JPH06185574A - 振動減衰装置 - Google Patents
振動減衰装置Info
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- JPH06185574A JPH06185574A JP34014492A JP34014492A JPH06185574A JP H06185574 A JPH06185574 A JP H06185574A JP 34014492 A JP34014492 A JP 34014492A JP 34014492 A JP34014492 A JP 34014492A JP H06185574 A JPH06185574 A JP H06185574A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- orifice
- vibration damping
- liquid crystal
- damper
- damping device
- Prior art date
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/709—Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation
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- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
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- Toxicology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Vibration Prevention Devices (AREA)
- Fluid-Damping Devices (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】応答性が高くかつ最適な振動減衰効果を安定し
て付与させる。 【構成】下板１６および上板１７との間に積層される複
数の中板１９と、中板１９に形成される円柱部１９ａ
と、円柱部１９ａの上面と上板１７および中板１９との
間に形成されるダンパ室２７と、円柱部１９ａの側部に
形成される排液室３０と、ダンパ室２７と排液室３０を
連通するオリフィス２９と、オリフィス２９を挟むよう
にして円柱部１９ａと上板１７および中板１９に形成さ
れる一対の電極３２、３３と、ダンパ室２７から排液室
３０に循環される液晶とを有し、振動状態に応じて電極
３２、３３への印加電圧を制御し、オリフィス２９を通
過する液晶の粘性を制御する。
て付与させる。 【構成】下板１６および上板１７との間に積層される複
数の中板１９と、中板１９に形成される円柱部１９ａ
と、円柱部１９ａの上面と上板１７および中板１９との
間に形成されるダンパ室２７と、円柱部１９ａの側部に
形成される排液室３０と、ダンパ室２７と排液室３０を
連通するオリフィス２９と、オリフィス２９を挟むよう
にして円柱部１９ａと上板１７および中板１９に形成さ
れる一対の電極３２、３３と、ダンパ室２７から排液室
３０に循環される液晶とを有し、振動状態に応じて電極
３２、３３への印加電圧を制御し、オリフィス２９を通
過する液晶の粘性を制御する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造装置、精密
測定装置、手術台、コンピュータ室、免震ビル、車両等
の装置或いは構造物に適用され、振動系の振動を減衰さ
せるための振動減衰装置に関する。
測定装置、手術台、コンピュータ室、免震ビル、車両等
の装置或いは構造物に適用され、振動系の振動を減衰さ
せるための振動減衰装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、電気粘性流体を用いた振動減衰装
置が特開平４−１９１５４３号公報により提案されてい
る。これを図３および図４により説明する。
置が特開平４−１９１５４３号公報により提案されてい
る。これを図３および図４により説明する。
【０００３】図３において、１は質量Ｍとバネ２で表示
