JPH06204321A - Positioning device - Google Patents

Positioning device

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JPH06204321A
JPH06204321A JP144993A JP144993A JPH06204321A JP H06204321 A JPH06204321 A JP H06204321A JP 144993 A JP144993 A JP 144993A JP 144993 A JP144993 A JP 144993A JP H06204321 A JPH06204321 A JP H06204321A
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JP
Japan
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wafer
positioning device
sensor
positioning
sphere
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP144993A
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Japanese (ja)
Inventor
Junji Hashiyama
純二 橋山
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Fujitsu VLSI Ltd
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu VLSI Ltd
Fujitsu Ltd
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Publication date
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide a positioning device on which a positioning mechanism having necessary accuracy can be provided in a small space without returning a wafer stage to the original point in a wafer positioning device. CONSTITUTION:The positioning device is provided with spheres 1 to 4, which support a wafer 18 and provided at equal distance from the orthogonally intersecting biaxial intersection, pulleys 5 to 8 which are rotatory driven by motors 9 to 12, and sensors 13 to 16 which are covered by the circumference of the wafer and provided on two axes. Also, a control device, which controls the rotation of the motors 9 to 12 by the position of the wafer 18 detected by the covered part of the sensors 13 to 16 covered by the wafer, is provided.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ウエーハの位置決め装
置に関するものである。半導体装置の製造工程におい
て、半導体装置の製造装置にウエーハを投入する前に所
定の位置に位置決めすることが必要である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wafer positioning device. In the process of manufacturing a semiconductor device, it is necessary to position the semiconductor device at a predetermined position before putting the wafer into the manufacturing device.

【0002】位置決めとしては、装置のステージの中心
とウエーハの中心とを一致させる、X軸,Y軸の位置決
めと、ウエーハのオリエンテーションフラット(以下
O.F.と略称する)を所定の方向に位置決めするθ軸
位置決めがある。
As for the positioning, the X-axis and Y-axis positioning for aligning the center of the stage of the apparatus with the center of the wafer and the orientation flat (hereinafter referred to as OF) of the wafer are positioned in a predetermined direction. There is θ axis positioning.

【0003】以上のような状況からウエーハの中心と装
置のステージの中心とを一致させ、O.F.の方向を所
定の方向に位置決めすることが可能な位置決め装置が要
望されている。
From the above situation, the center of the wafer is made to coincide with the center of the stage of the apparatus, and the O. F. There is a demand for a positioning device capable of positioning the direction of the arrow in a predetermined direction.

【0004】[0004]

【従来の技術】従来の位置決め装置について図7により
詳細に説明する。図7は従来の位置決め装置の概略構造
を示す図である。
2. Description of the Related Art A conventional positioning device will be described in detail with reference to FIG. FIG. 7 is a diagram showing a schematic structure of a conventional positioning device.

【0005】従来の位置決め装置は、図7に示すように
ウエーハ18を処理する装置の載物台の中心と、ウエーハ
18の中心とを位置決めするXYステージ21と、ウエーハ
18のO.F.の方向を所定の方向に位置決めする回転機
構22と、ウエーハステージ23とから構成されている。
As shown in FIG. 7, the conventional positioning device has a center of a mounting table of a device for processing the wafer 18 and a wafer.
XY stage 21 for positioning the center of 18 and wafer
18 o. F. The rotation mechanism 22 for positioning the direction of the above in a predetermined direction and the wafer stage 23.

【0006】このような位置決め装置によりウエーハ18
の位置を決める場合には、まずXYステージ21がX軸及
びY軸方向に移動してXYステージ21の中心からずれた
位置にあるウエーハステージ23を、XYステージ21の中
心にくるようにXYステージ21を移動して原点復帰を行
わせる。
With such a positioning device, the wafer 18
In determining the position of the XY stage 21, first, the XY stage 21 moves in the X-axis and Y-axis directions and the wafer stage 23 located at a position deviated from the center of the XY stage 21 is moved to the center of the XY stage 21. Move 21 to perform home return.

【0007】XYステージ21を原点復帰させるのは、ウ
エーハステージ23に搭載したウエーハ18の位置が極めて
ずれている場合においても、ウエーハ18の中心をXYス
テージ21の中心に位置決めすることができるように、X
Yステージ21の移動量を確保しておくためである。
The origin of the XY stage 21 is returned so that the center of the wafer 18 can be positioned at the center of the XY stage 21 even when the position of the wafer 18 mounted on the wafer stage 23 is extremely deviated. , X
This is to secure the amount of movement of the Y stage 21.

