JPH0621856B2 - 粒子発生電気パルス選択排除方法および装置 - Google Patents
粒子発生電気パルス選択排除方法および装置Info
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- JPH0621856B2 JPH0621856B2 JP61503715A JP50371586A JPH0621856B2 JP H0621856 B2 JPH0621856 B2 JP H0621856B2 JP 61503715 A JP61503715 A JP 61503715A JP 50371586 A JP50371586 A JP 50371586A JP H0621856 B2 JPH0621856 B2 JP H0621856B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R29/00—Arrangements for measuring or indicating electric quantities not covered by groups G01R19/00 - G01R27/00
- G01R29/02—Measuring characteristics of individual pulses, e.g. deviation from pulse flatness, rise time or duration
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N15/00—Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
- G01N15/10—Investigating individual particles
- G01N15/1031—Investigating individual particles by measuring electrical or magnetic effects
- G01N15/12—Investigating individual particles by measuring electrical or magnetic effects by observing changes in resistance or impedance across apertures when traversed by individual particles, e.g. by using the Coulter principle
- G01N15/131—Details
- G01N15/132—Circuits
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R19/00—Arrangements for measuring currents or voltages or for indicating presence or sign thereof
- G01R19/04—Measuring peak values or amplitude or envelope of ac or of pulses
-
- G—PHYSICS
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- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R29/00—Arrangements for measuring or indicating electric quantities not covered by groups G01R19/00 - G01R27/00
- G01R29/02—Measuring characteristics of individual pulses, e.g. deviation from pulse flatness, rise time or duration
- G01R29/027—Indicating that a pulse characteristic is either above or below a predetermined value or within or beyond a predetermined range of values
- G01R29/0273—Indicating that a pulse characteristic is either above or below a predetermined value or within or beyond a predetermined range of values the pulse characteristic being duration, i.e. width (indicating that frequency of pulses is above or below a certain limit)
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K5/00—Manipulating of pulses not covered by one of the other main groups of this subclass
- H03K5/153—Arrangements in which a pulse is delivered at the instant when a predetermined characteristic of an input signal is present or at a fixed time interval after this instant
- H03K5/1532—Peak detectors
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は電気パルスを排除することにより電気パルスを
選択排除することに関するものである。特に本発明は、
粒子分析装置による粒子分析の結果として発生する多量
の電気パルスからある電気パルスを排除することに関す
るものである。このような粒子分析装置の一般的な一形
態のものでは、米国特許第２，６５６，５０８号および
その後の世界各国の多数の改良特許に開示されているよ
うに、クールター検出原理を用いている。クールター検
出原理を用いた装置が製造され、現在多くの会社によっ
て売られており、これらの会社の主な１つはクールター
エレクトロニクス社であり、これらの装置は商標COULTE
R COUNTER およびCOULTER によって識別される。