される振動体であり、半導体製造装置、精密測定装置、
手術台、コンピュータ室、免震ビル、車両等の装置或い
は構造物を示している。振動体１は防振床３に設置さ
れ、防振床３と固定床４との間に振動減衰装置５が配設
される。この振動減衰装置５は、質量ｍを有する装置本
体６をダンパ７とバネ８により支持する構成にされてい
る。そして、ダンパ７の減衰係数ｃとバネ８のバネ定数
ｋを適度に定めることにより、振動体１の振動状態を減
衰比
される振動体であり、半導体製造装置、精密測定装置、
手術台、コンピュータ室、免震ビル、車両等の装置或い
は構造物を示している。振動体１は防振床３に設置さ
れ、防振床３と固定床４との間に振動減衰装置５が配設
される。この振動減衰装置５は、質量ｍを有する装置本
体６をダンパ７とバネ８により支持する構成にされてい
る。そして、ダンパ７の減衰係数ｃとバネ８のバネ定数
ｋを適度に定めることにより、振動体１の振動状態を減
衰比
【０００４】
【数１】
【０００５】にて適宜減衰可能とするものである。ま
た、図４に示す振動減衰装置１は、装置本体６をダンパ
７のみにより支持する構成となっている。
た、図４に示す振動減衰装置１は、装置本体６をダンパ
７のみにより支持する構成となっている。
【０００６】振動減衰装置５内には、電気粘性流体が充
填されており、オリフィスを通過する電気粘性流体への
印加電圧を制御することにより、振動減衰特性を制御す
る。すなわち、振動体１の振動数を振動数検出器９によ
り検出し、この信号を制御装置１０の入出力部１１に送
る。ＲＯＭ１２には、振動数に対して制御すべき減衰比
ξがテーブル、関数式等により記憶されており、ＣＰＵ
１４は、検出した振動数に対して設定すべき減衰比ξを
演算するとともに、この減衰比ξを達成するのに必要な
振動減衰装置５の減衰係数ｃを演算し、さらに、この減
衰係数ｃを実現するのに必要な印加電圧Ｖを演算し、電
圧供給装置１５に出力するようにしている。
填されており、オリフィスを通過する電気粘性流体への
印加電圧を制御することにより、振動減衰特性を制御す
る。すなわち、振動体１の振動数を振動数検出器９によ
り検出し、この信号を制御装置１０の入出力部１１に送
る。ＲＯＭ１２には、振動数に対して制御すべき減衰比
ξがテーブル、関数式等により記憶されており、ＣＰＵ
１４は、検出した振動数に対して設定すべき減衰比ξを
演算するとともに、この減衰比ξを達成するのに必要な
振動減衰装置５の減衰係数ｃを演算し、さらに、この減
衰係数ｃを実現するのに必要な印加電圧Ｖを演算し、電
圧供給装置１５に出力するようにしている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記電
気粘性流体を用いる振動減衰装置においては、電気粘性
流体のオリフィス通過時に目詰まりが生じたり、高電圧
印加により流体のゲル化が起こりオリフィスが閉塞する
という問題を有している。また、長時間運転しない場合
には固体粒子の沈降が生じたり、温度変化に伴う電気粘
性特性の変化が大きいという問題を有している。
気粘性流体を用いる振動減衰装置においては、電気粘性
流体のオリフィス通過時に目詰まりが生じたり、高電圧
印加により流体のゲル化が起こりオリフィスが閉塞する
という問題を有している。また、長時間運転しない場合
には固体粒子の沈降が生じたり、温度変化に伴う電気粘
性特性の変化が大きいという問題を有している。
【０００８】本発明は、上記問題を解決するものであっ
て、オリフィスの閉塞が生じることなく、応答性が高く
かつ最適な振動減衰効果を安定して付与させることがで
きる振動減衰装置を提供することを目的とする。
て、オリフィスの閉塞が生じることなく、応答性が高く
かつ最適な振動減衰効果を安定して付与させることがで
きる振動減衰装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】そのために本発明の振動
減衰装置は、下板１６および上板１７との間に積層され
る複数の中板１９と、中板１９に形成される円柱部１９
ａと、円柱部１９ａの上面と上板１７および中板１９と
の間に形成されるダンパ室２７と、円柱部１９ａの側部
に形成される排液室３０と、ダンパ室２７と排液室３０
を連通するオリフィス２９と、オリフィス２９を挟むよ
うにして円柱部１９ａと上板１７および中板１９に形成
