JPH06181388A - Manufacture of multilayer ceramic board - Google Patents

Manufacture of multilayer ceramic board

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JPH06181388A
JPH06181388A JP33435292A JP33435292A JPH06181388A JP H06181388 A JPH06181388 A JP H06181388A JP 33435292 A JP33435292 A JP 33435292A JP 33435292 A JP33435292 A JP 33435292A JP H06181388 A JPH06181388 A JP H06181388A
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JP
Japan
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gold
green sheet
chips
sheets
green
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Application number
JP33435292A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiro Yamaguchi
和宏 山口
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Publication of JPH06181388A publication Critical patent/JPH06181388A/en
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Abstract

PURPOSE:To make possible a thinning of a circuit to minimize the number of green sheet layers and to make it possible to make high the bonding strength between the greent sheet layers by a method wherein chips made of gold are force fitted in the green sheets and gold wires are wired. CONSTITUTION:Chips, which are made of gold and have a size of about 100mum, are first force fitted in and are buried in green sheets 11a to 11d, which are sintered at a temperature under 1000 deg.C; at respective prescribed position on the sheets 11a to 11d as via holes. Then, component mounting pads 17 are formed on the sheet 11d using a conductor paste. In three sheets of the sheets 11a to 11c, gold wires 13 of a diameter of several terms Pure are subjected to ultrasonic bonding to the buried chips 12 made of gold and the chips 12 buried in at the prescribed positions are bonded together by these gold wires 13. That is, the gold wires 13 are wired using the chips as relay points to form a necessary circuit pattern. Then, after four sheets of the sheets are laminated in a prescribed order, the whole surface of the laminated material is pressed equally under a temperature of 300 to 350 deg.C to pressure bond the sheets and the laminated material is subjected to firing at temperature of 800 to 1000 deg.C to form a multilayer ceramic board.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、電子部品を実装して
電子回路を構成するための基板として使用される多層セ
ラミック基板の製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a multi-layer ceramic substrate used as a substrate for mounting electronic parts to construct an electronic circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】多層セラミック基板は、数十層もの高多
層化が可能、熱伝導性が高い、熱膨張系数が小さいため
シリコンチップの直接実装に有利、などの理由でコンピ
ュータの実装基板やハイブリッドICの基板として多く
使用されている。セラミック基板は周知のように、セラ
ミック粉末、有機溶剤、バインダー、可塑剤、湿潤剤、
等を混練してスラリーと呼ばれる粘土状にし、ローラー
で成型するなどの方法により所定の厚さの平板シート状
にし、乾燥させたのちに高温で焼成して形成される。こ
こで乾燥までに留めたものがグリーンシートと呼ばれ、
このグリーンシートを積重ねて多層化したものが多層セ
ラミック基板である。セラミックはその組成に様々なも
のがあるが、最も一般的なものは焼成温度が約1500
℃のアルミナセラミックで、多層セラミック基板もこの
アルミナセラミックを材料として作られ始めた。しか
し、焼成温度が非常に高温であるため回路を形成する導
体材料には、この焼成温度以上の融点を有するモリブデ
ンやタングステン等の高融点金属が使用されているが、
これらの高融点金属は電気抵抗が高いため信号ロスが大
きく、回路パターンを細密化できない。また空気焼成で
は酸化してしまうため還元雰囲気炉での焼成が必須であ
って設備が大規模になる。さらにアルミナセラミックは
誘電率が高いため高周波回路には適さない、など製造
面、性能面ともに問題がある。この問題を解決するため
に、アルミナセラミックにガラス、その他の物質を添加
し、組成とその成分比を調整することで1000℃未満
での焼成が可能で、また誘電率も低いセラミック材料が
種々開発されてきた。1000℃未満での焼成が可能と
なって、空気中で焼成を行っても酸化せず、また電気抵
抗が比較的に低い金、銀、等の貴金属類を導体材料とし
て使用することができるようになった。このようにセラ
ミック基板の材料は焼成温度の相違により2種類に大別
され、1500℃の高温で焼成するものを高温焼成セラ
ミック、1000℃未満の温度で焼成するものを低温焼
成セラミックと呼び、区別している。高温焼成多層セラ
ミック基板と低温焼成多層セラミック基板は、セラミッ
ク材料と導体材料が異なるだけで、製造工程、多層化の
方法はほぼ同一である。
2. Description of the Related Art A multilayer ceramic substrate is capable of having a high number of layers of several tens, has high thermal conductivity, and is advantageous for direct mounting of silicon chips due to its small thermal expansion coefficient. It is often used as a substrate for ICs. As is well known, ceramic substrates include ceramic powder, organic solvents, binders, plasticizers, wetting agents,
And the like are kneaded to form a clay called slurry, formed into a flat sheet having a predetermined thickness by a method such as molding with a roller, dried, and then baked at a high temperature. The one that is kept until it is dried is called a green sheet,
A multilayer ceramic substrate is obtained by stacking these green sheets to form a multilayer. Ceramics have various compositions, but the most common one has a firing temperature of about 1500.
A multi-layer ceramic substrate was started to be made from this alumina ceramic as a material. However, since the firing temperature is extremely high, a high melting point metal such as molybdenum or tungsten having a melting point higher than the firing temperature is used for the conductor material forming the circuit.
Since these refractory metals have high electric resistance, signal loss is large and the circuit pattern cannot be made fine. Further, since air oxidization causes oxidation, calcination in a reducing atmosphere furnace is essential and the equipment becomes large-scale. Further, alumina ceramic has a high dielectric constant and is not suitable for high frequency circuits. In order to solve this problem, by adding glass and other substances to alumina ceramics and adjusting the composition and its component ratio, it is possible to fire at temperatures lower than 1000 ° C, and various ceramic materials with low dielectric constant have been developed. It has been. It becomes possible to fire at less than 1000 ° C, so that even if fired in air, it does not oxidize, and precious metals such as gold and silver, which have a relatively low electric resistance, can be used as conductor materials. Became. As described above, the materials of the ceramic substrate are roughly classified into two types according to the difference in firing temperature. One that is fired at a high temperature of 1500 ° C. is called a high temperature fired ceramic, and one that is fired at a temperature of less than 1000 ° C. is called a low temperature fired ceramic. Different. The high-temperature-fired multilayer ceramic substrate and the low-temperature-fired multilayer ceramic substrate are substantially the same in manufacturing process and multilayer method except that the ceramic material and the conductor material are different.

