JPH06216497A - Stripping method of board after transfer in transfer apparatus - Google Patents

Stripping method of board after transfer in transfer apparatus

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JPH06216497A
JPH06216497A JP5004895A JP489593A JPH06216497A JP H06216497 A JPH06216497 A JP H06216497A JP 5004895 A JP5004895 A JP 5004895A JP 489593 A JP489593 A JP 489593A JP H06216497 A JPH06216497 A JP H06216497A
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glass substrate
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Atsushi Baba
淳 馬場
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Abstract

PURPOSE:To provide a stripping method wherein a pattern on a board for pattern transfer is stripped with good accuracy after the pattern has been transferred to a board to be transferred. CONSTITUTION:A board F for pattern transfer and a board G to be transferred are compression-bonded. Then, after they have been compression-bonded and when the board F for pattern transfer is stripped, a plate 21 which is used to fix the board G to be transferred and to which the board G to be transferred has been fixed is supported in a free state so that an unreasonable force is not exerted when the board is stripped.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、転写装置におけるパタ
ーン転写用基板の剥離方法に係り、特にパターン転写用
基板に形成した転写パターンを被転写基板に転写した
後、パターン転写用基板を被転写基板から効率良く剥離
する転写装置におけるパターン転写用基板の剥離方法に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of separating a pattern transfer substrate in a transfer device, and in particular, after transferring a transfer pattern formed on the pattern transfer substrate to the transfer substrate, the pattern transfer substrate is transferred. The present invention relates to a method for peeling a pattern transfer substrate in a transfer device that efficiently peels the substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】精密電子部品の配線パターンなどの製造
においては、被加工物(例えば、ポリイミド,ガラス基
板,シリコンウェーハ)に電気回路または素子構成用微
細パターンを正確に形成する必要がある。
2. Description of the Related Art In the manufacture of wiring patterns for precision electronic parts, it is necessary to accurately form a fine pattern for forming an electric circuit or a device on a workpiece (eg, polyimide, glass substrate, silicon wafer).

【0003】この導体回路基板の製造においては、例え
ば、被加工物に直接レジストインキを印刷するか、又は
予めフォトレジスト層を塗布した被加工物に所定形状で
紫外線を遮断する印刷インキ層を印刷した後、露光・現
像し、次いでエッチング処理を行なう印刷法を採用して
電気回路あるいは素子構成用の微細パターンを形成する
方法が考えられる。
In the production of this conductor circuit board, for example, a resist ink is directly printed on a work piece, or a print ink layer which blocks ultraviolet rays in a predetermined shape is printed on a work piece on which a photoresist layer is applied in advance. After that, a method of forming a fine pattern for an electric circuit or an element structure by adopting a printing method of exposing, developing, and then etching is considered.

【0004】ここで、前記印刷法を採用して電気回路等
の微細パターンを正確に形成するためには、被印刷体と
印刷インキパターンとの密着強度が均一であると共に、
該被印刷体上に既に形成されている印刷パターンと新た
に印刷すべき印刷インキパターンとの位置合わせが正確
に行なわれる必要がある。
Here, in order to accurately form a fine pattern such as an electric circuit by adopting the printing method, the adhesion strength between the material to be printed and the printing ink pattern is uniform, and
It is necessary to accurately align the printing pattern already formed on the printing medium with the printing ink pattern to be newly printed.

【0005】しかし、従来のいわゆる平行平板方式の印
刷装置(転写装置)においては、印刷インキパターンが
形成されたパターン転写用平板と被印刷体(被印刷用平
板)との密着を両平板の全面に渡って同時に行なうた
め、局部的な密着不良が生じ易く、均一な密着強度を達
成することが困難であった。
However, in the conventional so-called parallel plate type printing apparatus (transfer apparatus), the pattern transfer flat plate on which the printing ink pattern is formed and the printing medium (printing flat plate) are adhered to each other over the entire surface of both flat plates. Since it is carried out simultaneously over a period of time, local poor adhesion tends to occur, and it has been difficult to achieve uniform adhesive strength.

