JPH10251843A - Vacuum evaporation apparatus - Google Patents
Vacuum evaporation apparatusInfo
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- JPH10251843A JPH10251843A JP5655997A JP5655997A JPH10251843A JP H10251843 A JPH10251843 A JP H10251843A JP 5655997 A JP5655997 A JP 5655997A JP 5655997 A JP5655997 A JP 5655997A JP H10251843 A JPH10251843 A JP H10251843A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体製造
用の真空蒸着装置、特にその非磁性ベースフィルムの表
面活性化のために使用する放電装置に関するものであ
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a vacuum deposition apparatus for producing a magnetic recording medium, and more particularly to a discharge apparatus used for activating the surface of a non-magnetic base film.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来より、例えばビデオテープレコーダ
ーにおいては、高密度記録化による画質の向上が進めら
れており、これに対応すべく、例えば8ミリVTR用の
磁気記録媒体として金属磁性薄膜を磁性層とする蒸着テ
ープが実用化されている。2. Description of the Related Art Conventionally, for example, in a video tape recorder, image quality has been improved by high-density recording. To cope with this, for example, a metal magnetic thin film is used as a magnetic recording medium for an 8 mm VTR. A vapor deposition tape as a layer has been put to practical use.
【0003】蒸着テープは、これまで広く使用されてき
た塗布型の磁気テープに比べて磁気特性に優れ、また、
磁性層の厚さも薄いことから、電磁変換特性の点で塗布
型の磁気テープを上回る性能を発揮するものと期待され
ている。[0003] Evaporated tapes have better magnetic properties than coating type magnetic tapes that have been widely used so far.
Since the thickness of the magnetic layer is also small, it is expected that the magnetic layer will exhibit performance superior to that of the coating type magnetic tape in terms of electromagnetic conversion characteristics.
【0004】こうした蒸着テープは、塗布型テープと異
なり、真空蒸着装置内においてCo−Ni等の磁性金属
物質を溶解し、その蒸気を非磁性ベースフィルム表面に
均質に付着させることにより製造される。[0004] Unlike the coating type tape, such a vapor deposition tape is manufactured by dissolving a magnetic metal material such as Co-Ni in a vacuum vapor deposition apparatus and uniformly adhering the vapor to the surface of the non-magnetic base film.
【0005】このような蒸着テープを真空蒸着装置で製
造する一般的な方法として、斜方蒸着と称される蒸着装
置を図5に示す。この真空蒸着装置1は、真空槽2内
に、非磁性ベースフィルム40を巻回した巻出しローラ
4及び巻取りローラ5、非磁性ベースフィルム40を冷
却しながら案内するクーリングロール3及びこのクーリ
ングロール3の下方に位置して磁性金属11を収容した
ルツボ6が配置される。[0005] As a general method of manufacturing such a vapor deposition tape with a vacuum vapor deposition apparatus, FIG. 5 shows a vapor deposition apparatus called oblique vapor deposition. The vacuum evaporation apparatus 1 includes an unwind roller 4 and a take-up roller 5 having a non-magnetic base film 40 wound thereon in a vacuum chamber 2, a cooling roll 3 for guiding the non-magnetic base film 40 while cooling, and the cooling roll 3. A crucible 6 containing a magnetic metal 11 is disposed below the crucible 3.
【0006】又、クーリングロール3の近傍において、
蒸発金属の入射角を規定するシャッター8及びクーリン
グロール3とシャッター8間に、酸素ガスを供給する酸
素導入管9が配置される。更に、クーリングロール3の
所定位置(即ち蒸着位置の手前に対応する位置)に対向
して、表面活性化のための放電装置14が配置されて成
る。又、真空槽2内は、排気口13から真空ポンプによ
り排気される。なお、10は、非磁性ベースフィルム4
0の案内ガイドローラ、7は、磁性金属11を蒸発させ
る手段として真空槽2外に設けられた電子銃である。In the vicinity of the cooling roll 3,
An oxygen introducing pipe 9 for supplying oxygen gas is disposed between the shutter 8 and the cooling roll 3 and the shutter 8 for defining the incident angle of the evaporated metal. Further, a discharge device 14 for activating the surface is arranged to face a predetermined position of the cooling roll 3 (that is, a position corresponding to a position before the vapor deposition position). The inside of the vacuum chamber 2 is evacuated from an exhaust port 13 by a vacuum pump. 10 is a non-magnetic base film 4
The guide guide roller 7 is an electron gun provided outside the vacuum chamber 2 as a means for evaporating the magnetic metal 11.