【0003】図12は従来の多層セラミック基板の構造
を示す断面図で、グリーンシート1a,1b,1c,1
dの4枚で4層構造の多層セラミック基板2を構成した
例であり、セラミック材料としては高温焼成用、低温焼
成用のいずれでもよい。ここで多層セラミック基板2は
焼成まで行ったものであれば4枚のグリーンシート1a
〜1dは一体化して層の境界も定かではなくなるのでグ
リーンシートという表現は適切ではないが、構成を説明
する都合上、焼成の前後に係わらずグリーンシートと称
する。グリーンシート1a〜1dにはそれぞれ回路パタ
ーン3a〜3dが形成してあり、グリーンシート1a〜
1cの回路パターン3a〜3cは多層セラミック基板2
の内部にある内層パターンであり、グリーンシート1d
における回路パターン3dは部品取付け用のパッドパタ
ーンを含む。また、グリーンシート1b〜1dの各々は
必要部にバイアホール4b〜4dが設けてあり、グリー
ンシート1a〜1dの回路パターン3a〜3dがこのバ
イアホール4b〜4dを立体的に相互接続され、多層セ
ラミック基板2が全体として1つの回路を構成する。
FIG. 12 is a cross-sectional view showing the structure of a conventional multilayer ceramic substrate. The green sheets 1a, 1b, 1c, 1 are shown in FIG.
This is an example in which the multilayer ceramic substrate 2 having a four-layer structure is constituted by four sheets of d, and the ceramic material may be either one for high temperature firing or one for low temperature firing. If the multilayer ceramic substrate 2 has been fired, four green sheets 1a are used.
The expressions 1d are integrated and the boundaries of the layers are not clear, so the expression "green sheet" is not appropriate, but for convenience of explanation of the structure, they are referred to as green sheets regardless of before and after firing. Circuit patterns 3a to 3d are formed on the green sheets 1a to 1d, respectively.
The circuit patterns 3a to 3c of 1c are the multilayer ceramic substrate 2
The inner layer pattern inside the green sheet 1d
The circuit pattern 3d in FIG. 2 includes a pad pattern for mounting components. Further, each of the green sheets 1b to 1d is provided with via holes 4b to 4d in a necessary portion, and the circuit patterns 3a to 3d of the green sheets 1a to 1d are three-dimensionally interconnected with the via holes 4b to 4d. The ceramic substrate 2 constitutes one circuit as a whole.

【0004】図13は図12に示したものの層構成及び
製造方法を示す斜視図で、グリーンシート1b〜1dは
まずバイアホール4b〜4dのための貫通孔を所定の位
置に金型による打ち抜きやレーザー加工により設ける。
次に導体材料である金属の粉末と有機溶剤などを混練し
てペースト状にした導体ペーストを用いてスクリーン印
刷法によりグリーンシート1a〜1dに各々所要の回路
パターン3a〜3dを形成し、これと同時に、あるいは
別に貫通孔にも導体材料を充填してバイアホール4b〜
4dを形成する。さらに回路パターン3a〜3dとバイ
アホール4b〜4dとの接続を確実にするために、回路
パターン3aではパターンの一部を大きくしたランドパ
ターン5aを、バイアホール4b,4cの周囲にはラン
ドパターン5b,5cを形成する。グリーンシート1d
においては回路パターン3dの一部がランドパターンと
して機能させ得るので特にランドパターンとして設ける
必要はない。ここまでの工程は、4枚のグリーンシート
1a〜1dの各々が別々に行われ、次にこの4枚のグリ
ーンシート1a〜1dを位置を合わせて積重ね、室温〜
100℃の範囲の温度下で全面を均等に加圧し、グリー
ンシート1a〜1dにおいてそれぞれ当接する境界面を
圧着する。その後に焼成すると境界面における化学反
応、結晶化によって融合、一体化した多層セラミック基
板2が仕上がる。
FIG. 13 is a perspective view showing the layer structure and manufacturing method of the one shown in FIG. 12, in which the green sheets 1b to 1d are first punched by a die into the through holes for the via holes 4b to 4d at predetermined positions. Provided by laser processing.
Next, the required circuit patterns 3a to 3d are formed on the green sheets 1a to 1d by the screen printing method by using a conductive paste made by kneading a metal powder as a conductive material and an organic solvent to form a paste. At the same time or separately, the conductive material is also filled in the through holes to form the via holes 4b.
4d is formed. Further, in order to ensure the connection between the circuit patterns 3a to 3d and the via holes 4b to 4d, the circuit pattern 3a is provided with a land pattern 5a having a partly enlarged pattern, and the land pattern 5b is provided around the via holes 4b and 4c. , 5c are formed. Green sheet 1d
In the above, since it is possible for a part of the circuit pattern 3d to function as a land pattern, it is not particularly necessary to provide it as a land pattern. The steps up to this point are performed separately for each of the four green sheets 1a to 1d, and then the four green sheets 1a to 1d are aligned and stacked at room temperature to
The entire surface is uniformly pressed under a temperature in the range of 100 ° C., and the abutting boundary surfaces of the green sheets 1a to 1d are pressed. When fired thereafter, the multilayer ceramic substrate 2 integrated and integrated by chemical reaction and crystallization on the boundary surface is completed.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上記のような従来の多
層セラミック基板2では、バイアホール4b,4cと回
路パターン3a〜3dとの接続を確実にするためにバイ
アホール4b,4cの周囲にバイアホール径の3〜5倍
径のランドパターン5b,5cを形成する必要がある。
またバイアホールがない最下層のグリーンシート1aに
おいても回路パターン3aの一部をランドパターン5a
として形成し、バイアホール4bとの接続パターンとし
なければならない。このランドパターンが回路パターン
の幅よりもはるかに大きいため高密度配線化を困難にし
ており、配線領域を確保するためには層数を増やさざる
を得ず、層数が多いほど製作コストが高くなるという問
題がある。
In the conventional multilayer ceramic substrate 2 as described above, in order to secure the connection between the via holes 4b and 4c and the circuit patterns 3a to 3d, the via holes are formed around the via holes 4b and 4c. It is necessary to form land patterns 5b and 5c having a diameter 3 to 5 times the diameter of the hole.
Further, in the lowermost green sheet 1a having no via hole, a part of the circuit pattern 3a is used as the land pattern 5a.
Must be formed as a connection pattern with the via hole 4b. Since this land pattern is much larger than the width of the circuit pattern, it is difficult to achieve high-density wiring.Therefore, the number of layers must be increased to secure the wiring area, and the higher the number of layers, the higher the manufacturing cost. There is a problem of becoming.