【0008】つぎに原点に復帰させたウエーハステージ
23の上にウエーハ18を搭載した後、ウエーハ18の中心
が、これからウエーハ18を処理する装置の載物台の中心
にくるようにXYステージ21を移動する。
Next, the wafer stage returned to the origin
After mounting the wafer 18 on the 23, the XY stage 21 is moved so that the center of the wafer 18 is located at the center of the stage of the apparatus for processing the wafer 18.

【0009】このようにしてウエーハ18の中心と、これ
からウエーハ18を処理する装置の載物台の中心とを一致
させた後、ウエーハ18のO.F.の方向が所定の方向に
くるように回転機構22を回転する。
In this way, after the center of the wafer 18 and the center of the stage of the apparatus for processing the wafer 18 are aligned with each other, the O. F. The rotation mechanism 22 is rotated so that the direction of is in a predetermined direction.

【0010】XYステージ21の原点復帰の検出は位置決
め装置の中心部で行うので、センサーは位置決め装置の
中心部に設けなければならず、ウエーハ18の位置を検出
するセンサーはウエーハ18の周辺部に設けなければなら
ない。
Since the detection of the origin return of the XY stage 21 is performed in the central portion of the positioning device, the sensor must be provided in the central portion of the positioning device, and the sensor for detecting the position of the wafer 18 is provided in the peripheral portion of the wafer 18. Must be provided.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】以上説明した従来の位
置決め装置においては、新規にウエーハを搭載する場合
には位置決め装置のXYステージを原点に復帰させてお
かなければならず、原点復帰を検出するセンサーと、ウ
エーハの位置を検出するセンサーとを別個に設けなけれ
ばならないので、所望の精度の位置決め機構を小スペー
スに設けることが困難であるという問題点があった。
In the conventional positioning device described above, when a new wafer is mounted, the XY stage of the positioning device must be returned to the origin, and the origin return is detected. Since the sensor and the sensor for detecting the position of the wafer have to be separately provided, there is a problem that it is difficult to provide a positioning mechanism with desired accuracy in a small space.

【0012】本発明は以上のような状況から、ウエーハ
ステージを原点に復帰させないで、必要な精度の位置決
め機構を小スペースに設けることが可能となる位置決め
装置の提供を目的としたものである。
In view of the above situation, the present invention has an object to provide a positioning device which can provide a positioning mechanism with a required accuracy in a small space without returning the wafer stage to the origin.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明の位置決め装置
は、ウエーハを支持し、直交する二軸の交点から等距離
に、この二軸上に各々設けた球体と、この球体にそれぞ
れ接触し、モーターにより回転駆動されるプーリーと、
このウエーハの周囲により被覆され、直交する二軸の交
点から等距離に、この二軸上に各々設けたセンサーとか
らなる位置決め機構を、このウエーハにより被覆された
このセンサーの被覆部分により検出されたこのウエーハ
の位置によりこのモーターの回転を制御する制御部とを
具備するように構成する。
A positioning device of the present invention supports a wafer, and equidistantly from an intersection point of two orthogonal axes, a sphere provided on each of the two axes and a sphere provided respectively on the sphere, and contacting the sphere. A pulley that is driven to rotate by a motor,
A positioning mechanism consisting of a sensor, which is covered by the periphery of this wafer and equidistant from the intersection of two orthogonal axes, and a sensor provided on each of these two axes, was detected by the covered portion of this sensor covered by this wafer. And a control unit for controlling the rotation of the motor according to the position of the wafer.

【0014】[0014]

【作用】即ち本発明においては、直交する二軸の交点か
ら等距離に、この二軸上に各々設けた球体でウエーハを
支持し、センサーによってウエーハの位置を検出して制
御装置を用いてモーターを回転させ、モーター軸に固定
されているプーリーによって球体を回転させることによ
り、ウエーハをX軸やY軸の方向に直線移動させたり、
この球体を逆回転することによりウエーハをその中心を
軸として回転させてO.F.を所定の方向に一致させる
ことが可能となる。
That is, in the present invention, the wafer is supported by spheres provided on the two axes equidistant from the intersection of the two orthogonal axes, the position of the wafer is detected by the sensor, and the motor is controlled by the controller. By rotating the sphere with a pulley fixed to the motor shaft, the wafer is moved linearly in the X-axis or Y-axis direction,
By rotating this sphere in the reverse direction, the wafer is rotated about its center and the O.I. F. Can be matched with a predetermined direction.