選択排除することに関するものである。特に本発明は、
粒子分析装置による粒子分析の結果として発生する多量
の電気パルスからある電気パルスを排除することに関す
るものである。このような粒子分析装置の一般的な一形
態のものでは、米国特許第２，６５６，５０８号および
その後の世界各国の多数の改良特許に開示されているよ
うに、クールター検出原理を用いている。クールター検
出原理を用いた装置が製造され、現在多くの会社によっ
て売られており、これらの会社の主な１つはクールター
エレクトロニクス社であり、これらの装置は商標COULTE
R COUNTER およびCOULTER によって識別される。
クールター検出原理によれば、電解液に懸濁された微小
粒子がこの粒子の寸法に近い小さな寸法の電界中を通過
すると、この電界の範囲内の電界液の電気インピーダン
スが瞬時的に変化する。このインピーダンスの変化が励
起エネルギーのいくらかを関連の回路に向け、電気信号
を生ぜしめる。このような信号は、粒子の体積が殆どの
生物学上および工業上の目的に対し可成り正確に表わさ
れるものとして認められている。米国特許第２，６５
６，５０８号の着想を取入れている装置は、生物学上の
流体、工業上の粉末およびスラリー等における粒子の個
数および寸法を測定するのに用いられている。
粒子がこの粒子の寸法に近い小さな寸法の電界中を通過
すると、この電界の範囲内の電界液の電気インピーダン
スが瞬時的に変化する。このインピーダンスの変化が励
起エネルギーのいくらかを関連の回路に向け、電気信号
を生ぜしめる。このような信号は、粒子の体積が殆どの
生物学上および工業上の目的に対し可成り正確に表わさ
れるものとして認められている。米国特許第２，６５
６，５０８号の着想を取入れている装置は、生物学上の
流体、工業上の粉末およびスラリー等における粒子の個
数および寸法を測定するのに用いられている。
クールター粒子分析装置の市販品では、小寸法の電界は
一般に、測定すべき粒子が懸濁されている２つの液体間
に既知のように設けられているまっくすぐな微小な円筒
通路すなわち孔によって形成されている。電気的な励起
エネルギーはこれら液体中にそれぞれ位置する電極によ
りこれら液体に与えられ、前記の孔はこれら液体間で絶
縁壁内に形成されている。懸濁液が粒子と一緒に孔を通
過するようにし、粒子が孔を通過すると個々の粒子が瞬
時的にインピーダンスを変化させることにより電気信号
を生ぜしめる。電界は孔内に集中され、一般に懸濁液の
物理的な流れに沿って孔を通過する電流を有している。
一般に、測定すべき粒子が懸濁されている２つの液体間
に既知のように設けられているまっくすぐな微小な円筒
通路すなわち孔によって形成されている。電気的な励起
エネルギーはこれら液体中にそれぞれ位置する電極によ
りこれら液体に与えられ、前記の孔はこれら液体間で絶
縁壁内に形成されている。懸濁液が粒子と一緒に孔を通
過するようにし、粒子が孔を通過すると個々の粒子が瞬
時的にインピーダンスを変化させることにより電気信号
を生ぜしめる。電界は孔内に集中され、一般に懸濁液の
物理的な流れに沿って孔を通過する電流を有している。
発生する信号を計数することにより、孔を通過する粒子
を計数しうる。異なるパルス振幅間を弁別することによ
り寸法の測定を行うことができる。
を計数しうる。異なるパルス振幅間を弁別することによ
り寸法の測定を行うことができる。
検出用の孔は通常短い。すなわち、孔の長さはその直径
と同じかそれよりも短い。粒子の通路が孔の軸線に沿っ
たものであり、粒子が電界中で孔の長さのほぼ中間にあ
ることによってパルス振幅のピークが得られたものであ
る場合には、このパルス振幅のピークから最適な粒子寸
法−体積情報が得られる。粒子が電界中で孔の中間にあ
る際にパルスピークが最適であるという理由は、このよ
うな位置が孔の入口および出口から最も離れており、最
も安定しており、孔を通るすべての粒子通路に対して最
も均一な電流分布を有しているということである。孔の
入口および出口においては、電流密度は孔の縁部で大き
く、孔の中心軸線に向かうにつれて減少している。この
ことは、軸線通路以外の電流通路はまっすぐに進むもの
以外に孔の側縁の方から供給されるということを指摘す
ることにより説明つく。孔の入口および出口における軸
線上での電流密度が低いことにより、粒子が軸線上で孔
に入りこの孔を出る場合の瞬時的な信号を粒子が他の通
路上で孔に入りこの孔を出る場合よりも低くする。換言
すれば、孔の隅部における電流密度は軸線におけるより
も大きい。
と同じかそれよりも短い。粒子の通路が孔の軸線に沿っ
たものであり、粒子が電界中で孔の長さのほぼ中間にあ
ることによってパルス振幅のピークが得られたものであ
る場合には、このパルス振幅のピークから最適な粒子寸
法−体積情報が得られる。粒子が電界中で孔の中間にあ
る際にパルスピークが最適であるという理由は、このよ
うな位置が孔の入口および出口から最も離れており、最
も安定しており、孔を通るすべての粒子通路に対して最
も均一な電流分布を有しているということである。孔の
入口および出口においては、電流密度は孔の縁部で大き
く、孔の中心軸線に向かうにつれて減少している。この
ことは、軸線通路以外の電流通路はまっすぐに進むもの
以外に孔の側縁の方から供給されるということを指摘す
ることにより説明つく。孔の入口および出口における軸
線上での電流密度が低いことにより、粒子が軸線上で孔
に入りこの孔を出る場合の瞬時的な信号を粒子が他の通
路上で孔に入りこの孔を出る場合よりも低くする。換言
すれば、孔の隅部における電流密度は軸線におけるより
も大きい。
軸線上を通る粒子が最適なパルスを生ぜしめるという他
の理由は、液体は孔の中心軸線を通って流れる場合にそ
の方向を変えない為に電解液の流速、従って粒子の速度
も孔の縁部に近い通路すなわち孔の中心から離れた通路
におけるよりも軸線通路において速くなるということで
ある。軸線上の液体はこれとほぼ同じ速度を有する液体
のさや流によって囲まれている為、流れに対する抵抗は
軸線上において最小となる。従って、粒子が孔の通路を
流れる時間は、粒子が主として軸線通路を通っていたか
否かを表わしうる。従って、パルス幅（持続時間）を弁
別基準として用いる場合には、軸線通路上或いはその付
近を通過する粒子により生ぜしめられる粒子発生パルス
を受容する基準を形成でき、これにより他のすべてのパ
ルスを分析から排除しうる。このようなパルスの排除は
“選択排除”すなわち“エディテイング”と称されてい
る。このような選択排除回路としては数種類のものが設