【0006】また、導体ペーストを用いた印刷パターン
であるため、回路パターン3a〜3dにおいてパターン
の欠落やかすれ、にじみが発生するという問題がある。
Further, since the printed pattern uses the conductor paste, there is a problem in that the circuit patterns 3a to 3d have a missing pattern, a blur, or a blur.

【0007】また、前記のようにランドパターンが大き
いことに加えて導体ペーストによる回路パターンは、最
少でも100μm以上の幅があるため、グリーンシート
の面積に対する導体ペーストの塗布面積の比率が高い。
特に電源やグランドのような共通信号源として図13の
グリーンシート1aのように全面に格子状パターンを形
成した場合では導体ペーストの塗布面積の比率が非常に
高く、積層した際にこのグリーンシート1aに重なるグ
リーンシート1bとの境界面におけるセラミック同志の
融合、一体化面積が充分に確保できなくなり、従ってこ
の2枚のグリーンシートの層間の接合強度が弱くなっ
て、熱衝撃または機械的衝撃で層間が剥離したり欠けた
りしやすいという問題がある。
Further, in addition to the large land pattern as described above, the circuit pattern made of the conductor paste has a width of 100 μm or more at the minimum, so that the ratio of the applied area of the conductor paste to the area of the green sheet is high.
In particular, when a grid pattern is formed on the entire surface as a common signal source such as a power source or a ground as in the green sheet 1a of FIG. 13, the ratio of the coating area of the conductor paste is very high, and when the green sheet 1a is laminated, It is impossible to secure a sufficient fusion and integration area of the ceramics at the boundary surface with the green sheet 1b that overlaps with each other, so that the bonding strength between the layers of these two green sheets becomes weak, and the layers are damaged by thermal shock or mechanical shock. There is a problem that it is easy to peel off or chip.

【0008】この発明は、回路の細線化を可能としてグ
リーンシートの層数を最少化し、またグリーンシートの
層間の接合強度が高い多層セラミック基板を得ることを
目的とする。
It is an object of the present invention to obtain a multilayer ceramic substrate which enables a finer circuit and minimizes the number of layers of green sheets and has a high bonding strength between the layers of the green sheets.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】この発明は、焼結温度が
1000℃未満の低温焼成用グリーンシートを用い、こ
のグリーンシートにバイアホールとして大きさ100μ
m前後の金製チップを圧入して埋め込み、この金製チッ
プに直径数十μmの金線熱超音波接合法により接合し、
所定の位置にある金製チップ間を金線で接続して金製チ
ップを中継点とする回路を布線するものである。
According to the present invention, a low-temperature firing green sheet having a sintering temperature of less than 1000 ° C. is used, and a via hole having a size of 100 μm is used.
About 10 m of a gold chip is press-fitted and embedded, and the gold chip is bonded by a gold wire thermosonic bonding method with a diameter of several tens of μm.
The gold chips at predetermined positions are connected by a gold wire to wire a circuit using the gold chips as relay points.

【0010】また、積層の際に、1枚のグリーンシート
にバイアホールとして埋め込まれた金製チップまたは金
製チップに布線された金線と、このグリーンシートの
上、または下に位置するグリーンシートに埋め込まれた
金製チップあるいは金製チップに布線された金線とを3
00〜350℃の温度下で加圧して熱圧着接合し、金製
チップのバイアホールを介した立体回路を形成するもの
である。
In addition, during lamination, a gold chip embedded as a via hole in a single green sheet or a gold wire laid on the gold chip and a green located above or below this green sheet. 3 with the gold chip embedded in the sheet or the gold wire laid on the gold chip
The pressure is applied at a temperature of 00 to 350 ° C. and thermocompression bonding is performed to form a three-dimensional circuit through the via hole of the gold chip.

【0011】また、1枚のグリーンシートにおいて、前
記の金製チップを縦、横共に所定のピッチで全面に圧入
し、この金製チップに金線を熱超音波接合して一列の金
製チップ全てを中継点として直線的に接続して一本の直
線回路を布線し、金製チップが構成する全ての縦列、横
列について同様に各一本の直線回路を布線して格子状回
路を形成するものである。
Further, in one green sheet, the gold chips are press-fitted into the entire surface at a predetermined pitch both vertically and horizontally, and a gold wire is thermosonic bonded to the gold chips to form a row of gold chips. All of them are connected in a straight line and wired to form a single linear circuit. Similarly, for each of the columns and rows of the gold chip, a single linear circuit is similarly arranged to form a grid circuit. To form.

【0012】前記と同様に金製チップを縦、横共に所定
のピッチで全面に圧入したグリーンシートと所定の目標
で平織に編まれた金製のメッシュを用い、この金製チッ
プと金製のメッシュとを熱圧着接合して格子状回路を形
成するものである。
In the same manner as described above, using a green sheet in which gold chips are pressed into the entire surface at a predetermined pitch in both length and width and a gold mesh knitted in a plain weave for a predetermined target, the gold chips and the gold chips are used. The mesh is thermocompression bonded to form a grid-like circuit.

【0013】また、セラミックスラリーを平板状のシー
トに成型する際にこの金製のメッシュをシートの中に埋
め込む、または2枚のグリーンシートの間にこの金製の
メッシュを挟んで圧着し、金製のメッシュを内蔵したグ
リーンシートを形成し、このグリーンシートにバイアホ
ールとして前記の金製チップを圧入して格子状回路を形
成するものである。
When the ceramic slurry is molded into a flat sheet, the gold mesh is embedded in the sheet, or the gold mesh is sandwiched between two green sheets and pressure-bonded. A green sheet with a built-in mesh is formed, and the gold chip is pressed into the green sheet as a via hole to form a grid-shaped circuit.

【0014】[0014]

【作用】バイアホールの大きさが100μm前後、配線
の幅が数十μmなので、印刷パターンと比較して2倍以
上の配線密度が可能になる。また、格子状回路のように
グリーンシートの全面に配線される場合でも、回路パタ
ーンの占有面積が小さく抑えられる。
Since the size of the via hole is about 100 μm and the width of the wiring is several tens of μm, the wiring density can be more than double that of the printed pattern. Further, even when wiring is performed on the entire surface of the green sheet like a grid-shaped circuit, the area occupied by the circuit pattern can be suppressed small.

