JPH06238564A - 電着砥石 - Google Patents
電着砥石Info
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- JPH06238564A JPH06238564A JP5001693A JP5001693A JPH06238564A JP H06238564 A JPH06238564 A JP H06238564A JP 5001693 A JP5001693 A JP 5001693A JP 5001693 A JP5001693 A JP 5001693A JP H06238564 A JPH06238564 A JP H06238564A
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- 238000000227 grinding Methods 0.000 title abstract description 11
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 claims abstract description 44
- 229910018104 Ni-P Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 229910018536 Ni—P Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 61
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 48
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 claims description 24
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 13
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 13
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 9
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 abstract description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 abstract description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 abstract description 2
- 230000035939 shock Effects 0.000 abstract 2
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 3
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 3
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- KERTUBUCQCSNJU-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);disulfamate Chemical compound [Ni+2].NS([O-])(=O)=O.NS([O-])(=O)=O KERTUBUCQCSNJU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 電着砥石の長寿命化を図る。
【構成】 砥石本体２の表面に被着されたニッケルめっ
きボンド層３に砥粒４が保持されており、さらにニッケ
ルめっきボンド層３の表面に硬質クロムめっき層５が被
着されている。 【効果】 硬質クロムめっき層５によってボンド層３の
早期摩耗が防止されるため、砥粒４の早期脱落を防止で
き、また、非粘着性が良好になるため研削性が向上し、
また、耐衝撃性が良好になるためブラストによる砥粒の
再生処理を行うことが可能になる。
きボンド層３に砥粒４が保持されており、さらにニッケ
ルめっきボンド層３の表面に硬質クロムめっき層５が被