計されており、米国特許第３，７００，８６７号、第
３，７０１，０２９号、第３，７１０，２６３号、第
３，７１０，２６４号および第３，７８３，３９０号明
細書に例示されている。このような選択排除を用いた商
標COULTER COUNTER なる商業用の分析器は多数年に亘っ
て売られておれ、選択排除特性のない同様な分析器より
も優れた利点を示す。
の理由は、液体は孔の中心軸線を通って流れる場合にそ
の方向を変えない為に電解液の流速、従って粒子の速度
も孔の縁部に近い通路すなわち孔の中心から離れた通路
におけるよりも軸線通路において速くなるということで
ある。軸線上の液体はこれとほぼ同じ速度を有する液体
のさや流によって囲まれている為、流れに対する抵抗は
軸線上において最小となる。従って、粒子が孔の通路を
流れる時間は、粒子が主として軸線通路を通っていたか
否かを表わしうる。従って、パルス幅（持続時間）を弁
別基準として用いる場合には、軸線通路上或いはその付
近を通過する粒子により生ぜしめられる粒子発生パルス
を受容する基準を形成でき、これにより他のすべてのパ
ルスを分析から排除しうる。このようなパルスの排除は
“選択排除”すなわち“エディテイング”と称されてい
る。このような選択排除回路としては数種類のものが設
計されており、米国特許第３，７００，８６７号、第
３，７０１，０２９号、第３，７１０，２６３号、第
３，７１０，２６４号および第３，７８３，３９０号明
細書に例示されている。このような選択排除を用いた商
標COULTER COUNTER なる商業用の分析器は多数年に亘っ
て売られておれ、選択排除特性のない同様な分析器より
も優れた利点を示す。
粒子発生パルスのパルス振幅の中心を定める問題は米国
特許第３，６６８，５３１号および第３，８６３，１６
０号明細書で検討されており、この問題の解決策が存在
している。粒子が孔の通路の均一電界部分を通らない場
合には粒子発生パルスの振幅を変更せしめるということ
が米国特許第３，８６３，１５９号明細書に記載されて
いる。
特許第３，６６８，５３１号および第３，８６３，１６
０号明細書で検討されており、この問題の解決策が存在
している。粒子が孔の通路の均一電界部分を通らない場
合には粒子発生パルスの振幅を変更せしめるということ
が米国特許第３，８６３，１５９号明細書に記載されて
いる。
上述した従来技術の利点にもかかわらず、選択排除基準
の設計上の概念と選択排除基準の実行とにおいて妥協策
を講じる必要もあった。商業化された、パルス持続時間
に基づく選択排除回路は、パルス列の前の方のパルスの
持続時間を、公称的に許容しうるパルスを確定する為の
データ基準として用いている。従って、前の方のパルス
が主として軸線から可成り外れた孔通路を通る粒子から
得られるものである場合には、これらパルスの持続時間
はあまりにも長くなってしまう。また、粒子濃度が低い
場合には、統計的に有意義な選択排除基準を生ぜしめる
のにあまりにも長い時間を必要とするか或いは選択排除
基準が充分なデータに基づかなくなってしまう。上述し
たこれらのおよびその他の統計基準によれば実際に良好
なパルスを排除したり、あまりにも多くの不所望なパル
スを受容してしまったりするおそれがある。このような
状態が生じるおそれは、赤血球或いは白血球のように粒
子が比較的狭い寸法範囲にある場合に最小となるが、工
業上の粒子分布におけるように粒子寸法の分布が比較的
広い場合には、上述した問題が生じるおそれが一層大き
くなる。
の設計上の概念と選択排除基準の実行とにおいて妥協策
を講じる必要もあった。商業化された、パルス持続時間
に基づく選択排除回路は、パルス列の前の方のパルスの
持続時間を、公称的に許容しうるパルスを確定する為の
データ基準として用いている。従って、前の方のパルス
が主として軸線から可成り外れた孔通路を通る粒子から
得られるものである場合には、これらパルスの持続時間
はあまりにも長くなってしまう。また、粒子濃度が低い
場合には、統計的に有意義な選択排除基準を生ぜしめる
のにあまりにも長い時間を必要とするか或いは選択排除
基準が充分なデータに基づかなくなってしまう。上述し
たこれらのおよびその他の統計基準によれば実際に良好
なパルスを排除したり、あまりにも多くの不所望なパル
スを受容してしまったりするおそれがある。このような
状態が生じるおそれは、赤血球或いは白血球のように粒
子が比較的狭い寸法範囲にある場合に最小となるが、工
業上の粒子分布におけるように粒子寸法の分布が比較的
広い場合には、上述した問題が生じるおそれが一層大き
くなる。
また、従来の選択排除回路の価格や、各分析器および種
々の顧客の必要性に応じて回路パラメータを設定するこ
とも考慮する必要がある。従来の選択排除回路には、こ
の選択排除回路の価格およびスペース条件に影響を及ぼ
す遅延回路やパルス持続時間メモリ回路が含まれてい
る。また最も広く用いられている選択排除回路は各パル
スのパルス持続時間を数個の異なる百分位数で比較して
おり、この回路構成により総価格を更に高めている。
々の顧客の必要性に応じて回路パラメータを設定するこ
とも考慮する必要がある。従来の選択排除回路には、こ
の選択排除回路の価格およびスペース条件に影響を及ぼ
す遅延回路やパルス持続時間メモリ回路が含まれてい
る。また最も広く用いられている選択排除回路は各パル
スのパルス持続時間を数個の異なる百分位数で比較して
おり、この回路構成により総価格を更に高めている。
本発明は、粒子分析器の検出孔を通過する粒子により生
ぜしめられる電気パルスを選択排除する方法および装置
の双方を提供する。本発明は従来の選択排除および中心
決定回路の問題を無くし、特に比較的広い体積分布の粒
子群に対し適切なパルス選択排除結果を得るようにす
る。選択排除基準はパルスの第１ピーク振幅の前後のパ
ルス面積の比較値に基づいている。この比較値が受容さ
れると、このパルスが計数されるか或いはこのパルスを
生ぜしめた粒子の測定等価量として分類されるか或いは
これらの双方が行われる。比較値が受容できない場合に
はこのパルスが選択排除、すなわち捨てられ、その関連
の粒子は計数或いは測定されない。
ぜしめられる電気パルスを選択排除する方法および装置
の双方を提供する。本発明は従来の選択排除および中心
決定回路の問題を無くし、特に比較的広い体積分布の粒
子群に対し適切なパルス選択排除結果を得るようにす
る。選択排除基準はパルスの第１ピーク振幅の前後のパ
ルス面積の比較値に基づいている。この比較値が受容さ
れると、このパルスが計数されるか或いはこのパルスを
生ぜしめた粒子の測定等価量として分類されるか或いは