【0015】さらに、導体ペーストを用いていないの
で、パターンのにじみ、欠け、かすれ、などパターン形
成精度に係わる問題が生じない。
Further, since the conductor paste is not used, problems such as pattern bleeding, chipping, and blurring relating to the pattern forming accuracy do not occur.

【0016】[0016]

【実施例】【Example】

実施例1.図1はこの発明の一実施例を示す断面図、図
2は図1に示したものの層構成及び製造方法を示す斜視
図で、4層の場合を例としている。多層セラミック基板
10は、4枚のグリーンシート11a〜11dで構成さ
れるが、グリーンシート11a〜11dは1000℃未
満の温度で焼結する低温焼成グリーンシートである。グ
リーンシートの製法としては、高温焼成と低温焼成では
材料組成と組成比が異なるだけであって、セラミックス
ラリーを作り、これを所定の厚さの平板状に成型し、乾
燥させて作るという点は全く同様である。グリーンシー
ト11a〜11dはまずそれぞれ所定の位置にバイアホ
ールとして直径が100μm前後の円板型または一辺が
100μm前後の角板型の金製チップ12を、メタルマ
スク等を用いて配置し、圧入して埋め込む。このバイア
ホール形成工程は、各グリーンシート11a〜11dで
それぞれ同様に行うが、回路形成は、積層後に内層とな
るグリーンシート11a〜11cと最表層となるグリー
ンシート11dとでは異なり、グリーンシート11a〜
11cの3枚においては、埋め込まれた金製チップ12
に直径数十μmの金線13を熱超音波接合し、所定の位
置に埋め込まれた金製チップ間をこの金線13で接続す
る。すなわち金製チップ12を中継点として金線13を
布線して所要の回路パターン14a〜14cを形成す
る。
Example 1. FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a perspective view showing a layer structure and a manufacturing method of the one shown in FIG. 1, taking a case of four layers as an example. The multilayer ceramic substrate 10 is composed of four green sheets 11a to 11d, and the green sheets 11a to 11d are low temperature firing green sheets that are sintered at a temperature lower than 1000 ° C. As a method for producing a green sheet, the material composition and composition ratio differ between high temperature firing and low temperature firing, and the point is that a ceramic slurry is made, shaped into a flat plate with a predetermined thickness, and dried. Exactly the same. In the green sheets 11a to 11d, first, a disk type metal chip 12 having a diameter of about 100 μm or a square plate type having a side of about 100 μm is arranged as a via hole at a predetermined position by using a metal mask or the like and press-fitted. To embed. The via hole forming process is performed in the same manner for each of the green sheets 11a to 11d, but the circuit formation is different between the green sheets 11a to 11c which are the inner layers after the lamination and the green sheet 11d which is the outermost layer.
In 3 pieces of 11c, embedded gold chip 12
Then, a gold wire 13 having a diameter of several tens of μm is thermosonically bonded, and gold chips embedded at predetermined positions are connected by this gold wire 13. That is, the gold wire 13 is laid out using the gold chip 12 as a relay point to form the required circuit patterns 14a to 14c.

【0017】熱超音波接合とは、主として金と金を接合
する方法で、150〜200℃の温度において超音波振
動を加えることにより接合物と被接合物を接合し、一体
化させる方法であり、金と金の接合では熱圧着接合も可
能であるが、この場合は300〜350℃の温度におい
て加圧することにより金同志が接合、一体化させる方法
である。グリーンシートは、300℃以上の温度で放置
すると乾燥が進むため、脆くなりまた、積層してもグリ
ーンシート同志が融合、一体化し難くなるため温度が低
い熱超音波接合を採用した。ただし、300℃以上の温
度に晒される時間が短くてすむ場合は300℃の温度で
あってもグリーンシートの変化が少ないので熱圧着接合
の採用も可能である。図3は金線13の布線方法を示す
模式図で、15は超音波振動が加えられる超音波接合ツ
ール、16はホットプレートである。例えば、1枚のグ
リーンシート11aは、ホットプレート16において、
150〜200℃に加温され、その状態で金製チップ1
2部に金線13を当て、この金線超音波接合ツール15
の先端部に超音波振動を加えると共に加圧して金製チッ
プ12と金線13の当接部を接合し、次に接続しようと
する別の位置にある金製チップ12まで金線を繰出し、
その金製チップ12と金線13とを再び熱超音波接合す
る。これで回路パターン14aのうちの1本の線分が形
成され、さらに接続しようとする別の金製チップ12へ
金線13を繰出し、熱超音波接合するといった方法で複
数の金製チップ12を経由する回路パターン14aが形
成される。同様にしてグリーンシート11b,11cに
もそれぞれ回路パターン14b,14cを形成する。
The thermosonic bonding is a method of mainly bonding gold and gold, and is a method of bonding and integrating a bonded object and an object by applying ultrasonic vibration at a temperature of 150 to 200 ° C. In the case of gold-to-gold bonding, thermocompression bonding is also possible, but in this case, it is a method of bonding and integrating gold members by applying pressure at a temperature of 300 to 350 ° C. The green sheet becomes brittle when left to stand at a temperature of 300 ° C. or higher, which makes it brittle, and even when laminated, it is difficult for the green sheets to fuse and integrate, so thermo-sonic bonding, which has a low temperature, was used. However, when the time of exposure to a temperature of 300 ° C. or higher is short, the change in the green sheet is small even at a temperature of 300 ° C., so thermocompression bonding can be adopted. FIG. 3 is a schematic diagram showing a method of laying the gold wire 13, 15 is an ultrasonic bonding tool to which ultrasonic vibration is applied, and 16 is a hot plate. For example, one green sheet 11a is
Heated to 150-200 ℃, and then gold chip 1
A gold wire 13 is applied to the second part, and this gold wire ultrasonic bonding tool 15
Ultrasonic vibration is applied to the tip of the and the pressure is applied to join the abutting portions of the gold tip 12 and the gold wire 13, and the gold wire is extended to the gold tip 12 at another position to be connected next,
The gold chip 12 and the gold wire 13 are thermosonic bonded again. With this, one line segment of the circuit pattern 14a is formed, and the gold wire 13 is fed to another gold chip 12 to be further connected, and a plurality of gold chips 12 are connected by thermosonic bonding. The circuit pattern 14a passing through is formed. Similarly, the circuit patterns 14b and 14c are formed on the green sheets 11b and 11c, respectively.

