JP2638623B2 - Wafer handler - Google Patents

Wafer handler

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JP2638623B2
JP2638623B2 JP23446188A JP23446188A JP2638623B2 JP 2638623 B2 JP2638623 B2 JP 2638623B2 JP 23446188 A JP23446188 A JP 23446188A JP 23446188 A JP23446188 A JP 23446188A JP 2638623 B2 JP2638623 B2 JP 2638623B2
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arms
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Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、ウエハハンドラーに関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Field of Industrial Application) The present invention relates to a wafer handler.

(従来の技術) 半導体製造工程では、例えばカセットに収容されたウ
エハをウエハ処理装置に移送するために、ウエハハンド
ラーが使用されている。
(Prior Art) In a semiconductor manufacturing process, for example, a wafer handler is used to transfer a wafer housed in a cassette to a wafer processing apparatus.

この種のウエハハンドラーとして代表的なものに、フ
ラグレッグ方式と称されるハンドラーがある(特開昭61
−71383,特開昭61−90887,特開昭61−90903,特開昭61−
99344,特開昭61−99345,特開昭61−160949,特開昭61−1
84841,特開昭61−278149,特開昭62−21644,特開昭62−1
61607,特開昭62−161608,特開昭62−21649,特開昭62−4
5038,特開昭62−41129,特開昭62−150735)。
A typical example of this type of wafer handler is a handler called a flag leg method (Japanese Patent Application Laid-Open No.
-71383, JP-A-61-90887, JP-A-61-90903, JP-A-61-908
99344, JP-A-61-99345, JP-A-61-160949, JP-A-61-1
84841, JP-A-61-278149, JP-A-62-21644, JP-A-62-1
61607, JP 62-161608, JP 62-21649, JP 62-4
5038, JP-A-62-41129, JP-A-62-150735).

このハンドラーは、第7図に示すようにウエハを面上
に載置可能とするウエハ支持部材1と、このウエハ支持
部材1に回転自在に連結された対をなす第1のアーム部
材2,2と、第1のアーム部材2,2に一端を回動自在に支持
された対をなす第2のアーム部材3,3とを有して構成さ
れる。そして、第2のアーム部材3,3の一端に設けた駆
動軸に第1プーリ4を設け、また、第1,第2のアーム2,
3を連結する回転軸には第2のプーリ5が設けられ、こ
の第1,第2のプーリ4,5の径の比を2:1とすると共に、こ
の両プーリ4,5間にベルト6を掛け渡している。また、
前記ウエハ支持部材1が第1のアーム2,2に対して自由
に回転することを防止するため、ギア(図示せず)を噛
み合わせる構成を採用している。
As shown in FIG. 7, the handler comprises a wafer supporting member 1 capable of mounting a wafer on a surface, and a pair of first arm members 2, 2 rotatably connected to the wafer supporting member 1. And a pair of second arm members 3, 3 whose one end is rotatably supported by the first arm members 2, 2. Then, a first pulley 4 is provided on a drive shaft provided at one end of the second arm members 3, 3.
A second pulley 5 is provided on a rotating shaft connecting the first and second pulleys 3, and a ratio of diameters of the first and second pulleys 4, 5 is set to 2: 1, and a belt 6 is provided between the two pulleys 4, 5. Is crossed over. Also,
In order to prevent the wafer support member 1 from freely rotating with respect to the first arms 2, 2, a configuration in which a gear (not shown) is engaged is adopted.

(発明が解決しようとする問題点) 上述したフラグレッグ方式のウエハハンドラーによれ
ば、同一平面に平行に配置された第1,第2のアーム部材
の連結のみでは、このアームの関節部分の移動位置が一
義的に定まらないので、ウエハ支持部材1の一方向のみ
の自由度を確保できず、第1,第2のプーリ4,5及びベル
ト6を使用することが不可欠となり、さらに、支持部材
1と第1のアーム部材2,2との間でギアを使用してウエ
ハ支持部材1の自由な回転を拘束しなければならない。
(Problems to be Solved by the Invention) According to the above-described flag leg type wafer handler, the movement of the joint portion of this arm is achieved only by connecting the first and second arm members arranged in parallel on the same plane. Since the position is not uniquely determined, the degree of freedom in only one direction of the wafer support member 1 cannot be ensured, and it is indispensable to use the first and second pulleys 4 and 5 and the belt 6. A gear must be used between the first arm member 2 and the first arm member 2 to restrain the free rotation of the wafer support member 1.