される一対の電極３２、３３と、ダンパ室２７から排液
室３０に循環される液晶とを有し、振動状態に応じて電
極３２、３３への印加電圧を制御し、オリフィス２９を
通過する液晶の粘性を制御することを特徴とする。な
お、上記構成に付加した番号は、理解を容易にするため
に図面と対比させるためのもので、これにより本発明の
構成が限定されるものではない。
減衰装置は、下板１６および上板１７との間に積層され
る複数の中板１９と、中板１９に形成される円柱部１９
ａと、円柱部１９ａの上面と上板１７および中板１９と
の間に形成されるダンパ室２７と、円柱部１９ａの側部
に形成される排液室３０と、ダンパ室２７と排液室３０
を連通するオリフィス２９と、オリフィス２９を挟むよ
うにして円柱部１９ａと上板１７および中板１９に形成
される一対の電極３２、３３と、ダンパ室２７から排液
室３０に循環される液晶とを有し、振動状態に応じて電
極３２、３３への印加電圧を制御し、オリフィス２９を
通過する液晶の粘性を制御することを特徴とする。な
お、上記構成に付加した番号は、理解を容易にするため
に図面と対比させるためのもので、これにより本発明の
構成が限定されるものではない。
【００１０】本発明で使用する液晶は、市販品を使用す
ればよく、例えばアゾ系、アゾキシ系、安息香酸フェニ
ルエステル系、シアノビフェニル系、シアノターフェニ
ル系、シクロヘキシルカルボン酸フェニルエステル系、
フェニルシクロヘキサン系、ビフェニルシクロヘキサン
系、フェニルピリミジン系、フェニルジオキサン系、シ
クロヘキシルシクロヘキサンエステル系、シクロヘキシ
ルエタン系、シクロヘキセン系、アルキルアルコキシト
ラン系、アルケニル系、２，３−ジフルオロフェニレン
系、シクロヘキシルシクロヘキサン系、ビシクロオクタ
ン系、キューバン系、ジシアノハイドロキノン系、シア
ノチオフェニルエステル系、アゾメチン系等の液晶を使
用することができる。
ればよく、例えばアゾ系、アゾキシ系、安息香酸フェニ
ルエステル系、シアノビフェニル系、シアノターフェニ
ル系、シクロヘキシルカルボン酸フェニルエステル系、
フェニルシクロヘキサン系、ビフェニルシクロヘキサン
系、フェニルピリミジン系、フェニルジオキサン系、シ
クロヘキシルシクロヘキサンエステル系、シクロヘキシ
ルエタン系、シクロヘキセン系、アルキルアルコキシト
ラン系、アルケニル系、２，３−ジフルオロフェニレン
系、シクロヘキシルシクロヘキサン系、ビシクロオクタ
ン系、キューバン系、ジシアノハイドロキノン系、シア
ノチオフェニルエステル系、アゾメチン系等の液晶を使
用することができる。
【００１１】ただし、アゾメチン系のものは、安定性、
増粘効果が小さいためあまり好ましくない。また、必要
に応じて酸化防止剤、摩耗防止剤、腐食防止剤、摩擦調
整剤等の添加剤を配合してもよい。上記液晶は単独でも
また混合して使用してもよい。好ましくは液晶特性を向
上させるために各種液晶物質は混合して使用される。具
体的な液晶の実施例としては、商品名ＲＤＸ−４０６９
（ロディック社製）の液晶を用いた。
増粘効果が小さいためあまり好ましくない。また、必要
に応じて酸化防止剤、摩耗防止剤、腐食防止剤、摩擦調
整剤等の添加剤を配合してもよい。上記液晶は単独でも
また混合して使用してもよい。好ましくは液晶特性を向
上させるために各種液晶物質は混合して使用される。具
体的な液晶の実施例としては、商品名ＲＤＸ−４０６９
（ロディック社製）の液晶を用いた。
【００１２】
【作用】本発明においては、ダンパ部の電極間に電圧を
印加するとオリフィスにおける液晶の流れに直交する電
界を形成することとなり、電極間に挟まれる液晶分子の
方向や配列等の状態を変化させ、液晶の粘度を増減させ
ることになり、結果としてオリフィスにおける流体の絞
り抵抗が調整せしめられる。
印加するとオリフィスにおける液晶の流れに直交する電
界を形成することとなり、電極間に挟まれる液晶分子の
方向や配列等の状態を変化させ、液晶の粘度を増減させ
ることになり、結果としてオリフィスにおける流体の絞
り抵抗が調整せしめられる。
【００１３】
【実施例】以下本発明の実施例を図面を参照しつつ説明
する。図１および図２は本発明の振動減衰装置の１実施
例を示し、図１（Ａ）は縦断面図、図１（Ｂ）は図１
（Ａ）におけるＢ部の拡大断面図、図２は図１（Ａ）に
おいてＸ−Ｘ線に沿って矢印方向に見た断面図である。
