JPH06204379A - Manufacture of semiconductor device - Google Patents

Manufacture of semiconductor device

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JPH06204379A
JPH06204379A JP4349407A JP34940792A JPH06204379A JP H06204379 A JPH06204379 A JP H06204379A JP 4349407 A JP4349407 A JP 4349407A JP 34940792 A JP34940792 A JP 34940792A JP H06204379 A JPH06204379 A JP H06204379A
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Japan
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mold
pressure
resin
lead frame
semiconductor device
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Kazuya Fujita
和弥 藤田
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Original Assignee
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To prevent whisker-shaped solder plating from being generated even if PPF is used for a lead frame. CONSTITUTION:The clamping pressure for clamping a mold by holding a solder plating 29 of PPF 21 from both sides should be a pressure preventing the part of the solder plating 29 which is held by the mold from being deformed. Then, when injection of a mold resin 8 into the mold is completed, the clamping pressure is increased and final forming pressure is applied to the mold resin 8. Therefore, since the mold resin 8 has been filled into the part inside a dambar even if the clamping force for deforming the solder plating 29 is reached, deformation of the solder plating 29 due to the presence of the filled mold resin 8 and hence squeeze-out into the damper can be prevented. Also, by controlling the rising timing of the clamping force of the mold based on the amount of displacement of a plunger, the squeeze-out into the inside of the dambar of the solder plating can be positively prevented.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、リードフレームを用い
た樹脂封止型の半導体装置の製造方法に関し、特に予め
アウタリード部に半田(SnとPbの合金)メッキを施
したリードフレームを用いた樹脂封止型の半導体装置の
製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a resin-sealed semiconductor device using a lead frame, and in particular, a lead frame having an outer lead portion plated with solder (alloy of Sn and Pb) in advance is used. The present invention relates to a method of manufacturing a resin-sealed semiconductor device.

【0002】[0002]

【従来の技術】リードフレームを用いた樹脂封止型の半
導体装置としては、図6に示す構成のものが知られてい
る。この半導体装置は、リードフレーム1と、リードフ
レーム1の上に搭載された半導体素子6と、リードフレ
ーム1の一部を外部に露出させて半導体素子6及びリー
ドフレーム1を覆うモールド樹脂8とを備える。上記リ
ードフレーム1は、半導体素子6を搭載するためのダイ
パッド2と、このダイパッド2を間に挟んで両側それぞ
れに複数のリード端子3とを有する。各リード端子3の
上記モールド樹脂8で覆われた部分はインナリード部4
と称され、モールド樹脂8の外部に露出した部分はアウ
タリード部5と称されている。
2. Description of the Related Art As a resin-sealed semiconductor device using a lead frame, a structure shown in FIG. 6 is known. This semiconductor device includes a lead frame 1, a semiconductor element 6 mounted on the lead frame 1, and a molding resin 8 that exposes a part of the lead frame 1 to the outside and covers the semiconductor element 6 and the lead frame 1. Prepare The lead frame 1 has a die pad 2 for mounting the semiconductor element 6 and a plurality of lead terminals 3 on both sides with the die pad 2 interposed therebetween. The portion of each lead terminal 3 covered with the molding resin 8 is the inner lead portion 4.
The portion exposed to the outside of the mold resin 8 is referred to as the outer lead portion 5.

【0003】上記ダイパッド2の上表面及び側面には銀
メッキ2aが形成され、この銀メッキ2aの上には半導
体素子6が搭載されている。上記インナリード部4のダ
イパッド2側の端部には銀メッキ4aが形成され、この
銀メッキ4aと半導体素子6とはワイヤ7にて接続され
ている。上記アウタリード部5には、半田や錫からなる
外装メッキ9が形成されている。
Silver plating 2a is formed on the upper surface and side surfaces of the die pad 2, and a semiconductor element 6 is mounted on the silver plating 2a. A silver plating 4a is formed on the end of the inner lead portion 4 on the die pad 2 side, and the silver plating 4a and the semiconductor element 6 are connected by a wire 7. An outer plating 9 made of solder or tin is formed on the outer lead portion 5.

【0004】かかる構造の半導体装置は、従来当初、図
7に示すように金型などを用いる製造プロセスで製造さ
れている。即ち、この製造プロセスでは、ダイパッド2
に銀メッキ2aが、インナリード部4に銀メッキ4aが
形成されたリードフレーム1を使用する。先ず、このリ
ードフレーム1に対し、ダイシングされた半導体素子6
をインナリード部4の上にダイボンドし、半導体素子6
とリードフレーム1とをワイヤボンディングする。
A semiconductor device having such a structure is initially manufactured by a manufacturing process using a mold as shown in FIG. That is, in this manufacturing process, the die pad 2
The lead frame 1 having the silver plating 2a on the inner lead portion 4 and the silver plating 4a on the inner lead portion 4 is used. First, the semiconductor element 6 diced to the lead frame 1 is diced.
Is die-bonded onto the inner lead portion 4 to form a semiconductor element 6
And the lead frame 1 are wire-bonded.

【0005】次に、かかるリードフレーム1を金型にセ
ットする。続いて、金型内にモールド樹脂8を封止し、
その後、所定時間保持して硬化(キュア)させる。しか
る後、アウタリード部5に外装メッキ9を施し、リード
端子3をフォーミングして折り曲げることにより最終製
品となし、その後、テストを行うことにより製造されて
いる。
Next, the lead frame 1 is set in a mold. Then, the mold resin 8 is sealed in the mold,
Then, it is held (cured) for a predetermined period of time. After that, the outer lead portion 5 is subjected to exterior plating 9, the lead terminal 3 is formed and bent to form a final product, and thereafter, a test is performed to manufacture.