このように、上記構成では比較的構成部材が多くなっ
て、コストアップが避けられない。また、ギアを用いて
いるので、ギア噛み合い時のバックラッシュの存在によ
りハンドラーとしてガタを有するものとなってしまう。
As described above, in the above configuration, the number of constituent members is relatively large, and cost increase is inevitable. In addition, since a gear is used, the backlash at the time of gear engagement causes the handler to have backlash.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、構
成部材点数を少なくしながらも、ウエハ支持部材の一方
向のみの直線移動の自由度を得ることができ、構成が簡
易でかつ安価なウエハハンドラーを提供することを目的
とするものである。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is possible to obtain a degree of freedom of linear movement in only one direction of a wafer support member while reducing the number of constituent members, and the configuration is simple and inexpensive. It is an object to provide a wafer handler.

[発明の構成] (問題点を解決するための手段) 本発明のウエハハンドラーは、一対の多関節アームの
それぞれの一端にウエハ支持部材を支持し、かつ、この
一対の多関節アームのそれぞれの移動平面を交差するよ
うに配置して構成し、一方の多関節アームの他端を回転
することにより、上記ウエハ支持部材を直線移動するも
のである。
[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) A wafer handler according to the present invention supports a wafer support member at one end of each of a pair of articulated arms, and each of the pair of articulated arms. The wafer supporting member is linearly moved by rotating the other end of one of the articulated arms so as to intersect the moving plane.

そして、一対の多関節アームが配置される位置の両側
にウエハ支持部材を直線移動させるために、上記両方向
への移動に際して一対の多関節アームをウエハ支持部材
と干渉しない位置に配置することが好ましい。また、こ
のウエハハンドラー全体を回転可能として、ウエハ支持
部材の一端を反対側に配置できるように構成することも
でき、さらには、このウエハ支持部材の両端側でウエハ
を支持可能とするものが良い。また、ウエハ支持部材が
両方向に移動する場合にあっては、少なくとも多関節ア
ームを構成する複数のアームが重なりあった時に、この
重なり合いを外力の付加により解除する構成を採用する
ことができる。
Then, in order to linearly move the wafer support member to both sides of the position where the pair of articulated arms are arranged, it is preferable to arrange the pair of articulated arms at a position where they do not interfere with the wafer support member when moving in the above two directions. . Further, the entire wafer handler can be configured to be rotatable so that one end of the wafer support member can be disposed on the opposite side. Further, a device that can support a wafer at both ends of the wafer support member is preferable. . Further, when the wafer support member moves in both directions, it is possible to adopt a configuration in which when at least a plurality of arms constituting the multi-joint arm overlap, the overlap is released by applying an external force.

(作用) 一対の多関節アームのそれぞれの一端にウエハ支持部
材を取り付けてこの端部を拘束し、かつ、一対の多関節
アームの移動平面が交差するように配置することで、一
方の多関節アームの他端側を回転駆動した場合、この一
対の多関節アーム同士の拘束によって、関節部分の位置
は一義的に定まり、したがってウエハ支持部材の自由度
は、そのウエハ支持部材を直線移動させたい方向のみの
一方向となる。
(Operation) A wafer supporting member is attached to one end of each of the pair of articulated arms to restrain the ends, and the pair of articulated arms is arranged so that the movement planes of the pair of articulated arms intersect. When the other end of the arm is rotationally driven, the position of the joint portion is uniquely determined by the constraint between the pair of articulated arms, and therefore, the degree of freedom of the wafer support member is desired to linearly move the wafer support member. Only one direction.

