JPH06188347A - Method and device for manufacturing lead frame - Google Patents

Method and device for manufacturing lead frame

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Publication number
JPH06188347A
JPH06188347A JP25534292A JP25534292A JPH06188347A JP H06188347 A JPH06188347 A JP H06188347A JP 25534292 A JP25534292 A JP 25534292A JP 25534292 A JP25534292 A JP 25534292A JP H06188347 A JPH06188347 A JP H06188347A
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JP
Japan
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lead
lead pattern
pattern
feed
lead frame
Prior art date
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Pending
Application number
JP25534292A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Shimazu
浩志 島津
Tsutomu Nagatoshi
勤 永利
Masao Takano
雅夫 高野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui High Tec Inc
Original Assignee
Mitsui High Tec Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui High Tec Inc filed Critical Mitsui High Tec Inc
Priority to JP25534292A priority Critical patent/JPH06188347A/en
Publication of JPH06188347A publication Critical patent/JPH06188347A/en
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  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

PURPOSE:To prevent the generation of failure, by correcting feed and performing baking positioning, when a residual lead pattern is formed by etching, on lead frame material on which a part of the lead pattern is formed. CONSTITUTION:When lead frame material 1 on which a part of a lead pattern is formed with a press is intermittently carried, and the residual pattern is formed by etching, the length between intermittently carried guide holes 3 is measured, and the feed length is calculated. The measured guide hole 3 is made to coincide with a mask reference arranged at a backward specified position, and the lead pattern is baked. The junction part of the baked lead pattern and the previously formed pattern with the press is image-sensed, and the difference of conformation degree is obtained. In order to eliminate the difference, a difference signal is fed back, and the feed is corrected. Then the lead pattern is baked and etched. Thereby the failure due to imperfect conformation can be evaded.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はプレスとエッチングを併
用してリードフレームを製造する方法およびその装置に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and apparatus for manufacturing a lead frame by using both press and etching.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体装置は、半導体集積回路チップ
(以下 チップという)をリードフレームのパッド部に
搭載し、チップ端子とインナーリードとを金線やアルミ
線等のワイヤーで接続するか、もしくはインナーリード
とチップ端子を直接的に接続し、これらを樹脂やセラミ
ック等で封入して製造される。
2. Description of the Related Art A semiconductor device has a semiconductor integrated circuit chip (hereinafter referred to as a chip) mounted on a pad portion of a lead frame, and a chip terminal and an inner lead are connected by a wire such as a gold wire or an aluminum wire, or an inner wire. It is manufactured by directly connecting the lead and the chip terminal and enclosing them with resin or ceramic.

【0003】半導体装置は各産業分野に適用される電気
機器装置に不可欠で、その技術的進歩が目覚ましく、高
機能化、高集積化、および小型化することが重要であ
る。
A semiconductor device is indispensable for an electric equipment device applied to each industrial field, and its technical progress is remarkable, and it is important to make it highly functional, highly integrated, and miniaturized.

【0004】かかる状況下で、リードフレームは例えば
100ピン以上のものが製造されるようになっている。
多ピン化につれリードは幅およびピッチが小さくなり、
なかでもインナーリードは微細になっている。
Under such circumstances, lead frames having 100 pins or more are manufactured.
As the number of pins increases, the width and pitch of the leads become smaller,
Above all, the inner leads are fine.

【0005】多ピンのリードフレーム製造の一つとし
て、プレスによる打抜きとエッチングの食刻を併用する
方法が提案されている。例えば特公平3−6663号公
報にはインナーリード部とパッド部はエッチングで形成
し、アウターリード部はプレスで形成するリードフレー
ムの製造方法が示されている。これではエッチングによ
る微細な食刻作用と、プレスによる高速かつ安定打抜き
作用の双方の利点が得られ、多ピンのリードフレームが
比較的安価に製造できる効果がある。
As one of manufacturing a multi-pin lead frame, a method using both punching by a press and etching is proposed. For example, Japanese Patent Publication No. 3-6663 discloses a method of manufacturing a lead frame in which the inner lead portion and the pad portion are formed by etching and the outer lead portion is formed by pressing. This has the advantages of both a fine etching action by etching and a high-speed and stable punching action by a press, and has the effect that a multi-pin lead frame can be manufactured relatively inexpensively.