【0006】また、一般に被印刷体と印刷インキパター
ンとの位置合わせは予め予備印刷を行って調整し、良好
な結果が得られた段階で被印刷体上に印刷インキパター
ンを転写させるために、被印刷体と印刷インキパターン
との位置関係に変動が起きてもそのまま続行するのが通
例であった。従って、前記従来の印刷装置により被印刷
体上に転写される印刷インキパターンの位置合せ精度お
よびその再現性は20〜30μmが限度であり、例え
ば、薄膜半導体素子の導電性微細パターンに要求される
位置合せ精度およびその再現性の水準には至っていなか
った。
Further, generally, the alignment between the printing medium and the printing ink pattern is adjusted by performing preliminary printing in advance, and in order to transfer the printing ink pattern onto the printing medium when a good result is obtained, Even if the positional relationship between the material to be printed and the printing ink pattern is changed, it is customary to continue the operation as it is. Therefore, the alignment accuracy and the reproducibility of the printing ink pattern transferred onto the printing medium by the conventional printing device is limited to 20 to 30 μm, and is required for the conductive fine pattern of the thin film semiconductor device, for example. The level of alignment accuracy and its reproducibility was not reached.

【0007】そこで、先に本願出願人は、かかる不都合
を解決した「アライメント転写方法」を提案した(特願
平3−245574号)。この提案は、パターン転写用
基板を、被転写基板を支持した被転写基板支持板に所定
ギャップを隔てて対向配置し、順次回転ロールによりパ
ターンを被転写基板に圧着して転写するようにしたもの
である。このようにすると、前記不都合を解決すること
ができる。
Therefore, the applicant of the present application has previously proposed an "alignment transfer method" which solves such inconvenience (Japanese Patent Application No. 3-245574). In this proposal, the pattern transfer substrate is arranged to face the transfer substrate supporting plate supporting the transfer substrate with a predetermined gap, and the pattern is sequentially pressed onto the transfer substrate by a rotating roll to transfer the pattern. Is. By doing so, the inconvenience can be solved.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記提
案においては、パターン転写後に被転写基板からパター
ン転写用基板を剥離する段階を設けているが、この剥離
する段階で被転写基板に転写されたパターンの“こす
れ”の発生を完全に防止することができなかった。
However, in the above-mentioned proposal, there is provided a step of peeling the pattern transfer substrate from the transfer substrate after the pattern transfer, but the pattern transferred to the transfer substrate at this peeling step is provided. It was not possible to completely prevent the occurrence of "rubbing".

【0009】そこで、本発明は上記課題を解決するため
になされたものであり、パターン転写後のパターン転写
用基板を被転写基板から剥離する際に、転写後のパター
ンが“こすれ”を起さないようにした転写装置における
転写後基板の剥離方法を提供することを目的とする。
Therefore, the present invention has been made to solve the above problems, and when the pattern transfer substrate after pattern transfer is peeled from the transfer target substrate, the pattern after transfer causes "rubbing". It is an object of the present invention to provide a method for separating a post-transfer substrate in a transfer device that does not exist.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明は、転写パターンを有する可撓性のパターン
転写用基板と被転写基板とを圧着した後、前記パターン
転写用基板を前記被転写基板から剥離して転写パターン
を転写する転写装置における転写後の基板の剥離方法に
おいて、パターン転写後のパターン転写用基板を拘持し
て前記パターン転写用基板を被転写基板から剥離する際
に、前記被転写基板を固定した被転写基板固定部材をフ
リー状態に支持して剥離するようにした。
In order to achieve the above-mentioned object, the present invention is characterized in that after a flexible pattern transfer substrate having a transfer pattern and a transfer target substrate are pressure-bonded to each other, In a method for peeling a substrate after transfer in a transfer device for peeling a transfer pattern by peeling from a substrate to be transferred, when the substrate for pattern transfer after pattern transfer is held and the substrate for pattern transfer is peeled from the substrate to be transferred. In addition, the transfer substrate fixing member to which the transfer substrate is fixed is supported in a free state and peeled off.