このことを、本発明の機構を最も簡易化して模式化し
た第5図を参考に説明すれば、第1の多関節アーム10
は、図示a,b,cの3点を関節部分とするアーム10a,10bを
有し、一方これと対をなす第2の多関節アーム2も同様
にa,b,cの3点を関節部分とするアーム11a,11bを有して
いる。そして、この第1,第2の多関節アーム10,11の一
端に取り付けられた一方の平面12をウエハ支持部材とす
れば、アーム10a,10b,11a,11bのいずれかアームを回転
させれば、上記ウエハ支持部材12は同図の上下方向のみ
に拘束して移動されることになる。
This will be described with reference to FIG. 5 in which the mechanism of the present invention is most simplified and schematically described.
Has arms 10a and 10b having three points a, b and c as joints, and a second articulated arm 2 paired therewith also has three points a, b and c jointed similarly. It has arms 11a and 11b as parts. If one of the planes 12 attached to one end of each of the first and second articulated arms 10 and 11 is used as a wafer support member, any one of the arms 10a, 10b, 11a, and 11b is rotated. The wafer support member 12 is constrained and moved only in the vertical direction in FIG.

この結果、この一方向のみの自由度を確保するための
他の部材を要することがないので、部材点数を削減で
き、また、ギアなども要しないのでバックラッシュに起
因するハンドラーのガタも生ずることがない。
As a result, it is not necessary to provide another member for securing the degree of freedom in only one direction, so that the number of members can be reduced, and since no gear is required, the backlash of the handler due to the backlash occurs. There is no.

(実施例) 以下、本発明を半導体ウエハのウエハハンドラーに適
用した一実施例について、図面を参照して具体的に説明
する。
Hereinafter, an embodiment in which the present invention is applied to a semiconductor wafer wafer handler will be specifically described with reference to the drawings.

このウエハハンドラーは、第1図,第2図に示すよう
に、一対の多関節アーム20,30を、その移動平面が交差
するように傾斜して配置している。そして、両端が上記
多関節アーム20,30と同一角度で傾斜する傾斜部42と、
この間に形成された水平部44とで構成されたアーム連結
部材40が設けられ、前記傾斜部42,44が前記一対の多関
節アーム20,30の移動端に回転自在に支持されている。
そして、このアーム連結部材40上に、このアーム連結部
材40の長手方向と直交する方向に沿って、ウエハ支持部
材の一例であるピンセット50が固着されている。なお、
このピンセット50は、その両端側でウエハ60を例えば真
空吸着によって支持可能な真空吸着部52,52を有してい
る。
In this wafer handler, as shown in FIGS. 1 and 2, a pair of articulated arms 20, 30 are arranged so as to be inclined such that their movement planes intersect. And an inclined portion 42 whose both ends are inclined at the same angle as the articulated arms 20, 30,
An arm connecting member 40 constituted by a horizontal portion 44 formed therebetween is provided, and the inclined portions 42, 44 are rotatably supported by moving ends of the pair of articulated arms 20, 30.
On the arm connecting member 40, tweezers 50 as an example of a wafer supporting member are fixed along a direction orthogonal to the longitudinal direction of the arm connecting member 40. In addition,
The tweezers 50 have vacuum suction portions 52, 52 that can support the wafer 60 at both ends by, for example, vacuum suction.

次に、前記一対の多関節アーム20,30の詳細について
説明する。
Next, details of the pair of articulated arms 20, 30 will be described.

この多関節アーム20,30は、その駆動系以外の外観上
の構成は同一となっている。すなわち、一方の多関節ア
ーム20は、第1のアーム22と第2のアーム24とから構成
され、同様に他方の多関節アーム30も第1アーム32と第
2のアーム34とから構成され、上記各アームの両端を回
転自在とする3関節(a,b,c)を有する構造となってい
る。なお、上記第1のアーム22,32の一端側を第1関節
aとし、第1,第2のアームの連結部を第2関節bとし、
前記傾斜部42,42と第2のアーム24,34との連結部を第3
関節cとする。
The articulated arms 20, 30 have the same external configuration except for the drive system. That is, one multi-joint arm 20 is composed of a first arm 22 and a second arm 24, and similarly, the other multi-joint arm 30 is also composed of a first arm 32 and a second arm 34, It has a structure having three joints (a, b, c) that make both ends of each arm rotatable. One end of the first arms 22 and 32 is referred to as a first joint a, and a connecting portion between the first and second arms is referred to as a second joint b.
The connecting portion between the inclined portions 42, 42 and the second arms 24, 34
Assume joint c.