【0006】しかし、この従来当初の製造プロセスで
は、モールド樹脂8を封止した後に形成するアウタリー
ド部5の外装メッキ9は、金型を用いる工程とは異なる
表面処理工程で行われ、また処理を行う場所も異なるた
め、製造プロセス全体としては相当な長時間を要すると
いう欠点があった。
However, in this conventional manufacturing process, the outer plating 9 of the outer lead portion 5 formed after the molding resin 8 is sealed is performed in a surface treatment step different from the step using the mold, and the treatment is performed. Since the place where the process is performed is different, there is a drawback that the whole manufacturing process requires a considerably long time.

【0007】そこで、外装メッキを形成すべく行う表面
処理工程を、半導体装置の製造プロセスから廃止して時
間短縮を図るべく、インナリード部やダイパッドに銀メ
ッキを、アウタリード部に半田メッキを予め施したリー
ドフレーム(以下、PPF(Pre−Plated−F
rame)と言う。)を用いて樹脂封止型の半導体装置
を製造する方式が提案されている。
Therefore, in order to eliminate the surface treatment process for forming the exterior plating from the manufacturing process of the semiconductor device and shorten the time, silver plating is applied to the inner lead portion and the die pad and solder plating is applied to the outer lead portion in advance. Lead frame (hereinafter referred to as PPF (Pre-Plated-F
name). ) Is used to manufacture a resin-sealed semiconductor device.

【0008】図8は、上記PPFを用いた樹脂封止型の
半導体装置の一部を示す断面図であり、PPF21が金
型10に挟まれた製造途中の状態を示している。この図
に示すように、PPF21を用いた樹脂封止型の半導体
装置においては、インナリード部24に形成された銀メ
ッキ24aと、アウタリード部25に形成された半田メ
ッキ29とが接触せず、また、アウタリード部25の耐
食性を考慮してモールド樹脂封止領域、即ち金型10の
キャビティ部13内に半田メッキ29の一部が入る構造
をとる場合が多く、半田メッキ29が上下の金型11、
12のパーティング面11a、12aにクランプされた
状態でモールド樹脂に封入される。
FIG. 8 is a cross-sectional view showing a part of the resin-sealed semiconductor device using the PPF, showing a state in which the PPF 21 is sandwiched between the molds 10 during manufacturing. As shown in this figure, in the resin-sealed semiconductor device using the PPF 21, the silver plating 24a formed on the inner lead portion 24 and the solder plating 29 formed on the outer lead portion 25 do not come into contact with each other, Also, in consideration of the corrosion resistance of the outer lead portion 25, a structure is often adopted in which a part of the solder plating 29 enters the mold resin sealing region, that is, the cavity portion 13 of the mold 10, and the solder plating 29 is located above and below the mold. 11,
It is sealed in the mold resin while being clamped to the 12 parting surfaces 11a and 12a.

【0009】この場合の製造プロセスは、図9に示すよ
うに行われる。まず、予めインナリード部24やダイパ
ッドに銀メッキ24aを、アウタリード部25に半田メ
ッキ29を施したPPF21に対し、そのダイパッド上
に、ダイシングされた半導体素子をダイボンドし、半導
体素子とPPF21とをワイヤボンディングする。かか
るPPF21を金型にセットする。
The manufacturing process in this case is performed as shown in FIG. First, the inner lead portion 24 and the die pad are preliminarily silver-plated 24a and the outer lead portion 25 is solder-plated 29 to the PPF 21, and the dicing semiconductor element is die-bonded on the die pad to wire the semiconductor element and the PPF 21 to each other. Bond. The PPF 21 is set in a mold.

【0010】次に、金型により挟まれたPPF21部分
の面積に対して約3ton/cmの圧力で金型10を
型締めする。次に、金型10に形成されたポット内で溶
融しているモールド樹脂を、射出成形機に備わったプラ
ンジャーにより押し出し、金型10のランナーを通じて
金型10のキャビティ部13内にモールド樹脂を注入
し、充填が完了した時点で約100kg/cmの最終
成形圧力を印加して2分程度保持・硬化させる。その
後、金型10から取り外して所定のテストを行うことに
より行う。
Next, the die 10 is clamped at a pressure of about 3 ton / cm 2 with respect to the area of the PPF 21 portion sandwiched by the die. Next, the mold resin melted in the pot formed in the mold 10 is extruded by the plunger provided in the injection molding machine, and the mold resin is injected into the cavity 13 of the mold 10 through the runner of the mold 10. After pouring, when the filling is completed, a final molding pressure of about 100 kg / cm 2 is applied to hold and cure for about 2 minutes. Then, it is removed from the mold 10 and a predetermined test is performed.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】ところで、図9に示す
従来の製造プロセスによる場合には、上述のようにアウ
タリード部25に半田メッキ29が形成されたPPF2
1を用いることが多いので、半田が溶融しない温度範
囲、例えば175℃以下でダイボンド、ワイヤボンド、
モールド樹脂注入などを行う必要がある。また、モール
ド樹脂注入工程では、図10に示すように、アウタリー
ド部25にリード端子23を連結すべく設けたダムバー
23aの近傍が、前記金型のパーティング面により約3
ton/cm2の圧力で型締めされる。
By the way, in the case of the conventional manufacturing process shown in FIG. 9, the PPF 2 in which the solder plating 29 is formed on the outer lead portion 25 as described above.
Since 1 is often used, die bonding, wire bonding, or the like in a temperature range where the solder does not melt, for example, 175 ° C. or lower,
It is necessary to inject mold resin. Further, in the mold resin injection step, as shown in FIG. 10, the vicinity of the dam bar 23a provided for connecting the lead terminal 23 to the outer lead portion 25 is about 3 by the parting surface of the mold.
The mold is clamped at a pressure of ton / cm 2 .