【0007】放電装置14は、図6に示すように、クー
リングロール3と所要の間隙を置いて対向する電極23
とこの電極23の上面及び側面を絶縁ガイシ22を介し
て覆うカバー21と、電極23の両側に位置してカバー
21と連結したステー20と放電装置14内に、例えば
酸素ガスを導入するガス導入管24とから構成され、ス
テー20によって、放電装置14の位置決め及び取り付
けがなされる。As shown in FIG. 6, the discharge device 14 is provided with an electrode 23 facing the cooling roll 3 with a required gap.
And a cover 21 that covers the top and side surfaces of the electrode 23 via an insulating insulator 22, a stay 20 located on both sides of the electrode 23 and connected to the cover 21, and gas introduction for introducing, for example, oxygen gas into the discharge device 14. The discharge device 14 is positioned and attached by the stay 20.
【0008】この真空蒸着装置1では、巻出しローラ4
から送り出された非磁性ベースフィルム40が、クーリ
ングロール3に案内されながら矢印方向に移送され、放
電装置14により非磁性ベースフィルム40の表面が活
性化される。次いで電子銃7から出射された電子ビーム
Bにより溶解されたルツボ6内の金属11が蒸気となっ
て、クーリングロール3により冷却された非磁性ベース
フィルム40に蒸着される。In the vacuum evaporation apparatus 1, the unwind roller 4
The non-magnetic base film 40 sent out of the apparatus is transported in the direction of the arrow while being guided by the cooling roll 3, and the surface of the non-magnetic base film 40 is activated by the discharge device 14. Next, the metal 11 in the crucible 6 melted by the electron beam B emitted from the electron gun 7 becomes a vapor and is deposited on the non-magnetic base film 40 cooled by the cooling roll 3.
【0009】上記蒸発金属は、クーリングロール3の近
傍に設置されたシャッター8により金属蒸気の入射角が
制限されて斜方蒸着され、更に酸素導入管9により供給
された酸素により酸化されて、所定の磁気特性に規定さ
れた金属薄膜となる。金属薄膜を蒸着したベースフィル
ム40は、クーリングロール3によりさらに冷却された
後、巻取りローラ5により巻き取られる。The vaporized metal is obliquely vapor-deposited by restricting the incident angle of the metal vapor by a shutter 8 provided near the cooling roll 3, and is further oxidized by oxygen supplied by an oxygen introduction pipe 9 to be oxidized. A metal thin film defined by the magnetic properties of The base film 40 on which the metal thin film is deposited is further cooled by the cooling roll 3 and then wound up by the winding roller 5.
【0010】[0010]
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記放電装
置14において、放電装置内に導入したガスが漏れにく
いように、ステー20とクーリングロール3との間隙は
1〜3mmとしている。In the discharge device 14, the gap between the stay 20 and the cooling roll 3 is set to 1 to 3 mm so that the gas introduced into the discharge device does not easily leak.
【0011】カバー21とステー20は金属のため、絶
縁ガイシ22を介して電極23を取り付けているが、カ
バー21やステー20と電極23との距離は、構造上大
きく取れないので、2〜10mm程度になっている。ス
テー20とクーリングロール3間の絶縁抵抗が小さい
と、異常放電が発生し、クーリングロール3に接触して
いるベースフィルム40に損傷を与えてしまい、蒸着時
の熱により焼けて、穴が開いてしまうという問題があっ
た。これでは蒸着が継続できないため、稼働率が低下す
る。Since the cover 21 and the stay 20 are made of metal, the electrode 23 is attached through an insulating insulator 22. However, the distance between the cover 21 and the stay 20 and the electrode 23 cannot be made large because of the structure. It is about. If the insulation resistance between the stay 20 and the cooling roll 3 is small, abnormal discharge occurs, and the base film 40 in contact with the cooling roll 3 is damaged. There was a problem that it would. In this case, since the vapor deposition cannot be continued, the operation rate decreases.
【0012】本発明は、このような異常放電を防止し、
ベースフィルムの穴開による稼働率及び歩留りの低下を
防止する真空蒸着装置を提供するものである。The present invention prevents such abnormal discharge,
An object of the present invention is to provide a vacuum deposition apparatus that prevents a reduction in the operation rate and yield due to perforation of a base film.
