JPH06177224A - Wafer transferring apparatus - Google Patents

Wafer transferring apparatus

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JPH06177224A
JPH06177224A JP35259792A JP35259792A JPH06177224A JP H06177224 A JPH06177224 A JP H06177224A JP 35259792 A JP35259792 A JP 35259792A JP 35259792 A JP35259792 A JP 35259792A JP H06177224 A JPH06177224 A JP H06177224A
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wafer
chuck
cassette
chucking head
slider
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Hideki Koike
秀樹 小池
Riichi Kano
利一 狩野
Eiji Hosaka
英二 保坂
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Kokusai Electric Corp
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Kokusai Electric Corp
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Abstract

PURPOSE:To provide a wafer transferring apparatus in which a containing space of the apparatus may be small and which has a simple structure and a light weight in the case of transferring a wafer in a semiconductor manufacturing apparatus. CONSTITUTION:A horizontal mechanism 38 is rotatably provided at a vertically movable elevation arm. The mechanism 38 has two independently telescopic sliders, and chucking heads 39, 40 are respectively provided at the two sliders. The heads 39, 40 respectively have wafer chucks 41 which can receive wafers. In the case of simultaneously transferring the wafers, integral telescoping of the two slides, vertical movements of the arm and rotation of the mechanism 38 are cooperated. In the case of partially moving the wafers, telescoping of one slider, vertical movements of the arm and the rotation of the mechanism 38 are cooperated.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造装置に於け
るウェーハの移載装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wafer transfer device in a semiconductor manufacturing apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】図12に於いて従来のウェーハ移載装置
について説明する。
2. Description of the Related Art A conventional wafer transfer device will be described with reference to FIG.

【0003】ウェーハ移載装置はウェーハを移載する為
の複数の板状ウェーハチャックを有し、該ウェーハチャ
ック上にウェーハを受載し、移載を行うものである。
The wafer transfer device has a plurality of plate-shaped wafer chucks for transferring wafers, and receives and transfers the wafers on the wafer chucks.

【0004】図12中、101はウェーハ移載装置の昇
降機構の昇降スライダより延出した昇降アームであり、
該昇降アーム101にウェーハハンドラ102が回転可
能に設けられ、前記昇降アーム101には前記ウェーハ
ハンドラ102を回転する為の回転駆動部が内蔵されて
いる。
In FIG. 12, 101 is an elevating arm extending from an elevating slider of an elevating mechanism of the wafer transfer device,
A wafer handler 102 is rotatably provided on the elevating arm 101, and a rotation drive unit for rotating the wafer handler 102 is built in the elevating arm 101.

【0005】該ウェーハハンドラ102は、複数の板状
ウェーハチャックを具備するチャッキングヘッド103
と、該チャッキングヘッド103を水平方向に駆動する
駆動部を内蔵する水平機構部104とを有している。前
記チャッキングヘッド103について更に説明する。
The wafer handler 102 is a chucking head 103 having a plurality of plate-shaped wafer chucks.
And a horizontal mechanism section 104 having a built-in drive section for driving the chucking head 103 in the horizontal direction. The chucking head 103 will be further described.

【0006】該チャッキングヘッド103は水平機構部
104の上面に設けられたガイドレール105に沿って
水平移動可能となっている。複数のウェーハチャック1
06は最下段のウェーハチャック106aを除き、それ
ぞれチャックホルダ107に保持され、又該チャックホ
ルダ107は螺子ブロック108を介してピッチ変更螺
子ロッド109のリードピッチの異なる螺子部に螺合し
ている。前記最下段のウェーハチャック106aはチャ
ックホルダ107aによってチャッキングヘッド103
の上面に固着されている。
The chucking head 103 is horizontally movable along a guide rail 105 provided on the upper surface of the horizontal mechanism 104. Multiple wafer chucks 1
Reference numeral 06 denotes a chuck holder 107, except for the wafer chuck 106a at the lowermost stage, and the chuck holder 107 is screwed through a screw block 108 to screw portions having different lead pitches of a pitch changing screw rod 109. The lowermost wafer chuck 106a is chucked by the chuck holder 107a.
Fixed to the upper surface of.

【0007】前記ピッチ変更螺子ロッド109はギア1
10、ギア111を介してピッチ変更モータ112に連
結され、該ピッチ変更モータ112の駆動によって前記
複数のウェーハチャック106が等間隔の状態を維持し
てピッチが変更される様になっている。
The pitch changing screw rod 109 is a gear 1
10. The pitch change motor 112 is connected via a gear 111, and the pitch change motor 112 is driven to change the pitch while maintaining the plurality of wafer chucks 106 at equal intervals.

【0008】又、前記ピッチ変更モータ112、ピッチ
変更螺子ロッド109等は、回転自在な回転基板113
上に設けられている。該回転基板113の周囲には被動
歯が刻設され、該被動歯は駆動ギア114と噛合し、該
駆動ギア114は退避用モータ115の出力軸に嵌着さ
れている。
Further, the pitch changing motor 112, the pitch changing screw rod 109, etc. are provided with a rotatable base plate 113.
It is provided above. Driven teeth are engraved around the rotary substrate 113, the driven teeth mesh with the drive gear 114, and the drive gear 114 is fitted to the output shaft of the retracting motor 115.

【0009】而して、前記ウェーハハンドラ102は垂
直軸心を中心に回転し、またチャッキングヘッド103
は前記ガイドレール105に沿って水平方向に進退す
る。
Thus, the wafer handler 102 rotates about the vertical axis and the chucking head 103.
Moves horizontally along the guide rail 105.

【0010】而して、複数のウェーハを一括で移載する
場合は、全てのウェーハチャック106を図12中実線
で示した様に、ウェーハチャック106aの位置に合
せ、チャッキングヘッド103をウェーハが装填されて
いるカセットに向かって前進させ、カセットのウェーハ
間にウェーハチャック106を挿入し、昇降アーム10
1を若干上昇させ、ウェーハをウェーハチャック106
上に乗置させる。前記チャッキングヘッド103を後退
させ、ウェーハをウェーハカセットより取出し、前記ウ
ェーハハンドラ102を90°回転させ、所要の高さ迄
昇降アーム101を昇降させる。
When a plurality of wafers are collectively transferred, all the wafer chucks 106 are aligned with the wafer chucks 106a as shown by the solid line in FIG. The wafer is advanced toward the loaded cassette, the wafer chuck 106 is inserted between the wafers in the cassette, and the lifting arm 10 is moved.
1 is slightly raised to move the wafer to the wafer chuck 106.
Place it on top. The chucking head 103 is retracted, the wafer is taken out from the wafer cassette, the wafer handler 102 is rotated by 90 °, and the elevating arm 101 is elevated and lowered to a required height.