【0015】[0015]

【実施例】以下図1〜図6により本発明の一実施例につ
いて詳細に説明する。図1は本発明による一実施例の位
置決め装置の平面図、図2は図1のX−X断面矢視図、
図3は位置決め前のウエーハとセンサーとの相対位置関
係を示す図、図4は位置決め後のウエーハとセンサーと
の相対位置関係を示す図、図5はウエーハの位置決め完
了状態を示す斜視図、図6は位置決め装置の制御系統の
接続を示す結線図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to FIGS. 1 is a plan view of a positioning device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a sectional view taken along line XX in FIG.
FIG. 3 is a diagram showing the relative positional relationship between the wafer and the sensor before positioning, FIG. 4 is a diagram showing the relative positional relationship between the wafer and the sensor after positioning, and FIG. 5 is a perspective view showing the completed positioning of the wafer. 6 is a connection diagram showing the connection of the control system of the positioning device.

【0016】ウエーハ18は直交する二軸の交点から等距
離に、この二軸上に各々設けた4個の球体1,2,3,4 の上
に載っている。実際はウエーハ18によって球体1,2,3,4
は見えないので点線にて図示すべきであるが、図1にお
いては図示するように実線にて表示している。
The wafer 18 is mounted equidistantly from the intersection of two orthogonal axes on four spheres 1, 2, 3, 4 respectively provided on the two axes. Actually the sphere 1,2,3,4 by wafer 18
Since it cannot be seen, it should be illustrated by a dotted line, but in FIG. 1, it is illustrated by a solid line as illustrated.

【0017】これらの球体1,2,3,4 はそれぞれプーリー
5,6,7,8 の周囲と接触しており、プーリー5,6,7,8 によ
って回転されるようになっている。モーター9,10,11,12
の回転軸9a,10a,11a,12aはそれぞれプーリー5,6,7,8 の
孔に嵌入されて固定されている。
These spheres 1, 2, 3 and 4 are pulleys, respectively.
It is in contact with the perimeter of 5,6,7,8 and is adapted to be rotated by pulleys 5,6,7,8. Motor 9,10,11,12
The rotating shafts 9a, 10a, 11a, 12a of the above are fitted and fixed in the holes of the pulleys 5, 6, 7, 8 respectively.

【0018】ウエーハ18の周囲を検出することができる
センサー13,14,15,16 は、直交する二軸の交点から等距
離に、この二軸上に各々設けられている。これらのセン
サーは、50dpi 以上のフォトセンサーアレーで構成する
ので、その分解能は約0.5mm であり、ウエーハ18によっ
て覆われている受光素子の数は後に説明する制御装置の
入力セレクタ17e によりカウントすることができるよう
になっている。
Sensors 13, 14, 15, 16 capable of detecting the periphery of the wafer 18 are provided on the two axes at equal distances from the intersection of the two orthogonal axes. Since these sensors are composed of a photosensor array of 50 dpi or more, their resolution is about 0.5 mm, and the number of light receiving elements covered by the wafer 18 should be counted by the input selector 17e of the control device described later. You can do it.

【0019】図2は図1のX−X断面矢視図であり、球
体2及び球体4を矢印の方向に回転させると、ウエーハ
18を矢印の方向に移動することが可能である。この場合
には球体1及び球体3もウエーハ18によって矢印の方向
に回転させられるが、図1に示すように球体1及び球体
3と接触しているプーリー5およびプーリー7との接触
部でスリップするようにしている。
FIG. 2 is a sectional view taken along the line X--X in FIG. 1. When the sphere 2 and the sphere 4 are rotated in the directions of the arrows, the wafer is
It is possible to move 18 in the direction of the arrow. In this case, the sphere 1 and the sphere 3 are also rotated in the direction of the arrow by the wafer 18, but as shown in FIG. 1, the sphere 1 and the sphere 3 slip at the contact portion with the pulley 5 and the pulley 7 which are in contact with the sphere 1 and the sphere 3. I am trying.

【0020】球体2及び球体4を逆方向に回転させる
と、ウエーハ18をウエーハ18の中心を軸にして回転させ
ることが可能である。この場合も球体1及び球体3はウ
エーハ18によって逆方向に回転させられるが、球体1及
び球体3と接触しているプーリー5およびプーリー7と
の接触部でスリップするようにしている。
When the sphere 2 and the sphere 4 are rotated in opposite directions, the wafer 18 can be rotated about the center of the wafer 18. Also in this case, the sphere 1 and the sphere 3 are rotated in the opposite directions by the wafer 18, but slips at the contact portion with the pulley 5 and the pulley 7 which are in contact with the sphere 1 and the sphere 3.