【0012】このために、図8及び図10に示すよう
に、金型のパーティング面で型締めされた半田メッキ2
9部分が変形し、リード端子23間にはみ出した変形半
田メッキ部29aが形成されてしまうことがある。ま
た、金型のキャビティ部13内にモールド樹脂が注入さ
れると、図11(図10のA−A′線による断面図)に
示すように、前記ダムバーとリード端子23とで包囲さ
れた部分(以下、この部分をダムバー内部分という。)
にモールド樹脂8が充填される。
To this end, as shown in FIGS. 8 and 10, the solder plating 2 clamped at the parting surface of the mold is used.
The nine portions may be deformed, and the deformed solder-plated portion 29a that protrudes between the lead terminals 23 may be formed. When the mold resin is injected into the cavity 13 of the mold, as shown in FIG. 11 (a sectional view taken along the line AA 'in FIG. 10), the portion surrounded by the dam bar and the lead terminal 23. (Hereafter, this part is called the part inside the dam bar.)
Is filled with the mold resin 8.

【0013】更に、ダムバー23aを切断し、各リード
端子23を曲げ加工して最終的に製造工程を終了する前
に、前記ダムバー内部分に充填されたモールド樹脂8を
落とすが、変形半田メッキ部29aがリード端子23間
にはみ出した状態で存在するため、十分にモールド樹脂
8を落とすことができない。加えて、この状態でダムバ
ー23aを切断すると、変形半田メッキ部29aがリー
ド端子23の側面に付着して残り、更にリード端子23
の曲げ加工を行うと、図12に示すように、切断の際に
残った半田メッキ部分が、リード端子23の側面から離
れて折れ曲がったヒゲ状となってしまい、その結果とし
て、このヒゲ状半田メッキ29bがリード端子23間を
電気的に短絡させるだけでなく、ヒゲ状半田メッキ29
bの脱落により種々のトラブルを発生させるという問題
点が招来される。
Further, before cutting the dam bar 23a and bending each lead terminal 23 to finally finish the manufacturing process, the mold resin 8 filled in the inner part of the dam bar is dropped. Since 29a exists in a state of protruding between the lead terminals 23, the molding resin 8 cannot be dropped sufficiently. In addition, when the dam bar 23a is cut in this state, the deformed solder plated portion 29a remains attached to the side surface of the lead terminal 23, and the lead terminal 23
12 is bent, the solder-plated portion remaining at the time of cutting becomes a beard shape that is bent away from the side surface of the lead terminal 23, and as a result, this beard-shaped solder is formed. The plating 29b not only electrically shorts the lead terminals 23, but also the beard-shaped solder plating 29
The loss of b causes various problems.

【0014】なお、この問題点の防止対策として、金型
で型締めされるPPF部分に半田メッキ29を形成しな
いで製造を行う方式が提案されている。しかし、この場
合は、半田メッキの形成のないリード端子部分がモール
ド樹脂にて封止されずに外部に露出することになり、耐
食性が劣ったり、また露出部分に樹脂製のバリが発生す
るといった別の問題が生じる結果となり好ましくない。
As a countermeasure against this problem, there has been proposed a method of manufacturing without forming the solder plating 29 on the PPF portion to be clamped by the mold. However, in this case, the lead terminal portion where the solder plating is not formed is not sealed with the mold resin and is exposed to the outside, so that the corrosion resistance is inferior and a resin burr is generated in the exposed portion. This is not preferable because it causes another problem.

【0015】本発明は、このような従来技術の課題を解
決すべくなされたものであり、リードフレームにPPF
を使用してもヒゲ状半田メッキの発生を防止できる半導
体装置の製造方法を提供することを目的とする。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art, and a PPF is attached to a lead frame.
It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a semiconductor device, which can prevent the occurrence of beard-like solder plating even if the above method is used.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置の製
造方法は、半導体素子にリードフレームが接続され、か
つ該リードフレームの一部を外部に露出して該半導体素
子及びリードフレームが樹脂で覆われた半導体装置を、
金型を使用して製造する半導体装置の製造方法におい
て、該リードフレームとして、樹脂外部に露出されるア
ウタリード部に半田メッキが施されたものを用い、該リ
ードフレームを金型にセットすると共に、該半田メッキ
が施されたアウタリード部を両側から挟み、かつ第1の
圧力を付与した状態に金型を型締めする工程と、型締め
状態の該金型のキャビティ部へモールド樹脂を注入する
工程と、該キャビティ部へのモールド樹脂注入が完了し
た後に、該金型の型締圧力を、第1の圧力より高い第2
の圧力に上昇させる工程と、該金型の型締圧力を第2の
圧力に上昇させた後に、キャビティ部に注入したモール
ド樹脂に最終成形圧力を加える工程と、を含んでおり、
そのことにより上記目的が達成される。
According to a method of manufacturing a semiconductor device of the present invention, a lead frame is connected to a semiconductor element, a part of the lead frame is exposed to the outside, and the semiconductor element and the lead frame are made of resin. Covered semiconductor device,
In the method of manufacturing a semiconductor device manufactured by using a mold, as the lead frame, an outer lead portion exposed to the outside of the resin is subjected to solder plating, and the lead frame is set in the mold, A step of sandwiching the solder-plated outer lead portion from both sides and clamping the mold with a first pressure applied, and a step of injecting a mold resin into the cavity portion of the mold in the clamped state. And, after the injection of the mold resin into the cavity is completed, the mold clamping pressure of the mold is set to a second pressure higher than the first pressure.
And a step of applying a final molding pressure to the molding resin injected into the cavity after increasing the mold clamping pressure of the mold to a second pressure.
Thereby, the above object is achieved.