【0011】1枚のウェーハを移載する場合は、前記退
避用モータ115を駆動して駆動ギア114、回転基板
113を介し、前記ウェーハチャック106aを残して
ウェーハチャック106を図12中、2点鎖線に示す位
置にウェーハチャック106を退避させる。而して、前
記したと同様、昇降アーム101の昇降、チャッキング
ヘッド103の進退、回転により1枚のウェーハを移載
する。
When transferring a single wafer, the evacuation motor 115 is driven to drive the wafer chuck 106a through the drive gear 114 and the rotary substrate 113, leaving the wafer chuck 106a at two points in FIG. The wafer chuck 106 is retracted to the position shown by the chain line. Then, as described above, one wafer is transferred by elevating the elevating arm 101, advancing and retracting the chucking head 103, and rotating.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】上記した従来例では1
枚のウェーハを移載する場合に、最下段のウェーハチャ
ック106aを残してウェーハチャック106を回転さ
せ退避させるが、ウェーハ移載装置の収納スペースとし
ては、ウェーハチャック106の回転を許容するだけの
空間が必要である。又、更にウェーハチャック106を
退避させた状態でチャッキングヘッド103の進退、ウ
ェーハハンドラ102の回転を行うので、必要な空間は
更に大きくなる。従って、より大きなウェーハを取扱う
様になると、ウェーハチャック106が更に長くなり、
ウェーハ移載装置が設けられる半導体製造装置全体が大
きくなる。又、半導体製造装置の大きさに制限がある場
合は、より大きなウェーハは取扱うことができないとい
う問題があった。
In the above-mentioned conventional example, 1
When transferring a single wafer, the wafer chuck 106 is rotated and evacuated while leaving the wafer chuck 106a at the lowermost stage, but the storage space of the wafer transfer device is a space that allows the rotation of the wafer chuck 106. is necessary. Further, since the chucking head 103 is moved back and forth and the wafer handler 102 is rotated while the wafer chuck 106 is further retracted, the required space is further increased. Therefore, when dealing with larger wafers, the wafer chuck 106 becomes longer,
The entire semiconductor manufacturing apparatus provided with the wafer transfer apparatus becomes large. Further, when the size of the semiconductor manufacturing apparatus is limited, there is a problem that a larger wafer cannot be handled.

【0013】更に、機構的にもチャッキングヘッド10
3内にウェーハチャック106の回転駆動機構を収納し
なければならないので、チャッキングヘッド103の構
造が複雑になると共に部品点数が増え重量も大きくなる
という問題があった。
Further, mechanically, the chucking head 10 is also provided.
Since the rotation driving mechanism of the wafer chuck 106 must be housed in the chuck 3, there is a problem that the structure of the chucking head 103 becomes complicated and the number of parts increases and the weight also increases.

【0014】本発明は斯かる実情に鑑み、ウェーハ移載
装置の収納スペースが少なくてすみ而も構造が簡単で軽
量のウェーハ移載装置を提供しようとするものである。
In view of the above situation, the present invention aims to provide a wafer transfer device which has a small storage space for the wafer transfer device, has a simple structure, and is lightweight.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明は、昇降可能な昇
降アームに水平機構部を回転可能に設け、該水平機構部
が2つの独立して進退可能なスライダを具備し、該2つ
のスライダにそれぞれチャッキングヘッドが設けられ、
該2つのチャッキングヘッドがそれぞれウェーハを受載
可能なウェーハチャックを有することを特徴とするもの
である。
SUMMARY OF THE INVENTION According to the present invention, a horizontal mechanism is rotatably provided on a lift arm that can be raised and lowered, and the horizontal mechanism includes two independently movable sliders. Each has a chucking head,
The two chucking heads each have a wafer chuck capable of receiving a wafer.

【0016】[0016]

【作用】全てのウェーハチャックによるウェーハの一括
移載は、2つのスライダを一体に進退させることと昇降
アームの昇降、水平機構部の回転の協働で行い、一部の
ウェーハチャックによるウェーハの移載は、1方のスラ
イダの進退、昇降アームの昇降、水平機構部の回転の協
働で行う。
The wafers are collectively transferred by all the wafer chucks by moving the two sliders together, moving the elevating arm up and down, and rotating the horizontal mechanism. The mounting is performed by the cooperation of the advancing / retreating of one slider, the raising / lowering of the elevating arm, and the rotation of the horizontal mechanism.

【0017】[0017]

【実施例】以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を
説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0018】先ず、縦型反応炉を有する半導体製造装置
について図1、図2に於いて説明する。
First, a semiconductor manufacturing apparatus having a vertical reactor will be described with reference to FIGS.

【0019】図1は半導体製造装置の外観を示し、正面
中段にはコントローラパネル1が設けられ、該コントロ
ーラパネル1の下方に開閉可能なカセット搬入搬出窓2
が設けられている。ウェーハ3は所要枚数ウェーハカセ
ット4に装填された状態で、前記半導体製造装置に搬
入、搬出される。
FIG. 1 shows the appearance of a semiconductor manufacturing apparatus. A controller panel 1 is provided in the middle of the front surface, and a cassette loading / unloading window 2 that can be opened and closed below the controller panel 1.
Is provided. With the required number of wafers 3 loaded in the wafer cassette 4, the wafers 3 are loaded into and unloaded from the semiconductor manufacturing apparatus.

【0020】図2は半導体製造装置の内部機構を示す斜
視図であり、カセット授受機構5、カセットローダ6、
カセットストッカ7、バッファカセットストッカ8、ウ
ェーハ移載機9、ボートエレベータ10、ボート11、
炉体12、反応管13、クリーンユニット14、クリー
ンユニット15、冷却ユニット16等から成る。
FIG. 2 is a perspective view showing an internal mechanism of the semiconductor manufacturing apparatus, which is a cassette transfer mechanism 5, a cassette loader 6,
Cassette stocker 7, buffer cassette stocker 8, wafer transfer machine 9, boat elevator 10, boat 11,
It comprises a furnace body 12, a reaction tube 13, a clean unit 14, a clean unit 15, a cooling unit 16 and the like.