【0018】積層後に最表層となるグリーンシート11
dは、最終的には部品が取付けられることになるので、
部品取付けパッド17を形成する必要があり、この部品
取付けパッド17は、従来の例と同様に導体ペーストの
印刷、等の方法により形成する。グリーンシート11d
に埋め込まれた金製チップ12をバイアホールとしてこ
の部品取付けパッド17と接続するには、部品取付けパ
ッド17を印刷形成する際に金製チップ12に被せて形
成する。グリーンシート11dは部品取付のみに使用さ
れ、回路パターンは全て内層に設けるのが普通である
が、回路パターンが必要な場合は、部品取付けパッド1
7と共に印刷形成してもよいし、グリーンシート11a
〜11cと同様に金線13を布線することによって形成
してもよい。ここまでの工程は4枚のグリーンシート1
1a〜11dがそれぞれ別々に行われ、次にこの4枚の
位置を合わせて積層し、300〜350℃の温度下で全
面を均等に加圧し、グリーンシート11a〜11dのそ
れぞれ当接する境界面を圧着させる。グリーンシート同
志の圧着ということ自体は従来の例の場合と全く同様で
あるが、この圧着工程で1枚のグリーンシートの金製チ
ップ12または金線13と、このグリーンシートの上ま
たは下に位置する別のグリーンシートの金製チップ12
または金線13との熱圧着接合を同時に行っている。例
えば、グリーンシート11bの金製チップ12と、グリ
ーンシート11aの金製チップ12及び金線13による
回路パターン14aとで複数の当接点を生じるが、30
0〜350℃の温度下で加圧された際に当接する金製チ
ップ12同志または金製チップ12と金線13とが熱圧
着接合される。同じくグリーンシート11a〜11dの
4枚の間でそれぞれ当接する金同志が熱圧着接合され、
金製チップ12がバイアホールとしての機能を果たすよ
うになり、4枚のグリーンシート11a〜11dで一つ
の立体回路が構成される。圧着工程の後に800〜10
00℃の温度で焼成して4枚のグリーンシート11a〜
11dが融合、一体化した多層セラミック基板10とな
る。
The green sheet 11 which becomes the outermost layer after lamination
As for d, parts will be installed eventually, so
It is necessary to form the component mounting pad 17, and the component mounting pad 17 is formed by a method such as printing a conductor paste as in the conventional example. Green sheet 11d
In order to connect the gold chip 12 embedded in the via hole to the component mounting pad 17 as a via hole, the component mounting pad 17 is formed by covering the gold chip 12 when printed. The green sheet 11d is used only for component mounting, and it is common to provide all the circuit patterns on the inner layer. However, when the circuit pattern is required, the component mounting pad 1
7 may be formed by printing together with the green sheet 11a.
Alternatively, it may be formed by laying the gold wire 13 in the same manner as in -11c. The process up to here is 4 green sheets 1
1a to 11d are performed separately, and then the four sheets are aligned and laminated, and the entire surface is evenly pressed at a temperature of 300 to 350 ° C. to separate the contact surfaces of the green sheets 11a to 11d. Crimp. The crimping of the green sheets themselves is exactly the same as the case of the conventional example, but in this crimping step, the gold chip 12 or the gold wire 13 of one green sheet and the position above or below this green sheet are positioned. Another green sheet of gold chips 12
Alternatively, thermocompression bonding with the gold wire 13 is simultaneously performed. For example, the gold chip 12 of the green sheet 11b and the circuit pattern 14a formed by the gold chip 12 and the gold wire 13 of the green sheet 11a have a plurality of contact points.
The gold chip 12 or the gold chip 12 and the gold wire 13 that come into contact with each other when pressed at a temperature of 0 to 350 ° C. are thermocompression bonded. Similarly, the gold members abutting each other between the four green sheets 11a to 11d are thermocompression bonded,
The gold chip 12 functions as a via hole, and four green sheets 11a to 11d form one three-dimensional circuit. 800-10 after crimping process
4 sheets of green sheets 11a-fired at a temperature of 00 ° C
The multilayer ceramic substrate 10 in which 11d is fused and integrated is formed.

【0019】実施例2.図4はこの発明の別の実施例を
示す平面図、図5は図4に示したものの断面図である。
ここでは、例えば、実施例1の図1、図2で示したグリ
ーンシート11aを用い、その全面に縦、横とも所定の
ピッチで等間隔に金製チップ12を埋め込み、次いでこ
の金製チップ12で構成された一つの列、例えば縦の列
の各金製チップ12を実施例1と同様に金線13で順次
熱超音波接合して接続する。これを他の全ての縦列に行
い、次に金製チップ12で構成される横列も同じように
金線13で接続し、縦、横それぞれ平行線状に布線され
た金線13で格子状回路18を形成する。縦の列を先に
布線し、次に横の列を布線する際は、各金製チップ12
には既に縦の列を接続する金線13が接合されているの
で、横の列を接続する金線13は縦の列に布線された金
線13に重ねて熱超音波接合されることになるが、金線
13同志の熱超音波接合には何等問題はない。このよう
にして1枚のグリーンシート11aに形成された格子状
回路18の使用例を図6に示す。格子状回路18は電源
やグランドのような共通信号層として実施例1で示した
図1、図2の多層セラミック基板10のような複数枚の
グリーンシートのうちの1枚として使用され、積層、圧
着及び焼成工程は実施例1と同一におこなうものであ
る。この例では、金製チップ12の縦列、横列で格子状
回路を形成したが、斜めの並びで格子を形成することも
可能である。
Example 2. FIG. 4 is a plan view showing another embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a sectional view of what is shown in FIG.
Here, for example, the green sheet 11a shown in FIG. 1 and FIG. 2 of the first embodiment is used, and gold chips 12 are embedded in the entire surface at equal intervals at a predetermined pitch in the vertical and horizontal directions, and then the gold chip 12 is used. Each of the gold chips 12 in one row, for example, a vertical row, which is constituted by (1) is sequentially connected by thermosonic bonding with the gold wire 13 similarly to the first embodiment. Do this for all other columns, then connect the rows of gold chips 12 in the same way with gold wires 13, and use the gold wires 13 that are laid in parallel in the vertical and horizontal directions to form a grid pattern. The circuit 18 is formed. When laying the vertical rows first and then the horizontal rows, each gold tip 12
Since the gold wire 13 for connecting the vertical row has already been joined to, the gold wire 13 for connecting the horizontal row must be superposed on the gold wire 13 laid in the vertical row by thermosonic bonding. However, there is no problem in the thermosonic bonding of the gold wires 13. FIG. 6 shows a usage example of the grid-shaped circuit 18 thus formed on one green sheet 11a. The grid-shaped circuit 18 is used as a common signal layer such as a power source and a ground as one of a plurality of green sheets such as the multilayer ceramic substrate 10 shown in FIGS. The pressure bonding and firing steps are the same as in Example 1. In this example, the grid-shaped circuits are formed by the vertical and horizontal rows of the gold chips 12, but it is also possible to form the grid in a diagonal arrangement.