【0013】[0013]
【課題を解決するための手段】本発明の真空蒸着装置
は、この装置に備えた放電装置の取り付けステーのクー
リングロール対向面に、絶縁材によるステーカバーを設
けた構成とする。上記のように、放電装置のステーを絶
縁材によりカバーすることにより、ステーとクーリング
ロールとの異常放電を防止することが可能となる。The vacuum deposition apparatus of the present invention has a structure in which a stay cover made of an insulating material is provided on a surface of a mounting stay of a discharge device provided in this device, which is opposed to a cooling roll. As described above, by covering the stay of the discharge device with the insulating material, it is possible to prevent abnormal discharge between the stay and the cooling roll.
【0014】[0014]
【発明の実施の形態】本発明に係る真空蒸着装置は、非
磁性基体を案内するクーリングロール及び表面活性化用
の放電装置を備えて、非磁性基体上に蒸着材を蒸着する
真空蒸着装置において、放電装置の取り付けステーのク
ーリングロールとの対向面に、絶縁材によるステーカバ
ーを設けた構成とする。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A vacuum deposition apparatus according to the present invention is provided with a cooling roll for guiding a non-magnetic substrate and a discharge device for activating the surface to deposit a deposition material on the non-magnetic substrate. A stay cover made of an insulating material is provided on the surface of the mounting stay of the discharge device facing the cooling roll.
【0015】本発明は、上記真空蒸着装置において、絶
縁材としてポリアセタール樹脂を用いた構成とする。According to the present invention, in the above-described vacuum deposition apparatus, a polyacetal resin is used as an insulating material.
【0016】以下、図面を参照して本発明による真空蒸
着装置の実施例について説明する。Hereinafter, an embodiment of a vacuum deposition apparatus according to the present invention will be described with reference to the drawings.
【0017】先ず、本実施例の真空蒸着装置で得られる
磁気記録媒体、即ち金属磁性薄膜を磁性層とする蒸着テ
ープの構造を図4に示す。この蒸着テープ43は、非磁
性基体である非磁性ベースフィルム40の一方の面に、
金属磁性薄膜41が蒸着されて成る。そして、非磁性ベ
ースフィルム40の他方の面には、仮想線で示すバック
コート層42が形成されていることが好ましい。First, FIG. 4 shows the structure of a magnetic recording medium obtained by the vacuum vapor deposition apparatus of this embodiment, that is, a vapor deposition tape having a metal magnetic thin film as a magnetic layer. The vapor deposition tape 43 is provided on one surface of a non-magnetic base film 40 which is a non-magnetic substrate.
The metal magnetic thin film 41 is deposited. It is preferable that a back coat layer 42 indicated by a virtual line is formed on the other surface of the nonmagnetic base film 40.
【0018】上記ベースフィルム40は、非磁性のプラ
スチックフィルムで、通常ポリエチレンテレフタレート
等からなる10μm程度の厚みのものが用いられる。The base film 40 is a non-magnetic plastic film, usually made of polyethylene terephthalate or the like and having a thickness of about 10 μm.
【0019】磁性金属薄膜41を形成する際に用いられ
る強磁性金属材料としては、Fe,Co,Ni,Cr等
の金属の他に、Co−Ni合金、Co−Pt合金、Co
−Ni−Pt合金、Fe−Co合金、Fe−Ni合金、
Fe−Co−Ni合金、Fe−Co−B合金、Co−N
i−Fe−B合金、或いはこれらにCr,Al等の金属
が含有されたもの等が挙げられる。こうした金属磁性薄
膜41の膜厚は、通常0.02〜1μmである。As the ferromagnetic metal material used for forming the magnetic metal thin film 41, in addition to metals such as Fe, Co, Ni, and Cr, a Co—Ni alloy, a Co—Pt alloy,
-Ni-Pt alloy, Fe-Co alloy, Fe-Ni alloy,
Fe-Co-Ni alloy, Fe-Co-B alloy, Co-N
An i-Fe-B alloy, or an alloy containing a metal such as Cr, Al, or the like, may be used. The thickness of the metal magnetic thin film 41 is usually 0.02 to 1 μm.