【0017】また、金型の型締圧力を第1の圧力から第
2の圧力に上昇させるタイミングは、金型のキャビティ
部にモールド樹脂を注入する手段にプランジャを使用
し、該プランジャの変位量に基づいて行うようにするの
が好ましい。
The timing of raising the mold clamping pressure from the first pressure to the second pressure is such that the plunger is used as a means for injecting the mold resin into the cavity of the mold, and the displacement amount of the plunger is set. It is preferable to carry out based on.

【0018】リードフレームとしては、アウタリード部
から前記モールド樹脂で覆われる部分にわたって半田メ
ッキが形成されたものを用いることができる。
As the lead frame, one having solder plating formed from the outer lead portion to the portion covered with the molding resin can be used.

【0019】[0019]

【作用】本発明にあっては、PPFの半田メッキが施さ
れたアウタリード部を両側から挟んで金型を型締めする
ときの型締圧力は、金型で挟まれた半田メッキ部分が変
形しない圧力とする。次に、かかる状態の金型のキャビ
ティ部にモールド樹脂を注入し、その注入が完了する
と、金型の型締圧力を上昇させ、モールド樹脂に最終成
形圧力を加える。
According to the present invention, the mold clamping pressure when clamping the mold by sandwiching the outer lead part plated with the solder of PPF from both sides does not deform the solder plated part sandwiched by the mold. Use as pressure. Next, the mold resin is injected into the cavity of the mold in this state, and when the injection is completed, the mold clamping pressure of the mold is increased and the final molding pressure is applied to the mold resin.

【0020】このため、モールド樹脂注入が完了して半
田メッキを変形させるような型締圧力となっても、その
ときにはリード端子間、つまりダンバー内部分にモール
ド樹脂が充填された状態になっているので、充填された
モールド樹脂の存在により半田メッキが変形してダムバ
ー内部分にはみ出すことが防止される。その結果、ヒゲ
状半田メッキが発生することがない。
Therefore, even when the mold resin injection is completed and the mold clamping pressure is such that the solder plating is deformed, at that time, the mold resin is filled between the lead terminals, that is, inside the damper. Therefore, the presence of the filled mold resin prevents the solder plating from being deformed and protruding to the inside of the dam bar. As a result, beard-like solder plating does not occur.

【0021】また、モールド樹脂注入を行う手段にプラ
ンジャを使用する場合には、プランジャの変位量に基づ
いて金型の型締圧力の上昇を行うタイミングを制御する
と、半田メッキが変形してダムバー内部分にはみ出すこ
とをより確実に防止できる。
Further, when a plunger is used as the means for injecting the mold resin, if the timing for increasing the mold clamping pressure of the mold is controlled based on the displacement amount of the plunger, the solder plating is deformed and the inside of the dam bar is deformed. It can be more reliably prevented from protruding to the part.

【0022】[0022]

【実施例】以下に本発明を実施例に基づいて説明する。EXAMPLES The present invention will be described below based on examples.

【0023】図1は、本発明を適用して製造した半導体
装置を示す断面図である。この半導体装置は、リードフ
レーム21と、リードフレーム21の上に搭載された半
導体素子6と、リードフレーム21の一部を外部に露出
させて半導体素子6及びリードフレーム21を覆うモー
ルド樹脂8とを備える。上記リードフレーム21は、半
導体素子6を搭載するためのダイパッド22と、このダ
イパッド22を間に挟んで両側それぞれに複数のリード
端子23とを有する。各リード端子23の上記モールド
樹脂8で覆われた部分はインナリード部24と称され、
モールド樹脂8の外部に露出した部分はアウタリード部
25と称されている。
FIG. 1 is a sectional view showing a semiconductor device manufactured by applying the present invention. This semiconductor device includes a lead frame 21, a semiconductor element 6 mounted on the lead frame 21, and a molding resin 8 that exposes a part of the lead frame 21 to the outside and covers the semiconductor element 6 and the lead frame 21. Prepare The lead frame 21 has a die pad 22 for mounting the semiconductor element 6 and a plurality of lead terminals 23 on both sides with the die pad 22 interposed therebetween. The portion of each lead terminal 23 covered with the molding resin 8 is referred to as an inner lead portion 24,
The exposed portion of the molding resin 8 is called the outer lead portion 25.

【0024】上記ダイパッド22の上表面及び側面には
銀メッキ22aが形成され、この銀メッキ22aの上に
は半導体素子6が搭載されている。上記インナリード部
24のダイパッド22側の端部には銀メッキ24aが形
成され、この銀メッキ24aと半導体素子6とはワイヤ
7にて接続されている。上記アウタリード部25と、こ
れに連なるインナリード部24部分には、銀メッキ24
aと離隔して半田メッキ29が形成されている。
Silver plating 22a is formed on the upper surface and side surfaces of the die pad 22, and the semiconductor element 6 is mounted on the silver plating 22a. A silver plating 24a is formed on the end of the inner lead portion 24 on the die pad 22 side, and the silver plating 24a and the semiconductor element 6 are connected by a wire 7. The outer lead portion 25 and the inner lead portion 24 connected to the outer lead portion 25 are provided with silver plating 24
Solder plating 29 is formed separately from a.

【0025】次に、本実施例の半導体装置の製造に使用
する射出成形機を説明する。
Next, an injection molding machine used for manufacturing the semiconductor device of this embodiment will be described.