【0020】実施例3.図7は実施例2の格子状回路1
8を形成する別の方法を示す斜視図、図8は図7に示し
たものの断面図で、グリーンシートは実施例2と同様に
グリーンシート11aを用いる。19は太さ十数μmの
金線を平織して作られた金製メッシュで、目開き幅は、
必要に応じて任意に設定する。グリーンシート11aは
それの全面に実施例2と同様に縦、横とも所定のピッチ
で等間隔に金製チップ12を埋め込み、金製メッシュ1
9をこのグリーンシート11aに被せ、300〜350
℃の温度下で全面に均等に加圧し、グリーンシート11
aに埋め込まれた複数の金製チップ12と金製メッシュ
19との複数の当接点の全てを同時に熱圧着接合し、グ
リーンシート11aの全面に格子状回路を形成する。金
製メッシュ19は多層セラミック基板の製造工程とは係
わりなく予め準備して保存しておくことができ、多層セ
ラミック基板の製造時に必要な大きさに切断するだけで
格子状回路18を形成することができる。
Example 3. FIG. 7 shows a grid-shaped circuit 1 according to the second embodiment.
8 is a perspective view showing another method of forming 8, and FIG. 8 is a cross-sectional view of what is shown in FIG. 7. As the green sheet, the green sheet 11a is used as in the second embodiment. 19 is a gold mesh made by plain weaving a gold wire with a thickness of a few dozen μm, and the opening width is
Set as desired. Similar to the second embodiment, the green sheet 11a is filled with gold chips 12 at equal intervals in both vertical and horizontal directions, and the gold mesh 1 is formed.
9 is put on this green sheet 11a, and 300-350
The green sheet 11 is pressed evenly over the entire surface at a temperature of ℃.
All of the contact points of the gold chips 12 and the gold mesh 19 embedded in a are thermocompression bonded at the same time to form a grid-like circuit on the entire surface of the green sheet 11a. The gold mesh 19 can be prepared and stored in advance irrespective of the manufacturing process of the multilayer ceramic substrate, and the grid-shaped circuit 18 can be formed only by cutting it into a size necessary for manufacturing the multilayer ceramic substrate. You can

【0021】実施例4.図9は実施例2または実施例3
と同様に共通信号層として用いられるの格子状回路18
を形成するさらに別の方法を示す断面図、図10は図9
に示したものの製造方法を示す斜視図である。20は実
施例1〜実施例3に用いられているものと同様な低温焼
成用のグリーンシートである。このグリーンシート20
を2枚と実施例3で用いたものと同様な金製メッシュ1
9を用い、この2枚のグリーンシート20の間に金製メ
ッシュ19を挟み、グリーンシート同志の圧着だけに充
分な100〜150℃の温度下で全面を均等に加圧し、
金製メッシュ19を内蔵したグリーンシート21を形成
する。このままでは金製メッシュ19はグリーンシート
20で覆われ、絶縁されているので、共通信号層として
機能させるためにバイアホールとして金製チップ12を
所定の場所に圧入する。この時点では金製メッシュ19
と金製チップ12とは当接しているだけで接合されてい
ないが、多層セラミックとしての積層、圧着工程を実施
例1〜実施例3と同様に行った際に、この金製メッシュ
内蔵グリーンシート21に重なる別のグリーンシートの
金製チップ12または金線13とが300〜350℃の
温度下で熱圧着接合されると同時に、金製メッシュ19
と金製チップ12も熱圧着接合される。この金製メッシ
ュ内蔵グリーンシート21は多層セラミック基板の製造
工程とは係わりなく予め準備して保存しておくことがで
き、多層セラミック基板の製造時に必要な大きさに切断
して金製チップ12を埋め込むだけで格子状回路18を
形成することができる。
Example 4. FIG. 9 shows Example 2 or Example 3.
A grid-like circuit 18 used as a common signal layer in the same manner as
9 is a cross-sectional view showing still another method of forming
FIG. 6 is a perspective view showing a manufacturing method of the one shown in FIG. Reference numeral 20 denotes a green sheet for low temperature firing similar to that used in Examples 1 to 3. This green sheet 20
And two gold meshes 1 similar to those used in Example 3
9, a gold mesh 19 is sandwiched between the two green sheets 20, and the entire surface is uniformly pressed at a temperature of 100 to 150 ° C., which is sufficient for pressing the green sheets together.
A green sheet 21 containing the gold mesh 19 is formed. As it is, the gold mesh 19 is covered with the green sheet 20 and insulated, so that the gold chip 12 is press-fitted into a predetermined place as a via hole in order to function as a common signal layer. Gold mesh 19 at this point
And the gold chip 12 are only in contact with each other and are not joined, but when the lamination and pressure bonding steps as the multilayer ceramic are performed in the same manner as in Examples 1 to 3, the green sheet with the built-in gold mesh is formed. At the same time as another green sheet gold chip 12 or gold wire 13 overlapping 21 is thermocompression bonded at a temperature of 300 to 350 ° C., a gold mesh 19 is formed.
And the gold chip 12 are also thermocompression bonded. This gold mesh built-in green sheet 21 can be prepared and stored in advance irrespective of the manufacturing process of the multilayer ceramic substrate, and the gold chip 12 is cut by cutting it into a size necessary for manufacturing the multilayer ceramic substrate. The grid-shaped circuit 18 can be formed only by embedding.