【0021】つぎにウエーハ18とセンサーとの関係につ
いて説明する。ウエーハ18の中心が位置決め装置の中心
からずれている場合のウエーハ18とセンサー13およびセ
ンサー15との関係は、図3に示すようにセンサー13およ
びセンサー15のウエーハ18により覆われている受光素子
の数が異なっている。
Next, the relationship between the wafer 18 and the sensor will be described. The relationship between the wafer 18 and the sensors 13 and 15 when the center of the wafer 18 is displaced from the center of the positioning device is as shown in FIG. The numbers are different.

【0022】このような場合に、上述したようにウエー
ハ18を図において右方向に移動すると、図4に示すよう
にセンサー13およびセンサー15のウエーハ18により覆わ
れている受光素子の数を等しくすることが可能となり、
この方向の位置決めが完了する。
In such a case, if the wafer 18 is moved rightward in the drawing as described above, the number of light receiving elements covered by the wafer 18 of the sensor 13 and the sensor 15 is made equal as shown in FIG. Is possible,
Positioning in this direction is completed.

【0023】ついでセンサー14およびセンサー16とウエ
ーハ18との関係をも同様にセンサー14およびセンサー16
のウエーハ18により覆われている受光素子の数を等しく
すると、この方向の位置決めも完了し、ウエーハ18の中
心と位置決め装置の中心とを一致させることが可能とな
る。
Next, regarding the relationship between the sensor 14 and the sensor 16 and the wafer 18, the same applies to the sensor 14 and the sensor 16.
If the number of light receiving elements covered by the wafer 18 is made equal, the positioning in this direction is completed, and the center of the wafer 18 can be aligned with the center of the positioning device.

【0024】このようにして中心を一致させた状態の斜
視図が図5(a) である。センサー13の位置にウエーハ18
のO.F.を位置決めする場合には、図5(b)に示すよ
うにセンサー14、センサー15およびセンサー16のウエー
ハ18により覆われている受光素子の数が等しく、センサ
ー13のウエーハ18により覆われている受光素子の数が、
他のセンサーがウエーハ18により覆われている受光素子
の数よりも、O.F.18a の円弧の高さに相当する数だ
け少なくなるようにすれば、センサー13の位置にO.
F.18a を位置決めすることが可能となる。
FIG. 5 (a) is a perspective view showing the state where the centers are aligned as described above. Wafer 18 at the position of sensor 13
O. F. 5B, the number of light-receiving elements covered by the wafers 18 of the sensors 14, 15 and 16 is the same as shown in FIG. 5B, and the light-receiving elements covered by the wafer 18 of the sensor 13 are the same. The number of elements
The number of light receiving elements other than the number of light receiving elements covered by the wafer 18 is larger than that of the other sensors. F. If the number is reduced by the number corresponding to the height of the arc of 18a, the position of the sensor 13 will be 0.
F. It is possible to position 18a.

【0025】このO.F.18a の位置決めの精度を向上
させたい場合には、図5(c) に示すようにセンサー13の
両側のO.F.18a の長さの範囲内にセンサー13a とセ
ンサー13b とを設け、センサー13、センサー13a および
センサー13b のウエーハ18により覆われる受光素子の
数が等しくなるようにすれば、ウエーハ18の高精度の位
置決めを行うことが可能である。
This O. F. When it is desired to improve the positioning accuracy of 18a, as shown in FIG. F. If the sensors 13a and 13b are provided within the length of 18a and the number of light receiving elements covered by the wafers 18 of the sensors 13, 13a and 13b is equal, the positioning of the wafer 18 with high accuracy can be achieved. It is possible to

【0026】球体をモーターおよびプーリーにより回転
させる場合には、図6に示すようにセンサーのウエーハ
18により覆われている受光素子の数を入力セレクタ17e
に入力し、制御装置17を用いてパルスモータードライバ
ー17a,17b,17c,17d (以下、P.M.ドライバーと略称す
る)を作動させ、モーター9,10,11,12を回転させてウエ
ーハ18の位置決めを行うことが可能である。
When the sphere is rotated by a motor and a pulley, as shown in FIG.
Input selector 17e
To operate the pulse motor drivers 17a, 17b, 17c, 17d (hereinafter abbreviated as PM driver) using the controller 17, and rotate the motors 9, 10, 11, 12 to position the wafer 18. It is possible to do.

