JPH06215346A - Magnetic recording medium - Google Patents

Magnetic recording medium

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JPH06215346A
JPH06215346A JP29622393A JP29622393A JPH06215346A JP H06215346 A JPH06215346 A JP H06215346A JP 29622393 A JP29622393 A JP 29622393A JP 29622393 A JP29622393 A JP 29622393A JP H06215346 A JPH06215346 A JP H06215346A
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magnetic recording
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magnetic
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Kon Kim Kwang
クワング・コン・キム
R Schatz Thomas
トーマス・アール・シャツ
Chiuyan Ting Andrew
アンドリュー・チィウヤン・ティング
C Wang Chih-Kung
チクウァング・シー・ワング
Wang Pouen
ポーウェン・ワング
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Abstract

PURPOSE: To obtain a magnetic recording medium having improved coercive force and decreased low-frequency modulation by forming the lower layers of plural layers of two-layered surfaces and forming a first thin film of chromium and a second thin film of a chrome-vanadium alloy. CONSTITUTION: This magnetic recording medium has a substrate 10 having the substrate surface thin film 14 of an NiP alloy deposited by a non-electrolytic treatment and a disk base body 12 of an AlMg alloy, a plurality of layers of the lower layers 20 (consisting of the thin films 22, 24) formed on this substrate 10 and a protective coating 40 formed on a magnetic layer 30 of a Co alloy. A layer 50 of a liquid lubricant is added thereto. The first thin film 22 of a plurality of layers of the lower layers 20 is Cr and the second thin film 24 is Cr80 V20 . These thin films are formed by deposition by sputtering. As a result, the magnetic recording disk of the thin film Co alloy having the greatly improved coercive force and the decreased low-frequency modulation is obtd.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、水平記録用の薄膜コバ
ルト合金磁気記録デイスク、より詳細に言えば、複数層
に被着された下層を有し、被着磁気層の磁気的な性質を
改良した磁気記録デイスクに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thin film cobalt alloy magnetic recording disk for horizontal recording, and more particularly, it has a lower layer deposited in a plurality of layers, and has the magnetic properties of the deposited magnetic layer. An improved magnetic recording disk.

【0002】[0002]

【従来の技術】通常、水平磁気記録用の薄膜コバルト合
金磁気記録デイスクは、ガラス基板か、または燐ニツケ
ル合金(NiP)の表面被覆を有するアルミニウム−マ
グネシウム合金(AlMg)の基板と、基板上にデポジ
ツトされたクロム(Cr)、またはクロム−バナジウム
合金(CrV)のような下層と、下層上に磁気層として
被着されたコバルト・ベースの合金スパツタ層と、磁気
層上に形成され、スパツタ被着されたアモルフアス炭素
の薄膜か、または水素化炭素の薄膜のような保護被覆と
を含んでいる。
2. Description of the Related Art Generally, a thin film cobalt alloy magnetic recording disk for horizontal magnetic recording is formed on a glass substrate or an aluminum-magnesium alloy (AlMg) substrate having a surface coating of phosphorus nickel alloy (NiP) and a substrate. An underlayer, such as deposited chromium (Cr) or a chromium-vanadium alloy (CrV), a cobalt-based alloy sputter layer deposited as a magnetic layer on the underlayer, and a sputter deposit formed on the magnetic layer. A thin film of deposited amorphous carbon or a protective coating such as a thin film of hydrogenated carbon.