【0020】なお、バックコート層42の材料として
は、PHが6.0以上(特に6.0〜10.0)で、D
BP給油量が80cc/100g以下のカーボンブラッ
クが、耐久性が良好で帯電防止や錆の発生を防ぐ上で好
適である。バックコート層の厚さは、0.4〜1.2μ
mとするのが良い。The material of the back coat layer 42 has a pH of 6.0 or more (particularly 6.0 to 10.0) and a D
Carbon black having a BP lubricating amount of 80 cc / 100 g or less is preferable in terms of good durability, antistatic properties and prevention of rust. The thickness of the back coat layer is 0.4 to 1.2 μ
m.
【0021】図1は、本発明に係る真空蒸着装置の一実
施例である。本実施例に係る真空蒸着装置51は、前述
と同様に、真空槽2内に、非磁性ベースフィルム40を
巻回した巻出しローラ4及び巻取りローラ5、非磁性ベ
ースフィルム40を冷却しながら案内するクーリングロ
ール3及びこのクーリングロール3の下方に位置して磁
性金属(例えばCo−Ni合金)を収容したルツボ6が
配置される。FIG. 1 shows an embodiment of a vacuum deposition apparatus according to the present invention. The vacuum deposition apparatus 51 according to the present embodiment cools the non-magnetic base film 40 while cooling the unwind roller 4 and the take-up roller 5 around which the non-magnetic base film 40 is wound in the vacuum chamber 2 as described above. A cooling roll 3 to be guided and a crucible 6 containing a magnetic metal (for example, a Co—Ni alloy) are disposed below the cooling roll 3.
【0022】更に、クーリングロール3の近傍において
蒸発金属の入射角を規定するシャッター8及びクーリン
グロール3とシャッター8間に酸素ガスを供給する酸素
導入管9が配置され、真空槽2内は、排気口13から真
空ポンプにより排気される。なお、10は非磁性ベース
フィルム40の案内用のガイドロール、7は磁性金属1
1を蒸発させる手段として真空槽2外に設けられた電子
銃である。Further, a shutter 8 for defining an incident angle of the evaporated metal in the vicinity of the cooling roll 3 and an oxygen introducing pipe 9 for supplying oxygen gas between the cooling roll 3 and the shutter 8 are arranged. Air is exhausted from the port 13 by a vacuum pump. 10 is a guide roll for guiding the non-magnetic base film 40, 7 is a magnetic metal 1
An electron gun provided outside the vacuum chamber 2 as a means for evaporating 1.
【0023】そして、本実施例においては、特に、真空
槽2内のクーリングロール3の所定位置(即ち蒸着位置
の手前に対応する位置)に対向して、非磁性ベースフィ
ルム40の表面を活性化させるための新規な放電装置5
2を配置する。In this embodiment, in particular, the surface of the nonmagnetic base film 40 is activated facing a predetermined position of the cooling roll 3 in the vacuum chamber 2 (ie, a position corresponding to a position just before the vapor deposition position). New discharge device 5 for causing
2 is arranged.
【0024】この放電装置52には、図2及び図3に示
すように電極54を覆うように絶縁ガイシ55を介して
金属製のカバー56が設けられ、このカバー56の両側
端に金属製のステー57が連結されると共に、ステー5
7のクーリングロール3との対向面を覆うように、絶縁
材からなるステーカバー58が設けられて成る。As shown in FIGS. 2 and 3, the discharge device 52 is provided with a metal cover 56 via an insulating insulator 55 so as to cover the electrode 54. Metal covers 56 are provided on both ends of the cover 56. The stay 57 is connected and the stay 5 is connected.
A stay cover 58 made of an insulating material is provided so as to cover the surface facing the cooling roll 3.
【0025】ステーカバー58は、例えば図3に示すよ
うに、直方体をなすステー57の下面及び両側を覆う断
面U字状に形成され、ボルト59によりステー57に固
定される。放電装置52には、電極54とクーリングロ
ール3間に放電をし易くするためのガス導入管60が設
けられる。ステー58は、放電装置52の位置決め及び
取り付けに用いられる。As shown in FIG. 3, for example, the stay cover 58 is formed in a U-shaped section so as to cover the lower surface and both sides of a rectangular parallelepiped stay 57, and is fixed to the stay 57 by bolts 59. The discharge device 52 is provided with a gas introduction tube 60 for facilitating discharge between the electrode 54 and the cooling roll 3. The stay 58 is used for positioning and attaching the discharge device 52.