【0021】前記カセット授受機構5は左右1対のカセ
ット受台17を有し、該カセット受台17は水平な軸1
8に沿って摺動可能であり、又前記軸18を回転させる
ことで回転可能である。前記1対のカセット受台17は
拡縮リンク19を介して連結され、左右方向に近接離反
可能となっている。
The cassette transfer mechanism 5 has a pair of left and right cassette receiving bases 17, which are horizontal shafts 1.
It can be slid along 8 and can be rotated by rotating the shaft 18. The pair of cassette pedestals 17 are connected via an expansion / contraction link 19 so that they can approach and separate in the left-right direction.

【0022】前記カセットローダ6はガイドロッド20
に沿って昇降可能なスライドブロック21を有し、該ス
ライドブロック21には左右1対のカセットステージ2
2が設けられ、前記スライドブロック21はモータ23
によって回転されるスクリューロッド24に螺合し、昇
降可能となっている。前記カセットステージ22は前記
ウェーハ3を受載可能であるとともに受載したウェーハ
3を前記カセット授受機構5に対して進退させ得る。
The cassette loader 6 has a guide rod 20.
Has a slide block 21 which can be moved up and down along a pair of left and right cassette stages 2
2 is provided, and the slide block 21 has a motor 23.
It can be moved up and down by being screwed into a screw rod 24 rotated by. The cassette stage 22 can receive the wafer 3 and can advance and retract the received wafer 3 with respect to the cassette transfer mechanism 5.

【0023】前記カセットストッカ7は水平方向に移動
可能であり、該カセットストッカ7はスクリユーロッド
25を介してモータ26により横行可能となっている。
The cassette stocker 7 is movable in the horizontal direction, and the cassette stocker 7 can be traversed by a motor 26 via a screen rod 25.

【0024】前記ウェーハ移載機9はガイドロッド27
に沿って昇降自在に設けられた昇降スライダ30、モー
タ28によって回転されるスクリューロッド29、ウェ
ーハハンドラ31を有し、前記昇降スライダ30と前記
スクリューロッド29とは連結し、又前記ウェーハハン
ドラ31は前記昇降スライダ30に設けられている。
The wafer transfer machine 9 has a guide rod 27.
And a screw handler 29 rotated by a motor 28, and a wafer handler 31. The elevator slider 30 and the screw rod 29 are connected to each other, and the wafer handler 31 is It is provided on the lifting slider 30.

【0025】前記ウェーハハンドラ31は複数のウェー
ハチャック41を有し、該ウェーハチャック41は回転
可能であると共に前記カセットストッカ7と前記ボート
11との間で往復移動可能に設けられている。
The wafer handler 31 has a plurality of wafer chucks 41. The wafer chucks 41 are rotatable and reciprocally movable between the cassette stocker 7 and the boat 11.

【0026】前記ボートエレベータ10はガイドロッド
33に沿って昇降自在に設けられた昇降スライダ34、
モータ35によって回転されるスクリューロッド36、
前記昇降スライダ34に設けられたボート受台(図示せ
ず)を有し、前記昇降スライダ34と前記スクリューロ
ッド36とは連結している。前記したボート11は前記
ボート受台に載置可能となっている。
The boat elevator 10 is provided with an elevating slider 34 which is vertically movable along a guide rod 33.
A screw rod 36 rotated by a motor 35,
A boat pedestal (not shown) is provided on the elevating slider 34, and the elevating slider 34 and the screw rod 36 are connected to each other. The boat 11 described above can be placed on the boat pedestal.

【0027】次に、上記半導体製造装置に於けるウェー
ハ3の流れについて略述する。
Next, the flow of the wafer 3 in the semiconductor manufacturing apparatus will be briefly described.

【0028】ウェーハ3の搬入、搬出はウェーハ3をウ
ェーハカセット4に装填し、ウェーハが装填されたウェ
ーハカセット4を搬送している。ウェーハカセット4を
ウェーハ3が垂直な状態に保持する姿勢で前記カセット
受台17に載置する。前記モータ26の駆動で前記スク
リューロッド24を介して前記スライドブロック21を
降下させ、待機させる。
For loading and unloading the wafer 3, the wafer 3 is loaded in the wafer cassette 4, and the wafer cassette 4 loaded with the wafer is transported. The wafer cassette 4 is placed on the cassette pedestal 17 in a posture in which the wafer 3 is held vertically. By driving the motor 26, the slide block 21 is lowered via the screw rod 24 and is made to stand by.

【0029】該カセット受台17は拡縮リンク19を介
して所定の間隔に調整され、前記軸18が図中時計方向
に回転し、前記カセット受台17をカセットストッカ7
に向かって90°回転させる。この状態では、ウェーハ
3は水平姿勢である。前記モータ26の駆動で前記スク
リューロッド24を介して前記スライドブロック21を
上昇させ、前記カセットステージ22にウェーハカセッ
ト4を受載する。
The cassette cradle 17 is adjusted to a predetermined distance via the expansion / contraction link 19, the shaft 18 rotates clockwise in the drawing, and the cassette cradle 17 is moved to the cassette stocker 7
Rotate 90 ° towards. In this state, the wafer 3 is in a horizontal posture. By driving the motor 26, the slide block 21 is raised via the screw rod 24, and the wafer cassette 4 is placed on the cassette stage 22.

【0030】前記カセットステージ22がウェーハカセ
ット4をカセット授受機構5より引出し、前記モータ2
3の駆動によってスクリューロッド24を回転させ、ス
ライドブロック21を所定の位置迄上昇させる。前記カ
セットステージ22によりウェーハカセット4をカセッ
トストッカ7内に送入して、カセットストッカ7に収納
させる。
The cassette stage 22 pulls out the wafer cassette 4 from the cassette transfer mechanism 5, and the motor 2
The screw rod 24 is rotated by driving 3 to raise the slide block 21 to a predetermined position. The wafer cassette 4 is fed into the cassette stocker 7 by the cassette stage 22 and stored in the cassette stocker 7.