【0003】コバルト合金磁気デイスクの保磁力(coer
civity)、保磁力の直角度(squareness)及び残留磁気
の直角度(残留磁化対飽和磁化との比率)は下層の構造
及び組成により影響される。米国特許第4610911
号及び同第4631202号は、クロムの通常の単一の
下層とコバルト−白金合金(CoPt)の磁気層を有す
る薄膜磁気デイスクを開示しており、デイスクの飽和保
磁力に対するクロム下層の影響を説明している。米国特
許第4652499号は、同じ厚さのクロムの下層より
も高い保磁力及び保磁力の直角度を与える単一のクロム
−バナジウム合金の下層を有するコバルト−白金−クロ
ム合金(CoPtCr)の薄膜磁気デイスクを開示して
いる。
Coercive force of cobalt alloy magnetic disk (coer
civity), coercivity squareness, and remanence squareness (ratio of remanent magnetization to saturation magnetization) are influenced by the structure and composition of the lower layer. US Pat. No. 4,610,911
And No. 4,631,202 disclose thin film magnetic disks having a conventional single underlayer of chromium and a magnetic layer of cobalt-platinum alloy (CoPt), which describes the effect of the underlayer of chromium on the coercivity of the disk. is doing. U.S. Pat. No. 4,652,499 discloses a thin film magnetic of cobalt-platinum-chromium alloy (CoPtCr) having a single chromium-vanadium alloy underlayer that provides a higher coercivity and coercivity squareness than a chromium underlayer of the same thickness. Discs are disclosed.

【0004】良好なデイスクは保磁力、保磁力の直角度
及び残留磁気の直角度の高い値を含むのが好ましい磁気
的性質に加えて、デイスク面全体に亙つて相対的に一定
の磁気的性質を示すものでなければならない。このよう
な磁気的性質を持たないデイスクの場合、読み取り信号
の振幅がデイスクの周辺において変化することがあり、
その結果、読み取り信号の望ましくない低周波変調(L
FM)が生じることが1つの問題である。米国特許第4
833020号において、信号の変調を減少させるため
に2つの下層を有するコバルト合金のデイスクが開示さ
れており、基板側の第1の層はジルコニウム(Zr)、
チタン(Ti)、ケイ素(Si)、ゲルマニウム(G
e)、二酸化ケイ素(SiO2)が望ましく、そして、
磁気層が被着された第2の層はクロム(Cr)が望まし
いことが記載されている。この米国特許に記載されてい
る他の実施例において、これら2つの下層はCr/Cr
構造でも良いことが記載されており、この場合の各Cr
層は、異なつた条件の下でスパツタ被着されている。
In addition to the magnetic properties that a good disk preferably contains high values of coercivity, coercivity squareness and remanence magnetism squareness, a relatively constant magnetic property over the entire disk surface. Must indicate In the case of a disk that does not have such magnetic properties, the amplitude of the read signal may change around the disk,
As a result, the unwanted low frequency modulation (L
FM) is a problem. US Patent No. 4
No. 8333020 discloses a cobalt alloy disc having two underlayers to reduce signal modulation, the first layer on the substrate side being zirconium (Zr),
Titanium (Ti), Silicon (Si), Germanium (G
e), silicon dioxide (SiO 2 ) is desirable, and
It is described that chromium (Cr) is preferably used for the second layer on which the magnetic layer is applied. In another embodiment described in this US patent, these two underlayers are Cr / Cr.
It is described that the structure is acceptable, and each Cr in this case is
The layers are sputtered under different conditions.

【0005】他の刊行物は2層の下層を有するコバルト
合金デイスクを記載しているが、LFMを減少する利点
を記載していない。例えば、米国特許第4828905
号は、2層の下層を有するコバルト合金デイスクを開示
しており、このデイスクにおいて、基板上に形成された
第1の層は相対的に薄い酸化クロム層、または酸化チタ
ニウム層のような酸化物層であり、第2の層は遥かに薄
いクロム層である。1992年6月のIBMテクニカル
・デイスクロージヤ・ブレテイン第35巻第1A号の2
65頁及び266頁において、クロム及び錫(Sn)の
2層の下層を有する増加された保磁力を持つコバルト−
白金−クロム合金(CoPtCr)のデイスクが記載さ
れており、このデイスクの第1の層はCrであり、第2
の層はSnであり、第2の層の上にCoPtCr合金の
薄膜が被着されている。
Other publications describe cobalt alloy disks with two underlayers, but no benefit in reducing LFM. For example, US Pat. No. 4,828,905.
Discloses a cobalt alloy disk having two lower layers, in which the first layer formed on the substrate is a relatively thin chromium oxide layer or an oxide such as a titanium oxide layer. The second layer is a much thinner chrome layer. IBM Technical Disclosure Bulletin Vol. 35, No. 1A, June 1992
Cobalt with increased coercivity with two layers underlayer of chromium and tin (Sn) at pages 65 and 266.
A platinum-chromium alloy (CoPtCr) disk is described, the first layer of which is Cr and the second layer
Layer is Sn and a thin film of CoPtCr alloy is deposited on the second layer.