【0011】[0011]

【作用】被転写基板固定部材には被転写基板が固定さ
れ、この固定された被転写基板にパターン転写用基板が
圧着されてパターンが転写される。そして、パターン転
写後にパターン転写用基板の一端を拘持して被転写基板
から前記パターン転写用基板を剥離するが、この剥離の
際に前記被転写基板固定部材はフリー状態で支持されて
いるので、前記剥離時に無理な力が加えられず、パター
ンの“こすれ”を生じることなく剥離することができ
る。
The transfer target substrate is fixed to the transfer target substrate fixing member, and the pattern transfer substrate is pressed onto the fixed transfer target substrate to transfer the pattern. After pattern transfer, the pattern transfer substrate is peeled from the transfer substrate by holding one end of the pattern transfer substrate. Since the transfer substrate fixing member is supported in a free state at the time of this peeling. In addition, an unreasonable force is not applied at the time of peeling, and the pattern can be peeled without "rubbing".

【0012】[0012]

【実施例】以下、本発明を図示の実施例に基づいて説明
する。実施例 図1に本実施例に使用する転写装置1の外観斜視図を示
す。
The present invention will be described below with reference to the illustrated embodiments. Embodiment FIG. 1 is an external perspective view of a transfer device 1 used in this embodiment.

【0013】図1に示すように、転写装置1は、垂直型
であり、台座2およびこの台座2の前面両側に立設した
支柱3a,3b等のフレーム部と、このフレーム部の上
面中央に取り付けられたメインモータ5および前記支柱
3a,3bに沿って配せられ、メインモータによって駆
動されるボールネジ4a,4b等の駆動部と、パターン
転写用平板Fを支持する平板クランプ9a,9bと、被
転写基板Gを固定するガラス基板固定盤21と、前記ボ
ールネジ4a,4bによって上下に移動し、パターン転
写用平板Fをガラス基板Gに圧着する圧着ロールおよび
転写後の剥離の際に使用する剥離ロール等からなるロー
ル部70と、前記ガラス基板固定盤21の背面に配設さ
れた光学観察系部および位置合せ部を兼ねたワークステ
ージ50と、転写後の基板を剥離する際に用いる牽引装
置100等により構成されている。
As shown in FIG. 1, the transfer device 1 is of a vertical type, and includes a pedestal 2 and frame portions such as columns 3a and 3b erected on both sides of the front surface of the pedestal 2 and a center of an upper surface of the frame portion. A drive unit such as ball screws 4a and 4b arranged along the attached main motor 5 and the columns 3a and 3b and driven by the main motor, and flat plate clamps 9a and 9b that support the flat plate F for pattern transfer, A glass substrate fixing plate 21 for fixing the transferred substrate G and a pressure roll for vertically moving the pattern transfer flat plate F to the glass substrate G by the ball screws 4a and 4b and a peeling used for peeling after transfer. A roll unit 70 including a roll and the like, a work stage 50 that also serves as an optical observation system unit and an alignment unit arranged on the back surface of the glass substrate fixing plate 21, and a transfer Is constituted by a traction device 100 or the like used upon the release of the substrate.

【0014】前記台座2の両側からは2枚の側板(手前
側の側板3dのみを図示し、背面側の側板は図示せず)
が対向立設されている。前記2本の支柱3a,3bの先
端部には支持板3cが横設され、この支持板3cの中央
部背面には駆動源であるメインモータ5が固定されてい
る。前記支持板3cには、前記メインモータ5の出力を
減速中継するギアボックス6が固定され、このギアボッ
クス6の左右側面からそれぞれ駆動軸7a,7bが延出
されている。前記駆動軸7a,7bのそれぞれの先端部
には、該駆動軸の駆動力を90°下方に変換せしめるギ
アボックス8a,8bが配設されている。
Two side plates from both sides of the pedestal 2 (only the front side plate 3d is shown, and the rear side plate is not shown).
Are erected opposite each other. A support plate 3c is laterally provided at the tip ends of the two columns 3a and 3b, and a main motor 5 as a drive source is fixed to the back surface of the central portion of the support plate 3c. A gear box 6 for decelerating and relaying the output of the main motor 5 is fixed to the support plate 3c, and drive shafts 7a and 7b extend from the left and right side surfaces of the gear box 6, respectively. Gearboxes 8a, 8b for converting the driving force of the drive shafts downward by 90 ° are provided at the respective tip portions of the drive shafts 7a, 7b.