着されている。 【効果】 硬質クロムめっき層５によってボンド層３の
早期摩耗が防止されるため、砥粒４の早期脱落を防止で
き、また、非粘着性が良好になるため研削性が向上し、
また、耐衝撃性が良好になるためブラストによる砥粒の
再生処理を行うことが可能になる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、砥石本体の表面に被着
されためっきボンド層に砥粒が保持されている電着砥石
に関する。
されためっきボンド層に砥粒が保持されている電着砥石
に関する。
【０００２】
【従来の技術】砥石本体の表面に被着されたニッケルめ
っきボンド層にダイヤモンドやＣＢＮ（立方晶窒化ホウ
素）等の砥粒が保持されている電着砥石は知られてい
る。
っきボンド層にダイヤモンドやＣＢＮ（立方晶窒化ホウ
素）等の砥粒が保持されている電着砥石は知られてい
る。
【０００３】電着砥石は、研削により、砥粒の摩耗と同
時に、めっきボンド層も被削材に接触することによって
摩耗する。めっきボンド層が摩耗すると、砥粒がめっき
ボンド層から遊離して脱落し、電着砥石は砥粒が一層で
あるため、砥粒の脱落は砥石の寿命となる。
時に、めっきボンド層も被削材に接触することによって
摩耗する。めっきボンド層が摩耗すると、砥粒がめっき
ボンド層から遊離して脱落し、電着砥石は砥粒が一層で
あるため、砥粒の脱落は砥石の寿命となる。
【０００４】従来の電着砥石は上記のように、ボンド層
がニッケルめっきであり、硬さがそれほど高くないた
め、ボンド層の摩耗が割合早く、砥粒の脱落が早い問題
があった。
がニッケルめっきであり、硬さがそれほど高くないた
め、ボンド層の摩耗が割合早く、砥粒の脱落が早い問題
があった。
【０００５】また、ニッケルめっきは非粘着性が劣るた
めに、切粉がボンド層の表面に付着しやすく、研削性が
劣化する問題があった。
めに、切粉がボンド層の表面に付着しやすく、研削性が
劣化する問題があった。
【０００６】また、砥粒が摩耗してその先端が平坦面に
なると、研削性が著しく劣化するため、一般にブラスト
等による衝撃力で砥粒の平坦面を破砕して鋭利な多角面
にする再生手段が採られるが、ボンド層がニッケルめっ
きである電着砥石の場合には、ブラスト時のボンド層の
摩耗が大きく、砥粒が遊離して脱落してしまうため、再
生処理が困難である。
なると、研削性が著しく劣化するため、一般にブラスト
等による衝撃力で砥粒の平坦面を破砕して鋭利な多角面
にする再生手段が採られるが、ボンド層がニッケルめっ
きである電着砥石の場合には、ブラスト時のボンド層の
摩耗が大きく、砥粒が遊離して脱落してしまうため、再
生処理が困難である。
【０００７】本発明は電着砥石の長寿命化を図ることを
目的とする。
目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の構成は、砥石本
体の表面に被着されたニッケルめっきボンド層に砥粒が
保持されている電着砥石において、前記ニッケルめっき
ボンド層の表面にニッケルめっきよりも耐摩耗性、耐衝
撃性、および非粘着性の優れためっき層が被着されてい
ることを特徴とする。ニッケルめっきボンド層の表面に
被着されるめっき層としては硬質クロムめっき層あるい
はＮｉ−ＰまたはＣｏ−Ｐ等の合金めっき層がよい。
体の表面に被着されたニッケルめっきボンド層に砥粒が
保持されている電着砥石において、前記ニッケルめっき
ボンド層の表面にニッケルめっきよりも耐摩耗性、耐衝
撃性、および非粘着性の優れためっき層が被着されてい
ることを特徴とする。ニッケルめっきボンド層の表面に
被着されるめっき層としては硬質クロムめっき層あるい
はＮｉ−ＰまたはＣｏ−Ｐ等の合金めっき層がよい。
【０００９】上記のようにニッケルめっきボンド層の表
面にめっき層を被着する代わりに、前記ニッケルめっき
ボンド層および砥粒の表面にＰＶＤ皮膜またはＣＶＤ皮
膜を被着するようにしてもよい。ＰＶＤ皮膜、ＣＶＤ皮
膜としてはＴｉＮ、Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）、ＣｒＮ、Ｃｒ
（Ｃ，Ｎ）の群より選ばれた１種または２種以上よりな
る物質の皮膜がよい。
面にめっき層を被着する代わりに、前記ニッケルめっき
ボンド層および砥粒の表面にＰＶＤ皮膜またはＣＶＤ皮