【0006】[0006]

【この発明が解決しようとする課題】プレスでリードパ
ターンの1部を例えばアウターリードを形成し、その後
にエッチングで残りのリードパターンを形成する際、両
者を整合させることが重要で、リードフレーム材のガイ
ドレールに設けたガイドホールを基準にして間欠搬送し
て位置決めし前記残りのリードパターンを焼付け、現像
し、エッチングしている。しかし、先に形成されたリー
ドパターンとの整合度合いを決定ずける焼付けの位置決
め精度の正確な良否はエッチングを行った後でないと分
からなかった。この為、何らかの理由によりリードパタ
ーン焼付けの位置決め精度が低下していても、エッチン
グライン外に出てくる間のものが形状不良となることが
あった。
When a part of the lead pattern is formed by pressing, for example, an outer lead is formed and then the remaining lead pattern is formed by etching, it is important to align the two. Is intermittently conveyed and positioned with reference to the guide hole provided in the guide rail, and the remaining lead pattern is baked, developed, and etched. However, the exactness of the positioning accuracy of baking, which determines the degree of alignment with the lead pattern previously formed, was not known until after etching. For this reason, even if the positioning accuracy of the lead pattern printing is lowered for some reason, there is a case where the shape is defective while it comes out of the etching line.

【0007】実際、リードフレーム材のガイドレールに
穿設されたガイドホールの間隔は詳細に例えばミクロン
オーダーで見た場合に誤差が生じることがあり、またリ
ードフレーム材の間欠搬送においても搬送装置やその駆
動系の摩耗、経年劣化等により送り長さに変動を生じる
ことがあってリードパターンに整合不良が発生する。
In practice, the spacing between the guide holes formed in the guide rails of the lead frame material may have an error when viewed in detail, for example, on the order of microns, and also in the intermittent transportation of the lead frame material, The feed length may fluctuate due to wear of the drive system, deterioration over time, and the like, causing misalignment in the lead pattern.