これらの双方が行われる。比較値が受容できない場合に
はこのパルスが選択排除、すなわち捨てられ、その関連
の粒子は計数或いは測定されない。
従って本発明によれば、各パルスの対称度を決定する工
程と、この対称度を許容対称度限界と比較する工程と、
この許容対称度限界の外部にある各パルスを選択排除す
る工程とを有する粒子発生電気パルスの選択排除方法を
提供する。
程と、この対称度を許容対称度限界と比較する工程と、
この許容対称度限界の外部にある各パルスを選択排除す
る工程とを有する粒子発生電気パルスの選択排除方法を
提供する。
本発明は更に、粒子発生パルスの選択排除装置を提供す
るものであり、この装置は、各パルスの対称度を決定す
るパルス対称度決定手段と、パルス対称度の予備設定限
界を規定する対称度限界規定手段と、前記のパルス対称
度決定手段および前記の対称度限界規定手段の双方に応
答するように結合され、各パルスの少なくとも一部分を
パルス対称度と比較し、この比較を表わす出力信号を発
生し、この出力信号をパルス選択排除決定に用いうるよ
うにする比較手段とを有する。
るものであり、この装置は、各パルスの対称度を決定す
るパルス対称度決定手段と、パルス対称度の予備設定限
界を規定する対称度限界規定手段と、前記のパルス対称
度決定手段および前記の対称度限界規定手段の双方に応
答するように結合され、各パルスの少なくとも一部分を
パルス対称度と比較し、この比較を表わす出力信号を発
生し、この出力信号をパルス選択排除決定に用いうるよ
うにする比較手段とを有する。
本発明の実施例を以下に添付図面につき説明する。この
添付図面において、 第１図は本発明の動作を説明する為の３つの代表的なパ
ルスを示し、 第２図は本発明の電気回路の好適実施例のブロック線図
である。
添付図面において、 第１図は本発明の動作を説明する為の３つの代表的なパ
ルスを示し、 第２図は本発明の電気回路の好適実施例のブロック線図
である。
第１図には３つのパルス１０，１２および１４を示して
ある。パルス１０は理想的なパルスの一例であり、この
パルスは孔通路の軸線に沿って通る粒子によって生じる
ものである。ピーク１６は良好に規定されており、この
ピークはパルスの領域を２部分に、すなわちピークの前
の部分Ｂとピークの後の部分Ａとに分離する。ピーク１
６によって規定される垂直破線１８はこれらの領域Ｂお
よびＡを分離し、領域部分Ｂは領域部分Ａよりもわずか
に大きい。パルス１０の形状およびこれに近い形状のパ
ルスは満足しうるものであり、本発明の方法および装置
によって選択排除するべきものではない。不所望なこと
に、極めてわずかの割合の粒子しか孔通路の軸線に沿っ
て或いはこの付近でこの軸線に沿って通過しない。前記
に援用した米国特許には種々の且つ更に代表的な粒子通
路とその結果のパルスとが示され、これらについて説明
されている。例えば、粒子が孔をその軸線に対し平行
に、しかしこの軸線から一層離れた通路に沿って通過し
た場合には、これらの通路が軸線から離れれば離れる程
結果パルスはますます幅広となり、すなわちパルスの頂
部が平坦で底部が広くなり、パルス領域部分ＢおよびＡ
の持続時間は代表的に、ピーク後の領域部分Ａがピーク
前の領域部分Ｂの１／２よりも小さくなるように偏移す
る。実験的研究や、フローモデルや、数学的展開によれ
ば、粒子の軌道が孔の半径の６０％よりも多く孔の軸線
から離れている場合に、結果パルスを選択排除する必要
があるということが分かった。
ある。パルス１０は理想的なパルスの一例であり、この
パルスは孔通路の軸線に沿って通る粒子によって生じる
ものである。ピーク１６は良好に規定されており、この
ピークはパルスの領域を２部分に、すなわちピークの前
の部分Ｂとピークの後の部分Ａとに分離する。ピーク１
６によって規定される垂直破線１８はこれらの領域Ｂお
よびＡを分離し、領域部分Ｂは領域部分Ａよりもわずか
に大きい。パルス１０の形状およびこれに近い形状のパ
ルスは満足しうるものであり、本発明の方法および装置
によって選択排除するべきものではない。不所望なこと
に、極めてわずかの割合の粒子しか孔通路の軸線に沿っ
て或いはこの付近でこの軸線に沿って通過しない。前記
に援用した米国特許には種々の且つ更に代表的な粒子通
路とその結果のパルスとが示され、これらについて説明
されている。例えば、粒子が孔をその軸線に対し平行
に、しかしこの軸線から一層離れた通路に沿って通過し
た場合には、これらの通路が軸線から離れれば離れる程
結果パルスはますます幅広となり、すなわちパルスの頂
部が平坦で底部が広くなり、パルス領域部分ＢおよびＡ
の持続時間は代表的に、ピーク後の領域部分Ａがピーク
前の領域部分Ｂの１／２よりも小さくなるように偏移す
る。実験的研究や、フローモデルや、数学的展開によれ
ば、粒子の軌道が孔の半径の６０％よりも多く孔の軸線
から離れている場合に、結果パルスを選択排除する必要
があるということが分かった。
許容しうる粒子パルスのうち可成りの割合の粒子パルス
がパルス１２やその鏡像関係にあるパルスとなる。その
ピーク２０はパルス１０のピークよりもわずかに高く、
このピーク２０は垂直破線２２によって示すようにはパ
ルス持続時間の中心に接近していない。ピーク２０がピ
ーク１６よりも高い理由は、粒子１２がこのピーク２０
の発生瞬時に軸線から外れているも、孔通路を更に進行
する場合に、より一層軸線に接近し且つより一層平行に
なった為である。ピーク後の領域Ａはピーク前の領域Ｂ
よりも大きいが、このパルスを選択排除する必要がある
程度には大きくない。
がパルス１２やその鏡像関係にあるパルスとなる。その
ピーク２０はパルス１０のピークよりもわずかに高く、
このピーク２０は垂直破線２２によって示すようにはパ
ルス持続時間の中心に接近していない。ピーク２０がピ
ーク１６よりも高い理由は、粒子１２がこのピーク２０
の発生瞬時に軸線から外れているも、孔通路を更に進行
する場合に、より一層軸線に接近し且つより一層平行に
なった為である。ピーク後の領域Ａはピーク前の領域Ｂ
よりも大きいが、このパルスを選択排除する必要がある
程度には大きくない。
また、代表的な粒子発生パルスのうち可成りの割合のパ
ルスがパルス１４およびその鏡像関係のパルスにもな
る。しかし、これらのパルスは許容しえず、選択排除す
る必要がある。その理由は、中心線２４で表わすこれら
パルスの時間中心に近いこれらパルスの振幅２６が粒子
体積を充分に近似して表わしていない為である。ピーク
２８およびこれによる垂直破線３０によって規定されて
いるパルス１４の領域ＢおよびＡの面積は互いに著しく