する。図１および図２は本発明の振動減衰装置の１実施
例を示し、図１（Ａ）は縦断面図、図１（Ｂ）は図１
（Ａ）におけるＢ部の拡大断面図、図２は図１（Ａ）に
おいてＸ−Ｘ線に沿って矢印方向に見た断面図である。
【００１４】本実施例は、図３で説明したダンパ７とバ
ネ８を備える振動減衰装置５の構造を示し、下板１６、
上板１７および下板１６と上板１７との間に積層される
複数の中板１９とを備えている。下板１６には円柱部１
６ａおよび後述する排液室３０内の液晶を排出するため
の排液路２０が形成され、上板１７には後述するダンパ
室２７に液晶を供給するための供給路２１が形成され、
排液路２０と供給路２１は循環ポンプ２２を有する接続
管２３により接続されている。
ネ８を備える振動減衰装置５の構造を示し、下板１６、
上板１７および下板１６と上板１７との間に積層される
複数の中板１９とを備えている。下板１６には円柱部１
６ａおよび後述する排液室３０内の液晶を排出するため
の排液路２０が形成され、上板１７には後述するダンパ
室２７に液晶を供給するための供給路２１が形成され、
排液路２０と供給路２１は循環ポンプ２２を有する接続
管２３により接続されている。
【００１５】中板１９は、中央部に形成される円柱部１
９ａと、中心部を貫通するように形成される連通路２５
と、円柱部１９ａの外側を貫通するように形成される複
数の連通路２６とを備え、下板１６、中板１９および上
板１７の間には、リング状ゴム体等からなるバネ８が装
着される。バネ８の厚みは、中板１９および下板１６の
円柱部１９ａ、１６ａの高さより大となるように、か
つ、円柱部１９ａ、１６ａと間隔を設けて装着される。
この構成により、下板１６、中板１９および上板１７の
間には、それぞれダンパ室２７が形成されるとともに、
円柱部１９ａ、１６ａの上面外周部で下板１６、中板１
９および上板１７の間にはオリフィス２９が形成され、
さらに、円柱部１９ａ、１６ａの側部とバネ８との間に
排液室３０が形成され、図３のダンパに相当するダンパ
部７ａが形成される。
９ａと、中心部を貫通するように形成される連通路２５
と、円柱部１９ａの外側を貫通するように形成される複
数の連通路２６とを備え、下板１６、中板１９および上
板１７の間には、リング状ゴム体等からなるバネ８が装
着される。バネ８の厚みは、中板１９および下板１６の
円柱部１９ａ、１６ａの高さより大となるように、か
つ、円柱部１９ａ、１６ａと間隔を設けて装着される。
この構成により、下板１６、中板１９および上板１７の
間には、それぞれダンパ室２７が形成されるとともに、
円柱部１９ａ、１６ａの上面外周部で下板１６、中板１
９および上板１７の間にはオリフィス２９が形成され、
さらに、円柱部１９ａ、１６ａの側部とバネ８との間に
排液室３０が形成され、図３のダンパに相当するダンパ
部７ａが形成される。
【００１６】ダンパ室２７と排液室３０を連通するオリ
フィス２９を挟むようにして電気絶縁体３１を介して一
対のリング状の電極３２、３３が形成される。そして、
振動減衰装置５の内部には液晶が充填され、液晶が循環
ポンプ２２、接続管２３、供給路２１、連通路２５、各
ダンパ室２７、各オリフィス２９、各排液室３０、各連
通路２６および排液路２０を経て循環するように構成さ
れる。
フィス２９を挟むようにして電気絶縁体３１を介して一
対のリング状の電極３２、３３が形成される。そして、
振動減衰装置５の内部には液晶が充填され、液晶が循環
ポンプ２２、接続管２３、供給路２１、連通路２５、各
ダンパ室２７、各オリフィス２９、各排液室３０、各連
通路２６および排液路２０を経て循環するように構成さ
れる。
【００１７】上記構成からなる本発明の制御方法につい
て説明する。本発明においては、オリフィス２９を通過
する液晶への印加電圧を制御することにより、振動減衰
特性を制御する。すなわち、図３に示すように、振動体
１の振動数を振動数検出器９により検出し、この信号を
制御装置１０の入出力部１１に送る。ＲＯＭ１２には、
振動数に対して制御すべき減衰比ξをテーブル、関数式
等により記憶されており、ＣＰＵ１４は、検出した振動
数に対して設定すべき減衰比ξを演算するとともに、こ
の減衰比ξを達成するのに必要な振動減衰装置５の減衰
係数ｃを演算し、さらに、この減衰係数ｃを実現するの
に必要な印加電圧Ｖを演算し、電圧供給装置１５から電