【0026】図3はその射出成形機30の全体を示す正
面図であり、図4はその斜視図である。射出成形機30
は、基台31の上に固定された下金型12と、基台31
から立設したガイド31aに沿って上下動する可動盤3
2と、この可動盤32に固定され、下金型12に対して
上下動するようになした上金型11とを備える。上記下
金型12の上層部には、ランナ12b、ゲート12cお
よびキャビティ部12dが形成されている。一方の上金
型11の下層部には、図示しないランナ、ゲートおよび
キャビティ部が形成され、更にモールド樹脂を溜めるポ
ット11bが貫通する状態で形成されている。なお、下
金型12と上金型11とにそれぞれ設けられたランナ、
ゲートおよびキャビティ部は、下金型と上金型とで形状
などを揃えられている。下金型12のキャビティ部12
dと上金型11のキャビティ部とは、図8に示すキャビ
ティ部13を形成する。
FIG. 3 is a front view showing the entire injection molding machine 30, and FIG. 4 is a perspective view thereof. Injection molding machine 30
Is the lower die 12 fixed on the base 31 and the base 31
Movable platen 3 that moves up and down along a guide 31a standing upright
2 and an upper die 11 fixed to the movable plate 32 and configured to move up and down with respect to the lower die 12. A runner 12b, a gate 12c, and a cavity portion 12d are formed on the upper layer portion of the lower mold 12. A runner, a gate, and a cavity, which are not shown, are formed in a lower layer portion of the upper die 11 on one side, and a pot 11b for accommodating the mold resin is formed so as to penetrate therethrough. In addition, runners provided in the lower mold 12 and the upper mold 11, respectively,
The gate and the cavity have the same shape and the like in the lower mold and the upper mold. Cavity part 12 of lower mold 12
The d and the cavity of the upper mold 11 form the cavity 13 shown in FIG.

【0027】上記ポット11bの上方には、例えば油圧
シリンダ33のロッド33aにより上下動されるプラン
ジャ34が設けられており、このプランジャ34の下端
部がポット11b内に入るようになっている。プランジ
ャ34の下端部がポット11b内に入ると、ポット11
b内で暖められたモールド樹脂8が、図5に示すように
配設されたポット11bから押し出されて、上下金型1
1、12のランナ12b等及びゲート12c等を経てキ
ャビティ部12d等に注入される。このキャビティ部1
2d等、つまり前述の13に、上述した半導体素子6を
搭載したPPF21がセットされる。
Above the pot 11b is provided a plunger 34 which is vertically moved by, for example, a rod 33a of a hydraulic cylinder 33, and the lower end portion of the plunger 34 enters the pot 11b. When the lower end of the plunger 34 enters the pot 11b, the pot 11
The mold resin 8 warmed in b is pushed out from the pot 11b arranged as shown in FIG.
It is injected into the cavity portion 12d and the like through the runners 12b and the like of Nos. 1 and 12 and the gate 12c and the like. This cavity part 1
2d or the like, that is, 13 described above, is set with the PPF 21 on which the semiconductor element 6 described above is mounted.

【0028】上記プランジャ34の近傍には、プランジ
ャ34の変位量を計測する変位量測定器35が設けられ
ている。この変位量測定器35は、例えばプランジャ3
4の表面に設けた発光器35aと、プランジャ34の近
傍に図示しない支持具にて固定され、発光器35aから
発せられる光を受光する一次元CCD等の受光器35b
とを備える。変位量測定器35によるプランジャ34の
変位量は、プランジャ34がモールド樹脂を押し出す前
の待機位置を基準に、受光器35bに備わった複数の受
光部の所定箇所が発光器35aからの光を受光すること
により測定される。つまり、この例における変位量測定
器35は、プランジャ34が基準位置から一定距離だけ
移動した時点でのみ変位量を検出する。なお、その変位
量の変更は、発光器35aと受光器35bとの位置を調
整すればよい。
A displacement amount measuring instrument 35 for measuring the displacement amount of the plunger 34 is provided near the plunger 34. This displacement amount measuring device 35 is, for example, the plunger 3
4 and a light receiver 35b such as a one-dimensional CCD that is fixed to the vicinity of the plunger 34 by a support (not shown) and receives the light emitted from the light emitter 35a.
With. The displacement amount of the plunger 34 by the displacement amount measuring device 35 is based on the standby position before the plunger 34 pushes out the molding resin, and a predetermined portion of a plurality of light receiving portions provided in the light receiving device 35b receives light from the light emitting device 35a. It is measured by That is, the displacement amount measuring device 35 in this example detects the displacement amount only when the plunger 34 moves from the reference position by a certain distance. The amount of displacement can be changed by adjusting the positions of the light emitter 35a and the light receiver 35b.

【0029】この変位量測定器35にて計測された信号
は、型締・型開き制御回路36に与えられる。型締・型
開き制御回路36は入力信号に基づいて金型10の型締
・型開きを行う油圧駆動装置37を駆動し、油圧駆動装
置37は可動盤32を介して上金型11の下金型12に
対する高さ位置や押し付け力を調整するようになってい
る。なお、図4においてはプランジャ34が1本のシン
グルプランジャ方式を採用しているが、プランジャ34
及びポット11bを複数有するマルチプランジャ方式を
用いることも可能である。
The signal measured by the displacement measuring instrument 35 is given to the mold clamping / mold opening control circuit 36. The mold clamping / mold opening control circuit 36 drives a hydraulic drive device 37 that performs the mold clamping / mold opening of the mold 10 based on the input signal. The height position and the pressing force with respect to the die 12 are adjusted. In addition, in FIG. 4, although the plunger 34 adopts a single plunger system, the plunger 34
It is also possible to use a multi-plunger system having a plurality of pots 11b.

【0030】次に、本発明の半導体装置の製造方法を説
明する。
Next, a method of manufacturing the semiconductor device of the present invention will be described.