相違しており、領域Ｂは領域Ａの１．４倍以上の面積で
ある。従って、パルス１４はあまりにも著しい非対称で
ある。これに対し、パルス１０および１２もそれぞれ非
対称であるが、その非対称度は許容限界内にある。パル
ス１０および１２の時間中心線およびこれら時間中心線
上の振幅は示していない。その理由は、これらは垂直破
線１８および２２に極めて接近して位置している為であ
る。パルス１２の場合実際上時間中心線およびその上の
振幅は垂直破線と一致してしまう。
ルスがパルス１４およびその鏡像関係のパルスにもな
る。しかし、これらのパルスは許容しえず、選択排除す
る必要がある。その理由は、中心線２４で表わすこれら
パルスの時間中心に近いこれらパルスの振幅２６が粒子
体積を充分に近似して表わしていない為である。ピーク
２８およびこれによる垂直破線３０によって規定されて
いるパルス１４の領域ＢおよびＡの面積は互いに著しく
相違しており、領域Ｂは領域Ａの１．４倍以上の面積で
ある。従って、パルス１４はあまりにも著しい非対称で
ある。これに対し、パルス１０および１２もそれぞれ非
対称であるが、その非対称度は許容限界内にある。パル
ス１０および１２の時間中心線およびこれら時間中心線
上の振幅は示していない。その理由は、これらは垂直破
線１８および２２に極めて接近して位置している為であ
る。パルス１２の場合実際上時間中心線およびその上の
振幅は垂直破線と一致してしまう。
パルス１０，１２および１４とこれらのそれぞれの領域
ＢおよびＡとに関する上述した説明から明かなように、
流体駆動源や、クールター原理を用いた粒子分析器の検
出孔内およびその付近の電界によりパルスの対称度およ
びパルス領域ＢおよびＡを決定し、これから選択排除基
準が取出される。この点は実際に正しいものであり、本
発明の基礎となる。一般式Ｙ＜Ａ＜Ｚは領域Ｂに対する
領域Ａの面積範囲を表わし、これを言葉で表現すると、
領域Ｂの面積が領域Ａの面積のＹ倍よりも大きいが領域
Ａの面積のＺ倍よりも大きくない場合に、粒子パルスを
許容しうると言える。領域Ａの許容限界外にあるパルス
は選択排除する、すなわち捨てる必要がある。商標COUL
TER COUNTER で売られている粒子分析器を用いる場合、
実験データからＹおよびＺの限界設定値をそれぞれ０．
５および１．４とすることが分かった。その結果の式
０．５＜Ａ＜１．４がパルス領域ＢおよびＡの関係式と
なり、この場合ＹおよびＺに対し値±１０％を許容しう
る。
ＢおよびＡとに関する上述した説明から明かなように、
流体駆動源や、クールター原理を用いた粒子分析器の検
出孔内およびその付近の電界によりパルスの対称度およ
びパルス領域ＢおよびＡを決定し、これから選択排除基
準が取出される。この点は実際に正しいものであり、本
発明の基礎となる。一般式Ｙ＜Ａ＜Ｚは領域Ｂに対する
領域Ａの面積範囲を表わし、これを言葉で表現すると、
領域Ｂの面積が領域Ａの面積のＹ倍よりも大きいが領域
Ａの面積のＺ倍よりも大きくない場合に、粒子パルスを
許容しうると言える。領域Ａの許容限界外にあるパルス
は選択排除する、すなわち捨てる必要がある。商標COUL
TER COUNTER で売られている粒子分析器を用いる場合、
実験データからＹおよびＺの限界設定値をそれぞれ０．
５および１．４とすることが分かった。その結果の式
０．５＜Ａ＜１．４がパルス領域ＢおよびＡの関係式と
なり、この場合ＹおよびＺに対し値±１０％を許容しう
る。
クールター原理を用いた粒子分析器はそのすべてがクー
ルター・エレクトロニクス社或いはその関連会社によっ
て製造されているわけではない為、電源、電気的なパラ
メータ、流体駆動源および孔の通路の直径対長さの比は
そのすべてが商標COULTER COUNTER なる粒子分析器と合
致したものではない。従って、ＹおよびＺの値は製造者
毎に、また品質制御が高規格でない場合には機器毎に相
違するおそれがある。従って、粒子分析器を評価して当
該分析器に対するＹおよびＺの値を設定する必要があ
る。また、ある独特な顧客の必要性や粒子群に応じてＹ
およびＺの値を調整しうるようにする必要がある。この
ような決定、評価および調整は熟練者によって充分行な
える。本発明に基づく選択排除回路の設計自体も実際に
熟練者によって行なえる。
ルター・エレクトロニクス社或いはその関連会社によっ
て製造されているわけではない為、電源、電気的なパラ
メータ、流体駆動源および孔の通路の直径対長さの比は
そのすべてが商標COULTER COUNTER なる粒子分析器と合
致したものではない。従って、ＹおよびＺの値は製造者
毎に、また品質制御が高規格でない場合には機器毎に相
違するおそれがある。従って、粒子分析器を評価して当
該分析器に対するＹおよびＺの値を設定する必要があ
る。また、ある独特な顧客の必要性や粒子群に応じてＹ
およびＺの値を調整しうるようにする必要がある。この
ような決定、評価および調整は熟練者によって充分行な
える。本発明に基づく選択排除回路の設計自体も実際に
熟練者によって行なえる。
第２図は、本発明を実行する回路の好適例を示す電気的
ブロック線図である。この回路の各ブロックは基本的な
既知の設計のものであり、従ってこれらブロックの機能
および動作については本発明を知る上で必要な程度での
み説明する。
ブロック線図である。この回路の各ブロックは基本的な
既知の設計のものであり、従ってこれらブロックの機能
および動作については本発明を知る上で必要な程度での
み説明する。
検出孔およびその電極から取出される粒子パルスは入力
緩衝増幅器３４の入力端子３２に供給される。この入力
緩衝増幅器はパルスをピーク検出素子３６、そのピーク
検出イネーブル回路３８、スイッチ装置４０およびパル
ス有効装置４２に供給する。このパルス有効装置は、３
０ミリボルトのような最小許容しきい値を越えるパルス
の部分のみを通す代表的なしきい値回路としうる。ピー
ク検出素子は、“真の”すなわち明確なピークを検出す
るまでパルスを“追従”する代表的なサンプル・ホール
ド回路としうる。明確なピークとは、第１図のピーク１
６，２０および２８のように、その直前および直後の振
幅よりも大きな振幅を有するピークである。これに対し
て、パルス１２および１４に４４および４６で示すよう
な不明確なピークは検出されない。いかなる第２の真の
ピークも第２図の、或いはその他に設けうるタイミング
およびリセットブロックにより分析されないようになっ
ている。ピークの前の領域Ｂにピーク検出素子３６が追
従している時間中、このパルス部分Ｂは入力緩衝増幅器
３４によりスイッチ装置４０に供給され且つこのスイッ
