparatus to which the present invention is applied.

【図7】本発明を適用した真空薄膜製造装置の真空槽を
真空状態とした状態の他の例を模式的に示す要部概略断
面図である。
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of essential parts schematically showing another example of a state in which the vacuum tank of the vacuum thin film manufacturing apparatus to which the present invention is applied is in a vacuum state.

【図8】エンベロープ検波によって測定された波形と波
形中のドロップアウト部分の関係を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing a relationship between a waveform measured by envelope detection and a dropout portion in the waveform.

【図9】従来の縦型の真空薄膜製造装置を模式的に示す
要部概略断面図である。
FIG. 9 is a schematic cross-sectional view of a main part schematically showing a conventional vertical vacuum thin film manufacturing apparatus.

【図10】従来の横型の真空薄膜製造装置を模式的に示
す要部概略断面図である。
FIG. 10 is a schematic cross-sectional view of a main part schematically showing a conventional horizontal vacuum thin film manufacturing apparatus.

【図11】従来の縦型の真空薄膜製造装置の真空槽を真
空状態とした状態を模式的に示す要部概略断面図であ
る。
FIG. 11 is a schematic cross-sectional view of essential parts schematically showing a state in which a vacuum tank of a conventional vertical vacuum thin film manufacturing apparatus is in a vacuum state.

【図12】従来の横型の真空薄膜製造装置の真空槽を真
空状態とした状態を模式的に示す要部概略断面図であ
る。
FIG. 12 is a schematic cross-sectional view of a main part schematically showing a state in which a vacuum tank of a conventional horizontal vacuum thin film manufacturing apparatus is in a vacuum state.

【図13】従来の真空薄膜製造装置を示す要部概略模式
図である。
FIG. 13 is a schematic view of a main part of a conventional vacuum thin film manufacturing apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・真空槽 3・・・送りロール 4・・・巻取りロール 5・・・冷却キャン 6,7・・・ガイドロール 11,12・・・シワ取りロール 16・・・取付け台座 17・・・支持体 18・・・補強部材 20・・・脚部 22,25・・・弾性部材 1 ... Vacuum tank 3 ... Feed roll 4 ... Winding roll 5 ... Cooling can 6,7 ... Guide roll 11, 12 ... Wrinkle removing roll 16 ... Mounting base 17 ... ..Support 18 ... Reinforcing member 20 ... Legs 22, 25 ... Elastic member

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 島貫 誠 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Makoto Shimanuki 6-735 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sony Corporation

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 真空槽内に取付け台座が配され、該取付
け台座上に複数のロールによって構成される走行系を有
する薄膜形成手段が設けられてなる真空薄膜製造装置に
おいて、 上記取付け台座の相対向する2面が大気中に露出してい
ることを特徴とする真空薄膜製造装置。
1. A vacuum thin film manufacturing apparatus comprising a mounting base arranged in a vacuum chamber, and a thin film forming means having a traveling system constituted by a plurality of rolls provided on the mounting base. A vacuum thin film manufacturing apparatus characterized in that two facing surfaces are exposed to the atmosphere.
【請求項2】 真空槽内に取付け台座が配され、該取付
け台座上に複数のロールによって構成される走行系を有
する薄膜形成手段が設けられてなる真空薄膜製造装置に
おいて、 上記取付け台座が上記真空槽に対して弾性部材を介して
取り付けられたことを特徴とする真空薄膜製造装置。
2. A vacuum thin film manufacturing apparatus comprising a mounting base arranged in a vacuum chamber, and a thin film forming means having a traveling system constituted by a plurality of rolls provided on the mounting base. A vacuum thin film manufacturing apparatus, which is attached to a vacuum chamber via an elastic member.
【請求項3】 請求項1又は請求項2記載の真空薄膜製
造装置を用い、走行系にゴム製しわ取りロールを配する
ことなく非磁性支持体を走行させ、金属磁性薄膜を成膜
することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
3. The vacuum thin film manufacturing apparatus according to claim 1 or 2, wherein a non-magnetic support is allowed to run without disposing a rubber wrinkle removing roll in a running system to form a metal magnetic thin film. And a method for manufacturing a magnetic recording medium.
JP5329315A 1992-12-26 1993-12-27 Device for producing thin film in vacuum and production of magnetic recording medium using the same Pending JPH06240443A (en)

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