極３２、３３に出力する。
て説明する。本発明においては、オリフィス２９を通過
する液晶への印加電圧を制御することにより、振動減衰
特性を制御する。すなわち、図３に示すように、振動体
１の振動数を振動数検出器９により検出し、この信号を
制御装置１０の入出力部１１に送る。ＲＯＭ１２には、
振動数に対して制御すべき減衰比ξをテーブル、関数式
等により記憶されており、ＣＰＵ１４は、検出した振動
数に対して設定すべき減衰比ξを演算するとともに、こ
の減衰比ξを達成するのに必要な振動減衰装置５の減衰
係数ｃを演算し、さらに、この減衰係数ｃを実現するの
に必要な印加電圧Ｖを演算し、電圧供給装置１５から電
極３２、３３に出力する。
【００１８】以上のようにして、振動検出器９により振
動状態を検出し、振動体１の振動状態が変化するのに応
じて連続的にダンパ７の減衰係数、ひいては振動減衰装
置５の減衰比を調整し、振動体１に、応答性が高くかつ
最適な振動減衰効果を安定して付与させることができ
る。
動状態を検出し、振動体１の振動状態が変化するのに応
じて連続的にダンパ７の減衰係数、ひいては振動減衰装
置５の減衰比を調整し、振動体１に、応答性が高くかつ
最適な振動減衰効果を安定して付与させることができ
る。
【００１９】次に、上記構成からなるダンパ７の作用に
ついて説明する。電極３２、３３間に電圧を印加すると
オリフィス２９をダンパ室２７から排液室３０に向かう
液晶の流れもしくはその逆向きの液晶の流れに直交する
電界を形成することとなり、両電極３２、３３間に挟ま
れる液晶分子の方向や配列等の状態が変化し、液晶の粘
度を増減させることになる。従って、オリフィス２９を
通過する流体の粘度が制御され、結果としてオリフィス
２９における流体の絞り抵抗が調整せしめられる。
ついて説明する。電極３２、３３間に電圧を印加すると
オリフィス２９をダンパ室２７から排液室３０に向かう
液晶の流れもしくはその逆向きの液晶の流れに直交する
電界を形成することとなり、両電極３２、３３間に挟ま
れる液晶分子の方向や配列等の状態が変化し、液晶の粘
度を増減させることになる。従って、オリフィス２９を
通過する流体の粘度が制御され、結果としてオリフィス
２９における流体の絞り抵抗が調整せしめられる。
【００２０】なお、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、本発明の属する技術分野における通常の知
識を有する者にとって種々の変更が可能である。例え
ば、上記実施例においては、バネ８を装着させている
が、バネ８の代わりに蛇腹部材等の伸縮部材を装着する
ようにしてもよい。この場合は、図４で説明した振動減
衰装置の構成となる。
のではなく、本発明の属する技術分野における通常の知
識を有する者にとって種々の変更が可能である。例え
ば、上記実施例においては、バネ８を装着させている
が、バネ８の代わりに蛇腹部材等の伸縮部材を装着する
ようにしてもよい。この場合は、図４で説明した振動減
衰装置の構成となる。
【００２１】
【発明の効果】以上の説明から明かなように本発明によ
れば、振動体の振動状態が変化するのに応じて連続的に
ダンパの減衰係数を調整することにより、応答性が高く
かつ最適な振動減衰効果を安定して付与させることがで
きる。また、電気粘性流体を用いた従来の装置と比較し
て、下記の効果を奏することができる。
れば、振動体の振動状態が変化するのに応じて連続的に
ダンパの減衰係数を調整することにより、応答性が高く
かつ最適な振動減衰効果を安定して付与させることがで
きる。また、電気粘性流体を用いた従来の装置と比較し
て、下記の効果を奏することができる。
【００２２】 印加電圧が小さいため、放電などによ
る局部的損傷が減少し装置の寿命が延びるとともに、電
極の間隔を狭くすることができ装置の小型化を図ること
ができ、また、電源として電池の使用も可能となる。
る局部的損傷が減少し装置の寿命が延びるとともに、電
極の間隔を狭くすることができ装置の小型化を図ること
ができ、また、電源として電池の使用も可能となる。
【００２３】 固体粒子等の沈降の心配がないため、
増粘効果等の低下、オリフィスの目詰まりがない。
増粘効果等の低下、オリフィスの目詰まりがない。
【００２４】 剪断速度による影響が小さいため制御
が容易である。
が容易である。