また、前記一対の多関節アーム20,30の第1関節a側
は、一対の多関節アーム20,30の傾斜と同一画度で傾斜
する斜面72,72を有する基台70の上記斜面72,72に回転自
在に支持されている。そして、多関節アーム20側の上記
斜面72はさらに斜め下方側に延在形成され、この領域
を、前記多関節アーム20の第1のアーム22を駆動するモ
ータ80の取り付け部74としている。
The first joint a side of the pair of articulated arms 20, 30 is connected to the slopes 72, 72 of the base 70 having the slopes 72, 72 inclined at the same angle as the inclination of the pair of articulated arms 20, 30. 72 rotatably supported. The inclined surface 72 on the articulated arm 20 side is further formed to extend obliquely downward, and this area is used as a mounting portion 74 of a motor 80 for driving the first arm 22 of the articulated arm 20.

また、上記基台70は、鉛直線を回転軸として、第1
図,第2図のθ方向に回転可能となっている。
In addition, the base 70 uses a vertical
2 can be rotated in the θ direction.

次に、一対の多関節アーム20,30の駆動系について、
第3図を参照して説明する。
Next, regarding the drive system of the pair of articulated arms 20, 30,
This will be described with reference to FIG.

本実施例のウエハハンドラーは、一方の多関節アーム
20側にのみ駆動系を有していて、この一方の多関節アー
ム20の駆動により、他方の多関節アーム30はこれに追従
し、かつ、両多関節アーム20,30が拘束し合いながらピ
ンセット50を移動することになる。ピンセット52はいか
なる移動に対しても水平状態を維持して移動する。
The wafer handler according to the present embodiment has one articulated arm.
A drive system is provided only on the 20 side, and when the one multi-joint arm 20 is driven, the other multi-joint arm 30 follows the drive system, and the tweezers are held while the two multi-joint arms 20, 30 are constrained to each other. Would move 50. The tweezers 52 move while maintaining a horizontal state for any movement.

多関節アーム20の駆動系として、まず、モータ80の出
力軸には第1のプーリ82が固着されている。一方、前記
第1関節aには、第1のアーム22の回転軸84に第2のプ
ーリ86が固着され、この第2のプーリ86と前記第1のプ
ーリ82との間に、ベルト88が掛け渡されている。この結
果、モータ80が回転駆動されると、この回転出力は第1
のプーリ82,ベルト88,第2のプーリ86を介して第1のア
ーム22の回転軸84に伝達され、この第1のアームが回転
軸84を中心として回転駆動されることになる。
First, as a drive system of the articulated arm 20, a first pulley 82 is fixed to the output shaft of the motor 80. On the other hand, a second pulley 86 is fixed to the first joint a on the rotation shaft 84 of the first arm 22. A belt 88 is provided between the second pulley 86 and the first pulley 82. Has been passed over. As a result, when the motor 80 is driven to rotate, this rotation output becomes the first output.
Is transmitted to the rotating shaft 84 of the first arm 22 via the pulley 82, the belt 88, and the second pulley 86, and the first arm is driven to rotate about the rotating shaft 84.

本実施例の構成によれば、上記一方の多関節アーム20
の第1のアーム22を回転駆動することで、一対の多関節
アーム20,30の各関節の移動位置は一義的に定まり、ピ
ンセット50をその長手方向のいずれか一方の方向に確実
に駆動することができ、他の方向には移動の自由度が存
在しないようになっている。
According to the configuration of the present embodiment, the one articulated arm 20
By rotationally driving the first arm 22, the moving position of each joint of the pair of articulated arms 20, 30 is uniquely determined, and the tweezers 50 is reliably driven in one of the longitudinal directions. So that there is no freedom of movement in other directions.