【0027】このようにセンサーとウエーハとの相対位
置をセンサーにて検出し、制御装置によりモーターを回
転させてプーリーにより球体を回転してウエーハの位置
決めを行うことができるので、ウエーハの中心部には位
置決め機構を設けないで、小スペースに位置決め装置を
設けることが可能となる。
In this way, the relative position between the sensor and the wafer is detected by the sensor, the motor is rotated by the control device, and the sphere is rotated by the pulley, so that the wafer can be positioned. It becomes possible to provide the positioning device in a small space without providing the positioning mechanism.

【0028】[0028]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば極めて簡単な構造の位置決め装置により、必要
な精度の位置決め機構を小スペースに設けることが可能
となる利点があり、著しい経済的及び、信頼性向上の効
果が期待できる位置決め装置の提供が可能である。
As is apparent from the above description, according to the present invention, the positioning device having an extremely simple structure has an advantage that a positioning mechanism having a required accuracy can be provided in a small space, which is extremely economical. It is possible to provide a positioning device that can be expected to have the effect of improving the reliability and reliability.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明による一実施例の位置決め装置の平面
図、
FIG. 1 is a plan view of a positioning device according to an embodiment of the present invention,

【図2】 図1のX−X断面矢視図、FIG. 2 is a sectional view taken along the line XX in FIG.

【図3】 位置決め前のウエーハとセンサーとの相対位
置関係を示す図、
FIG. 3 is a diagram showing a relative positional relationship between a wafer and a sensor before positioning,

【図4】 位置決め後のウエーハとセンサーとの相対位
置関係を示す図、
FIG. 4 is a diagram showing a relative positional relationship between a wafer and a sensor after positioning,

【図5】 ウエーハの位置決め完了状態を示す斜視図、FIG. 5 is a perspective view showing a state in which positioning of the wafer is completed,

【図6】 位置決め装置の制御系統の接続を示す結線
図、
FIG. 6 is a connection diagram showing the connection of the control system of the positioning device,

【図7】 従来の位置決め装置の概略構造を示す図、FIG. 7 is a diagram showing a schematic structure of a conventional positioning device,

【符号の説明】 1,2,3,4 は球体、5,6,7,8 はプーリー、9,10,11,12はモ
ーター、9a,10a,11a,12aは回転軸、13,13a,13b,14,15,1
6 はセンサー、17は制御装置、17a,17b,17c,17d はP.M.
ドライバー、17e は入力セレクタ、18はウエーハ、
[Explanation of symbols] 1,2,3,4 are spheres, 5,6,7,8 are pulleys, 9,10,11,12 are motors, 9a, 10a, 11a, 12a are rotating shafts, 13,13a, 13b, 14,15,1
6 is a sensor, 17 is a controller, 17a, 17b, 17c, 17d are PM
Driver, 17e is input selector, 18 is wafer,

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ウエーハ(18)を支持し、直交する二軸の
交点から等距離に、該二軸上に各々設けた球体(1,2,3,
4) と、 該球体(1,2,3,4) にそれぞれ接触し、モーター(9,10,1
1,12)により回転駆動されるプーリー(5,6,7,8)と、 前記ウエーハ(18)の周囲により被覆され、直交する二軸
の交点から等距離に、該二軸上に各々設けたセンサー(1
3,14,15,16) と、 前記ウエーハ(18)により被覆された前記センサー(13,1
4,15,16) の被覆部分により検出された前記ウエーハ(1
8)の位置によって前記モーター(9,10,11,12)の回転を制
御する制御装置(17)と、 を具備することを特徴とする位置決め装置。
1. A sphere (1, 2, 3,) which supports a wafer (18) and is equidistant from the intersection of two orthogonal axes and is provided on each of the two axes.
4) and the sphere (1,2,3,4) respectively, and the motor (9,10,1
The pulleys (5,6,7,8) that are driven to rotate by 1,12) and the circumference of the wafer (18) are provided on the two axes equidistant from the intersection of the two axes that intersect at right angles. Sensor (1
3,14,15,16) and the sensor (13,1) covered by the wafer (18).
4,15,16) wafers (1
A positioning device comprising: a control device (17) for controlling the rotation of the motors (9, 10, 11, 12) according to the position of 8).
【請求項2】 請求項1記載の位置決め装置において、 前記ウエーハ(18)のオリエンテーションフラットの位置
を検出する前記センサー(13)の両側にセンサー(13a,13
b) を具備することを特徴とする位置決め装置。
2. The positioning device according to claim 1, wherein sensors (13a, 13a) are provided on both sides of the sensor (13) for detecting a position of an orientation flat of the wafer (18).
A positioning device comprising b).
JP144993A 1993-01-08 1993-01-08 Positioning device Withdrawn JPH06204321A (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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