【0006】磁気的な性質を改善して低周波変調(LF
M)を減少させる下層を有するコバルト合金の薄膜磁気
記録デイスクを必要とすることは明らかである。
Low-frequency modulation (LF) by improving magnetic properties
It is clear that there is a need for a cobalt alloy thin film magnetic recording disk with an underlayer that reduces M).

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は磁気的
な性質を改善してLFMを減少させる下層を有するコバ
ルト合金の磁気記録デイスクを提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a cobalt alloy magnetic recording disk having an underlayer which improves magnetic properties and reduces LFM.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明の第1の実施例の
磁気デイスクにおいて、複数層の下層は2層構造を有
し、第1の薄膜はクロム(Cr)であり、第2の薄膜は
クロム−バナジウム合金(CrV)である。本発明の第
2の実施例における磁気デイスクは、相対的に少量の酸
素原子を含むCrVの第1の薄膜(基板に隣接した薄
膜)と、相対的に多量の酸素原子を含むCrVの第2の
薄膜とで作られた2層の下層を持つている。
In the magnetic disk of the first embodiment of the present invention, the lower layer of a plurality of layers has a two-layer structure, the first thin film is chromium (Cr), and the second thin film. Is a chromium-vanadium alloy (CrV). The magnetic disk in the second embodiment of the present invention comprises a first thin film of CrV containing a relatively small amount of oxygen atoms (a thin film adjacent to the substrate) and a second thin film of CrV containing a relatively large amount of oxygen atoms. It has a lower layer of 2 layers made with a thin film of.

【0009】[0009]

【実施例】図1を参照すると、本発明に従つた薄膜コバ
ルト合金磁気デイスクの断面図が示されている。このデ
イスクは、非電解処理で被着された燐ニツケル合金(N
iP)の基板面薄膜14を有するアルミニウム−マグネ
シウム合金(AlMg)のデイスク基体12を持つ基板
10と、基板10の上に形成された複数層の下層20
(図示の実施例においては2つの薄膜22及び24)
と、磁気層30の上に形成された保護被覆40とを含ん
でいる。保護被覆40上には通常、液体潤滑剤の層50
が添加されている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT Referring to FIG. 1, there is shown a cross-sectional view of a thin film cobalt alloy magnetic disk according to the present invention. This disk is made of phosphorus nickel alloy (N
a substrate 10 having an aluminum-magnesium alloy (AlMg) disk substrate 12 having a substrate surface thin film 14 of iP), and a plurality of lower layers 20 formed on the substrate 10.
(Two thin films 22 and 24 in the illustrated embodiment)
And a protective coating 40 formed on the magnetic layer 30. A layer of liquid lubricant 50 is typically provided on the protective coating 40.
Has been added.

【0010】本発明の第1の実施例において、複数層の
下層20は、第1の薄膜22がCrであり、第2の薄膜
24がCr8020(クロム80%とバナジウム20%の
合金)である2層の下層を含んでいる。この2層構造は
Crターゲツトからの第1のスパツタ被着のCr層と、
第2の層と同じ合金組成を有するターゲツトからのスパ
ツタ被着のCr8020層とによつて形成されている。
In the first embodiment of the present invention, in the lower layer 20 of a plurality of layers, the first thin film 22 is Cr and the second thin film 24 is Cr 80 V 20 (an alloy of 80% chromium and 20% vanadium). ) Are two lower layers. This two-layer structure is the first sputter-deposited Cr layer from the Cr target,
The second layer is formed by a sputter-deposited Cr 80 V 20 layer from a target having the same alloy composition.