従って、このウエハハンドラーの駆動系としては、上
記のものだけで足りるが、本実施例ではこのピンセット
50の直線往復駆動を確実ならしめるために、付加的な駆
動系を設けている。これは、前記回転軸84の上側に第3
のプーリ90を固着し、さらに、第1,第2アーム22,24の
連結部分の回転軸92に第4のプーリ94を固着し、この第
3,第4のプーリ90,94間に、ベルト96を掛け渡してい
る。なお、第3のプーリ90と第4のプーリ94の直径の比
は、2:1となっている。
Therefore, as the drive system of the wafer handler, only the above-mentioned drive system is sufficient.
An additional drive system is provided to ensure 50 linear reciprocating drives. This is the third position above the rotation shaft 84.
And a fourth pulley 94 is fixed to the rotating shaft 92 of the connecting portion of the first and second arms 22 and 24.
3. A belt 96 is stretched between the fourth pulleys 90 and 94. The ratio between the diameters of the third pulley 90 and the fourth pulley 94 is 2: 1.

また、このような稼動部を有するウエハハンドラーで
の稼動時のゴミの拡散を防止するため、本実施例では多
関節アーム20,30の内部を真空引き可能となっている。
In addition, in order to prevent the diffusion of dust at the time of operation in the wafer handler having such an operation unit, the inside of the articulated arms 20 and 30 can be evacuated in this embodiment.

すなわち、一方の多関節アーム20について説明すれ
ば、第1,第2のアーム22,24は第3図に示すように、内
部が切欠された中空形状となっていて、また、第1,第2,
第3の各関節a,b,cに配置された回転軸84,92,98も同様
に中空軸となっていて、多関節アーム20の内部は連通し
た状態となっている。このような構成は、他の多関節ア
ーム30も同様になっている。
That is, as for one multi-joint arm 20, the first and second arms 22 and 24 have hollow shapes with internal cutouts as shown in FIG. 2,
Similarly, the rotating shafts 84, 92, 98 arranged at the third joints a, b, c are also hollow shafts, and the inside of the multi-joint arm 20 is in communication. Such a configuration is the same for the other articulated arms 30.

次に、作用について説明する。 Next, the operation will be described.

まず、本実施例のウエハハンドラーは、一対の多関節
アーム20,30の移動平面を互いに交差するように配置
し、一方の多関節アーム20における第1のアーム22の関
節aの回転軸84をモータ80によって回転して駆動するこ
とになる。そして、上記モータ80の駆動により第1のア
ーム22が第1関節aにて回転すると、この一対の多関節
アーム20,30の他の関節の移動位置が一義的に定まり、
従来のフラグレッグ方式のように、一対のアームの双方
を同期回転し、かつ、第1,第2アームの回転比を2:1に
管理して駆動するような、複雑な構成を採用する必要が
ない。
First, the wafer handler according to the present embodiment arranges the movement planes of the pair of articulated arms 20 and 30 so as to intersect each other, and adjusts the rotation axis 84 of the joint a of the first arm 22 in one of the articulated arms 20. It is rotated and driven by the motor 80. When the first arm 22 rotates at the first joint a by the drive of the motor 80, the movement positions of the other joints of the pair of articulated arms 20, 30 are uniquely determined,
As in the conventional flag leg method, it is necessary to adopt a complicated configuration in which both the pair of arms are synchronously rotated and the driving ratio is controlled while controlling the rotation ratio of the first and second arms to 2: 1. There is no.

そして、本実施例のウエハハンドラーでは、第4図に
示すように、この一対の多関節アーム20,30が配置され
る位置よりも右側の位置と左側の位置との両側に、ピン
セット50を移動可能としている。すなわち、本実施例の
ウエハハンドラーは、第2図に示すように一対の多関節
アーム20,30の第1,第2アーム22,24及び32,34が完全に
重なり合うことができ、しかもこの状態より左右のいず
れの方向にもピンセット50が移動する場合にも、このピ
ンセット50の移動に干渉する部材は全く存在しないよう
になっている。従って、ピンセット50の移動ストローク
を大きく確保することができる。
Then, in the wafer handler of the present embodiment, as shown in FIG. 4, the tweezers 50 are moved to both the right and left sides of the position where the pair of articulated arms 20 and 30 are arranged. It is possible. That is, in the wafer handler of this embodiment, as shown in FIG. 2, the first and second arms 22, 24 and 32, 34 of the pair of articulated arms 20, 30 can completely overlap. Even when the tweezers 50 move in any of the left and right directions, there is no member that interferes with the movement of the tweezers 50 at all. Therefore, a large moving stroke of the tweezers 50 can be secured.