【0031】先ず、金型10の温度を、PPF21の半
田メッキ29が溶融しないように160℃に設定する。
かかる準備が終了すると、予めインナリード部24やダ
イパッド22に厚み5μmで銀メッキ24a、22aが
形成され、ダムバー部を含むアウタリード部25に厚み
6μmで半田メッキ29が形成されたPPF21に対
し、予めダイシングされた半導体素子6を、160〜1
70℃で硬化可能なエポキシ系銀ペーストを用いて、ダ
イパッド22上にダイボンドする。その後、半導体素子
6とインナリード部24の銀メッキ24aとの間にワイ
ヤ7を、同じく160〜170℃で超音波を印加しなが
らワイヤボンディングする。なお、このようにダイボン
ドやワイヤボンディングが施された状態のPPF21
を、予め用意しておいて使用してもよい。
First, the temperature of the mold 10 is set to 160 ° C. so that the solder plating 29 of the PPF 21 does not melt.
When such preparation is completed, the PPF 21 in which the inner lead portion 24 and the die pad 22 are preliminarily formed with silver plating 24a and 22a with a thickness of 5 μm and the outer lead portion 25 including the dam bar portion is formed with a solder plating 29 with a thickness of 6 μm in advance, Dicing the semiconductor element 6 to 160-1
Die bond on the die pad 22 using an epoxy-based silver paste that can be cured at 70 ° C. After that, the wire 7 is wire-bonded between the semiconductor element 6 and the silver plating 24a of the inner lead portion 24 while applying ultrasonic waves at 160 to 170 ° C. It should be noted that the PPF 21 in the state where the die bonding and the wire bonding are performed in this way
May be prepared in advance and used.

【0032】次に、ダイボンドやワイヤボンディングが
施されたPPF21を、金型10にセットする。
Next, the die-bonded or wire-bonded PPF 21 is set in the mold 10.

【0033】これ以降のモールド樹脂注入工程を図1に
基づいて説明する。図1は、横軸に形成時間をとり、縦
軸にプランジャー変位量(実線)、金型によるリードフ
レーム型締圧力(一点鎖線)及びモールド成形圧力(破
線)をとって、それぞれの関係を示している。
The subsequent mold resin injection step will be described with reference to FIG. In FIG. 1, the horizontal axis represents the forming time, and the vertical axis represents the plunger displacement amount (solid line), the lead frame mold clamping pressure by the mold (dashed line) and the molding pressure (broken line). Shows.

【0034】上記PPF21がセットされた金型10を
型締めする。この時点t0での型締圧力は、金型10に
より挟まれたPPF21部分の面積に対して約1ton
/cm2の圧力とする。
The mold 10 on which the PPF 21 is set is clamped. The mold clamping pressure at this time point t 0 is about 1 ton with respect to the area of the PPF 21 portion sandwiched by the molds 10.
/ Cm 2 of pressure.

【0035】次に、高周波でプリヒートされたモールド
樹脂8をポット11bに投入し、ポット11b内で溶融
しているモールド樹脂8をプランジャ34により、t0
〜t1の期間、押し出す。キャビティ部13内へのモー
ルド樹脂8の充填が完了する時点t1までは、流動する
モールド樹脂8に成形圧力は殆ど印加されないので、こ
の時点t1までは型締圧力が1ton/cm2でも、PP
F21のリード端子23上への樹脂バリの発生はない。
Next, the mold resin 8 preheated with a high frequency is put into the pot 11b, and the mold resin 8 melted in the pot 11b is t 0 by the plunger 34.
Push out for a period of ~ t 1 . Until the time t 1 when the filling of the mold resin 8 into the cavity portion 13 is completed, almost no molding pressure is applied to the flowing mold resin 8. Therefore, until the time t 1 , even if the mold clamping pressure is 1 ton / cm 2 , PP
There is no resin burr on the lead terminal 23 of F21.

【0036】時点t1が経過すると、モールド成形圧力
を印加しはじめる。但し、モールド成形圧力の実際の印
加開始は、実際のキャビティ部13はポット11bから
或る一定の距離を有しており、かつ、充填された樹脂の
密度上昇のために、時点t1から少し経過した時点t2
なり、この間に少しのタイムラグ(t2−t1)が発生す
る。一方、金型によるリードフレーム型締圧力は、モー
ルド成形圧力が印加される直前、例えばモールド樹脂8
の注入が完了した時点t1で所定の3ton/cm2に上
げる。この3ton/cm2という型締圧力は、金型1
0により挟まれたPPF21部分の面積に対しての値で
ある。この型締圧力を上げるタイミングは、変位量測定
器35にて計測されたプランジャ34の変位量が所定値
となったときに、型締め・型開き制御回路36が油圧駆
動装置37を駆動することにより行われる。なお、その
所定値としては、プランジャ34が最下点もしくは、最
下点よりも少し上の位置に達した時の値が用いられる。
After the time point t 1 , the molding pressure starts to be applied. However, when the actual application of the molding pressure is started, the actual cavity portion 13 has a certain distance from the pot 11b, and due to the increase in the density of the filled resin, the actual cavity portion 13 may slightly increase from the time point t 1. The time point t 2 has elapsed, and a small time lag (t 2 −t 1 ) occurs during this time. On the other hand, the lead frame clamping pressure by the mold is set to, for example, the molding resin 8 immediately before the molding pressure is applied.
Increase in time t 1 the injection has been completed in a predetermined 3 ton / cm 2. The mold clamping pressure of 3 ton / cm 2 is the same as the mold 1
It is a value for the area of the PPF21 portion sandwiched by 0s. The timing for raising the mold clamping pressure is that the mold clamping / mold opening control circuit 36 drives the hydraulic drive device 37 when the displacement amount of the plunger 34 measured by the displacement amount measuring device 35 reaches a predetermined value. Done by. As the predetermined value, a value when the plunger 34 reaches the lowest point or a position slightly above the lowest point is used.