【0011】600オングストロームのCr/600オ
ングストロームのCr8020の2層構造の下層と、30
0オングストロームの厚さのCo67Pt16Cr17の磁気
層とを有するデイスクに対する保磁力は、従来の120
0オングストロームのCrの下層を持つ同様なデイスク
の1200エルステツドと比べて劇的に増加したことが
示された。図2に示されたように、2つの薄膜の厚さの
合計が一定であるこのような2層の下層に対して、保磁
力はCr及びCr8020薄膜の厚さの比率について殆ど
影響を受けない。また、図2においては、本発明のCr
層/CrV層の2層構造の下層を持つデイスクの保磁力
は、上述の2層構造の下層中の2つの薄膜の合計の厚さ
と同じ厚さのCr8020だけの下層を持つ同じデイスク
の保磁力に比べてより大きいことが示されている。Cr
Vのスパツタ用ターゲツトはCrのスパツタ用ターゲツ
トよりも可成り高価なので、上述の発見は重要であり、
その結果、Crの第1の薄膜で形成されている下層の大
きな部分を2層構造の下層を使用することは、単一層構
造のCrVの下層を有するデイスクよりも少ないコスト
により、高い保磁力のデイスクを得ることができる。保
磁力の直角度S*は、Cr/CrVの2層構造の下層で
作られた種々のデイスクに対して0.85乃至0.95
の間で測定されたが、この値は磁気記録に対して明らか
に受容できる値である。
A 600 Å Cr / 600 Å Cr 80 V 20 bilayer underlayer;
The coercivity for a disk with 0 angstrom thick Co 67 Pt 16 Cr 17 magnetic layer is 120
It was shown to be dramatically increased compared to a similar disk 1200 Elsted with a 0 Å Cr underlayer. As shown in FIG. 2, for such an underlayer of two layers, where the sum of the thicknesses of the two thin films is constant, the coercivity has little effect on the ratio of the Cr and Cr 80 V 20 thin film thicknesses. Do not receive Further, in FIG. 2, Cr of the present invention is used.
The coercive force of a disk having a two-layer underlayer of Cr / CrV layer is the same as that of a disk having only Cr 80 V 20 having the same thickness as the total thickness of two thin films in the above-mentioned two-layer underlayer. It is shown to be larger than the coercive force of. Cr
The above discovery is important because the V spatula target is considerably more expensive than the Cr sputter target.
As a result, using a large amount of the lower layer formed of the first thin film of Cr using the lower layer of the two-layer structure has a higher coercive force due to less cost than the disk having the lower layer of the CrV of the single layer structure. You can get a disk. The squareness S * of the coercive force is 0.85 to 0.95 for various disks made under the two-layer structure of Cr / CrV.
, Which is clearly acceptable for magnetic recording.