【0031】而して、ウェーハ3が装填されたウェーハ
カセット4をカセットストッカ7、バッファカセットス
トッカ8に収納させる。
Then, the wafer cassette 4 loaded with the wafer 3 is stored in the cassette stocker 7 and the buffer cassette stocker 8.

【0032】ウェーハカセット4のカセットストッカ7
への収納が完了すると、前記ウェーハ移載機9を作動さ
せ、カセットストッカ7側のウェーハカセット4からウ
ェーハ3を前記ボート11に移載する。
Cassette stocker 7 of wafer cassette 4
When the storage is completed, the wafer transfer machine 9 is operated to transfer the wafer 3 from the wafer cassette 4 on the cassette stocker 7 side to the boat 11.

【0033】前記モータ26の駆動により前記カセット
ストッカ7を横行させ、対象となるウェーハカセット4
が属する収納列と前記ウェーハハンドラ31とを対峙さ
せる。前記モータ28を駆動し、前記スクリューロッド
29を介してウェーハハンドラ31を昇降させ、該ウェ
ーハハンドラ31を対象となるウェーハカセット4に対
峙させる。ウェーハチャック41を回転、更に進退させ
ることでウェーハカセット4のウェーハ3を前記ボート
11に移載する。
By driving the motor 26, the cassette stocker 7 is traversed, and the target wafer cassette 4
The storage row to which the wafer belongs belongs to the wafer handler 31. The motor 28 is driven, and the wafer handler 31 is moved up and down via the screw rod 29 so that the wafer handler 31 faces the target wafer cassette 4. The wafer 3 in the wafer cassette 4 is transferred to the boat 11 by rotating the wafer chuck 41 and further moving it back and forth.

【0034】該ボート11に所定数のウェーハ3が移載
されると、前記モータ35が駆動し、前記スクリューロ
ッド36を介して前記昇降スライダ34が上昇して前記
ボート11を前記反応管13内に装入する。
When a predetermined number of wafers 3 are transferred to the boat 11, the motor 35 is driven and the elevating slider 34 is raised via the screw rod 36 to move the boat 11 into the reaction tube 13. Charge into.

【0035】該反応管13でウェーハ3の表面に薄膜が
成膜される。
A thin film is formed on the surface of the wafer 3 in the reaction tube 13.

【0036】成膜が完了すると、前記モータ35により
前記ボート11が反応管13より引出され、更に前記ウ
ェーハ移載機9によりカセットストッカ7の空となって
いるウェーハカセット4にウェーハ3が移載される。そ
の後のウェーハカセット4の搬送については前述したと
逆の作動によって成される。
When the film formation is completed, the boat 11 is pulled out from the reaction tube 13 by the motor 35, and the wafer 3 is transferred to the empty wafer cassette 4 of the cassette stocker 7 by the wafer transfer machine 9. To be done. Subsequent transportation of the wafer cassette 4 is performed by the operation reverse to that described above.

【0037】以下、本実施例に係るウェーハ移載装置を
説明する。
The wafer transfer device according to this embodiment will be described below.

【0038】先ず、図3、図4により概略を説明する。First, the outline will be described with reference to FIGS.

【0039】昇降アーム37上に前記ウェーハハンドラ
31を回転自在に設ける。該ウェーハハンドラ31は水
平機構部38と1対のチャッキングヘッド39、チャッ
キングヘッド40を有し、該1対のチャッキングヘッド
39、チャッキングヘッド40は前記水平機構部38に
水平方向に独立して進退可能に設けられている。前記チ
ャッキングヘッド39は4枚のウェーハチャック41を
支持し、前記チャッキングヘッド40は最下段に位置す
るウェーハチャック41aを支持している。
The wafer handler 31 is rotatably provided on the elevating arm 37. The wafer handler 31 has a horizontal mechanism 38 and a pair of chucking heads 39 and 40. The pair of chucking heads 39 and 40 are horizontally independent of the horizontal mechanism 38. It is provided so that it can move forward and backward. The chucking head 39 supports four wafer chucks 41, and the chucking head 40 supports the wafer chuck 41a located at the lowermost stage.

【0040】而して、5枚のウェーハ3を一括で処理す
る場合は、前記チャッキングヘッド39、チャッキング
ヘッド40が一体に進退して、ウェーハ3を受載し、ウ
ェーハハンドラ31の回転昇降アーム37の昇降で所要
の場所にウェーハ3を移載する。
When processing five wafers 3 at a time, the chucking head 39 and the chucking head 40 advance and retreat integrally to receive the wafer 3 and rotate the wafer handler 31 up and down. The wafer 3 is transferred to a desired place by raising and lowering the arm 37.

【0041】次に、1枚のウェーハ3を移載する場合
は、前記チャッキングヘッド40のみが進退して、1枚
のウェーハ3を受載し、移載動作を行う。
Next, when one wafer 3 is transferred, only the chucking head 40 moves back and forth to receive one wafer 3 and perform the transfer operation.

【0042】図5に於いて、前記水平機構部38につい
て説明する。
The horizontal mechanism 38 will be described with reference to FIG.

【0043】昇降アーム37の回転機構部42にベース
43を設け、該ベース43にガイドブロック44を設け
る。該ガイドブロック44の両側面にリニアガイド4
5,46を設け、該リニアガイド45,46を介してそ
れぞれスライダ47,48を前記ガイドブロック44に
設ける。前記ガイドブロック44と前記スライダ47と
の間にリニアモータ49を設け、前記ガイドブロック4
4と前記スライダ48との間にリニアモータ50を設け
る。
A base 43 is provided on the rotation mechanism 42 of the lifting arm 37, and a guide block 44 is provided on the base 43. Linear guides 4 are provided on both side surfaces of the guide block 44.
5, 46 are provided, and sliders 47, 48 are provided on the guide block 44 via the linear guides 45, 46, respectively. A linear motor 49 is provided between the guide block 44 and the slider 47,
A linear motor 50 is provided between the slider 4 and the slider 48.

