JPH0568102B2 - - Google Patents

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JPH0568102B2
JPH0568102B2 JP62214345A JP21434587A JPH0568102B2 JP H0568102 B2 JPH0568102 B2 JP H0568102B2 JP 62214345 A JP62214345 A JP 62214345A JP 21434587 A JP21434587 A JP 21434587A JP H0568102 B2 JPH0568102 B2 JP H0568102B2
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JP
Japan
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wafer
jig
wafers
chuck
boat
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JP62214345A
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Japanese (ja)
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JPS6457730A (en
Inventor
Takayasu Asano
Kenichi Kinoshita
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Tokyo Electron Sagami Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Sagami Ltd
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Publication date
Application filed by Tokyo Electron Sagami Ltd filed Critical Tokyo Electron Sagami Ltd
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Publication of JPS6457730A publication Critical patent/JPS6457730A/en
Publication of JPH0568102B2 publication Critical patent/JPH0568102B2/ja
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、ウエハ移替方法に関する。[Detailed description of the invention] [Industrial application field] The present invention relates to a wafer transfer method.

[従来の技術] 周知の如く、半導体装置はインゴツトから切出
され、表面加工処理がなされたウエハへの熱酸化
処理、不純物の拡散処理、膜堆積処理、エツチン
グ処理等の多数の工程を経て製造されている。例
えば、膜堆積処理工程をおいては前工程の処理が
完了した複数枚のウエハを収納した治具(例えば
キヤリア)を複数用意し、これらキヤリア内のウ
エハを膜堆積処理用の別の治具(例えば石英ボー
ト)に移替を行なつた後、この石英ボートを熱処
理炉内に搬送し、炉内を所定の温度に保持しなが
ら、各種の反応ガスを供給してボートに立てられ
た各ウエハ表面に所定の膜を堆積する方法が採用
されている。
[Prior Art] As is well known, semiconductor devices are manufactured through a number of steps such as thermal oxidation treatment, impurity diffusion treatment, film deposition treatment, and etching treatment on a wafer that is cut from an ingot and subjected to surface treatment. has been done. For example, in a film deposition process, multiple jigs (such as carriers) containing multiple wafers that have been processed in the previous process are prepared, and the wafers in these carriers are moved to another jig for film deposition. After transferring to a quartz boat (for example, a quartz boat), this quartz boat is transported into a heat treatment furnace, and while maintaining the inside of the furnace at a predetermined temperature, various reaction gases are supplied to each A method is adopted in which a predetermined film is deposited on the wafer surface.

上述した石英ボートへのウエハの移替について
は、通常、石英ボートの2本又は4本の支持棒に
垂直方向に切込まれた複数の溝にウエハを差込ん
で立てる方法(例えば特開昭54−34774号、特開
昭54−19673号、特開昭60−19656号等)が提案さ
れている。これに対し、最近、石英ボートの支持
棒に複数の溝を垂直方向に対し所望の角度を傾斜
させて切込み、これらの溝のウエハを差込んで立
てる方法が行われている。このようにウエハを傾
斜してボートに立かけると、石英ボートを熱処理
炉内に搬送し、炉内を所定の温度を保持しながら
各種の反応ガスを供給する際、ガスが各ウエハの
表面に均一に流れて、均一な厚さの膜堆積が可能
となること、繰返しの使用によりボートの溝形状
が変化しても、溝を垂直方向に切込んだ場合のよ
うに隣接するウエハの傾斜方向がまちまちとなる
のを回避して傾斜方向を一定方向に維持できるこ
と、等の利点を有する。
The method of transferring wafers to the quartz boat mentioned above is usually by inserting the wafers into a plurality of grooves vertically cut into two or four support rods of the quartz boat (for example, the method of 54-34774, JP-A-54-19673, JP-A-60-19656, etc.). On the other hand, recently, a method has been used in which a plurality of grooves are cut in the support rod of a quartz boat at a desired angle to the vertical direction, and wafers are inserted into these grooves to stand up. If the wafers are placed on the boat at an angle like this, when the quartz boat is transported into the heat treatment furnace and various reaction gases are supplied while maintaining the furnace interior at a predetermined temperature, the gases will flow onto the surface of each wafer. Even if the groove shape of the boat changes due to repeated use, the inclination direction of adjacent wafers remains the same as when the grooves are cut vertically. This has advantages such as being able to maintain the inclination direction in a constant direction while avoiding variations in the angle.