【0026】ステーカバー58の絶縁材の材質として
は、本発明の目的に反しないものであれば特に限定はな
いが、例えば、高精度の加工ができるポリアセタール樹
脂が好適であり、さらにこの樹脂の一種であるデルリン
(Du Pont社のポリアセタール樹脂の商品名)が
好適である。なお、ステーカバー58の形状やステー5
7に固定する方法は、高精度に構成できれば特に限定は
なく、ステー57の形状に沿う形状で、ボルト59によ
り固定しても良いし、接着剤を用いて固定する等、適宜
の方法で行うことも可能である。The material of the insulating material of the stay cover 58 is not particularly limited as long as it does not violate the object of the present invention. For example, a polyacetal resin which can be processed with high precision is preferable. Delrin (a trade name of polyacetal resin manufactured by Du Pont), which is a kind, is suitable. The shape of the stay cover 58 and the stay 5
There is no particular limitation on the method of fixing to the stay 7 as long as it can be configured with high precision, and it may be fixed by bolts 59 in a shape following the shape of the stay 57, or may be fixed by an appropriate method such as fixing with an adhesive. It is also possible.
【0027】かかる真空蒸着装置51は、前述と同様に
動作する。すなわち、巻出しローラ4から送り出された
ベースフィルム40は、適度の張力を付与されて、クー
リングロール3に沿って冷却されながら移送され、ガイ
ドローラ10を経て巻取りローラ5に巻き取られる。ベ
ースフィルム40の移送途上で放電装置52とクーリン
グロール3の間で放電が行われて、ベースフィルム40
の表面が活性化される。The vacuum deposition apparatus 51 operates in the same manner as described above. That is, the base film 40 sent out from the unwinding roller 4 is transported while being cooled along the cooling roll 3 while being given an appropriate tension, and is wound up by the winding roller 5 via the guide roller 10. During the transfer of the base film 40, discharge is performed between the discharge device 52 and the cooling roll 3, and the base film 40 is discharged.
Is activated.
【0028】次いで、電子銃7から出射された電子ビー
ムBにより、磁性金属11が溶解され、その蒸発金属が
表面活性化されたベースフィルム40に蒸着される。Next, the magnetic metal 11 is melted by the electron beam B emitted from the electron gun 7, and the evaporated metal is deposited on the base film 40 whose surface is activated.
【0029】蒸発金属は、クーリングロール3の近傍に
設置されたシャッター8により、入射角が制限されて斜
方蒸着され、更に酸素導入管9により供給された酸素に
より、所定の酸化度となり、所定の磁気特性を有する金
属薄膜となる。即ちこれが、図4に示した金属薄膜41
となる。The vaporized metal is obliquely vapor-deposited at a limited incident angle by a shutter 8 provided in the vicinity of the cooling roll 3, and further has a predetermined degree of oxidation by oxygen supplied from an oxygen introduction pipe 9. A metal thin film having the following magnetic properties. That is, this is the metal thin film 41 shown in FIG.
Becomes
【0030】上述した実施例の真空蒸着装置51によれ
ば、特に放電装置52のステー57のクーリングロール
3と対向する面に、絶縁材のステーカバー58を設ける
ことにより、例え電極54とカバー56、ステー57と
の間の絶縁抵抗が低下したとしても、ステー57とクー
リングロール3間での異常放電を防止することができ
る。従って、ベースフィルム40はダメージを受けず、
蒸着時の熱により焼けて穴が開くという不都合は生じな
い。この結果、ベースフィルム40に穴があくことによ
る設備停止がなくなり、稼働率や歩留りの低下を防ぐこ
とができる。According to the vacuum deposition apparatus 51 of the above-described embodiment, the stay 54 of the stay 57 of the discharge device 52 is provided with the stay cover 58 made of an insulating material, so that, for example, the electrode 54 and the cover 56 are provided. Even if the insulation resistance between the stay 57 and the stay 57 is reduced, abnormal discharge between the stay 57 and the cooling roll 3 can be prevented. Therefore, the base film 40 is not damaged,
There is no inconvenience that a hole is opened by burning due to heat at the time of deposition. As a result, equipment stoppage due to a hole in the base film 40 is eliminated, and a reduction in the operation rate and yield can be prevented.