【0044】前記スライダ47に受台51を介して前記
チャッキングヘッド39を設け、前記スライダ48に受
台52を介して前記チャッキングヘッド40を設け、前
記リニアモータ49の駆動により前記チャッキングヘッ
ド39が進退し、前記リニアモータ50の駆動により前
記チャッキングヘッド40が進退する。
The slider 47 is provided with the chucking head 39 via a receiving stand 51, the slider 48 is provided with the chucking head 40 via a receiving stand 52, and the chucking head is driven by driving the linear motor 49. 39 moves forward and backward, and the chucking head 40 moves forward and backward by driving the linear motor 50.

【0045】前記スライダ47にロックプレート54を
設け、又前記ベース43には電磁ロック55を設け、該
電磁ロック55を作動させることで該電磁ロック55と
前記ロックプレート54が係合し、前記スライダ47を
ロックする。
The slider 47 is provided with a lock plate 54, and the base 43 is provided with an electromagnetic lock 55. By operating the electromagnetic lock 55, the electromagnetic lock 55 and the lock plate 54 are engaged, and the slider is moved. Lock 47.

【0046】図6〜図11により、前記チャッキングヘ
ッド39、チャッキングヘッド40を説明する。
The chucking head 39 and the chucking head 40 will be described with reference to FIGS.

【0047】先ずチャッキングヘッド39を説明する。First, the chucking head 39 will be described.

【0048】前記受台51にスライドベース56を固着
し、該スライドベース56に所要の間隔を明けギア基板
57を設ける。該ギア基板57の前後方向、左右方向に
それぞれ位置をずらせて、スライドブロック58、スラ
イドブロック59を立設し、又前記ギア基板57にピッ
チ可変モータ72を設ける。
A slide base 56 is fixed to the pedestal 51, and a gear substrate 57 is provided on the slide base 56 with a required gap. A slide block 58 and a slide block 59 are provided upright by displacing the gear substrate 57 in the front-rear direction and the left-right direction, respectively, and the gear substrate 57 is provided with a variable pitch motor 72.

【0049】前記スライドブロック58,59の両側に
それぞれピッチ可変スライダ60、ピッチ可変スライダ
61、ピッチ可変スライダ62、ピッチ可変スライダ6
3を摺動自在に設ける。前記ピッチ可変スライダ60に
螺子ブロック64を固着すると共にチャック支持アーム
68を固着し、ピッチ可変スライダ61に螺子ブロック
65を固着すると共にチャック支持アーム69を固着
し、ピッチ可変スライダ62に螺子ブロック66を固着
すると共にチャック支持アーム70を固着し、ピッチ可
変スライダ63に螺子ブロック67を固着すると共にチ
ャック支持アーム71を固着する。
A pitch variable slider 60, a pitch variable slider 61, a pitch variable slider 62, and a pitch variable slider 6 are provided on both sides of the slide blocks 58 and 59, respectively.
3 is provided slidably. The screw block 64 and the chuck support arm 68 are fixed to the pitch variable slider 60, the screw block 65 and the chuck support arm 69 are fixed to the pitch variable slider 61, and the screw block 66 is fixed to the pitch variable slider 62. The chuck support arm 70 is fixed, the screw block 67 is fixed to the variable pitch slider 63, and the chuck support arm 71 is fixed.

【0050】前記ギア基板57に対峙させ、中段基板7
3、上段基板74を設ける。前記ギア基板57と前記中
段基板73に掛渡し、垂直な螺子シャフト75を回転自
在に設け、該螺子シャフト75を前記螺子ブロック64
に螺合させる。前記ギア基板57と前記中段基板73に
掛渡し、垂直な螺子シャフト76を回転自在に設け、該
螺子シャフト76を前記螺子ブロック65に螺合させ
る。又、前記ギア基板57と前記上段基板74に掛渡
し、垂直な螺子シャフト77を回転自在に設け、該螺子
シャフト77を前記螺子ブロック66に螺合させる。前
記ギア基板57と前記上段基板74に掛渡し、垂直な螺
子シャフト78を回転自在に設け、該螺子シャフト78
を前記螺子ブロック67に螺合させる。
The gear substrate 57 is opposed to the middle substrate 7
3. Provide the upper substrate 74. A vertical screw shaft 75 is rotatably provided on the gear substrate 57 and the intermediate substrate 73, and the screw shaft 75 is attached to the screw block 64.
Screw it on. The vertical screw shaft 76 is rotatably provided on the gear substrate 57 and the intermediate substrate 73, and the screw shaft 76 is screwed into the screw block 65. Further, a vertical screw shaft 77 is rotatably provided on the gear substrate 57 and the upper substrate 74, and the screw shaft 77 is screwed onto the screw block 66. A vertical screw shaft 78 is rotatably provided on the gear substrate 57 and the upper substrate 74 so as to be rotatable.
Is screwed onto the screw block 67.

【0051】前記螺子シャフト75、螺子シャフト7
6、螺子シャフト77、螺子シャフト78の下端を前記
ギア基板57より下方に突出させ、前記螺子シャフト7
5の下端にプーリ79、螺子シャフト76の下端にプー
リ80、螺子シャフト77の下端にプーリ81、螺子シ
ャフト78の下端にプーリ82をそれぞれ嵌着し、前記
ピッチ可変モータ72の出力軸にプーリ83を嵌着す
る。前記プーリ79、プーリ80、プーリ81、プーリ
82、プーリ83にベルト84を掛回し、該ベルト84
にはテンションプーリ85によって、所要の張力を付与
する。
The screw shaft 75, the screw shaft 7
6, the lower ends of the screw shaft 77 and the screw shaft 78 are projected downward from the gear substrate 57, and the screw shaft 7
5, a pulley 79 is fitted to the lower end of the screw shaft 76, a pulley 80 is fitted to the lower end of the screw shaft 76, a pulley 81 is fitted to the lower end of the screw shaft 77, and a pulley 82 is fitted to the lower end of the screw shaft 78, and a pulley 83 is fitted to the output shaft of the variable pitch motor 72. Fit in. A belt 84 is wound around the pulley 79, the pulley 80, the pulley 81, the pulley 82, and the pulley 83, and the belt 84
A required tension is applied by a tension pulley 85.