チ装置から第１の半パルス積分器４８に供給される。第
１の真のピークが検出されると、ピーク検出素子３６が
この情報をスイッチング論理素子５０に与え、このスイ
ッチング論理素子５０がスイッチ装置４０に対するこの
スイッチング論理素子５０の出力を切換え、入力緩衝増
幅器３４からの出力がピーク後のパルス部分Ａを第２の
半パルス積分器５２に供給するようにする。次に、積分
された領域Ｂの信号はスケーリング回路５４に供給さ
れ、このスケーリング回路によりＹ＝×０．５およびＺ
＝×１．４なる倍率を領域Ｂの面積値Ｂに与え、その結
果を比較装置５６において、積分された領域Ａの面積値
Ａと比較する。０．５＜Ａ＜１．４なる基準が満足され
ると、好ましい対称度の比較信号が選択排除制御兼出力
ラッチ回路５８に供給される。前記の比較が満足なもの
でない場合には、比較装置５８は選択排除すなわち除去
信号を選択排除制御兼出力ラッチ回路５８に供給する。
ピーク検出素子、スイッチ装置および積分器はパルス対
称度決定手段を具えているといえる。スケーリング回路
は予備設定限界を固定する為のプリセット手段を含む対
称度限界決定手段である。
緩衝増幅器３４の入力端子３２に供給される。この入力
緩衝増幅器はパルスをピーク検出素子３６、そのピーク
検出イネーブル回路３８、スイッチ装置４０およびパル
ス有効装置４２に供給する。このパルス有効装置は、３
０ミリボルトのような最小許容しきい値を越えるパルス
の部分のみを通す代表的なしきい値回路としうる。ピー
ク検出素子は、“真の”すなわち明確なピークを検出す
るまでパルスを“追従”する代表的なサンプル・ホール
ド回路としうる。明確なピークとは、第１図のピーク１
６，２０および２８のように、その直前および直後の振
幅よりも大きな振幅を有するピークである。これに対し
て、パルス１２および１４に４４および４６で示すよう
な不明確なピークは検出されない。いかなる第２の真の
ピークも第２図の、或いはその他に設けうるタイミング
およびリセットブロックにより分析されないようになっ
ている。ピークの前の領域Ｂにピーク検出素子３６が追
従している時間中、このパルス部分Ｂは入力緩衝増幅器
３４によりスイッチ装置４０に供給され且つこのスイッ
チ装置から第１の半パルス積分器４８に供給される。第
１の真のピークが検出されると、ピーク検出素子３６が
この情報をスイッチング論理素子５０に与え、このスイ
ッチング論理素子５０がスイッチ装置４０に対するこの
スイッチング論理素子５０の出力を切換え、入力緩衝増
幅器３４からの出力がピーク後のパルス部分Ａを第２の
半パルス積分器５２に供給するようにする。次に、積分
された領域Ｂの信号はスケーリング回路５４に供給さ
れ、このスケーリング回路によりＹ＝×０．５およびＺ
＝×１．４なる倍率を領域Ｂの面積値Ｂに与え、その結
果を比較装置５６において、積分された領域Ａの面積値
Ａと比較する。０．５＜Ａ＜１．４なる基準が満足され
ると、好ましい対称度の比較信号が選択排除制御兼出力
ラッチ回路５８に供給される。前記の比較が満足なもの
でない場合には、比較装置５８は選択排除すなわち除去
信号を選択排除制御兼出力ラッチ回路５８に供給する。
ピーク検出素子、スイッチ装置および積分器はパルス対
称度決定手段を具えているといえる。スケーリング回路
は予備設定限界を固定する為のプリセット手段を含む対
称度限界決定手段である。
領域Ｂに対する領域Ａの好適な対称度比較は本発明の主
たる特徴であるが、他の実際的な必要性も考えられる
為、この比較によって選択排除制御兼出力ラッチ回路５
８から良好なパルス出力が得られるようにするだけでは
ない。この回路５８に対しては他の３つの出力があり、
これら入力も満足せしめる必要がある。パルス有効装置
４２につき再び説明するに、その出力端はピーク検出素
子３６に対するリセット素子６０と、選択排除制御兼出
力ラッチ回路５８に信号を供給する選択排除リセット装
置６２と、パルス底部しきい値幅検出器６６に信号を供
給するパルス終了装置６４とに結合されており、このパ
ルス有効装置４２は上記のパルス底部しきい値幅検出器
にも直接結合されている。小さい低電圧パルスを生じる
状態でない粒子パルスを仮定すると、パルス有効装置の
出力は有効となり、パルス底部しきい値幅検出器６６に
よって持続時間が測定されうる。検出器６６によって供
給されるパルス幅の振幅はパルス有効回路によって設定
された３０ミリボルトのような最小しきい値を有してい
る。パルス底部しきい値幅検出器６６は、簡単な幅基
準、本例では商標COULTER COUNTER なる分析器に対する
公称値である１５μ秒よりも小さいか或いは大きいかと
いう基準を設定している。このような値は製造者の知識
に基づいてプリセットされる。しかしこの値は、従来の
ように、本来可変のパラメータであるべきものでもな
く、連続的に変動するものでもなく、パルス持続時間の
近い以前の変遷に基づいたものでなもない。端子３２に
おける装置の入力信号が粒子パルスであり、スパイク雑
音等でない場合には、パルス幅持続時間は好ましくは１
５μ秒よりも長い時間を満足する必要があり、このパル
スはパルス有効装置および比較装置の信号も好ましいも
のであるとした場合に回路５８の出力ラッチ回路部を通
過する。
たる特徴であるが、他の実際的な必要性も考えられる
為、この比較によって選択排除制御兼出力ラッチ回路５
８から良好なパルス出力が得られるようにするだけでは
ない。この回路５８に対しては他の３つの出力があり、
これら入力も満足せしめる必要がある。パルス有効装置
４２につき再び説明するに、その出力端はピーク検出素
子３６に対するリセット素子６０と、選択排除制御兼出
力ラッチ回路５８に信号を供給する選択排除リセット装
置６２と、パルス底部しきい値幅検出器６６に信号を供
給するパルス終了装置６４とに結合されており、このパ
ルス有効装置４２は上記のパルス底部しきい値幅検出器
にも直接結合されている。小さい低電圧パルスを生じる
状態でない粒子パルスを仮定すると、パルス有効装置の
出力は有効となり、パルス底部しきい値幅検出器６６に
よって持続時間が測定されうる。検出器６６によって供
給されるパルス幅の振幅はパルス有効回路によって設定
された３０ミリボルトのような最小しきい値を有してい
る。パルス底部しきい値幅検出器６６は、簡単な幅基
準、本例では商標COULTER COUNTER なる分析器に対する
公称値である１５μ秒よりも小さいか或いは大きいかと
いう基準を設定している。このような値は製造者の知識
に基づいてプリセットされる。しかしこの値は、従来の