膜を被着するようにしてもよい。ＰＶＤ皮膜、ＣＶＤ皮
膜としてはＴｉＮ、Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）、ＣｒＮ、Ｃｒ
（Ｃ，Ｎ）の群より選ばれた１種または２種以上よりな
る物質の皮膜がよい。
【００１０】
【作用】ニッケルめっきボンド層の表面に、ニッケルめ
っきに比較して硬さが高く耐摩耗性に優れためっき層、
ＰＶＤ皮膜、あるいはＣＶＤ皮膜が被着されるので、ボ
ンド層の早期摩耗が防止され、その結果、砥粒の早期脱
落が防止される。
っきに比較して硬さが高く耐摩耗性に優れためっき層、
ＰＶＤ皮膜、あるいはＣＶＤ皮膜が被着されるので、ボ
ンド層の早期摩耗が防止され、その結果、砥粒の早期脱
落が防止される。
【００１１】また、ニッケルめっきボンド層の表面に被
着されためっき層、ＰＶＤ皮膜、あるいはＣＶＤ皮膜
は、ニッケルめっきに比較して切粉の非粘着性が優れて
いるため、切粉が砥粒間の表面に付着しにくくなり、研
削性が向上する。
着されためっき層、ＰＶＤ皮膜、あるいはＣＶＤ皮膜
は、ニッケルめっきに比較して切粉の非粘着性が優れて
いるため、切粉が砥粒間の表面に付着しにくくなり、研
削性が向上する。
【００１２】また、ニッケルめっきボンド層の表面に被
着されためっき層、ＰＶＤ皮膜、あるいはＣＶＤ皮膜
は、ニッケルめっきに比較して耐衝撃性が優れているた
め、摩耗した砥粒の先端面を再生するためにブラスト処
理を行っても、ボンド層の摩耗を防止できる。したがっ
て、電着砥石の再生利用をブラスト処理によって容易に
行うことができる。
着されためっき層、ＰＶＤ皮膜、あるいはＣＶＤ皮膜
は、ニッケルめっきに比較して耐衝撃性が優れているた
め、摩耗した砥粒の先端面を再生するためにブラスト処
理を行っても、ボンド層の摩耗を防止できる。したがっ
て、電着砥石の再生利用をブラスト処理によって容易に
行うことができる。
【００１３】
【実施例】図１は本発明の一実施例を示し、（ａ）は電
着砥石の一部分を示す縦断面図、（ｂ）は（ａ）の砥粒
部分を拡大して示す断面図である。
着砥石の一部分を示す縦断面図、（ｂ）は（ａ）の砥粒
部分を拡大して示す断面図である。
【００１４】図に示す電着砥石１はピストンリングの合
口調整用の砥石車であり、砥石の本体２は鋼製で、ピス
トンリングの合口を研摩する外周側の端部が薄い厚さに
構成され、その外周側の端部の全表面に被着されている
ニッケルめっきボンド層３に砥粒４が保持されており、
さらにニッケルめっきボンド層３の表面に硬質クロムめ
っき層５が被着されている。
口調整用の砥石車であり、砥石の本体２は鋼製で、ピス
トンリングの合口を研摩する外周側の端部が薄い厚さに
構成され、その外周側の端部の全表面に被着されている
ニッケルめっきボンド層３に砥粒４が保持されており、
さらにニッケルめっきボンド層３の表面に硬質クロムめ
っき層５が被着されている。
【００１５】砥粒の種類等は次の通りである。 （１）砥粒の種類：ＣＢＮ砥粒（＃１２０、平均粒径１
４０μｍ）
４０μｍ）
【００１６】（２）砥粒の数 円周方向において、１０ｍｍ当たりの砥粒の数をあらさ
計を使用して４か所で測定した。結果を表１に示す。
計を使用して４か所で測定した。結果を表１に示す。
【００１７】
【００１８】（３）砥粒の埋没率（めっき厚さ／砥粒平
均粒径） 約５５％
均粒径） 約５５％
【００１９】めっきの工程等は次の通りである。 （１）めっき工程 砥石本体の非めっき部分をマスキング→脱脂→水洗→電
解脱脂→水洗→酸洗→ストライクニッケルめっき→ＣＢ
Ｎ混合ニッケルめっき→ニッケルめっき→水洗→硬質ク
ロムめっき。 上記において、ＣＢＮ混合ニッケルめっきは、砥石本体
をめっき槽中に水平に配置し、その外側を隔膜で囲っ
て、ストライクめっき後、隔膜内に砥粒を投入して行
う。この際、めっき時間の１／２経過後、砥石本体の上
下を逆転すると、両面に砥粒を良好に付着させることが
できる。
解脱脂→水洗→酸洗→ストライクニッケルめっき→ＣＢ
Ｎ混合ニッケルめっき→ニッケルめっき→水洗→硬質ク
ロムめっき。 上記において、ＣＢＮ混合ニッケルめっきは、砥石本体
をめっき槽中に水平に配置し、その外側を隔膜で囲っ
て、ストライクめっき後、隔膜内に砥粒を投入して行