【0008】本発明は前記焼付け位置決め精度の劣化が
なく、また当該精度が仮に低下してもそれをエッチング
前にキャッチし且つリードパターンを整合性よく位置決
めし、形状が優れた多ピンのリードフレームを仕損なく
製造するとともに、その製造装置を目的とする。
According to the present invention, the baking positioning accuracy is not deteriorated, and even if the accuracy is lowered, it is caught before etching and the lead pattern is positioned with good consistency, and the multi-pin lead frame is excellent in shape. Is manufactured without damage, and its manufacturing device is intended.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、プレス
でリードパターンの1部を形成し、エッチングで残りの
リードパターンを形成するリードフレームの製造方法に
おいて、前記リードパターンの1部が形成されたリード
フレーム材を単位リードフレームの所定数倍の長さで間
欠搬送し、該間欠搬送したガイドホール間の長さを測定
し、その測長値を計数加算して送り長さを算出し、通板
ラインの後方の予め定めた位置に配したマスク基準にガ
イドホールを合わせる送りをしてリードパターンを焼付
け、該焼付け位置から予め定めた後方で前記焼付けたリ
ードパターンと先にプレスで形成したリードパターンの
接合部を撮像しその整合度合いの差を測定し、該差をな
くすように前記送りを補正し、焼付けエッチングするこ
とを特徴とするリードフレームの製造方法にある。他の
要旨は、プレスでリードパターンの1部を形成し、エッ
チングで残りのリードパターンを形成するリードフレー
ムの製造装置において、通板ラインに単位リードフレー
ム長さの所定数倍の間隔をおいて設けられ間欠搬送され
たリードフレーム材の両端ガイドホールを撮像する装置
と、該撮像装置の画像信号から間欠搬送した送り長さ信
号を出力する画像処理部と、前記送り長さ信号を入力し
予め配したマスク基準の位置に撮像ガイドホールを合せ
る送り信号を出力する送り制御装置と、通板ライン後方
に予め定めた距離をおいて設けたリードパターン焼付装
置と、焼付けたリードパターンと先に形成したリードパ
ターンの接合部を撮像する装置と、接合部の画像を入力
し整合度合いの差信号を出力する画像処理部と、該差信
号を前記送り制御装置にフィードバックしその差をなく
すように送り補正を行うようにしたリードフレームの製
造装置にある。
SUMMARY OF THE INVENTION The gist of the present invention is a method of manufacturing a lead frame, wherein a part of the lead pattern is formed by pressing and the remaining lead pattern is formed by etching. The lead frame material is intermittently conveyed at a length several times as long as the unit lead frame, the length between the guide holes that have been intermittently conveyed is measured, and the measured value is added up to calculate the feed length. , The lead pattern is baked by feeding the guide hole in accordance with the mask reference arranged at a predetermined position behind the threading line, and the above-mentioned baked lead pattern is formed by press in advance from the baking position at the predetermined rear side. An image of the bonded portion of the formed lead pattern is imaged, the difference in the degree of matching is measured, the feed is corrected so as to eliminate the difference, and the baking etching is performed. In the manufacturing method of the lead frame. Another point is that in a lead frame manufacturing apparatus in which a part of a lead pattern is formed by pressing and the remaining lead pattern is formed by etching, a spacing of a predetermined number of unit lead frame lengths is set on a sheet passing line. An apparatus for imaging the guide holes at both ends of the lead frame material that is intermittently conveyed and provided, an image processing unit that outputs an intermittently conveyed feed length signal from an image signal of the imaging apparatus, and the feed length signal is input in advance. A feed control device that outputs a feed signal that aligns the imaging guide hole with the arranged mask reference position, a lead pattern printing device that is provided at a predetermined distance behind the plate passing line, and a burned lead pattern is formed first. A device for picking up an image of the bonded portion of the lead pattern, an image processing unit for inputting an image of the bonded portion and outputting a difference signal of the degree of matching, and sending the difference signal. In apparatus for manufacturing a lead frame to perform the corrected feed as fed back to the control device eliminate the difference.

【0010】[0010]

【作用】本発明はプレスでリードパターンの1部を形成
したリードフレーム材を間欠搬送し、エッチングで残り
のリードパターンを形成するために焼付けるに際し、間
欠搬送したガイドホール間の長さを測定し、その測長値
を間欠搬送毎に計数加算し測定位置からの送り長さを算
出し、後方の予め定めた位置に配したマスク基準に測定
したガイドホールを合させる送りをしてリードパターン
を焼付け、該焼付け位置から予め定めた後方で前記焼付
けたリードパターンと先にプレスで形成したリードパタ
ーンの接合部を撮像し整合度合いの差を求め、該差をな
くすように差信号をフィードバックして前記送りを補正
し、リードパターンを焼付け、エッチングする。このた
め、ガイドホール穿設の均一性の劣化や搬送等に変動が
生じリードパターンの焼付け位置決め精度が劣化して
も、それがエッチング前の早い段階で分かり、直ちに位
置決めが修正される。しかして整合不適に起因する仕損
は出来ず、且つ形状が優れたリードフレームがプレスと
エッチングの併用により製造できる。
According to the present invention, when the lead frame material having a part of the lead pattern formed by pressing is intermittently conveyed and baked to form the remaining lead pattern by etching, the length between the guide holes conveyed intermittently is measured. Then, the measured value is counted and added for each intermittent transport to calculate the feed length from the measurement position, and the lead pattern is fed by combining the measured guide holes with the mask reference placed at a predetermined rear position. Bake, image the joint part of the lead pattern burned and the lead pattern previously formed by pressing at a predetermined rear from the bake position to obtain a difference in matching degree, and feed back a difference signal so as to eliminate the difference. Then, the feed is corrected and the lead pattern is baked and etched. Therefore, even if the uniformity of the drilling of the guide holes is deteriorated or the conveyance or the like fluctuates, and the accuracy of printing and positioning the lead pattern is deteriorated, it can be recognized at an early stage before the etching and the positioning is immediately corrected. However, damage due to improper alignment cannot be performed, and a lead frame having an excellent shape can be manufactured by using both pressing and etching.