ここで、このように一対の多関節アーム20,30の両側
に移動する場合には、必ず第2図に示すようにアーム同
士が重なり合う状態がある。そして、この場合には、第
1のアーム22を駆動しても第1,第2のアーム22,24の相
対的位置が重なり合ったままで変化せず、重なった状態
で第1関節aの回転軸84を中心として両アーム22,24が
回転する恐れがある。このことは、他方の多関節アーム
30についても同様である。このような現象は、ピンセッ
と50が連続移動する場合にはその慣性力によって、第2
図の状態の後に第1,第2のアーム22,24の位置がずれる
ことから、実際に生ずる可能性が低いが、機構設計上こ
のような現象が生ずる恐れがある以上この対策が必要で
ある。
Here, when moving to both sides of the pair of articulated arms 20, 30, there is always a state where the arms overlap as shown in FIG. In this case, even if the first arm 22 is driven, the relative positions of the first and second arms 22 and 24 remain unchanged and do not change. There is a possibility that both arms 22 and 24 rotate around 84. This means that the other articulated arm
The same applies to 30. This phenomenon occurs when the tweezers and 50 move continuously due to their inertia.
Since the positions of the first and second arms 22 and 24 are shifted after the state shown in the figure, it is unlikely that this will actually occur. However, this measure is necessary because such a phenomenon may occur in the mechanism design. .

本実施例では、第1関節aでの回転軸84の回転力を、
第3,第4のプーリ90,94及びベルト96を用いて第2関節
bの回転軸92にも伝達し、第2のアーム24を回転させる
構成を採用している。なお、一対の多関節アーム20,30
の拘束状態下で第2のアーム24を回転駆動する必要上、
第3,第4のプーリ90,94の直径比を2:1に設定している。
In this embodiment, the rotational force of the rotating shaft 84 at the first joint a is
The third and fourth pulleys 90 and 94 and the belt 96 are used to transmit the rotation to the rotation shaft 92 of the second joint b to rotate the second arm 24. The pair of articulated arms 20, 30
The second arm 24 needs to be rotationally driven under the restrained condition,
The diameter ratio of the third and fourth pulleys 90 and 94 is set to 2: 1.

次に、このウエハハンドラーを用いて、ウエハ60を搬
送する動作について、第6図を参照して説明する。
Next, the operation of transferring the wafer 60 using the wafer handler will be described with reference to FIG.

同図において、このウエハハンドラーのピンセット50
の移動経路の一端には、ウエハ60を上下方向の所定ピッ
チで例えば25枚収容したカセット100が設けられ、その
他端側には、ウエハエッチング,アッシングなどのウエ
ハ処理を実行する処理装置110が設けられている。そし
て、カセット100より取り出したウエハ60を前記処理装
置110の供給し、処理が終了したウエハ60をカセット100
に戻し搬送し、新たなウエハ60をカセット100より処理
装置110に移送するようにして連続処理を実行するよう
になっている。
In the figure, the tweezers 50 of this wafer handler are shown.
At one end of the moving path, a cassette 100 for accommodating, for example, 25 wafers 60 at a predetermined pitch in the vertical direction is provided, and at the other end, a processing apparatus 110 for performing wafer processing such as wafer etching and ashing is provided. Have been. Then, the wafer 60 taken out of the cassette 100 is supplied to the processing apparatus 110, and the processed wafer 60 is transferred to the cassette 100.
And a new process is performed by transferring a new wafer 60 from the cassette 100 to the processing device 110.

このような場合、まず、第6図(A)に示すようにピ
ンセット50の一端をカセット100内に挿入移動し、一枚
のウエハ60−1をピンセット50上に真空吸着する。
In such a case, first, as shown in FIG. 6A, one end of the tweezers 50 is inserted and moved into the cassette 100, and one wafer 60-1 is vacuum-sucked on the tweezers 50.