【0012】本発明の第2の実施例において、2層構造
の下層は第1の薄膜(デイスクの基板上薄膜)は相対的
に酸素原子の少ないCr8020で作られ、第2の薄膜は
酸素原子の多く含むCr8020で作られている。酸素原
子の少ない薄膜は、約0.05原子パーセント以下の酸
素原子濃度を有する月並な「真空室処理(vacuum cast
−VC)」のスパツタ用ターゲツトから基板上に先ずス
パツタ処理される。酸素原子を多く含む薄膜は、「粉体
加圧処理(powder-pressed−PP)」を用いて、0.0
5乃至5原子パーセントの範囲の酸素原子濃度を有する
CrVのターゲツトから酸素原子の少ない薄膜上にスパ
ツタされて作られるのが望ましい。代案として、酸素原
子を多く含む薄膜は、クロム原子及びバナジウム原子が
デイスクの基板上に被着されたときにCrVの薄膜が酸
素原子で「ドープ」されるように、酸素の存在の下でC
rVを反応スパツタ処理することにより作ることができ
る。
In the second embodiment of the present invention, the lower layer of the two-layer structure is the first thin film (thin film on the disk substrate), and the second thin film is made of Cr 80 V 20 having relatively few oxygen atoms. Is made of Cr 80 V 20 which contains many oxygen atoms. Thin films depleted of oxygen atoms have a mediocre “vacuum cast” with an oxygen atom concentration of less than about 0.05 atomic percent.
-VC) "target for sputtering is first subjected to sputtering on the substrate. A thin film containing a large amount of oxygen atoms can be formed by applying “powder-pressed-PP” to 0.0
Desirably, it is made by sputtering from a CrV target having an oxygen atom concentration in the range of 5 to 5 atomic percent on a thin film of oxygen atoms. As an alternative, a thin film rich in oxygen atoms can be used in the presence of oxygen such that the CrV thin film is "doped" with oxygen atoms when chromium and vanadium atoms are deposited on the substrate of the disk.
It can be prepared by subjecting rV to reaction sputtering.

【0013】下記のような5つのタイプの下層を有する
コバルト合金デイスクの磁気的性質を比較するために、
インライン・パレツト型のスパツタ装置を使用して実験
用のデイスクが作られた。5つのタイプの下層は(1)
PP処理による単一の層構造のCrV下層と、(2)V
C処理による単一の層構造のCrV下層と、(3)第1
薄膜として、PP処理によるCrV層及び第2薄膜とし
て、VC処理によるCrV層を含む2層構造の下層(P
P/VC)と、(4)第1薄膜として、VC処理による
CrV層及び第2薄膜として、PP処理によるCrV層
の2層構造の下層(VC/PP)と、(5)第1薄膜と
して、Cr及び第2薄膜として、PP処理によるCrV
層の2層構造の下層である。下記の表1及び表2は、上
述の5つのタイプの下層を持つデイスクの磁気特性、保
磁力Hc、保磁力の直角度S*、残留磁気の直角度S及び
LFMの測定結果を示す表である。都合により表1及び
表2は別々に分けられているが、表1の次に表2を連続
させて元来一体の表として見ることには注意を向けられ
たい。
To compare the magnetic properties of cobalt alloy disks with five types of underlayers as follows:
An experimental disk was made using an in-line pallet type sputter device. The lower layers of the five types are (1)
CrV lower layer with a single layer structure by PP treatment, and (2) V
CrV lower layer of single layer structure by C treatment, and (3) 1st
As a thin film, a CrV layer by PP processing and as a second thin film, a lower layer of a two-layer structure (P
P / VC), (4) as a first thin film, as a CrV layer and a second thin film by a VC treatment, as a lower layer (VC / PP) having a two-layer structure of a CrV layer by a PP treatment, and (5) as a first thin film. , Cr and the second thin film, CrV by PP treatment
It is the lower layer of the two-layer structure of layers. Tables 1 and 2 below show the measurement results of the magnetic characteristics, coercive force H c , coercive force squareness S * , remanent magnetism squareness S, and LFM of the above-mentioned five types of lower layer discs. Is. For the sake of convenience, Table 1 and Table 2 are separated separately, but it should be noted that Table 1 is followed by Table 2 as a unitary table.