【0022】実施例5.図11は実施例4の金製メッシ
ュ内蔵グリーンシート21の別の製造方法を示してお
り、22は低温焼成用セラミックのスラリーで、シート
成型機のローラー23を通過したスラリー22が平板状
のシートに成型される。この時実施例3、実施例4で用
いたものと同様な金製メッシュ19をスラリー22と共
に供給し、金製メッシュ19を内蔵した成型シート24
を形成させ、この成型シート24を乾燥させたものが金
製メッシュ内蔵グリーンシート21である。この金製メ
ッシュ内蔵グリーンシート21は実施例4の場合と同様
に、多層セラミック基板の製造工程とは係わりなく予め
準備して保存しておくことができ、多層セラミック基板
の製造時に必要な大きさに切断して金製チップ12を圧
入するだけで格子状回路を形成することができるもので
ある。
Embodiment 5. FIG. 11 shows another manufacturing method of the gold mesh built-in green sheet 21 of Example 4, 22 is a slurry of low temperature firing ceramic, and the slurry 22 which has passed through the roller 23 of the sheet molding machine is a flat sheet. Is molded into. At this time, the same gold mesh 19 as that used in Examples 3 and 4 was supplied together with the slurry 22, and the molding sheet 24 containing the gold mesh 19 therein.
Is formed, and the molded sheet 24 is dried to form the gold mesh built-in green sheet 21. Similar to the case of the fourth embodiment, the gold mesh built-in green sheet 21 can be prepared and stored in advance regardless of the manufacturing process of the multilayer ceramic substrate, and has a size required for manufacturing the multilayer ceramic substrate. The grid-shaped circuit can be formed by simply cutting the metal into a chip and press-fitting the gold chip 12.

【0023】[0023]

【発明の効果】この発明は、以上説明したようにバイア
ホールとして大きさ100μm前後の金製チップを圧入
し、回路パターンは直径数十μmの金線を布線するもの
なので、以下に記載されるような効果がある。
As described above, the present invention is described below because a gold chip having a size of about 100 μm is press-fitted as a via hole and a circuit pattern is a gold wire having a diameter of several tens of μm. It has the effect of

【0024】1枚のグリーンシートにおける回路パター
ン密度を、従来の印刷パターンによる場合と比較して容
易に2倍以上に上げることができるので、グリーンシー
トの層数を減らすことができ、またパターン形成におけ
るパターンの欠けや薄れ、にじみなどがないので歩留り
が向上し、生産コストを下げることができる。
Since the circuit pattern density in one green sheet can be easily increased to more than double that in the case of the conventional printing pattern, the number of layers of the green sheet can be reduced and the pattern formation can be achieved. Since there is no chipping, fading, or bleeding of the pattern in, the yield can be improved and the production cost can be reduced.

【0025】また、上記の利点を活用して回路パターン
の密度を高くした場合、または電源やグランドなどの共
通信号層として使用される格子状回路を形成した場合で
も回路を構成する金線が非常に細いものなので、回路パ
ターンとしての占有面積は小さく抑えることができ、従
って積層されたグリーンシートにおけるセラミック同志
の融合、一体化面積が充分に大きく確保できると共に、
積層、圧着時の加圧力によって金線が上下のグリーンシ
ート中に食い込んでアンカー効果が生じるため層間剥離
しにくい多層セラミック基板を得ることができる。
Further, even when the density of the circuit pattern is increased by utilizing the above advantages, or even when the grid-like circuit used as a common signal layer such as a power source or a ground is formed, the gold wire constituting the circuit is extremely difficult. Since it is very thin, the area occupied as a circuit pattern can be kept small, so that the fusion of ceramics in the laminated green sheets and the integration area can be secured large enough,
The gold wire bites into the upper and lower green sheets due to the pressure applied during lamination and pressure bonding, and an anchor effect is produced, so that a multilayer ceramic substrate in which delamination is difficult can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の実施例1を示す断面図である。FIG. 1 is a sectional view showing a first embodiment of the present invention.

【図2】この発明の実施例1を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing a first embodiment of the present invention.

【図3】この発明の実施例1、実施例2における金線の
布線方法を示す模式図である。
FIG. 3 is a schematic diagram showing a method of laying a gold wire in Examples 1 and 2 of the present invention.

【図4】この発明の実施例2を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing a second embodiment of the present invention.

【図5】この発明の実施例2を示す断面図である。FIG. 5 is a sectional view showing a second embodiment of the present invention.

【図6】この発明の実施例2を示す斜視図である。FIG. 6 is a perspective view showing a second embodiment of the present invention.

【図7】この発明の実施例3を示す斜視図である。FIG. 7 is a perspective view showing a third embodiment of the present invention.

【図8】この発明の実施例3を示す断面図である。FIG. 8 is a sectional view showing Embodiment 3 of the present invention.

【図9】この発明の実施例4、実施例5を示す断面図で
ある。
FIG. 9 is a sectional view showing Embodiment 4 and Embodiment 5 of the present invention.

【図10】この発明の実施例4を示す斜視図である。FIG. 10 is a perspective view showing Embodiment 4 of the present invention.

【図11】この発明の実施例5を示す模式図である。FIG. 11 is a schematic diagram showing Embodiment 5 of the present invention.

【図12】従来の多層セラミック基板の構造を示す断面
図である。
FIG. 12 is a sectional view showing a structure of a conventional multilayer ceramic substrate.

【図13】従来の多層セラミック基板の層構成及び製造
方法を示す斜視図である。
FIG. 13 is a perspective view showing a layer structure and a manufacturing method of a conventional multilayer ceramic substrate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 グリーンシート 2 多層セラミック基板 3 回路パターン 4 バイアホール 5 ランドパターン 10 多層セラミック基板 11 グリーンシート 12 金製チップ 13 金線 14 回路パターン 15 超音波接合ツール 16 ホットプレート 17 部品取付けパッド 18 格子状回路 19 金製のメッシュ 20 グリーンシート 21 金製メッシュ内蔵グリーンシート 22 スラリー 23 ローラー 24 成型シート 1 Green Sheet 2 Multilayer Ceramic Substrate 3 Circuit Pattern 4 Via Hole 5 Land Pattern 10 Multilayer Ceramic Substrate 11 Green Sheet 12 Gold Chip 13 Gold Wire 14 Circuit Pattern 15 Ultrasonic Bonding Tool 16 Hot Plate 17 Component Mounting Pad 18 Lattice Circuit 19 Gold mesh 20 Green sheet 21 Gold mesh built-in green sheet 22 Slurry 23 Roller 24 Molded sheet