【0052】而して、前記ピッチ可変モータ72を駆動
して前記プーリ83を回転させることで、前記ベルト8
4を介してプーリ79、プーリ80、プーリ81、プー
リ82が同期回転し、更に前記螺子シャフト75、螺子
シャフト76、螺子シャフト77、螺子シャフト78が
同期回転する。
By driving the variable pitch motor 72 to rotate the pulley 83, the belt 8
4, the pulley 79, the pulley 80, the pulley 81, and the pulley 82 rotate synchronously, and further, the screw shaft 75, the screw shaft 76, the screw shaft 77, and the screw shaft 78 rotate synchronously.

【0053】前記螺子シャフト75、螺子シャフト7
6、螺子シャフト77、螺子シャフト78はそのピッチ
が螺子シャフト75を基準として2倍、3倍、4倍とな
っており、前記ピッチ可変モータ72を駆動すること
で、前記螺子ブロック64、螺子ブロック65、螺子ブ
ロック66、螺子ブロック67は等間隔を維持して上下
方向に移動する様になっている。
The screw shaft 75, the screw shaft 7
6, the pitches of the screw shaft 77 and the screw shaft 78 are 2 times, 3 times and 4 times with respect to the screw shaft 75, and the screw block 64 and the screw block are driven by driving the variable pitch motor 72. The screw block 65, the screw block 66, and the screw block 67 are arranged to move in the vertical direction at equal intervals.

【0054】前記チャック支持アーム68に第2チャッ
クホルダ86を、前記チャック支持アーム69に第3チ
ャックホルダ87を、前記チャック支持アーム71に第
4チャックホルダ88を、前記チャック支持アーム70
に第5チャックホルダ89をそれぞれ取付ける。前記第
2チャックホルダ86にウェーハチャック41bを、前
記第3チャックホルダ87にウェーハチャック41c
を、第4チャックホルダ88にウェーハチャック41d
を、第5チャックホルダ89にウェーハチャック41e
をそれぞれ保持させ、ウェーハチャック41b、ウェー
ハチャック41c、ウェーハチャック41d、ウェーハ
チャック41eが前記ウェーハチャック41aを基準と
して順次、2段目、3段目、4段目、5段目となる様に
する。
A second chuck holder 86 is attached to the chuck support arm 68, a third chuck holder 87 is attached to the chuck support arm 69, a fourth chuck holder 88 is attached to the chuck support arm 71, and a chuck support arm 70 is attached.
The fifth chuck holder 89 is attached to each. The second chuck holder 86 has the wafer chuck 41b, and the third chuck holder 87 has the wafer chuck 41c.
The wafer chuck 41d to the fourth chuck holder 88.
The wafer chuck 41e to the fifth chuck holder 89.
To hold the wafer chuck 41b, the wafer chuck 41c, the wafer chuck 41d, and the wafer chuck 41e in order of the second stage, the third stage, the fourth stage, and the fifth stage on the basis of the wafer chuck 41a. .

【0055】ここで前記第2チャックホルダ86、第3
チャックホルダ87、第4チャックホルダ88、第5チ
ャックホルダ89、第1チャックホルダ90は前後、左
右に位置が異なるが、ウェーハチャック41a、ウェー
ハチャック41b、ウェーハチャック41c、ウェーハ
チャック41d、ウェーハチャック41eは正確に重厚
するよう各チャックホルダとウェーハチャックとの関係
を定める。
Here, the second chuck holder 86 and the third chuck holder 86
Although the positions of the chuck holder 87, the fourth chuck holder 88, the fifth chuck holder 89, and the first chuck holder 90 are different in the front-rear direction and the left-right direction, the wafer chuck 41a, the wafer chuck 41b, the wafer chuck 41c, the wafer chuck 41d, the wafer chuck 41e. Defines the relationship between each chuck holder and the wafer chuck so that the weight is accurately weighted.

【0056】而して、前記ピッチ可変モータ72を駆動
し、前記螺子シャフト75、螺子シャフト76、螺子シ
ャフト77、螺子シャフト78を回転させれば、前記ウ
ェーハチャック41b、ウェーハチャック41c、ウェ
ーハチャック41d、ウェーハチャック41eは等間隔
の関係を維持して上方へ移動する様になっている。
By driving the variable pitch motor 72 and rotating the screw shaft 75, the screw shaft 76, the screw shaft 77, and the screw shaft 78, the wafer chuck 41b, the wafer chuck 41c, and the wafer chuck 41d are rotated. The wafer chucks 41e move upward while maintaining the relationship of equal intervals.

【0057】次に、チャッキングヘッド40を説明す
る。
Next, the chucking head 40 will be described.

【0058】前記受台52にスライドベース91を固着
し、該スライドベース91に側板92を立設し、該側板
92の前端を前方に延出し、該端部に第1チャックホル
ダ90を固着し、該第1チャックホルダ90には前記ウ
ェーハチャック41aを保持させる。前記側板92に垂
直な連結シリンダ93を設け、該連結シリンダ93のロ
ッド先端にはロックブロック94を設ける。
A slide base 91 is fixed to the pedestal 52, a side plate 92 is erected on the slide base 91, a front end of the side plate 92 is extended forward, and a first chuck holder 90 is fixed to the end portion. The first chuck holder 90 holds the wafer chuck 41a. A connecting cylinder 93 perpendicular to the side plate 92 is provided, and a lock block 94 is provided at the rod tip of the connecting cylinder 93.

【0059】前記チャッキングヘッド39のギア基板5
7に連結プレート95を設け、該連結プレート95は前
記側板92を遊嵌し、前記連結シリンダ93の下方まで
延出している。該連結プレート95には前記ロックブロ
ック94が嵌合する連結孔96が穿設されている。
Gear substrate 5 of the chucking head 39
7, a connecting plate 95 is provided, and the connecting plate 95 loosely fits the side plate 92 and extends below the connecting cylinder 93. A connecting hole 96 into which the lock block 94 is fitted is formed in the connecting plate 95.

【0060】以下、プレートの移載作動について説明す
る。
The plate transfer operation will be described below.

【0061】移載を行わない休止状態では、前記ロック
プレート54と前記電磁ロック55とが係合し、又前記
ロックブロック94が前記連結プレート95に嵌合して
チャッキングヘッド39、チャッキングヘッド40は固
定の状態にある。
In the resting state in which the transfer is not performed, the lock plate 54 and the electromagnetic lock 55 are engaged with each other, and the lock block 94 is fitted to the connecting plate 95 so that the chucking head 39 and the chucking head are engaged. 40 is in a fixed state.