【0015】前記支柱3aの内側面側に沿って次に説明
するロール部70を上下駆動せしめるボールネジ4aが
配設され、このボールネジ4aの先端部は、前記ギアボ
ックス8aで前記駆動軸7aに螺合されている。同様
に、前記支柱3bに沿ってボールネジ4bが配設され、
このボールネジ4bの先端部は、前記ギアボックス8b
で前記駆動軸7bに螺合されている。
A ball screw 4a for vertically driving a roll portion 70, which will be described below, is arranged along the inner side surface of the support column 3a. The tip end of the ball screw 4a is screwed onto the drive shaft 7a by the gear box 8a. Have been combined. Similarly, a ball screw 4b is arranged along the pillar 3b,
The tip of the ball screw 4b is connected to the gear box 8b.
Is screwed onto the drive shaft 7b.

【0016】前記パターン転写用平板(以下、パターン
基板と記す)Fは、図2に示すように、長方形の可撓性
を有する金属薄板,樹脂シート等からなる基板F0
に、印刷インキあるいはメッキ等により電気回路等のパ
ターンPが形成され、平板下の両端は長い支持板11,
11にそこから突き出したピン12,12・・・12に
よって固定されている。前記パターン基板Fのパターン
Pの近傍には、複数の位置決めマークMp が印刷されて
いる。前記支持板11の両端部には、前記牽引装置10
0を使用する際に掛止する掛止孔11a,11bが穿設
されている。
As shown in FIG. 2, the pattern transfer flat plate (hereinafter, referred to as a pattern substrate) F has a printing ink or a printing ink on a substrate F 0 made of a rectangular flexible metal thin plate, a resin sheet or the like. A pattern P such as an electric circuit is formed by plating or the like, and both ends under the flat plate have long support plates 11,
It is fixed to 11 by pins 12, 12 ... 12 protruding from it. A plurality of positioning marks M p are printed near the pattern P on the pattern substrate F. At both ends of the support plate 11, the traction device 10 is provided.
Locking holes 11a and 11b are provided for locking when 0 is used.

【0017】前記支持板3cの手前側面には、前記パタ
ーン基板Fの支持板11を挟持固定するクランプ部9a
が配設されている。このクランプ部9aは、背面板と前
面板とが上部で回動自在に連結され、フレームに固定さ
れている。そして、次に説明するガラス基板固定盤21
の下方位置には、前記パターン基板Fの他方の支持板1
1を挟持固定するクランプ部9bが配設され、このクラ
ンプ部9bはフレームにバネ(図示せず)を介してフリ
ー状態で支持されている。
A clamp portion 9a for sandwiching and fixing the support plate 11 of the pattern substrate F is provided on the front side surface of the support plate 3c.
Is provided. A rear plate and a front plate of the clamp portion 9a are rotatably connected at an upper portion and fixed to a frame. Then, the glass substrate fixing plate 21 described next
The other supporting plate 1 of the pattern substrate F is located below
A clamp portion 9b for sandwiching and fixing 1 is provided, and the clamp portion 9b is supported by the frame in a free state via a spring (not shown).