【0037】時点t2になると、モールド成形圧力を1
00kg/cm2の最終成形圧力にして、その圧力をモ
ールド樹脂8に加え、この状態を約1.5〜2分程度保
持して硬化させる。その後、時点t3になると、型締め
・型開き制御回路36が油圧駆動装置37を駆動して上
金型11を上昇させて型開きを行い、続いて金型10か
ら製品である樹脂で封止された半導体装置を取り出す。
At time t 2 , the molding pressure is set to 1
The final molding pressure is set to 00 kg / cm 2 , the pressure is applied to the mold resin 8, and this state is held for about 1.5 to 2 minutes to cure. After that, at time t 3 , the mold clamping / mold opening control circuit 36 drives the hydraulic drive device 37 to raise the upper mold 11 to open the mold, and subsequently, the mold 10 is sealed with the resin as the product. The stopped semiconductor device is taken out.

【0038】その後、製品は160℃でポストキュアさ
れ、マーク工程を経て、リード端子の切断や曲げ加工を
行い、電気的なテストや外観検査を行って出荷される。
After that, the product is post-cured at 160 ° C., undergoes a marking step, is cut and bent for lead terminals, is subjected to an electrical test and a visual inspection, and is shipped.

【0039】上記実施例ではプランジャ34の表面に発
光器35aを設け、プランジャ34の近傍に受光器35
bを固定した構成としているが、逆にプランジャ34の
表面に受光器35bを設け、プランジャ34の近傍に発
光器35aを固定した構成としてもよい。
In the above embodiment, the light emitter 35a is provided on the surface of the plunger 34, and the light receiver 35a is provided in the vicinity of the plunger 34.
Although b is fixed, a light receiver 35b may be provided on the surface of the plunger 34 and the light emitter 35a may be fixed near the plunger 34.

【0040】上記実施例では発光器35aと受光器35
bとからなる変位量測定器35を使用しているが、本発
明はこれに限らず、プランジャ34及びその近傍部分を
非磁性の材料、例えばオーステナイト系ステンレス鋼な
どで設計し、そのプランジャ34に強磁性材料からなる
小さな被検出部を取付け、その被検出部を磁気センサに
て検出する構成のものなどを使用することもできる。但
し、射出形成機に変位量測定器が付設されていれば、そ
の変位量測定器を使用してもよい。
In the above embodiment, the light emitting device 35a and the light receiving device 35 are used.
However, the present invention is not limited to this, and the plunger 34 and its vicinity are designed with a non-magnetic material such as austenitic stainless steel, and the plunger 34 is It is also possible to attach a small detection target made of a ferromagnetic material and use a magnetic sensor to detect the detection target. However, if a displacement amount measuring device is attached to the injection molding machine, the displacement amount measuring device may be used.

【0041】上記実施例では圧縮成形機を用いて行うポ
ット式トランスファ成形に適用しているが、本発明はこ
れに限らず、一般のプランジャ成形にも同様に適用する
ことができる。なお、押出機としては、プランジャ押出
機やラム押出機を用いる場合にも適用可能である。
In the above embodiment, the present invention is applied to the pot type transfer molding performed by using the compression molding machine, but the present invention is not limited to this and can be similarly applied to general plunger molding. The extruder can also be applied when a plunger extruder or a ram extruder is used.

【0042】[0042]

【発明の効果】以上説明したように、本発明による場合
は、金型を型締めする際にPPFの半田メッキ形成部分
を挟むが、その型締圧力を半田メッキが変形しない低い
圧力となし、その圧力状態でモールド樹脂を金型内に注
入・充填し、最終成形圧力を加える直前に所定の型締圧
力に上げているために、金型で挟まれた半田メッキを変
形させようとする圧力が加わった時には、ダムバー内部
分に樹脂が充填された状態である。その結果、金型の型
締圧力によるダムバー内部分への半田メッキのはみ出し
がないために、リード端子を切断・曲げ加工してもヒゲ
状半田メッキの発生のない良好な樹脂封止型の半導体装
置を得ることができる。
As described above, in the case of the present invention, when the mold is clamped, the portion of the PPF where the solder plating is formed is sandwiched, but the clamping pressure is set to a low pressure that does not deform the solder plating, A pressure to deform the solder plating sandwiched between the molds because the mold resin is injected and filled in the mold in that pressure state, and the mold clamping pressure is raised immediately before the final molding pressure is applied. When is added, the inside of the dam bar is filled with resin. As a result, there is no protrusion of the solder plating to the inside of the dam bar due to the mold clamping pressure, so a good resin-encapsulated semiconductor that does not generate whisker-like solder plating even if the lead terminal is cut or bent. The device can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係るモールド樹脂注入工程のプランジ
ャー変位・型締圧力・成形圧力のタイムチャートの図の
一例。
FIG. 1 is an example of a time chart of plunger displacement, mold clamping pressure, and molding pressure in a mold resin injection step according to the present invention.

【図2】本発明により製造される半導体装置を示す断面
図。
FIG. 2 is a sectional view showing a semiconductor device manufactured according to the present invention.

【図3】本発明に使用した射出成形機を示す正面図。FIG. 3 is a front view showing an injection molding machine used in the present invention.

【図4】図3の射出成形機を示す斜視図。FIG. 4 is a perspective view showing the injection molding machine of FIG.

【図5】金型に設けられたポット及びキャビティ部など
を平面的に示す図。
FIG. 5 is a plan view showing a pot, a cavity, and the like provided in the mold.

【図6】従来当初の半導体装置を示す断面図。FIG. 6 is a cross-sectional view showing a semiconductor device at the beginning of the related art.

【図7】図6の半導体装置を製造する場合の製造プロセ
スを示すフローチャート。
FIG. 7 is a flowchart showing a manufacturing process for manufacturing the semiconductor device of FIG.

【図8】従来のPPFが金型に型締めされた状態を示す
断面図。
FIG. 8 is a cross-sectional view showing a state in which a conventional PPF is clamped in a mold.