【0062】前記ウェーハチャック41a、ウェーハチ
ャック41b、ウェーハチャック41c、ウェーハチャ
ック41d、ウェーハチャック41eによるウェーハの
5枚一括移載を行う場合は、先ずこれらウェーハチャッ
クの間隔を移載すべきウェーハのピッチに合致させる。
前記した様に、ピッチ可変モータ72を駆動してプーリ
83を回転させ、ベルト84を介してプーリ79、プー
リ80、プーリ81、プーリ82を回転させる。前記螺
子シャフト75、螺子シャフト76、螺子シャフト7
7、螺子シャフト78が回転し、螺子ブロック64、螺
子ブロック65、螺子ブロック66、螺子ブロック67
を介して前記ピッチ可変スライダ60、ピッチ可変スラ
イダ61、ピッチ可変スライダ62、ピッチ可変スライ
ダ63、螺子ブロック64が移動して、前記チャック支
持アーム68、第2チャックホルダ86を介して、前記
チャック支持アーム69、第3チャックホルダ87を介
して、前記チャック支持アーム71、第4チャックホル
ダ88を介して、前記チャック支持アーム70、第5チ
ャックホルダ89を介して前記ウェーハチャック41
b、ウェーハチャック41c、ウェーハチャック41
d、ウェーハチャック41eがそれぞれ異なる移動量で
上方へ移動し、前記ウェーハチャック41aを基準とし
てピッチを変更する。
When transferring five wafers at a time by the wafer chuck 41a, the wafer chuck 41b, the wafer chuck 41c, the wafer chuck 41d, and the wafer chuck 41e, first, the distance between these wafer chucks is set to the pitch of the wafers to be transferred. To match.
As described above, the variable pitch motor 72 is driven to rotate the pulley 83, and the pulley 79, the pulley 80, the pulley 81, and the pulley 82 are rotated via the belt 84. The screw shaft 75, the screw shaft 76, the screw shaft 7
7, the screw shaft 78 rotates, and the screw block 64, the screw block 65, the screw block 66, the screw block 67.
The pitch variable slider 60, the pitch variable slider 61, the pitch variable slider 62, the pitch variable slider 63, and the screw block 64 move through the chuck supporting arm 68 and the second chuck holder 86 to support the chuck. The wafer chuck 41 via the arm 69, the third chuck holder 87, the chuck support arm 71, the fourth chuck holder 88, the chuck support arm 70, and the fifth chuck holder 89.
b, wafer chuck 41c, wafer chuck 41
d, the wafer chuck 41e moves upward by different moving amounts, and the pitch is changed with the wafer chuck 41a as a reference.

【0063】ウェーハチャック41のピッチの調整が完
了すると、前記電磁ロック55を作動させロックプレー
ト54との係合を解除し、スライダ47を移動可能とす
る。前記リニアモータ49、リニアモータ50の双方、
或はいずれか1方を駆動してチャッキングヘッド39、
チャッキングヘッド40を一体的に前進させ、前記ウェ
ーハチャック41をウェーハの下方に位置させる。前記
モータ28(図2参照)を駆動し、前記スクリューロッ
ド29を介して昇降アーム37を上昇させ、各ウェーハ
チャック41にウェーハを受載する。前記リニアモータ
49、リニアモータ50の双方、或はいずれか1方を駆
動してチャッキングヘッド39、チャッキングヘッド4
0を一体的に後退させ、ウェーハを引出す。
When the adjustment of the pitch of the wafer chuck 41 is completed, the electromagnetic lock 55 is operated to release the engagement with the lock plate 54, and the slider 47 can be moved. Both the linear motor 49 and the linear motor 50,
Alternatively, any one of them is driven to drive the chucking head 39,
The chucking head 40 is integrally advanced to position the wafer chuck 41 below the wafer. The motor 28 (see FIG. 2) is driven, the elevating arm 37 is raised via the screw rod 29, and the wafer is loaded on each wafer chuck 41. The chucking head 39 and the chucking head 4 are driven by driving both the linear motor 49 and the linear motor 50, or any one of them.
0 is retracted integrally and the wafer is pulled out.

【0064】ウェーハハンドラ31の回転、昇降アーム
37の昇降の組合わせで、受載したウェーハを移載すべ
き位置迄移動し、前記リニアモータ49、リニアモータ
50の双方、或はいずれか1方を駆動してチャッキング
ヘッド39、チャッキングヘッド40を一体的に前進さ
せ、更に前記昇降アーム37を下降させることで移載を
完了する。
A combination of the rotation of the wafer handler 31 and the raising / lowering of the raising / lowering arm 37 moves the received wafer to a position where the wafer should be transferred, and either one of the linear motor 49 and the linear motor 50, or either one of them. Is moved to integrally move the chucking head 39 and the chucking head 40 forward, and the elevating arm 37 is further lowered to complete the transfer.

【0065】次に、1枚ずつのウェーハ移載について説
明する。スライダ47を前記電磁ロック55で固定し、
又前記連結シリンダ93を作動させ、ロックブロック9
4と連結プレート95の係合を解除し、チャッキングヘ
ッド40が単体で移動可能とする。
Next, the transfer of wafers one by one will be described. Fix the slider 47 with the electromagnetic lock 55,
Further, the connecting cylinder 93 is operated to operate the lock block 9
4 and the connection plate 95 are disengaged so that the chucking head 40 can move independently.

【0066】前記リニアモータ50を駆動して、前記チ
ャッキングヘッド40を前進させ、最下段のウェーハチ
ャック41aをウェーハの下方に位置させる。前記モー
タ28を駆動し、前記スクリューロッド29を介して昇
降アーム37を上昇させ、前記ウェーハチャック41a
にウェーハを受載する。前記リニアモータ50を駆動し
て、前記チャッキングヘッド40を後退させ、1枚のウ
ェーハを引出す。
The linear motor 50 is driven to move the chucking head 40 forward so that the lowermost wafer chuck 41a is positioned below the wafer. The wafer chuck 41a is driven by driving the motor 28 and raising the elevating arm 37 via the screw rod 29.
Place the wafer on. The linear motor 50 is driven to retract the chucking head 40 and pull out one wafer.