【0018】前記ガラス基板固定盤21は、転写装置1
の前面中央部やや上方に配置され、この固定盤21の背
面には位置合わせ用の観察光学系(図示せず)が配設さ
れている。また、この固定盤21の左右側方には、図3
に示すように、断面形状U字状の2本のガイドレール1
01a,101bが配設されている。そして、前記固定
盤21の左右側面には第1〜第4ローラ102a〜10
2dが突設され、これらローラ102a〜102dは、
前記ガイドレール101a,101bの内面に係合さ
れ、前記固定盤21はガイドレール101a,101b
に沿って上下動自在に構成されている。また、前記固定
盤21の上下側面には、一端がフレーム(図示せず)に
固定されたコイルバネ103a,103bが配設され、
前記固定盤21を上下方向にフリー状態で支持してい
る。
The glass substrate fixing plate 21 is a transfer device 1.
An observation optical system (not shown) for alignment is arranged on the rear surface of the fixed board 21. In addition, as shown in FIG.
As shown in Figure 2, two guide rails with a U-shaped cross section
01a and 101b are provided. The first to fourth rollers 102a to 10 are provided on the left and right side surfaces of the fixed plate 21.
2d are projected, and these rollers 102a to 102d are
The fixed plate 21 is engaged with the inner surfaces of the guide rails 101a and 101b, and the fixed plate 21 is guided by the guide rails 101a and 101b.
It is configured to move up and down along. Further, coil springs 103a and 103b each having one end fixed to a frame (not shown) are arranged on the upper and lower side surfaces of the fixed plate 21,
The fixed platen 21 is supported vertically in a free state.

【0019】前記牽引装置100は、対向配置されたガ
イドレール106a,106b間に、ローラ107c,
107dにより上下動フリーに支持された牽引棒107
を備え、この牽引棒107の奥方側面には前記パターン
基板Fの掛止孔11a,11bに掛止される掛止部材1
07a,107bが取り付けられている。
The pulling device 100 includes a roller 107c, a roller 107c, and a guide rail 106a.
Tow bar 107 supported vertically by 107d
On the inner side surface of the tow bar 107, a hooking member 1 hooked in the hooking holes 11a and 11b of the pattern substrate F.
07a and 107b are attached.

【0020】前記ガラス基板固定盤21の上下には、ガ
ラス基板とパターン基板とを所定間隔で対向整合せしめ
る整合装置であるスペーサステージ30a,30bが配
設され、このスペーサステージ30a,30bは、前後
方向に調整可能に構成されている。
Spacer stages 30a and 30b, which are alignment devices for aligning the glass substrate and the pattern substrate to face each other at a predetermined interval, are arranged above and below the glass substrate fixing plate 21. The spacer stages 30a and 30b are arranged in front and rear directions. It is configured to be adjustable in direction.

【0021】前記ロール部70は、横長の強固なフレー
ム80に、パターン基板Fをガラス基板Gに圧着する際
に使用する弾性部材からなる圧着ロール71と、この圧
着ロール71の湾曲を防止する金属部材からなる圧着補
助ロール72と、転写後の剥離の際に使用する剥離ロー
ル73等を取り付けて構成され、フレーム80の左右に
形成されたナット81a,81bが前記ボールネジ4
a,4bに螺合され、ロール部70全体が上下動可能に
構成されている。
The roll section 70 includes a horizontally long rigid frame 80, a pressure roll 71 made of an elastic member used when the pattern substrate F is pressure-bonded to the glass substrate G, and a metal for preventing the pressure roll 71 from bending. A compression assisting roll 72 made of a member, a peeling roll 73 used for peeling after transfer, and the like are attached, and nuts 81a and 81b formed on the left and right of a frame 80 are the ball screws 4
The entire roll portion 70 is configured to be movable up and down by being screwed into a and 4b.