【0014】[0014]

【表1】 [Table 1]

【0015】[0015]

【表2】 [Table 2]

【0016】上記の表1及び表2中のデータは、Crv
(PP処理)だけの下層のデイスクに比べて、Cr/C
rVの下層及びCrV(VC処理)/CrV(PP処
理)の組合わせの下層を持つデイスクの方がより高い保
磁力及び保磁力の直角度S*を持つていることを示して
いる。加えて、LFMは、CrV(PP処理)の単一層
のデイスクに比べて、2層構造のいずれのデイスクも減
少されている。LFMの減少は、Cr、またはCrV
(VC処理)の種層の核形成によつてCr合金の結晶方
向が変化した結果である。低い変調方向を維持するため
に、CrV(PP処理)層が第1層上にエピタキシヤル
成長される。
The data in Tables 1 and 2 above are Crv
Cr / C compared to the lower disk only for (PP processing)
It is shown that the disk having the lower layer of rV and the lower layer of the combination of CrV (VC processing) / CrV (PP processing) has higher coercive force and coercive force squareness S * . In addition, the LFM has reduced both discs of a two-layer structure compared to a single layer disc of CrV (PP treated). LFM is reduced by Cr or CrV
This is a result of the crystal orientation of the Cr alloy being changed by the nucleation of the seed layer of (VC treatment). A CrV (PP treated) layer is epitaxially grown on the first layer in order to maintain a low modulation direction.

【0017】CrV/CrV2層構造の下層中の酸素の
影響をより良く理解するために、ケイ素(Si)基板上
に形成され、下記の構造を有する薄膜構造がアウガー深
さ濃度プロフイール(Auger depth concentration prof
ile)の対象とされて、2つのCr8020薄膜中に存在
する酸素の量及び配分が決定された。
In order to better understand the effect of oxygen in the lower layer of the CrV / CrV bilayer structure, a thin film structure formed on a silicon (Si) substrate and having the following structure is used: Auger depth concentration profile prof
The amount and distribution of oxygen present in the two Cr 80 V 20 thin films was determined.

【0018】上述の構造は、500ÅのVC処理のCr
8020/500ÅのPP処理のCr8020/200Åの
炭素を含む構造である。
The above-mentioned structure is based on 500 Å VC processed Cr.
A structure containing the 80 V 20 / 500Å Cr 80 V 20 / 200Å of PP processing carbon.

【0019】この構造の測定結果は、VC処理による薄
膜の中には酸素は検出されなかつたが、他方、PP処理
による薄膜は1.7原子パーセントの酸素が測定され
た。加えて、アウガー式測定は、8つの別個のスパツタ
時間の後に行なわれ、そして、アウガー・サンプリング
・ゾーンがPP処理の薄膜の中心から移動し、VC処理
の薄膜の中心で検出されなくなつたときに、酸素のピー
ク値が減少したことが示された。
As a result of measurement of this structure, oxygen was not detected in the VC-treated thin film, while 1.7 atomic percent oxygen was measured in the PP-treated thin film. In addition, Auger measurements were made after eight separate spatula times, and when the Auger sampling zone moved from the center of the PP-treated film and was no longer detected at the center of the VC-treated film. It was shown that the oxygen peak value decreased.

【0020】上述した試料及び実験用のデイスクはSi
及びAlMg/NiPの基板上に形成されたけれども、
本発明により改善されたデイスクは、特定の基板に依存
せず、ガラスなどの他の基板を使用しても同じように改
善結果が得られることには注意を払う必要がある。
The samples and experimental disks described above are made of Si.
And on the AlMg / NiP substrate,
It should be noted that the disk improved by the present invention does not depend on a specific substrate, and the same improvement result can be obtained by using another substrate such as glass.

【0021】上述の説明は複数層の下層と磁気層との構
造だけに関連しており、他の公知のデイスクの構造と
か、デイスクの製造方法とかに言及していないが、薄膜
コバルト合金磁気デイスクの製造において、例えば、実
質的にアモルフアスの水素化炭素薄膜を磁気層上にスパ
ツタ被着されたような保護被覆40(図1)を与えるこ
とは公知である。
Although the above description relates only to the structure of the lower layers and the magnetic layer and does not refer to other known disk structures or methods of manufacturing the disk, the thin film cobalt alloy magnetic disk. It is known to provide a protective coating 40 (FIG. 1) such as a substantially amorphous hydrogenated carbon thin film sputter deposited on the magnetic layer.