ところで、前述した石英ボートの支持棒に傾斜
して切込んだ複数の溝へのウエハの移替装置とし
ては、従来、実開昭61−136543号のもが知られて
いる。この移替装置は、キヤリア内の複数枚のウ
エハを上方に押し上げる押し上げ部材と、この押
し上げ部材により押し上げられた複数枚のウエハ
を保持する上下動及び開閉自在なウエハチヤツク
と、このウエハチヤツクからの複数枚のウエハが
移替られる上下動自在な傾斜した取付台とから構
成されている。
By the way, as a device for transferring wafers into a plurality of grooves cut obliquely into the support rod of the quartz boat mentioned above, the device disclosed in Japanese Utility Model Application No. 136543/1983 is known. This transfer device includes a pushing member that pushes up a plurality of wafers in a carrier, a wafer chuck that can move up and down and can be opened and closed to hold the plurality of wafers pushed up by the pushing member, and a wafer chuck that holds the plurality of wafers pushed up by the push-up member, and It consists of an inclined mounting table that is vertically movable and onto which the wafers are transferred.

[発明が解決しようとする問題点] しかしながら、上述した移替装置ではウエハが
移替られる取付台が上下動するため、複数個のキ
ヤリアからウエハを取付台に移替を行なう場合、
2回目以降の移替操作において既に立掛けられた
ウエハは該取付台の上下方向への動作時に振動の
影響を受ける。しかも、ウエハチヤツクに保持さ
れた複数枚のウエハを取付台に移替を行なう際、
取付台をウエハチヤツク間を挿通させる必要があ
るため、取付台の幅が制約される。その結果、取
付台にウエハを安定的に移替を行なうことが困難
となる。従つて、取付台の上下動による既に立掛
けられたウエハへの振動の影響、及び取付台の幅
の制約によるウエハの保持性の不安定化によつ
て、移替操作時にウエハの脱落や隣接するウエハ
同志の接触による損傷発生等の問題があつた。
[Problems to be Solved by the Invention] However, in the above-mentioned transfer device, the mount on which the wafer is transferred moves up and down, so when transferring wafers from a plurality of carriers to the mount,
In the second and subsequent transfer operations, the wafers that have already been propped up are affected by vibrations when the mount moves in the vertical direction. Moreover, when transferring multiple wafers held in a wafer chuck to a mounting table,
Since it is necessary to insert the mount between the wafer chucks, the width of the mount is restricted. As a result, it becomes difficult to stably transfer the wafer to the mount. Therefore, due to the effect of vibration on wafers already placed on the wafer due to the vertical movement of the mount, and the instability of wafer retention due to the width constraints of the mount, wafers may fall off or be adjacent to each other during transfer operations. There were problems such as damage caused by contact between wafers.

本発明は、上記従来の問題点を解決するために
なされたもので、キヤリア等の第1治具に収納さ
れた複数枚のウエハを石英ボート等の第2治具の
傾斜した溝に安定的に移替できるウエハ移替方法
を提供しようとするものである。
The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, and it is possible to stably transfer a plurality of wafers housed in a first jig such as a carrier into an inclined groove of a second jig such as a quartz boat. The purpose is to provide a wafer transfer method that can transfer wafers.