う。この際、めっき時間の１／２経過後、砥石本体の上
下を逆転すると、両面に砥粒を良好に付着させることが
できる。
【００２０】（２）めっき条件 ストライクニッケルめっき スルファミン酸ニッケル ３３０ｇｒ／ｌ ホウ酸 ３０ｇｒ／ｌ 塩化ニッケル ３０ｇｒ／ｌ ＰＨ ４．０ 温度 ４５℃ 電流密度 ６Ａ／ｄｍ2 めっき時間 ３０秒 めっき厚さ ０．５μｍ
【００２１】ＣＢＮ混合ニッケルめっき（砥粒の結
合） スルファミン酸ニッケル ３３０ｇｒ／ｌ ホウ酸 ３０ｇｒ／ｌ 塩化ニッケル ３０ｇｒ／ｌ ＰＨ ４．０ 温度 ４５℃ 電流密度 ４Ａ／ｄｍ2 めっき時間 ３分 めっき厚さ ２μｍ
合） スルファミン酸ニッケル ３３０ｇｒ／ｌ ホウ酸 ３０ｇｒ／ｌ 塩化ニッケル ３０ｇｒ／ｌ ＰＨ ４．０ 温度 ４５℃ 電流密度 ４Ａ／ｄｍ2 めっき時間 ３分 めっき厚さ ２μｍ
【００２２】ニッケルめっき（砥粒の埋込み率の調
整） スルファミン酸ニッケル ３３０ｇｒ／ｌ ホウ酸 ３０ｇｒ／ｌ 塩化ニッケル ３０ｇｒ／ｌ ＰＨ ４．０ 温度 ４５℃ 電流密度 ４Ａ／ｄｍ2 めっき時間 ７０分 めっき厚さ ５０μｍ
整） スルファミン酸ニッケル ３３０ｇｒ／ｌ ホウ酸 ３０ｇｒ／ｌ 塩化ニッケル ３０ｇｒ／ｌ ＰＨ ４．０ 温度 ４５℃ 電流密度 ４Ａ／ｄｍ2 めっき時間 ７０分 めっき厚さ ５０μｍ
【００２３】硬質クロムめっき クロム酸 ２５０ｇｒ／ｌ 硫酸 １．２ｇｒ／ｌ ケイ弗化カリ ３．０ｇｒ／ｌ 温度 ５０℃ 電流密度 ４５Ａ／ｄｍ2 めっき時間 ３０分 めっき厚さ ２０μｍ
【００２４】硬質クロムめっきの厚さは５〜２０μｍが
好ましい。５μｍ未満では硬化層としての厚さが不足
し、２０μｍを越えると一般に砥粒の突出量の不足を生
じやすい。
好ましい。５μｍ未満では硬化層としての厚さが不足
し、２０μｍを越えると一般に砥粒の突出量の不足を生
じやすい。
【００２５】また、上記実施例では硬質クロムめっきを
ニッケルめっきボンド層の全表面に被着したが、ニッケ
ルめっきボンド層の摩耗の大きい部分のみ、例えば上記
電着砥石の場合にはピストンリングの合口に接触する一
対の平面部分のみに施すようにしてもよい。
ニッケルめっきボンド層の全表面に被着したが、ニッケ
ルめっきボンド層の摩耗の大きい部分のみ、例えば上記
電着砥石の場合にはピストンリングの合口に接触する一
対の平面部分のみに施すようにしてもよい。
【００２６】電着砥石１の砥粒４が摩耗したときの再生
は、適当なブラスト条件で砥粒面を破砕して鋭利な多角
面とし、その後ニッケルめっきボンド層領域の表面に硬
質クロムめっきを施すことにより行う。
は、適当なブラスト条件で砥粒面を破砕して鋭利な多角
面とし、その後ニッケルめっきボンド層領域の表面に硬
質クロムめっきを施すことにより行う。
【００２７】図２は本発明の別の実施例を示すものであ
る。この電着砥石は、砥石本体２の表面に被着されたニ
ッケルめっきボンド層３に砥粒４が保持されており、さ
らに砥粒４とボンド層３の表面にＰＶＤ皮膜あるいはＣ
ＶＤ皮膜６が被着されているものである。
る。この電着砥石は、砥石本体２の表面に被着されたニ
ッケルめっきボンド層３に砥粒４が保持されており、さ
らに砥粒４とボンド層３の表面にＰＶＤ皮膜あるいはＣ
ＶＤ皮膜６が被着されているものである。
【００２８】ＰＶＤ皮膜あるいはＣＶＤ皮膜としては、
ＴｉＮ、Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）、ＣｒＮ、Ｃｒ（Ｃ，Ｎ）の群
より選ばれた１種または２種以上よりなる物質の皮膜が
使用される。
ＴｉＮ、Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）、ＣｒＮ、Ｃｒ（Ｃ，Ｎ）の群
より選ばれた１種または２種以上よりなる物質の皮膜が
使用される。
【００２９】
【発明の効果】以上説明したように本発明の電着砥石に
よれば、ニッケルめっきボンド層の表面にニッケルめっ
きよりも耐摩耗性、耐衝撃性、および非粘着性の優れた
めっき層、ＰＶＤ皮膜、あるいはＣＶＤ皮膜が被着され
るので、ボンド層の早期摩耗を防止でき、砥粒の早期脱
落を防止できる。また、切粉が砥粒間の表面に付着しに
くくなり、研削性が向上する。また、摩耗した砥粒の先
端面を再生するためにブラスト処理を行っても、ボンド