【0022】[0022]

【発明の効果】本発明によれば、保磁力を著しく向上さ
せ、しかも低周波変調を減少させた薄膜コバルト合金の
磁気記録デイスクが与えられる。
According to the present invention, a magnetic recording disk of a thin film cobalt alloy having a significantly improved coercive force and reduced low frequency modulation is provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明を適用した磁気記録デイスクの模式的な
断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view of a magnetic recording disk to which the present invention is applied.

【図2】2層構造の下層で構成された2つの薄膜に対し
て、厚さの関数としての保磁力を示したグラフである。
FIG. 2 is a graph showing coercive force as a function of thickness for two thin films composed of the lower layer of a two-layer structure.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 デイスクの基板 12 デイスク基体 14 基板表薄膜 20 下層 22 第1の薄膜 24 第2の薄膜 30 磁気層 40 保護被覆 50 潤滑剤の層 10 Disk Substrate 12 Disk Substrate 14 Substrate Surface Thin Film 20 Lower Layer 22 First Thin Film 24 Second Thin Film 30 Magnetic Layer 40 Protective Coating 50 Lubricant Layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 クワング・コン・キム アメリカ合衆国 カリフォルニア州、サン ノゼ、ウエストフィールド・アベニュー 2749 (72)発明者 トーマス・アール・シャツ アメリカ合衆国 カリフォルニア州、モー ガン・ヒル、コーレ・エンリク 15400 (72)発明者 アンドリュー・チィウヤン・ティング アメリカ合衆国 カリフォルニア州、サン ノゼ、グレン・イーリー・アベニュー 1218 (72)発明者 チクウァング・シー・ワング アメリカ合衆国 カリフォルニア州、サン ノゼ、ウオッシュー・ドライブ 1186 (72)発明者 ポーウェン・ワング アメリカ合衆国 カリフォルニア州、サン ノゼ、バレー・クウェイル・サークル 1227 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued Front Page (72) Inventor Kwang Kong Kim Westfield Avenue, San Jose, California, USA 2749 (72) Inventor Thomas Earl Shirt Morgan Hill, Kore, USA Enrique 15400 (72) Inventor Andrew Chiu Wang Ting United States California, San Jose, Glen Ely Avenue 1218 (72) Inventor Chikwang Sea Wang United States California, San Jose, Wash Drive 1186 (72) Invention Pau Wang 1227 Valley Quail Circle, San Jose, CA, USA