【0022】次に、以上の如く構成された転写装置1の
動作を図4〜図6に基づいて説明する。図4に示すよう
に、先ず初期設定を行うとロール部70は図1に示す如
く最下端に位置され、メインモータ5等は動作可能状態
になる(ステップS1)。次いで、作業者はガラス基板
固定盤21にガラス基板Fを真空吸着して固定し(ステ
ップS2)、上下のクランプ部9a,9bを開放し(ス
テップS3)、パターン基板Fの支持板11,11をク
ランプ部9a,9bに固定する(ステップS4)。次い
で、上下のスペーサ30a,30bの突出量を調整する
ことによりパターン基板Fとガラス基板Gとを均一な整
合ギャップHを隔てて対向させる(ステップS5、図5
(A))。なお、予め整合ギャップを調整した後にパタ
ーン基板F,ガラス基板Gを取り付けてもよい。次に、
パターン基板Fとガラス基板Gとの位置合せ(整合)を
行なう(ステップS6)。
Next, the operation of the transfer device 1 configured as described above will be described with reference to FIGS. As shown in FIG. 4, when the initial setting is first performed, the roll unit 70 is located at the lowermost end as shown in FIG. 1, and the main motor 5 and the like are in an operable state (step S1). Next, the operator vacuum-holds and fixes the glass substrate F on the glass substrate fixing plate 21 (step S2), opens the upper and lower clamp portions 9a and 9b (step S3), and supports the pattern substrates F on the support plates 11 and 11. Is fixed to the clamp portions 9a and 9b (step S4). Next, by adjusting the protrusion amount of the upper and lower spacers 30a and 30b, the pattern substrate F and the glass substrate G are opposed to each other with a uniform alignment gap H (step S5, FIG. 5).
(A)). The pattern substrate F and the glass substrate G may be attached after adjusting the alignment gap in advance. next,
The pattern substrate F and the glass substrate G are aligned (aligned) (step S6).

【0023】以上のようにして、パターン基板Fとガラ
ス基板Gとの整合を行なった後、図5(B)に示すよう
に整合ギャップHを維持したままパターン基板Fとガラ
ス基板Gとの下端部を、圧着ロール71で挟んで密着固
定し、図5(C)に示すようにロール部70を上昇させ
てパターン基板Fとガラス基板Gとを全面密着させる
(ステップS7)。ここに、前記下端部から上端部に向
けて圧着ロール71を移動させ、整合ギャップHを維持
したまま局部的に加圧することにより均一な密着強度を
達成しつつ圧着を行なうことができる。
After the pattern substrate F and the glass substrate G are aligned as described above, the lower ends of the pattern substrate F and the glass substrate G are maintained while maintaining the alignment gap H as shown in FIG. 5 (B). The portions are sandwiched by pressure-bonding rolls 71 and closely fixed, and as shown in FIG. 5C, the roll portion 70 is lifted to bring the pattern substrate F and the glass substrate G into close contact (step S7). The pressure bonding roll 71 is moved from the lower end portion to the upper end portion and locally pressed while the alignment gap H is maintained, whereby pressure bonding can be performed while achieving uniform adhesion strength.

【0024】次いで、前述の如くパターン基板Fとガラ
ス基板Gとを圧着した後、上部のクランプ部9aを開放
し(ステップS8)、図5(D)に示すように、作業員
がパターン基板Fの端部にある掛止孔11a,11b
(図2参照)に、牽引装置100の牽引部材107a,
107bを掛止すると(ステップS9)、図6(A)に
示した状態になる。
Then, after the pattern substrate F and the glass substrate G are pressure-bonded as described above, the upper clamp portion 9a is opened (step S8), and an operator, as shown in FIG. 11a, 11b at the ends of the
(See FIG. 2), the traction member 107a of the traction device 100,
When 107b is hooked (step S9), the state shown in FIG.

【0025】そして、ステップS10,ステップS11
において、図6(B)に示すように、ロール部70の剥
離ロール73の下降と、牽引装置100の矢印X方向へ
の牽引とを同期させると、パターン基板Fがガラス基板
Gから剥離される。この剥離の際に、ガラス基板固定盤
21はバネ103a,103bにより上下方向にフリー
な状態で支持されているので、無理な力がパターン基板
Fおよびガラス基板Gに加えられないので、パターン基
板Fとガラス基板Gはパターンの“こすれ”を起こすこ
となく剥離され、図6(C)に示すように、転写パター
ンPはパターン基板Fから剥離してガラス基板Gの所定
の位置に転写され、最後に、下部のクランプ部9bを開
放して、パターン転写後のパターン基板Fとガラス基板
Gを転写装置1から取り外す(ステップS12)。
Then, step S10 and step S11
6B, when the lowering of the peeling roll 73 of the roll unit 70 and the pulling of the pulling device 100 in the arrow X direction are synchronized, the pattern substrate F is peeled from the glass substrate G. . At the time of this peeling, since the glass substrate fixing plate 21 is supported by the springs 103a and 103b in a free state in the vertical direction, an unreasonable force is not applied to the pattern substrate F and the glass substrate G. The glass substrate G is peeled off without causing "rubbing" of the pattern, and as shown in FIG. 6C, the transfer pattern P is peeled off from the pattern substrate F and transferred to a predetermined position on the glass substrate G. Then, the lower clamp portion 9b is opened, and the pattern substrate F and the glass substrate G after the pattern transfer are removed from the transfer device 1 (step S12).