層の摩耗を防止でき、電着砥石の再生利用をブラスト処
理によって容易に行うことができる。以上によって電着
砥石が長寿命化される。
よれば、ニッケルめっきボンド層の表面にニッケルめっ
きよりも耐摩耗性、耐衝撃性、および非粘着性の優れた
めっき層、ＰＶＤ皮膜、あるいはＣＶＤ皮膜が被着され
るので、ボンド層の早期摩耗を防止でき、砥粒の早期脱
落を防止できる。また、切粉が砥粒間の表面に付着しに
くくなり、研削性が向上する。また、摩耗した砥粒の先
端面を再生するためにブラスト処理を行っても、ボンド
層の摩耗を防止でき、電着砥石の再生利用をブラスト処
理によって容易に行うことができる。以上によって電着
砥石が長寿命化される。
【図１】本発明の一実施例を示し、（ａ）は電着砥石の
一部分を示す縦断面図、（ｂ）は（ａ）の砥粒部分を拡
大して示す断面図である。
一部分を示す縦断面図、（ｂ）は（ａ）の砥粒部分を拡
大して示す断面図である。
【図２】本発明の別の実施例である電着砥石の表面部を
拡大して示す断面図である。
拡大して示す断面図である。
１ 電着砥石 ２ 砥石本体 ３ ニッケルめっきボンド層 ４ 砥粒 ５ 硬質クロムめっき層 ６ ＰＶＤ皮膜またはＣＶＤ皮膜
Claims (7)
- 【請求項１】 砥石本体の表面に被着されたニッケルめ
っきボンド層に砥粒が保持されている電着砥石におい
て、前記ニッケルめっきボンド層の表面にニッケルめっ
きよりも耐摩耗性、耐衝撃性、および非粘着性の優れた
めっき層が被着されていることを特徴とする電着砥石。 - 【請求項２】 前記ニッケルめっきボンド層の表面に被
着されためっき層が硬質クロムめっき層であることを特
徴とする請求項１記載の電着砥石。 - 【請求項３】 前記ニッケルめっきボンド層の表面に被
着されためっき層がＮｉ−ＰまたはＣｏ−Ｐ等の合金め
っき層であることを特徴とする請求項１記載の電着砥
石。 - 【請求項４】 砥石本体の表面に被着されたニッケルめ
っきボンド層に砥粒が保持されている電着砥石におい
て、前記ニッケルめっきボンド層および砥粒の表面にＰ
ＶＤ皮膜が被着されていることを特徴とする電着砥石。 - 【請求項５】 砥石本体の表面に被着されたニッケルめ
っきボンド層に砥粒が保持されている電着砥石におい
て、前記ニッケルめっきボンド層および砥粒の表面にＣ
ＶＤ皮膜が被着されていることを特徴とする電着砥石。 - 【請求項６】 前記ＰＶＤ皮膜がＴｉＮ、Ｔｉ（Ｃ，
Ｎ）、ＣｒＮ、Ｃｒ（Ｃ，Ｎ）の群より選ばれた１種ま
たは２種以上よりなる物質の皮膜であることを特徴とす
る請求項４記載の電着砥石。 - 【請求項７】 前記ＣＶＤ皮膜がＴｉＮ、Ｔｉ（Ｃ，
Ｎ）、ＣｒＮ、Ｃｒ（Ｃ，Ｎ）の群より選ばれた１種ま
たは２種以上よりなる物質の皮膜であることを特徴とす
る請求項５記載の電着砥石。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5001693A JPH06238564A (ja) | 1993-02-16 | 1993-02-16 | 電着砥石 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5001693A JPH06238564A (ja) | 1993-02-16 | 1993-02-16 | 電着砥石 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06238564A true JPH06238564A (ja) | 1994-08-30 |
Family
ID=12847209
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5001693A Pending JPH06238564A (ja) | 1993-02-16 | 1993-02-16 | 電着砥石 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06238564A (ja) |
-
1993
- 1993-02-16 JP JP5001693A patent/JPH06238564A/ja active Pending
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