ように、本来可変のパラメータであるべきものでもな
く、連続的に変動するものでもなく、パルス持続時間の
近い以前の変遷に基づいたものでなもない。端子３２に
おける装置の入力信号が粒子パルスであり、スパイク雑
音等でない場合には、パルス幅持続時間は好ましくは１
５μ秒よりも長い時間を満足する必要があり、このパル
スはパルス有効装置および比較装置の信号も好ましいも
のであるとした場合に回路５８の出力ラッチ回路部を通
過する。
上述したところでは、信号、極性等に関して“正、負、
真および誤”とか、“前縁トリガ”或いは“後縁応答”
とか、“高”或いは“低”という言葉を用いなかった理
由は、増幅或いは論理制御段における或いはこれらの段
間での信号反転による第２図の例においてこれらの言葉
の解釈に混乱或いは制限を生ぜしめるおそれがある為で
ある。実際には第２図の右端に示すように、選択排除さ
れないすなわち所望な出力粒子パルスが“選択排除否
（▲▼）”として識別され、拒否されるすなわ
ち選択排除される出力パルスが として識別されるように、商業的に設計されている選択
排除装置における出力信号は反転される。
真および誤”とか、“前縁トリガ”或いは“後縁応答”
とか、“高”或いは“低”という言葉を用いなかった理
由は、増幅或いは論理制御段における或いはこれらの段
間での信号反転による第２図の例においてこれらの言葉
の解釈に混乱或いは制限を生ぜしめるおそれがある為で
ある。実際には第２図の右端に示すように、選択排除さ
れないすなわち所望な出力粒子パルスが“選択排除否
（▲▼）”として識別され、拒否されるすなわ
ち選択排除される出力パルスが として識別されるように、商業的に設計されている選択
排除装置における出力信号は反転される。
第２図の回路ブロックの内容および機能は当業者によっ
て理解されるべきものである。２つの積分器は、固定高
さのベル状パルスを入力端子３２に供給し、積分器の一
方、例えば積分器５２の入力端における可変抵抗を積分
器４８および５２の出力が±１％以内となるまで調整す
ることにより、互いに整合せしめうることに注意すべき
である。
て理解されるべきものである。２つの積分器は、固定高
さのベル状パルスを入力端子３２に供給し、積分器の一
方、例えば積分器５２の入力端における可変抵抗を積分
器４８および５２の出力が±１％以内となるまで調整す
ることにより、互いに整合せしめうることに注意すべき
である。
上述したところでは本発明の基本概念、すなわちパルス
弁別が個々の各パルス自体の対称度に基づくものであ
り、平均値にも、またパルス持続時間の近い以前の変遷
や百分位数に基づくものでなく、遅延線を用いず、パル
ス弁別は回路誘起変動や流速変化に殆ど依存していない
という概念を説明した。可成り多量の血球支質や残屑が
存在しても低濃度の粒子を分析しうる。パルスの面積は
第１パルスピークの前後の２つの部分ＢおよびＡに分割
される。これら２つの部分の面積の比が範囲Ｙ＜Ａ＜Ｚ
内にある場合には、粒子パルスはその対称性に関し許容
すべきものである。
弁別が個々の各パルス自体の対称度に基づくものであ
り、平均値にも、またパルス持続時間の近い以前の変遷
や百分位数に基づくものでなく、遅延線を用いず、パル
ス弁別は回路誘起変動や流速変化に殆ど依存していない
という概念を説明した。可成り多量の血球支質や残屑が
存在しても低濃度の粒子を分析しうる。パルスの面積は
第１パルスピークの前後の２つの部分ＢおよびＡに分割
される。これら２つの部分の面積の比が範囲Ｙ＜Ａ＜Ｚ
内にある場合には、粒子パルスはその対称性に関し許容
すべきものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ナイト・ポール イギリス国ベツドフォードシャー ルート ン コーリングトゥリー 10 (72)発明者 ポドゴーネイ・バーヴェイ・ジェー イギリス国ベツドフォードシャー ルート ン セント エセルバート アベニュー 97 (56)参考文献 特開 昭60−38637（ＪＰ，Ａ)
Claims (19)
- 【請求項１】各粒子発生電気パルスの対称度を決定する
工程と、前記の対称度をその許容対称度限界に関して比
較する工程と、この許容対称度限界の外部にある各粒子
発生電気パルスを選択排除する工程とを具えることを特
徴とする粒子発生電気パルス選択排除方法。 - 【請求項２】請求の範囲第１項に記載の粒子発生電気パ
ルス選択排除方法において、対称度を決定する前記の工
程を、粒子発生電気パルスの異なる部分の面積を測定す
ることにより達成することを特徴とする粒子発生電気パ
ルス選択排除方法。 - 【請求項３】請求の範囲第２項に記載の粒子発生電気パ
ルス選択排除方法において、前記の面積は粒子発生電気
パルスのピーク振幅の両側に位置する２つの異なるパル
ス部分の面積であることを特徴とする粒子発生電気パル
ス選択排除方法。 - 【請求項４】請求の範囲第３項に記載の粒子発生電気パ
ルス選択排除方法において、前記のピーク振幅を粒子発
生電気パルスの第１ピーク振幅とすることを特徴とする
粒子発生電気パルス選択排除方法。 - 【請求項５】請求の範囲第１〜３項のいずれか１項に記
載の粒子発生電気パルス選択排除方法において、この方
法によって処理されるいかなる粒子発生電気パルスにも
基づかない方法で前記の許容限界を確定する工程を含む
ことを特徴とする粒子発生電気パルス選択排除方法。 - 【請求項６】請求の範囲第２〜４項のいずれか１項に記
載の粒子発生電気パルス選択排除方法において、前記の
対称度を比較する前記の工程により、粒子発生電気パル
スの異なる部分の面積を前記の許容対称度限界に関して
比較することを特徴とする粒子発生電気パルス選択排除
方法。 - 【請求項７】請求の範囲第１項に記載の粒子発生電気パ
ルス選択排除方法において、Ａを粒子発生電気パルスの
１つの部分の面積とし、ＹおよびＺを粒子発生電気パル
スの他の部分の面積Ｂに異なる定数を乗じた値に等しく
した場合に一般式Ｙ＜Ａ＜Ｚで前記の許容対称度限界を
規定することを特徴とする粒子発生電気パルス選択排除
方法。 - 【請求項８】請求の範囲第７項に記載の粒子発生電気パ
ルス選択排除方法において、Ｙを粒子発生電気パルスの
前記の他の部分の面積Ｂの約０．５倍の値とし、ＺをＢ
の約１．４倍の値とすることを特徴とする粒子発生電気
パルス選択排除方法。 - 【請求項９】請求の範囲第７項に記載の粒子発生電気パ
ルス選択排除方法において、面積Ａを粒子発生電気パル
スのピーク振幅の一方の側に位置させることを特徴とす
る粒子発生電気パルス選択排除方法。 - 【請求項１０】請求の範囲第７〜９項のいずれか１項に