【0026】なお、本実施例では、図6に示すように、
ガラス基板固定盤21を上下動フリーに支持した状態で
ほぼ一定位置に支持したが、図7(A)〜(C)に示す
ように、牽引装置100の左方への移動とガラス基板固
定盤21の上方への移動との同期をとりつつパターン基
板Fとガラス基板Gとを剥離するようにしても、本実施
例と同様の効果を得ることができる。変形例 前記実施例は縦型であったが、本実施例は横型の場合で
ある。
In this embodiment, as shown in FIG.
The glass substrate fixing plate 21 was supported at a substantially constant position while being supported in a vertically movable manner. However, as shown in FIGS. 7A to 7C, the pulling device 100 is moved leftward and the glass substrate fixing plate 21 is fixed. Even if the pattern substrate F and the glass substrate G are peeled off in synchronism with the upward movement of 21, it is possible to obtain the same effect as that of the present embodiment. Modified Example Although the above-described embodiment is a vertical type, this embodiment is a horizontal type.

【0027】図8(A)に示すように、ガラス基板固定
盤21が水平配置され、その左右側面はバネ110a,
110bによりフリー状態に支持されている。ガラス基
板固定盤21上にはガラス基板Gが固定され、このガラ
ス基板G上には既に圧着済みのパターン基板Fが載置さ
れている。パターン基板Fの両端は牽引装置100Aの
牽引棒107Aに掛止されている。この牽引棒107A
は、水平方向にフリー状態に支持されている。
As shown in FIG. 8 (A), the glass substrate fixing plate 21 is horizontally arranged, and the left and right side surfaces thereof are springs 110a,
It is supported in a free state by 110b. The glass substrate G is fixed on the glass substrate fixing plate 21, and the pattern substrate F which has already been pressure-bonded is placed on the glass substrate G. Both ends of the pattern substrate F are hooked on the tow bar 107A of the tow apparatus 100A. This tow bar 107A
Are horizontally supported in a free state.

【0028】この状態で牽引装置100Aを上昇させる
と、図8(B),図8(C)に示すように、2個の牽引
棒107Aは互いに牽引装置100Aの中央に向けて移
動し、同時にパターン基板Fとガラス基板Gとは剥離さ
れる。このようにしても、前記実施例と同様の効果を得
ることができる。他の変形例 前記変形例ではパターン基板Fの両端を掛止して剥離す
る場合を示したが、本変形例はパターン基板Fの片端を
掛止して剥離する場合である。
When the towing device 100A is raised in this state, the two towing rods 107A move toward each other toward the center of the towing device 100A, as shown in FIGS. 8 (B) and 8 (C), and at the same time. The pattern substrate F and the glass substrate G are separated. Even in this case, the same effect as that of the above-described embodiment can be obtained. Other Modifications In the above modification, the case where both ends of the pattern substrate F are hooked and peeled is shown, but this modification is a case where one end of the pattern substrate F is hooked and peeled.