【0011】[0011]

【実施例】以下、本発明について1実施例に基ずき図面
を参照して詳細に説明する。図面において、1はリード
フレーム材で、プレスにてリードパターンの1部例えば
図2に示すようにアウターリード2、ガイドホール3が
形成されている。4はエッチング工程でのリードパター
ン形成領域で、この実施例ではインナーリード、パッ
ド、サポートバー、タイバーが食刻形成される。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described in detail below with reference to the drawings based on one embodiment. In the drawing, 1 is a lead frame material, and a part of a lead pattern, for example, an outer lead 2 and a guide hole 3 are formed by pressing as shown in FIG. Reference numeral 4 is a lead pattern forming region in the etching process, and in this embodiment, inner leads, pads, support bars, and tie bars are formed by etching.

【0012】5は間隔をおいて設けた撮像装置例えばカ
メラ5−1、5−2で、間欠搬送されるリードフレーム
材1の両端のガイドホール3−1、3−2を撮像し、そ
の画像信号を画像処理部5Aに入力し画像位置の差から
送り長さを測定する。カメラ5−1、5−2はリードフ
レーム材1の間欠搬送の長さが例えば単位リードフレー
ム6の3個分である場合には、間欠搬送長さ内の両端の
ガイドホール3−1、3−2を撮像ガイドホールとして
それぞれ視野内に置くように所定間隔をおいて配設され
ている。
Reference numeral 5 is an image pickup device such as cameras 5-1 and 5-2 provided at intervals, and images the guide holes 3-1 and 3-2 at both ends of the lead frame material 1 which is intermittently conveyed, and the images thereof are shown. The signal is input to the image processing unit 5A and the feed length is measured from the difference in image position. When the length of intermittent conveyance of the lead frame material 1 is, for example, three unit lead frames 6, the cameras 5-1 and 5-2 have guide holes 3-1 and 3 at both ends within the intermittent conveyance length. -2 as imaging guide holes are arranged at predetermined intervals so as to be placed in the visual field.

【0013】7は送り制御装置で、前記画像処理部5A
から間欠搬送されたリードフレーム材1の送り長さ信号
が入力され別途入力されたマスク基準の位置に、間欠搬
送するリードフレーム材1の撮像ガイドホール3−1、
3−2を合わせる送り信号を出力する。
Reference numeral 7 denotes a feed control device, which is the image processing unit 5A.
From the feed length signal of the lead frame material 1 intermittently conveyed from the image pickup guide hole 3-1 of the lead frame material 1 which is intermittently conveyed to a mask reference position separately input.
Output a feed signal to align 3-2.

【0014】8は残りのリードパターン焼付装置で、前
記カメラ5−1、5−2から例えば間欠搬送長さの整数
倍の後方に設けられていて、この実施例では図3に示す
ようなインナーリード9、パッド10、サポートバー1
1のパターンをリードフレーム材1に貼付されたフォト
レジストフイルム(図示しない)に焼付ける。12はリ
ードパターン焼付装置8の視野内に予め配置されたマス
ク基準で、送りの際に前記撮像ガイドホール3−1、3
−2を合わせる基準である。
Reference numeral 8 denotes the remaining lead pattern printing apparatus, which is provided behind the cameras 5-1 and 5-2, for example, an integral multiple of the intermittent transport length. In this embodiment, the inner pattern as shown in FIG. Lead 9, pad 10, support bar 1
The pattern No. 1 is printed on a photoresist film (not shown) attached to the lead frame material 1. Reference numeral 12 is a mask reference previously arranged in the field of view of the lead pattern printing apparatus 8, and the imaging guide holes 3-1 and 3 are provided at the time of feeding.
-2 is the standard for matching.