記載の粒子発生電気パルス選択排除方法において、面積
Ａを粒子発生電気パルスの第１ピークの後に生じるパル
ス面積とすることを特徴とする粒子発生電気パルス選択
排除方法。 - 【請求項１１】請求の範囲第７〜９項のいずれか１項に
記載の粒子発生電気パルス選択排除方法において、Ｂを
粒子発生電気パルスの第１ピークの前に生じる前記の他
の部分の面積とし、この面積を面積Ａの面積限界と比較
することを特徴とする粒子発生電気パルス選択排除方
法。 - 【請求項１２】請求の範囲第１項又は第２項又は第７項
に記載の粒子発生電気パルス選択排除方法において、各
粒子発生電気パルスをしきい値振幅で予め設定した最小
許容幅と比較する追加の工程を有し、この予め設定した
最小許容幅を越えることのないいかなる粒子発生電気パ
ルスも選択排除の為のこの方法の処理に達せしめないよ
うにすることを特徴とする粒子発生電気パルス選択排除
方法。 - 【請求項１３】請求の範囲第１項又は第２項又は第７項
に記載の粒子発生電気パルス選択排除方法において、前
記の粒子発生電気パルスをクールター原理を用いること
により発生させる工程を具えることを特徴とする粒子発
生電気パルス選択排除方法。 - 【請求項１４】各粒子発生電気パルスの対称度を決定す
るパルス対称度決定手段と、粒子発生電気パルスの対称
度の予備設定限界を規定する対称度限界規定手段と、前
記のパルス対称度決定手段および前記の対称度限界規定
手段の双方に応答するように結合され、各粒子発生電気
パルスの少なくとも一部分をパルス対称度に関して比較
し、この比較を表わす出力信号を生じる比較手段とを具
え、前記の出力信号を粒子発生電気パルスの選択排除決
定に用いうるようになっていることを特徴とする粒子発
生電気パルス選択排除装置。 - 【請求項１５】請求の範囲第１４項に記載の粒子発生電
気パルス選択排除装置において、前記のパルス対称度決
定手段が粒子発生電気パルスの２つの異なる部分の面積
を測定し、これら２つの部分のうちの一方の面積を前記
の比較手段に直接供給し、前記の対称度限界規定手段が
前記のパルス対称度決定手段と前記の比較手段との間に
設けられ、この対称度限界規定手段が前記の２つの部分
のうちの他方の部分の面積を受け、この面積を前記の比
較手段による比較の前に粒子発生電気パルスの対称度の
予備設定限界に関してスケーリングするようになってい
ることを特徴とする粒子発生電気パルス選択排除装置。 - 【請求項１６】請求の範囲第１５項に記載の粒子発生電
気パルス選択排除装置において、前記のパルス対称度決
定手段は、粒子発生電気パルスの２つの異なる部分を、
その一方がパルスピークの後の部分で、他方がパルスピ
ークの前の部分となるように規定するパルスピーク決定
手段を有していることを特徴とする粒子発生電気パルス
選択排除装置。 - 【請求項１７】請求の範囲第１５項又は第１６項に記載
の粒子発生電気パルス選択排除装置において、Ａを粒子
発生電気パルスの前記の一方の部分の面積とし、Ｙを約
０．５とし、Ｚを約１．４とした場合に、Ｙ＜Ａ＜Ｚの
形態で動作するスケーリング手段を前記の対称度限界規
定手段が具えており、前記の他方の部分の面積のスケー
リングされた値を粒子発生電気パルスの前記の一方の部
分の面積である面積Ａと比較するようになっていること
を特徴とする粒子発生電気パルス選択排除装置。 - 【請求項１８】請求の範囲第１４項又は第１５項又は第
１６項に記載の粒子発生電気パルス選択排除装置におい
て、前記の対称度限界規定手段が：予備設定限界をこれ
ら限界が粒子発生パルス選択排除装置によって処理され
ている粒子発生電気パルスにより影響を受けないように
固定するプリセット手段を有していることを特徴とする
粒子発生電気パルス選択排除装置。 - 【請求項１９】請求の範囲第１４項又は第１５項又は第
１６項に記載の粒子発生電気パルス選択排除装置におい
て、前記の粒子発生電気パルスはクールター原理によっ
て動作する検出孔手段を通過する粒子により発生せしめ
られるようになっていることを特徴とする粒子発生電気
パルス選択排除装置。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB08513809A GB2177804A (en) | 1985-05-31 | 1985-05-31 | Analysing and editing electrical pulses |
| GB8513809 | 1985-05-31 | ||
| PCT/US1986/001197 WO1986007218A1 (en) | 1985-05-31 | 1986-05-30 | Method and apparatus for editing particle produced electrical pulses |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62503057A JPS62503057A (ja) | 1987-12-03 |
| JPH0621856B2 true JPH0621856B2 (ja) | 1994-03-23 |
Family
ID=10579993
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61503715A Expired - Lifetime JPH0621856B2 (ja) | 1985-05-31 | 1986-05-30 | 粒子発生電気パルス選択排除方法および装置 |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4797624A (ja) |
| EP (1) | EP0226631B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0621856B2 (ja) |
| CN (1) | CN1006950B (ja) |
| AU (1) | AU578166B2 (ja) |
| CA (1) | CA1259670A (ja) |
| DE (2) | DE226631T1 (ja) |
| ES (1) | ES8801867A1 (ja) |
| GB (1) | GB2177804A (ja) |
| WO (1) | WO1986007218A1 (ja) |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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