【0029】図9(A)に示すように、パターン基板F
の一端が掛止棒107Aに掛止されている。この状態で
牽引装置100Bを上昇させると、図9(B),(C)
に示すように、パターンの“こすれ”を起こすことな
く、パターン基板Fがガラス基板Gから剥離される。
As shown in FIG. 9A, the pattern substrate F
Has one end hooked on the hook rod 107A. When the traction device 100B is lifted in this state, as shown in FIGS.
As shown in, the pattern substrate F is separated from the glass substrate G without causing "rubbing" of the pattern.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
パターン転写用基板のパターンを被転写基板に転写した
後、剥離する際に、前記被転写基板を固定した被転写基
板固定盤をフリー状態に支持しているので、剥離の際に
無理な力がパターンに加えられることがなく、“こす
れ”のない転写を行うことができる。
As described in detail above, according to the present invention,
After transferring the pattern of the pattern transfer substrate to the transfer target substrate, when peeling, the transfer target substrate fixing plate that fixes the transfer target substrate is supported in a free state. A "rubbing" -free transfer can be performed without being added to the pattern.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例に使用する転写装置の外観斜視
図である。
FIG. 1 is an external perspective view of a transfer device used in an embodiment of the present invention.

【図2】前記実施例に使用するパターン基板の外観斜視
図である。
FIG. 2 is an external perspective view of a pattern board used in the embodiment.

【図3】前記転写装置のガラス基板固定盤の斜視図であ
る。
FIG. 3 is a perspective view of a glass substrate fixing plate of the transfer device.

【図4】前記実施例における動作フローチャートであ
る。
FIG. 4 is an operation flowchart in the embodiment.

【図5】前記実施例における動作過程を説明する図であ
る。
FIG. 5 is a diagram explaining an operation process in the embodiment.

【図6】図5における動作過程のうち剥離過程を説明す
る図である。
FIG. 6 is a diagram illustrating a peeling process in the operation process in FIG.

【図7】前記実施例の変形例を説明する図である。FIG. 7 is a diagram illustrating a modified example of the embodiment.

【図8】前記他の変形例を説明する図である。FIG. 8 is a diagram illustrating another modified example.

【図9】図8の変形例の更に他の変形例を説明する図で
ある。
FIG. 9 is a diagram illustrating still another modification of the modification of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

F…パターン基板(パターン転写用基板) G…ガラス基板(被転写基板) P…転写パターン Mp …パターン側位置合せマーク 1…転写装置 4a,4b…ボールネジ 5…メインモータ 9a,9b…クランプ部 21…ガラス基板固定盤(被転写基板固定部材) 30…スペーサステージ 50…ワークステージ 70…ロール部 71…圧着ロール 73…剥離ロール 100…牽引装置 101a〜101d…ガイドレール 106a,106b…ガイドレール 107…牽引棒F ... Pattern substrate (pattern transfer substrate) G ... Glass substrate (transfer target substrate) P ... Transfer pattern Mp ... Pattern side alignment mark 1 ... Transfer device 4a, 4b ... Ball screw 5 ... Main motor 9a, 9b ... Clamp part 21 ... Glass substrate fixing board (transferred substrate fixing member) 30 ... Spacer stage 50 ... Work stage 70 ... Roll part 71 ... Pressing roll 73 ... Peeling roll 100 ... Traction device 101a-101d ... Guide rails 106a, 106b ... Guide rail 107 … Towbar

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 転写パターンを有する可撓性のパターン
転写用基板と被転写基板とを圧着した後、前記パターン
転写用基板を前記被転写基板から剥離して転写パターン
を転写する転写装置における転写後の基板の剥離方法に
おいて、 パターン転写後のパターン転写用基板を拘持して前記パ
ターン転写用基板を被転写基板から剥離する際に、前記
被転写基板を固定した被転写基板固定部材をフリー状態
に支持して剥離するようにしたことを特徴とする転写装
置における転写後の基板の剥離方法。
1. A transfer in a transfer device in which a flexible pattern transfer substrate having a transfer pattern and a transfer target substrate are pressure-bonded and then the pattern transfer substrate is separated from the transfer target substrate to transfer the transfer pattern. In the subsequent substrate peeling method, when the pattern transfer substrate after pattern transfer is held and the pattern transfer substrate is peeled from the transfer substrate, the transfer substrate fixing member that fixes the transfer substrate is free. A method for peeling a substrate after transfer in a transfer device, characterized in that the substrate is peeled while being supported in a state.
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