【0015】13はパターン撮像装置で、前記リードパ
ターン焼付け装置8から予め定めた所定の後方、例えば
単位リードフレーム6長さの整数倍の後方に設けられ、
焼付けたリードパターンとプレスで形成されたリードパ
ターンの接合部、例えばインナーリード9とアウターリ
ード2の接合部を撮像し、前記画像処理部5Aで両者の
整合度合いを検出しその差信号を出力する。該差信号は
前記送り制御装置7にフィードバックし、整合度合いの
差がなくなるようにリードフレーム材1の送りを補正す
る。
A pattern imaging device 13 is provided behind the lead pattern printing device 8 in a predetermined predetermined position, for example, in the rear of an integral multiple of the length of the unit lead frame 6,
An image of the joint between the baked lead pattern and the lead pattern formed by pressing, for example, the joint between the inner lead 9 and the outer lead 2, is imaged, the degree of matching between the two is detected by the image processing unit 5A, and the difference signal is output. . The difference signal is fed back to the feed control device 7, and the feed of the lead frame material 1 is corrected so that there is no difference in the degree of alignment.

【0016】14はリードフレーム材1の搬送装置で、
グリップ15が間隔をおいて設けられ、こ連結部材16
で接続されている。17は搬送駆動装置で例えばサーボ
モータであり、前記送り制御装置7からの信号によりリ
ードフレーム材1を搬送する。なお、18は搬送ロール
である。
Reference numeral 14 is a conveying device for the lead frame material 1,
Grips 15 are provided at intervals, and this connecting member 16
Connected by. Reference numeral 17 denotes a conveyance driving device, which is, for example, a servo motor, and conveys the lead frame material 1 according to a signal from the feed control device 7. In addition, 18 is a conveyance roll.

【0017】装置構成は前述のようであり、次に方法に
ついて作用とともに述べる。カメラ5−1、5−2で撮
像したリードフレーム材1の撮像ガイドホール3−1、
3−2の画像位置の差から、間欠搬送した長さを画像処
理部5Aで順次加算して求める。
The apparatus configuration is as described above. Next, the method will be described together with the operation. Imaging guide hole 3-1 of the lead frame material 1 captured by the cameras 5-1 and 5-2,
From the image position difference 3-2, the length of intermittent conveyance is sequentially added by the image processing unit 5A to obtain the length.

【0018】リードフレーム材1を所定回数間欠搬送す
ると前記撮像ガイドホール3−1が予め所定後方に配置
しているマスク基準12に一致したと見做してリードパ
ターンを焼付ける。
When the lead frame material 1 is intermittently conveyed a predetermined number of times, the lead pattern is printed on the assumption that the image pickup guide hole 3-1 coincides with the mask reference 12 which is arranged in the predetermined rear side in advance.

【0019】このようにした焼付けでは、先に形成した
アウターリード2との整合が不適になることがあり、例
えば160ピン以上のリードフレームではリードの幅、
ピッチがともに微細となるから問題である。整合度合い
の不良はガイドホール3の穿設間隔をミクロンオーダー
でみた場合に誤差が存在すること、搬送時の送り誤差等
により生じる。本発明はかかる整合不良を早い時点で検
出しなくすように、リードパターン焼付け装置8の後方
に設けたパターン撮像装置13で、リードパターンの接
合部を撮像しアウターリード2とインナーリード9の整
合度合いの差例えばズレ量を撮像画像から図5に示すよ
うにアウターリードのズレa、インナーリードのズレb
を検出し、整合度合いズレ量xを(a+b)/2として
算出し、該ズレ量をなくすようにリードフレーム材1の
送りを補正する。
In such baking, the alignment with the outer leads 2 previously formed may be unsuitable. For example, in a lead frame having 160 pins or more, the lead width,
This is a problem because both pitches are fine. The poor degree of alignment is caused by the existence of an error when the guide hole 3 is pierced at a micron order, a feed error during conveyance, and the like. In order to prevent such misalignment from being detected at an early stage, the present invention uses a pattern imaging device 13 provided behind the lead pattern printing device 8 to image the joint portion of the lead pattern and measure the degree of alignment between the outer lead 2 and the inner lead 9. The difference, for example, the amount of deviation from the picked-up image as shown in FIG.
Is detected and the alignment degree deviation amount x is calculated as (a + b) / 2, and the feed of the lead frame material 1 is corrected so as to eliminate the deviation amount.