【0031】[0031]
【発明の効果】本発明は、放電装置取付けステーを絶縁
構造としたことにより、ステーとクーリングロールとの
異常放電を防止することができる。従って異常放電によ
って、ベースフィルムに穴が開く等による設備停止がな
くなり、稼働率や磁気記録媒体の製造歩留りを向上する
ことができる。According to the present invention, an abnormal discharge between the stay and the cooling roll can be prevented by using an insulating structure for the discharge device mounting stay. Therefore, equipment stoppage due to a hole or the like in the base film due to abnormal discharge is eliminated, and the operation rate and the production yield of the magnetic recording medium can be improved.
【図1】本発明による真空蒸着装置の一実施例を示す構
成図である。FIG. 1 is a configuration diagram showing one embodiment of a vacuum evaporation apparatus according to the present invention.
【図2】本発明で用いる放電装置の拡大斜視図である。FIG. 2 is an enlarged perspective view of a discharge device used in the present invention.
【図3】本発明で用いるステー及びステーカバーの斜視
図である。FIG. 3 is a perspective view of a stay and a stay cover used in the present invention.
【図4】本発明の真空蒸着装置により得られる蒸着テー
プの断面図である。FIG. 4 is a sectional view of a deposition tape obtained by the vacuum deposition apparatus of the present invention.
【図5】従来の真空蒸着装置の例を示す構成図である。FIG. 5 is a configuration diagram showing an example of a conventional vacuum evaporation apparatus.
【図6】従来の放電装置の拡大斜視図である。FIG. 6 is an enlarged perspective view of a conventional discharge device.
1,51 真空蒸着装置、2 真空槽、3 クーリング
ロール、4 巻出しローラ、 5 巻取りローラ、6
ルツボ、7 電子銃、8 シャッター、9 酸素導入
管、10 ガイドローラ、13 排気口、14,52
放電装置、20,57 ステー、21,56 カバー、
22,55 絶縁ガイシ、23,54 電極、24,6
0 ガス導入管、40 ベースフィルム、41 金属磁
性薄膜、42 バックコート層、58 ステーカバー、
59 固定ボルト、B;電子ビーム1,51 vacuum evaporation apparatus, 2 vacuum tank, 3 cooling roll, 4 unwind roller, 5 take-up roller, 6
Crucible, 7 electron gun, 8 shutter, 9 oxygen introduction pipe, 10 guide roller, 13 exhaust port, 14, 52
Discharge device, 20,57 stay, 21,56 cover,
22, 55 insulation insulator, 23, 54 electrode, 24, 6
0 gas introduction pipe, 40 base film, 41 metal magnetic thin film, 42 back coat layer, 58 stay cover,
59 fixing bolt, B; electron beam
Claims (2)
及び表面活性用の放電装置を備えて、非磁性基体上に磁
性材を蒸着する真空蒸着装置において、前記放電装置の
取り付けステーの前記クーリングロールとの対向面に、
絶縁材によるステーカバーが設けられて成ることを特徴
とする真空蒸着装置。1. A vacuum deposition apparatus comprising a cooling roll for guiding a non-magnetic substrate and a discharge device for surface activation, and for depositing a magnetic material on the non-magnetic substrate. On the opposite surface of
A vacuum deposition apparatus comprising a stay cover made of an insulating material.
を用いたことを特徴とする請求項1に記載の真空蒸着装
置。2. The vacuum deposition apparatus according to claim 1, wherein a polyacetal resin is used as the insulating material.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5655997A JPH10251843A (en) | 1997-03-11 | 1997-03-11 | Vacuum evaporation apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5655997A JPH10251843A (en) | 1997-03-11 | 1997-03-11 | Vacuum evaporation apparatus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10251843A true JPH10251843A (en) | 1998-09-22 |
Family
ID=13030484
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5655997A Pending JPH10251843A (en) | 1997-03-11 | 1997-03-11 | Vacuum evaporation apparatus |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10251843A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018096235A1 (en) * | 2016-11-28 | 2018-05-31 | Coating Plasma Industrie | An electrode for an apparatus for processing the surface of a moving substrate, corresponding processing apparatus and unit |
-
1997
- 1997-03-11 JP JP5655997A patent/JPH10251843A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018096235A1 (en) * | 2016-11-28 | 2018-05-31 | Coating Plasma Industrie | An electrode for an apparatus for processing the surface of a moving substrate, corresponding processing apparatus and unit |
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