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】水平磁気記録用の磁気記録媒体において、 基板と、 上記基板上に形成され、クロム及びクロム・ベースの合
金を含むグループから選択された第1の非磁性薄膜と、
該第1の非磁性薄膜上に形成され、クロム・ベースの合
金を含む第2の非磁性薄膜とを含む下層と、 上記下層の第2の薄膜上に形成されたコバルト・ベース
の合金を含む磁性層とからなる磁気記録媒体。
1. A magnetic recording medium for horizontal magnetic recording, comprising: a substrate; and a first non-magnetic thin film formed on the substrate and selected from the group consisting of chromium and a chromium-based alloy.
A lower layer formed on the first non-magnetic thin film and including a second non-magnetic thin film containing a chromium-based alloy; and a cobalt-based alloy formed on the lower second thin film. A magnetic recording medium comprising a magnetic layer.
【請求項2】水平記録用の磁気記録デイスクにおいて、 硬質の基板と、 上記基板上に形成され、クロム又はクロム・ベースの合
金のいずれかの第1の薄膜と、該第1の薄膜上に形成さ
れ、クロム・ベースの合金の薄膜の第2の薄膜とを含む
下層と、 上記第2の薄膜上に形成された磁気層とからなる磁気記
録デイスク。
2. A magnetic recording disk for horizontal recording, comprising a hard substrate, a first thin film formed on the substrate and made of chromium or a chromium-based alloy, and a first thin film on the first thin film. A magnetic recording disk comprising a lower layer formed and including a second thin film of a chromium-based alloy thin film, and a magnetic layer formed on the second thin film.
【請求項3】上記基板はケイ素である請求項1記載の磁
気記録媒体、又は請求項2記載の磁気記録デイスク。
3. The magnetic recording medium according to claim 1, or the magnetic recording disk according to claim 2, wherein the substrate is silicon.
【請求項4】上記基板はガラスである請求項1記載の磁
気記録媒体、又は請求項2記載の磁気記録デイスク。
4. The magnetic recording medium according to claim 1, or the magnetic recording disk according to claim 2, wherein the substrate is glass.
【請求項5】上記基板は該基板上に形成されたニツケル
・アモルフアス面の薄膜を有するアルミニウム合金を含
む請求項1記載の磁気記録媒体、又は請求項2記載の磁
気記録デイスク。
5. The magnetic recording medium according to claim 1, or the magnetic recording disk according to claim 2, wherein the substrate contains an aluminum alloy having a thin film of nickel-amorphous surface formed on the substrate.
【請求項6】第1の薄膜はクロムであり、第2のフイル
ムはクロム−バナジウム合金である請求項1記載の磁気
記録媒体、又は請求項2記載の磁気記録デイスク。
6. The magnetic recording medium according to claim 1, or the magnetic recording disk according to claim 2, wherein the first thin film is chromium and the second film is a chromium-vanadium alloy.
【請求項7】第1の薄膜は酸素原子を殆ど含まないクロ
ム−バナジウム合金を含み、第2の薄膜は酸素原子を含
むクロム−バナジウム合金を含む請求項1記載の磁気記
録媒体、又は請求項2記載の磁気記録デイスク。
7. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the first thin film contains a chromium-vanadium alloy containing almost no oxygen atoms, and the second thin film contains a chromium-vanadium alloy containing oxygen atoms. 2. The magnetic recording disk according to 2.
【請求項8】上記磁気層上に形成された保護被覆を含む
請求項1記載の磁気記録媒体、又は請求項2記載の磁気
記録デイスク。
8. The magnetic recording medium according to claim 1, further comprising a protective coating formed on the magnetic layer, or the magnetic recording disk according to claim 2.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0721543A (en) * 1993-07-01 1995-01-24 Nippon Sheet Glass Co Ltd Magnetic recording medium
JP2000038662A (en) * 1998-07-24 2000-02-08 Tosoh Corp Sputtering target
US6740383B2 (en) 1998-05-27 2004-05-25 Fujitsu Limited Magnetic recording medium possessing a ratio of Hc(perpendicular) to Hc(horizontal) that is not more than 0.22 and magnetic recording disk device

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62293512A (en) * 1986-06-12 1987-12-21 Sumitomo Special Metals Co Ltd Magnetic recording medium
JPS63187414A (en) * 1987-01-20 1988-08-03 インターナシヨナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーシヨン Magnetic recording medium
JPH04321919A (en) * 1991-04-22 1992-11-11 Hitachi Ltd Intra-surface magnetic recording medium

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62293512A (en) * 1986-06-12 1987-12-21 Sumitomo Special Metals Co Ltd Magnetic recording medium
JPS63187414A (en) * 1987-01-20 1988-08-03 インターナシヨナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーシヨン Magnetic recording medium
JPH04321919A (en) * 1991-04-22 1992-11-11 Hitachi Ltd Intra-surface magnetic recording medium

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0721543A (en) * 1993-07-01 1995-01-24 Nippon Sheet Glass Co Ltd Magnetic recording medium
US6740383B2 (en) 1998-05-27 2004-05-25 Fujitsu Limited Magnetic recording medium possessing a ratio of Hc(perpendicular) to Hc(horizontal) that is not more than 0.22 and magnetic recording disk device
JP2000038662A (en) * 1998-07-24 2000-02-08 Tosoh Corp Sputtering target

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