【0020】前記送り補正を加えて間欠搬送しリードパ
ターンを焼付ける。これによりインナーリード9、パッ
ド10、サポートバー11のリードパターンが、プレス
で先に形成されたアウターリード2ときっちり整合して
焼付けられる。
In addition to the above-mentioned feed correction, intermittent conveyance is performed and the lead pattern is printed. As a result, the lead patterns of the inner leads 9, the pads 10 and the support bars 11 are printed in alignment with the outer leads 2 previously formed by pressing.

【0021】その後、現像処理を施し、リードパターン
を介して感光した領域以外のフォトレジストフイルムを
除去してエッチング用マスクを作り、エッチング液を噴
射して食刻させ前記インナーリード9、パッド10、サ
ポートバー11およびタイバー19を形成しリードフレ
ームの全パターンができる。
After that, a developing process is performed to remove the photoresist film other than the exposed area through the lead pattern to form an etching mask, and an etching solution is sprayed to etch the inner lead 9, the pad 10, The support bar 11 and the tie bar 19 are formed to form the entire pattern of the lead frame.

【0022】前記両パターンの整合度台いの差は前記実
施例の方法に限らず、例えば基準パターンを画像処理部
5Aに記憶させ、これとのマッチング方式等の画像処理
が採用できる。
The difference between the matching patterns of the two patterns is not limited to the method of the above-described embodiment, and, for example, a reference pattern may be stored in the image processing section 5A and image processing such as a matching method may be employed.

【0023】[0023]

【発明の効果】本発明では前述のようにしてプレスでリ
ードパターンの1部を形成したリードフレーム材に、残
りのリードパターンをエッチングで形成するにあたっ
て、焼付け位置決めするので、両パターンは高精度にて
整合する。また、無人運転による生産においても常時、
画像処理によって焼付けたリードパターンの整合度合い
をキャッチしていて、その整合状態が劣化しかけても直
に補正するので仕損が発生しない。さらにこの機能によ
って形状の違う他製品への段取り替え作業時にも初期位
置決めが簡単になり短時間で行える等の作用効果があ
る。
As described above, according to the present invention, when the remaining lead patterns are formed by etching on the lead frame material on which a part of the lead patterns has been formed by pressing as described above, baking positioning is performed, so that both patterns are highly accurate. To match. Moreover, even during unmanned production,
The degree of alignment of the printed lead pattern is caught by image processing, and even if the alignment state deteriorates, the correction is directly performed, so that no damage occurs. Furthermore, this function has the effect that the initial positioning becomes simple and can be performed in a short time even when the setup work is changed to another product having a different shape.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の1実施例をにおける装置構成を示す
図。
FIG. 1 is a diagram showing a device configuration according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の1実施例においてプレスで形成された
リードパターンを示す図。
FIG. 2 is a diagram showing a lead pattern formed by pressing in one example of the present invention.

【図3】本発明の1実施例でのエッチングに際しての焼
付けリードパターンを示す図。
FIG. 3 is a diagram showing a baked lead pattern during etching in one example of the present invention.

【図4】本発明の1実施例にてリードパターンが完成し
たリードフレームを示す図。
FIG. 4 is a diagram showing a lead frame having a completed lead pattern according to an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 リードフレーム材 2 アウターリード 3 ガイドホール 4 リードパターン形成領域 5 撮像装置 5A 画像処理部 6 単位リードフレーム 7 送り制御装置 8 リードパターン焼付け装置 9 インナーリード 10 パッド 11 サポートバー 12 マスク基準 13 パターン撮像装置 14 搬送装置 15 グリップ 16 連結材 17 搬送駆動装置 18 搬送ロール 19 タイバー 1 Lead Frame Material 2 Outer Lead 3 Guide Hole 4 Lead Pattern Forming Area 5 Imaging Device 5A Image Processing Unit 6 Unit Lead Frame 7 Feed Control Device 8 Lead Pattern Burning Device 9 Inner Lead 10 Pad 11 Support Bar 12 Mask Reference 13 Pattern Imaging Device 14 carrier device 15 grip 16 connecting material 17 carrier drive device 18 carrier roll 19 tie bar