【0067】ウェーハハンドラ31の回転、昇降アーム
37の昇降の組合わせで、受載したウェーハを移載すべ
き位置迄移動し、前記リニアモータ50を駆動してチャ
ッキングヘッド40を前進させ、更に前記昇降アーム3
7を下降させることで移載を完了する。
A combination of the rotation of the wafer handler 31 and the raising / lowering of the raising / lowering arm 37 moves the received wafer to a position where it should be transferred, and drives the linear motor 50 to move the chucking head 40 forward. The lifting arm 3
The transfer is completed by lowering 7.

【0068】而して、複数枚一括の移載と、1枚ずつの
移載を自在に選択して行うことができる。
Thus, it is possible to freely select and transfer a plurality of sheets at a time or transfer one sheet at a time.

【0069】尚、前記チャッキングヘッド39は4枚の
ウェーハチャック41を設けたが3枚以下、或は5枚以
上のウェーハチャック41を設けても良い。更にチャッ
キングヘッド39は保持するウェーハの間隔を変更可能
な機能を持たせたが、複数枚のウェーハチャック41を
固定的に設けても良いことは言う迄もない。
Although the chucking head 39 has four wafer chucks 41, it may have three or less wafer chucks 41 or five or more wafer chucks 41. Further, the chucking head 39 has a function of changing the distance between the held wafers, but it goes without saying that a plurality of wafer chucks 41 may be fixedly provided.

【0070】又、前記チャッキングヘッド40には2枚
或は複数枚のウェーハチャック41を設けても良い。
The chucking head 40 may be provided with two or more wafer chucks 41.

【0071】[0071]

【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、ウェー
ハハンドラの構造が単純になり、小型軽量化が可能とな
り、軽量化により動作速度を早くでき、装置の処理速度
向上に寄与し、ウェーハハンドラの作動に要する空間が
少なくてすむ等から、ウェーハ移載装置設置スペースの
節約が可能で更にウェーハチャックの形状の制約が少な
くなり、自由度が増大する等の種々の優れた効果を発揮
する。
As described above, according to the present invention, the structure of the wafer handler is simplified, and the size and weight of the wafer handler can be reduced. Due to the weight reduction, the operating speed can be increased and the processing speed of the device can be improved. Since the space required for the operation of the handler is small, etc., it is possible to save the installation space of the wafer transfer device, further reduce the restrictions on the shape of the wafer chuck, and exhibit various excellent effects such as increased flexibility. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明が実施される半導体製造装置の外観図で
ある。
FIG. 1 is an external view of a semiconductor manufacturing apparatus in which the present invention is implemented.

【図2】同前半導体製造装置の内部機構の斜視図であ
る。
FIG. 2 is a perspective view of an internal mechanism of the same semiconductor manufacturing apparatus.

【図3】本実施例の要部を示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing a main part of the present embodiment.

【図4】同前実施例の要部の作動の状態を示す斜視図で
ある。
FIG. 4 is a perspective view showing an operating state of a main part of the embodiment.

【図5】図3のA矢視図である。5 is a view on arrow A of FIG. 3. FIG.

【図6】図3のB矢視図である。FIG. 6 is a view on arrow B of FIG.

【図7】図3のC矢視図である。FIG. 7 is a view on arrow C of FIG.

【図8】図3のD矢視図である。FIG. 8 is a view on arrow D in FIG.

【図9】図3のE矢視図である。9 is a view on arrow E of FIG.

【図10】図7のF矢視図である。10 is a view on arrow F of FIG. 7. FIG.

【図11】図7のG矢視図である。11 is a view on arrow G in FIG. 7. FIG.

【図12】従来例の要部を示す斜視図である。FIG. 12 is a perspective view showing a main part of a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

9 ウェーハ移載機 28 モータ 29 スクリューロッド 31 ウェーハハンドラ 37 昇降アーム 38 水平機構部 39 チャッキングヘッド 40 チャッキングヘッド 41 ウェーハチャック 47 スライダ 48 スライダ 49 リニアモータ 50 リニアモータ 55 電磁ロック 72 ピッチ可変モータ 75 螺子シャフト 76 螺子シャフト 77 螺子シャフト 78 螺子シャフト 93 連結シリンダ 9 Wafer Transfer Machine 28 Motor 29 Screw Rod 31 Wafer Handler 37 Elevating Arm 38 Horizontal Mechanism 39 Chucking Head 40 Chucking Head 41 Wafer Chuck 47 Slider 48 Slider 49 Linear Motor 50 Linear Motor 55 Electromagnetic Lock 72 Pitch Variable Motor 75 Screw Shaft 76 Screw shaft 77 Screw shaft 78 Screw shaft 93 Connection cylinder

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 昇降可能な昇降アームに水平機構部を回
転可能に設け、該水平機構部が2つの独立して進退可能
なスライダを具備し、該2つのスライダにそれぞれチャ
ッキングヘッドが設けられ、該2つのチャッキングヘッ
ドがそれぞれウェーハを受載可能なウェーハチャックを
有することを特徴とするウェーハ移載装置。
1. A lifting mechanism capable of lifting and lowering is provided with a horizontal mechanism unit rotatably, said horizontal mechanism unit comprising two independently movable sliders, and said two sliders are respectively provided with chucking heads. A wafer transfer device, wherein each of the two chucking heads has a wafer chuck capable of receiving a wafer.
【請求項2】 1方のチャッキングヘッドが所要枚数の
ウェーハチャックを有し、他方のチャッキングヘッドが
1枚のウェーハチャックを有する請求項1のウェーハ移
載装置。
2. The wafer transfer device according to claim 1, wherein one chucking head has a required number of wafer chucks, and the other chucking head has one wafer chuck.
【請求項3】 2つのチャッキングヘッドが連結解除可
能である請求項1のウェーハ移載装置。
3. The wafer transfer device according to claim 1, wherein the two chucking heads can be disconnected.
【請求項4】 所要枚数のウェーハチャックを有するチ
ャッキングヘッドがウェーハチャックのピッチ可変機構
を有する請求項2のウェーハ移載装置。
4. The wafer transfer device according to claim 2, wherein the chucking head having a required number of wafer chucks has a wafer chuck pitch varying mechanism.
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