【図9】図8の半導体装置を製造する場合の製造プロセ
スを示すフローチャート。
9 is a flowchart showing a manufacturing process for manufacturing the semiconductor device of FIG.

【図10】図8の状態に金型にて型締めされたPPFを
示す平面図。
10 is a plan view showing the PPF clamped by a mold in the state of FIG.

【図11】図10におけるA−A′線による断面図。11 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ in FIG.

【図12】従来のPPFを用いた半導体装置においてヒ
ゲ状半田メッキが発生している状況を示す図。
FIG. 12 is a view showing a situation in which a beard-shaped solder plating is generated in a conventional semiconductor device using PPF.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

6 半導体素子 7 ワイヤ 8 モールド樹脂 10 金型 11 上金型 12 下金型 21 PPF 22 ダイパッド 22a 銀メッキ 23 リード端子 24 インナリード部 24a 銀メッキ 25 アウタリード部 29 半田メッキ 30 射出成形機 31 基台 32 可動盤 33 油圧シリンダ 34 プランジャ 35 変位量測定器 36 型締め・型開き制御回路 37 油圧駆動装置 6 Semiconductor element 7 Wire 8 Mold resin 10 Mold 11 Upper mold 12 Lower mold 21 PPF 22 Die pad 22a Silver plating 23 Lead terminal 24 Inner lead part 24a Silver plating 25 Outer lead part 29 Solder plating 30 Injection molding machine 31 Base 32 Movable plate 33 Hydraulic cylinder 34 Plunger 35 Displacement measuring device 36 Mold clamping / mold opening control circuit 37 Hydraulic drive device

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体素子にリードフレームが接続さ
れ、かつ該リードフレームの一部を外部に露出して該半
導体素子及びリードフレームがモールド樹脂で覆われた
半導体装置を、金型を使用して製造する半導体装置の製
造方法において、 該リードフレームとして、モールド樹脂外部に露出され
るアウタリード部に半田メッキが施されたものを用い、
該リードフレームを金型にセットすると共に、該半田メ
ッキが施されたアウタリード部を両側から挟み、かつ第
1の圧力を付与した状態に金型を型締めする工程と、 型締め状態の該金型のキャビティ部へモールド樹脂を注
入する工程と、 該キャビティ部へのモールド樹脂注入が完了した後に、
該金型の型締圧力を、第1の圧力より高い第2の圧力に
上昇させる工程と、 該金型の型締圧力を第2の圧力に上昇させた後に、キャ
ビティ部に注入したモールド樹脂に最終成形圧力を加え
る工程と、 を含む半導体装置の製造方法。
1. A semiconductor device in which a lead frame is connected to a semiconductor element, and a part of the lead frame is exposed to the outside to cover the semiconductor element and the lead frame with a molding resin by using a mold. In the method of manufacturing a semiconductor device to be manufactured, as the lead frame, an outer lead portion exposed to the outside of the mold resin is used, which is plated with solder.
A step of setting the lead frame in a mold, clamping the mold with the solder-plated outer lead part sandwiched from both sides, and applying a first pressure; and the mold in the clamped state. The step of injecting the mold resin into the cavity of the mold, and the step of injecting the mold resin into the cavity,
A step of increasing the mold clamping pressure of the mold to a second pressure higher than the first pressure; and a mold resin injected into the cavity after the mold clamping pressure of the mold is increased to the second pressure. And a step of applying a final molding pressure to the semiconductor device.
【請求項2】 前記金型のキャビティ部にモールド樹脂
を注入する手段にプランジャを使用し、該プランジャの
変位量に基づいたタイミングで、該金型の型締圧力を第
1の圧力から第2の圧力に上昇させる請求項1に記載の
半導体装置の製造方法。
2. A plunger is used as a means for injecting a mold resin into the cavity of the mold, and the mold clamping pressure of the mold is changed from the first pressure to the second pressure at a timing based on the displacement amount of the plunger. The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein the pressure is raised to the above pressure.
【請求項3】 前記半田メッキが、前記アウタリード部
から前記モールド樹脂で覆われる部分にわたって形成さ
れたリードフレームを用いて行う請求項1に記載の半導
体装置の製造方法。
3. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein the solder plating is performed by using a lead frame formed from the outer lead portion to a portion covered with the mold resin.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL1002083C2 (en) * 1996-01-12 1997-07-15 Fico Bv Device for enclosing electronic components fixed on lead frames in casing
EP1238775A1 (en) * 1999-12-16 2002-09-11 Dai-Ichi Seiko Co. Ltd. Resin sealing mold and resin sealing method
KR20200068582A (en) * 2018-12-05 2020-06-15 토와 가부시기가이샤 Resin-molding device, and method for producing resin-molded product

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL1002083C2 (en) * 1996-01-12 1997-07-15 Fico Bv Device for enclosing electronic components fixed on lead frames in casing
EP1238775A1 (en) * 1999-12-16 2002-09-11 Dai-Ichi Seiko Co. Ltd. Resin sealing mold and resin sealing method
EP1238775A4 (en) * 1999-12-16 2003-06-04 Dai Ichi Seiko Co Ltd Resin sealing mold and resin sealing method
EP1393881A2 (en) * 1999-12-16 2004-03-03 Dai-Ichi Seiko Co. Ltd. Resin sealing method
EP1393881A3 (en) * 1999-12-16 2004-03-17 Dai-Ichi Seiko Co. Ltd. Resin sealing method
US7413425B2 (en) 1999-12-16 2008-08-19 Dai-Ichi Seiko Co., Ltd. Resin sealing mold and resin sealing method
KR20200068582A (en) * 2018-12-05 2020-06-15 토와 가부시기가이샤 Resin-molding device, and method for producing resin-molded product

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