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成5年11月26日[Submission date] November 26, 1993

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】図5[Name of item to be corrected] Figure 5

【補正方法】追加[Correction method] Added

【補正内容】[Correction content]

【図5】 アウターリードとインナーリードの整合度合
いズレ量を説明するための図。
FIG. 5 is a diagram for explaining the amount of misalignment between the outer lead and the inner lead.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 プレスでリードパターンの1部を形成
し、エッチングで残りのリードパターンを形成するリー
ドフレームの製造方法において、前記リードパターンの
1部が形成されたリードフレーム材を単位リードフレー
ムの所定数倍の長さで間欠搬送し、該間欠搬送したガイ
ドホール間の長さを測定し、その測長値を計数加算して
送り長さを算出し、通板ラインの後方の予め定めた位置
に配したマスク基準にガイドホールを合わせる送りをし
てリードパターンを焼付け、該焼付け位置から予め定め
た後方で前記焼付けたリードパターンと先にプレスで形
成したリードパターンの接合部を撮像しその整合度合い
の差を測定し、該差をなくすように前記送りを補正し、
焼付けエッチングすることを特徴とするリードフレーム
の製造方法。
1. A method of manufacturing a lead frame in which a part of a lead pattern is formed by pressing and the remaining lead pattern is formed by etching. Intermittently conveyed at a length of a predetermined number of times, measure the length between the guide holes that have been intermittently conveyed, count and add the measured lengths to calculate the feed length, and set a predetermined value behind the threading line. The lead pattern is baked by feeding the guide hole in accordance with the mask reference arranged at the position, and the junction between the baked lead pattern and the lead pattern previously formed by the press is imaged at a predetermined rear from the baking position and its image is taken. Measure the difference in the degree of matching, correct the feed to eliminate the difference,
A method for manufacturing a lead frame, which comprises baking and etching.
【請求項2】 プレスでリードパターンの1部を形成
し、エッチングで残りのリードパターンを形成するリー
ドフレームの製造装置において、通板ラインに単位リー
ドフレーム長さの所定数倍の間隔をおいて設けられ間欠
搬送されたリードフレーム材の両端ガイドホールを撮像
する装置と、該撮像装置の画像信号から間欠搬送した送
り長さ信号を出力する画像処理部と、前記送り長さ信号
を入力し予め配したマスク基準の位置に撮像ガイドホー
ルを合せる送り信号を出力する送り制御装置と、通板ラ
イン後方に予め定めた距離をおいて設けたリードパター
ン焼付装置と、焼付けたリードパターンと先に形成した
リードパターンの接合部を撮像する装置と、接合部の画
像を入力し整合度合いの差信号を出力する画像処理部
と、該差信号を前記送り制御装置にフィードバックしそ
の差をなくすように送り補正を行うようにしたリードフ
レームの製造装置。
2. A lead frame manufacturing apparatus in which a part of a lead pattern is formed by pressing and the remaining lead pattern is formed by etching. An apparatus for imaging the guide holes at both ends of the lead frame material that is intermittently conveyed and provided, an image processing unit that outputs an intermittently conveyed feed length signal from an image signal of the imaging apparatus, and the feed length signal is input in advance. A feed control device that outputs a feed signal that aligns the imaging guide hole with the arranged mask reference position, a lead pattern printing device that is provided at a predetermined distance behind the plate passing line, and a burned lead pattern is formed first. A device for picking up an image of the bonded portion of the lead pattern, an image processing unit for inputting an image of the bonded portion and outputting a difference signal of the degree of matching, and sending the difference signal. A lead frame manufacturing device that feeds back to a control device and performs feed correction so as to eliminate the difference.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100506801B1 (en) * 1998-05-26 2005-11-03 삼성전자주식회사 Leadframe supply apparatus discriminating leadframes
JP2007012987A (en) * 2005-07-01 2007-01-18 Shinko Electric Ind Co Ltd Manufacturing method for etching lead frame, and cutting apparatus using same
CN100431119C (en) * 2004-04-30 2008-11-05 新光电气工业株式会社 Manufacturing method of lead frame

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