【００２５】 劣化しにくい。
【図１】本発明の振動減衰装置の１実施例を示し、図１
（Ａ）は縦断面図、図１（Ｂ）は図１（Ａ）におけるＢ
部の拡大断面図である。
（Ａ）は縦断面図、図１（Ｂ）は図１（Ａ）におけるＢ
部の拡大断面図である。
【図２】図１（Ａ）において、Ｘ−Ｘ線に沿って矢印方
向に見た断面図である。
向に見た断面図である。
【図３】従来の振動減衰装置の１例を説明するための図
である。
である。
【図４】従来の振動減衰装置の１例を説明するための図
である。
である。
１…振動体、３…免震床、４…固定床、５…振動減衰装
置、７…ダンパ ７ａ…ダンパ部、８…バネ、９…振動検出器、１０…制
御装置 １６…下板、１７…上板、１９…中板、１９ａ…円柱
部、２７…ダンパ室 ２９…オリフィス、３０…排液室、３２、３３…電極
置、７…ダンパ ７ａ…ダンパ部、８…バネ、９…振動検出器、１０…制
御装置 １６…下板、１７…上板、１９…中板、１９ａ…円柱
部、２７…ダンパ室 ２９…オリフィス、３０…排液室、３２、３３…電極
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/027 21/68 Ｋ 8418−4Ｍ
Claims (1)
- 【請求項１】下板および上板との間に積層される複数の
中板と、該中板に形成される円柱部と、該円柱部の上面
と前記上板および中板との間に形成されるダンパ室と、
前記円柱部の側部に形成される排液室と、前記ダンパ室
と排液室を連通するオリフィスと、該オリフィスを挟む
ようにして前記円柱部と上板および中板に形成される一
対の電極と、前記ダンパ室から排液室に循環される液晶
とを有し、振動状態に応じて前記電極への印加電圧を制
御し、前記オリフィスを通過する液晶の粘性を制御する
ことを特徴とする振動減衰装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34014492A JPH06185574A (ja) | 1992-12-21 | 1992-12-21 | 振動減衰装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34014492A JPH06185574A (ja) | 1992-12-21 | 1992-12-21 | 振動減衰装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06185574A true JPH06185574A (ja) | 1994-07-05 |
Family
ID=18334151
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34014492A Pending JPH06185574A (ja) | 1992-12-21 | 1992-12-21 | 振動減衰装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06185574A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3843048A1 (de) * | 1987-12-23 | 1989-07-06 | Mitsubishi Electric Corp | Koaxialer anlassermotor |
| DE4117681A1 (de) * | 1990-05-30 | 1991-12-05 | Hitachi Ltd | Startervorrichtung |
-
1992
- 1992-12-21 JP JP34014492A patent/JPH06185574A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3843048A1 (de) * | 1987-12-23 | 1989-07-06 | Mitsubishi Electric Corp | Koaxialer anlassermotor |
| DE4117681A1 (de) * | 1990-05-30 | 1991-12-05 | Hitachi Ltd | Startervorrichtung |
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