次に、カセット100よりピンセット50を離脱移動し
(第6図(B)参照)、この状態で、処理装置110内に
既に搬入されているウエハ60−0の処理終了を待機す
る。
Next, the tweezers 50 are detached from the cassette 100 (see FIG. 6B), and in this state, the processing of the wafer 60-0 already loaded in the processing apparatus 110 is awaited.

処理装置110での処理が終了したら、第6図(B)の
状態よりピンセット50を右側に移動し、他方の真空吸着
部52にて処理済みウエハ60−0を支持する(第6図
(C)参照)。そして、ピンセット50を左側に移動し、
処理装置110より離脱した位置に停止する(第6図
(D)参照)。
When the processing in the processing device 110 is completed, the tweezers 50 is moved to the right from the state of FIG. 6B, and the processed wafer 60-0 is supported by the other vacuum suction unit 52 (FIG. 6C). )reference). Then, move the tweezers 50 to the left,
It stops at the position separated from the processing device 110 (see FIG. 6 (D)).

その後、基台70を180゜回転させ、ウエハ60−1を支
持した側のピンセット50が、前記処理装置110と対向す
るように、一方、処理済みのウエハ60−0を支持した側
がカセット100に対向するようにそれぞれ設定する(第
6図(E)参照)。
Thereafter, the base 70 is rotated by 180 °, and the tweezers 50 on the side supporting the wafer 60-1 are opposed to the processing apparatus 110, while the side supporting the processed wafer 60-0 is on the cassette 100. They are set to face each other (see FIG. 6 (E)).

そして、上記の状態よりピンセット50を左側に移動
し、新なウエハ60−1を処理装置110に受け渡す(第6
図(F)参照)。
Then, the tweezers 50 are moved to the left from the above state, and the new wafer 60-1 is delivered to the processing apparatus 110 (the sixth wafer).
FIG. (F).

これ以降、処理装置110での処理が開始されるので、
この処理時間を利用して処理済みウエハ60−0をカセッ
ト100に戻し搬送し、以降は第6図(A)に戻ってその
動作を繰り返すことになる。
Thereafter, the processing in the processing device 110 is started.
Utilizing this processing time, the processed wafer 60-0 is transported back to the cassette 100, and thereafter, the operation returns to FIG. 6A and the operation is repeated.

このように、上記のようなダブルピンセット構造であ
って、かつ、基台70を回転自在としておけば、新たなウ
エハをピンセット50に支持しながら、処理済みのウエハ
を支持することができ、この状態で基台70を回転すれ
ば、この新たなウエハを即座に処理装置110に受け渡す
ことができる。従って、吸着部が一つしかない場合に
は、処理済みウエハ60−0を受けとった後には、これを
カセット100に戻した後に新たなウエハ60−1をカセッ
ト100より受けとり、これを処理装置110に移動する動作
が必要であったが、上記実施例では処理済みウエハ60−
0を処理装置110より受けとった後、ピンセット50を回
転させて既に保持している新たなウエハ60−1を即座に
処理装置110に受け渡すことができるので、ウエハの受
け渡しのスループットを大幅に向上することができる。
In this way, the double tweezers structure as described above, and if the base 70 is rotatable, it is possible to support a processed wafer while supporting a new wafer with the tweezers 50. If the base 70 is rotated in this state, the new wafer can be immediately transferred to the processing apparatus 110. Therefore, when there is only one suction unit, after receiving the processed wafer 60-0, it is returned to the cassette 100, and then a new wafer 60-1 is received from the cassette 100. In the above embodiment, the operation of moving the processed wafer 60-
After receiving 0 from the processing apparatus 110, the tweezers 50 can be rotated to immediately transfer the already held new wafer 60-1 to the processing apparatus 110, greatly improving the throughput of transferring the wafer. can do.

なお、半導体ウエハを被搬送物とする場合には、この
種のウエハハンドラーがクリーンルーム内に配置され、
稼動部の稼動によって生ずるゴミの拡散を嫌うので、本
実施例ではアーム及びその連結部分を中空構造とし、こ
の内部を真空引きすることで、稼動部でのゴミ外部に拡
散することを確実に防止することができる。
When a semiconductor wafer is to be transferred, this type of wafer handler is placed in a clean room,
In this embodiment, the arm and its connecting part have a hollow structure, and the inside of the arm is evacuated, so that the dust in the moving part can be prevented from spreading to the outside of the moving part. can do.