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数枚のグリーンシートを積層すると共
に焼成して形成する多層セラミック基板の製造方法にお
いて、焼結温度が1000℃未満のグリーンシートを複
数枚と、直径100μm前後の円板型または一辺100
μm前後の角板型の複数の金製チップとを用い、前記の
複数枚のグリーンシートの全てについてそれぞれ所定の
位置に前記の金製チップを圧入し、次に前記の複数枚の
グリーンシートのうち、積層した時に最外層となるグリ
ーンシートには導体ペーストを用いて少くとも部品取付
けパッドを形成し、積層した時に内層となる全てのグリ
ーンシートには直径数十μmの金線を用いて前記のよう
に所定の位置に圧入された複数の金製チップを中継点と
する所望の回路を布線とすると共に、金線と複数の金製
チップとの当接点を熱超音波接合し、次に上記のように
部品取付けパッドが形成されたグリーンシートと、金線
の回路が布線されたグリーンシートとを所定の順番で積
層した後、300〜350℃の温度下で前面を均等に加
圧して圧着し、800〜1000℃の温度で焼成して形
成することを特徴とする多層セラミック基板の製造方
法。
1. A method for manufacturing a multi-layer ceramic substrate, which is formed by laminating and firing a plurality of green sheets, and a plurality of green sheets having a sintering temperature of less than 1000 ° C. and a disc type having a diameter of about 100 μm or One side 100
Using a plurality of square plate-shaped gold chips of about μm, press the gold chips into predetermined positions on all of the plurality of green sheets, and then press the plurality of green sheets. Among them, at least a component mounting pad is formed by using a conductor paste on the green sheet which is the outermost layer when laminated, and a gold wire having a diameter of several tens of μm is used for all the green sheets which are the inner layer when laminated. While wiring the desired circuit with a plurality of gold chips press-fitted in a predetermined position as a relay point as described above, the contact points of the gold wire and the plurality of gold chips are thermosonic bonded, After laminating the green sheet on which the component mounting pads are formed as described above and the green sheet on which the circuit of the gold wire is laid in a predetermined order, the front surface is uniformly applied at a temperature of 300 to 350 ° C. Press and crimp, 80 A method for manufacturing a multi-layer ceramic substrate, which is formed by firing at a temperature of 0 to 1000 ° C.
【請求項2】 前記のグリーンシートの1枚の全面に所
定の間隔で前記と同様の金製チップを圧入し、前記と同
様の金線を用いて一列に並ぶ複数の金製チップの全てを
中継点とする1本の直線回路を布線すると共に、金線と
複数の金製チップとの当接点を熱超音波接合し、同様に
して圧入された複数の金製チップで構成される全ての縦
列及び横列にそれぞれ一本の直線回路を布線し、縦、横
に布線された複数の直線回路で格子状回路を形成するこ
とを特徴とする請求項1記載の多層セラミック基板の製
造方法。
2. A gold chip similar to the above is press-fitted onto the entire surface of one of the green sheets at a predetermined interval, and all of the plurality of gold chips lined up in a row using the same gold wire as described above. A single linear circuit that serves as a relay point is laid out, and the contact points between the gold wire and a plurality of gold chips are thermosonically joined together, and all are made up of a plurality of gold chips that are press-fitted in the same manner. 2. A multi-layer ceramic substrate according to claim 1, wherein one linear circuit is laid in each of the vertical and horizontal rows, and a lattice-shaped circuit is formed by a plurality of linear circuits laid in the vertical and horizontal directions. Method.
【請求項3】 前記と同様の金線を平織にして格子状に
した金製メッシュ、この金製メッシュを前記と同様に所
定の間隔で全面に金製チップを圧入した1枚のグリーン
シートに積重ね、300〜350℃の温度下で全面を均
等に加圧して金製チップと金製メッシュとの複数の当接
点を熱圧着接合し、格子状回路を形成することを特徴と
する請求項1記載の多層セラミック基板の製造方法。
3. A gold mesh in which a gold wire similar to the above is plain-woven into a lattice shape, and the gold mesh is pressed into a single green sheet on the entire surface at predetermined intervals in the same manner as described above. The stacking, the entire surface is uniformly pressed at a temperature of 300 to 350 ° C., and the plurality of contact points of the gold chip and the gold mesh are thermocompression bonded to each other to form a grid-shaped circuit. A method for manufacturing the multilayer ceramic substrate as described above.
【請求項4】 セラミックスラリーをシート状に成型し
て乾燥させ、グリーンシートを製造するシート成型工程
において、セラミックスラリー中に前記と同様な金製メ
ッシュを挿入してシートを成型すると共に乾燥させて金
製メッシュが内蔵されたグリーンシートを形成し、次に
この金製メッシュが内蔵されたグリーンシートの全面に
前記の金製チップを所定の間隔で圧入し、金製チップと
グリーンシートに内蔵された金製メッシュとで格子状回
路を形成することを特徴とする請求項1記載の多層セラ
ミック基板の製造方法。
4. A ceramic slurry is formed into a sheet and dried to produce a green sheet. In a sheet forming step, a gold mesh similar to the above is inserted into the ceramic slurry to form and dry the sheet. A green sheet with a built-in gold mesh is formed, and then the above-mentioned gold chips are pressed into the entire surface of the green sheet with a built-in gold mesh at a predetermined interval to be built into the gold chip and the green sheet. The method for manufacturing a multilayer ceramic substrate according to claim 1, wherein a lattice-shaped circuit is formed by using the gold mesh.
【請求項5】 前記と同様の1000℃未満で焼結する
グリーンシートを2枚用い、この2枚のグリーンシート
の間に前記と同様な金製メッシュを挟んで圧着し、金製
メッシュが内蔵されたグリーンシートを形成し、次にこ
の金製メッシュが内蔵されたグリーンシートの全面に前
記の金製チップを所定の間隔で圧入し、金製チップとグ
リーンシートに内蔵された金製メッシュとで格子状回路
を形成することを特徴とする請求項1記載の多層セラミ
ック基板の製造方法。
5. The same two green sheets that are sintered at less than 1000 ° C. as described above are used, and the same gold mesh as the above is sandwiched between the two green sheets and pressure-bonded, and the gold mesh is built in. Formed into a green sheet, and then the gold chips are pressed into the entire surface of the green sheet containing the gold mesh at a predetermined interval to form the gold chip and the gold mesh embedded in the green sheet. The method for manufacturing a multilayer ceramic substrate according to claim 1, wherein the lattice-shaped circuit is formed by.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2015069979A (en) * 2013-09-26 2015-04-13 京セラ株式会社 Piezoelectric actuator substrate, liquid discharge head using the same, and recording device

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JP2015069979A (en) * 2013-09-26 2015-04-13 京セラ株式会社 Piezoelectric actuator substrate, liquid discharge head using the same, and recording device

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