なお、本発明は上記実施例に限定されるものではな
く、本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能であ
る。
It should be noted that the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made within the scope of the present invention.

本発明は、ウエハハンドラーの一対の多関節アーム2
0,30をその移動平面が交差するように配置することで、
一対の多関節アームの一部を駆動した時に各関節の移動
位置が一義的に定まる構成を採用している点が特徴であ
り、ダブルピンセット構造,基台70の回転構造,ピンセ
ットが一対の多関節アームの両側に移動する構成等を必
ずしも採用するものに限らない。
The present invention relates to a pair of articulated arms 2 of a wafer handler.
By arranging 0,30 so that their moving planes intersect,
It is characterized by adopting a configuration in which the movement position of each joint is uniquely determined when a part of a pair of multi-joint arms is driven. Double tweezer structure, rotation structure of base 70, tweezers The configuration for moving to both sides of the joint arm or the like is not necessarily adopted.

[発明の効果] 以上説明したように、本発明によれば一対の多関節ア
ームを、そのそれぞれの移動平面が交差するように配置
することで、ウエハ支持部材の直線移動方向のみの自由
度を複雑な構成を採用せずに確保することができ、従来
よりも構成が簡易で安価なウエハハンドラーを提供する
ことができる。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, by arranging a pair of articulated arms such that their respective movement planes intersect, the degree of freedom in only the linear movement direction of the wafer support member is improved. It is possible to secure a wafer handler without adopting a complicated configuration, and to provide a wafer handler with a simpler configuration and lower cost than in the past.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は、本発明を適用したウエハハンドラーの一実施
例の概略斜視図、第2図は、第1図のウエハハンドラー
の各アームが重なり合った中立状態を説明するための概
略斜視図、第3図は、第1図に示すウエハハンドラーの
一方の多関節アームの内部構造を説明するための概略断
面図、第4図は、ウエハハンドラーの両側へのピンセッ
トの移動を説明するための概略斜視図、第5図は、一対
の多関節アームの移動平面が交差する場合の最も簡易化
した機構を模式的に示す概略説明図、第6図は、第1図
のウエハハンドラーを用いてのウエハ移し換え動作を説
明するための動作説明図、第7図は従来のフラグレッグ
方式のウエハハンドラーを説明するための概略説明図で
ある。 20,30……一対の多関節アーム、 40……アーム連結部材、 50……ウエハ支持部材(ピンセット)、 60……ウエハ、 70……基台、 80……モータ。
FIG. 1 is a schematic perspective view of an embodiment of a wafer handler to which the present invention is applied. FIG. 2 is a schematic perspective view for explaining a neutral state in which the arms of the wafer handler of FIG. FIG. 3 is a schematic sectional view for explaining the internal structure of one articulated arm of the wafer handler shown in FIG. 1, and FIG. 4 is a schematic perspective view for explaining the movement of tweezers to both sides of the wafer handler. FIG. 5 is a schematic explanatory view schematically showing the most simplified mechanism when the moving planes of a pair of articulated arms intersect, and FIG. 6 is a wafer using the wafer handler of FIG. FIG. 7 is a schematic explanatory view for explaining a transfer operation, and FIG. 7 is a schematic explanatory view for explaining a conventional flag leg type wafer handler. 20, 30: a pair of articulated arms, 40: arm connecting member, 50: wafer support member (tweezers), 60: wafer, 70: base, 80: motor.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】一対の多関節アームのそれぞれの一端にウ
エハ支持部材を支持し、かつ、この一対の多関節アーム
のそれぞれの移動平面を交差するように配置して構成
し、一方の多関節アームの他端を回転することにより、
上記ウエハ支持部材を直線移動することを特徴とするウ
エハハンドラー。
A pair of multi-joint arms, each of which supports a wafer support member at one end thereof, and is arranged so as to intersect a moving plane of each of the pair of multi-joint arms; By rotating the other end of the arm,
A wafer handler, wherein the wafer support member is moved linearly.
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