[問題点を解決するための手段] 本発明は、第1治具に収納された複数枚のウエ
ハを、垂直方向に対して所望の角度で傾斜した溝
が複数切られた第2治具に移替する方法におい
て、前記第1治具内の複数枚のウエハをウエハチ
ヤツクにより各ウエハの下端が一端側から他端側
に向かつて順次水平方向に対し前記溝の傾斜角度
に相当する角度上に位置するように保持する工程
と、このウエハチヤツクを溝が垂直方向に向くよ
うに傾斜して固定された前記第2治具の上方に移
動させ、該ウエハチヤツクを下降させてウエハチ
ヤツク内の各ウエハを第2治具の溝に夫々立てか
ける工程とを具備したことを特徴とするものであ
る。
[Means for Solving the Problems] The present invention moves a plurality of wafers stored in a first jig to a second jig in which a plurality of grooves are cut at a desired angle with respect to the vertical direction. In the transfer method, the plurality of wafers in the first jig are sequentially moved from one end side to the other end side by a wafer chuck so that the lower end of each wafer is placed at an angle corresponding to the inclination angle of the groove with respect to the horizontal direction. the wafer chuck is moved above the second jig which is tilted and fixed so that the grooves are oriented in the vertical direction, and the wafer chuck is lowered to place each wafer in the wafer chuck in the second jig. The method is characterized by comprising a step of leaning the jigs against the grooves of the two jigs, respectively.

[作用] 本発明によれば、第1治具内の複数枚のウエハ
をウエハチヤツクにより各ウエハの下端が一端側
から他端側に向かつて順次水平方向に対し前記溝
の傾斜角度に相当する角度上に位置するように保
持し、つづいてこのウエハチヤツクを溝が垂直方
向に向くように傾斜して固定された前記第2治具
の上方に移動させ、該ウエハチヤツクを下降させ
てウエハチヤツク内の各ウエハを第2の治具の溝
に夫々立てかけることによつて、第1治具内の複
数枚のウエハを第2治具の傾斜した溝に安定的に
移替できる。しかも、2回目以降のウエハの移替
操操においても既に第2治具に移替られたウエハ
に振動の影響を受けることなく安定的に移替でき
る。
[Function] According to the present invention, the plurality of wafers in the first jig are sequentially moved from one end side to the other end side by wafer chucking, and the lower end of each wafer is sequentially bent at an angle corresponding to the inclination angle of the groove with respect to the horizontal direction. Then, the wafer chuck is held above the second jig, which is tilted and fixed so that the grooves are oriented vertically, and the wafer chuck is lowered to remove each wafer in the wafer chuck. By leaning the wafers against the grooves of the second jig, the plurality of wafers in the first jig can be stably transferred to the inclined grooves of the second jig. Moreover, even in the second and subsequent wafer transfer operations, the wafers that have already been transferred to the second jig can be stably transferred without being affected by vibrations.

[発明の実施例] 以下、本発明の一実施例を図面を参照して詳細
に説明する。
[Embodiment of the Invention] Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図中の1は、ボツクス形のハウジングであ
る。このハウジング1上には、キヤリアステージ
2及びボートステージ3が同一線上に位置するよ
うに設けられている。また、前記ハウジング1側
壁には並置して操作パネル4が設けられている。
1 in FIG. 1 is a box-shaped housing. A carrier stage 2 and a boat stage 3 are provided on the housing 1 so as to be located on the same line. Further, an operation panel 4 is provided on the side wall of the housing 1 in parallel.

前記キヤリアステージ2には、第4図A〜Dに
示すように後述する突き上げ機構の押上板出没用
穴5が載置されるべきキヤリアに対応して開口さ
れている。また、前記ボートステージ3上には一
対のボート支持部材6a,6bが所定の間隔をあ
けて立設されている。これらボート支持部材6
a,6bは、頂部間の傾斜角度を該支持部材6
a,6bに載置されるべき石英ボート溝の傾斜角
度(Θ)に相当するように設定されている。
As shown in FIGS. 4A to 4D, the carrier stage 2 has holes 5 for projecting and retracting a push-up plate of a push-up mechanism, which will be described later, corresponding to the carriers to be placed thereon. Furthermore, a pair of boat support members 6a and 6b are erected on the boat stage 3 with a predetermined interval therebetween. These boat support members 6
a and 6b indicate the angle of inclination between the tops of the support member 6.
It is set to correspond to the inclination angle (Θ) of the quartz boat groove to be placed on points a and 6b.

前記キヤリアステージ2及びボートステージ3
より手前側の前記ハウジング1には、長穴7が開
孔されていう。この長穴7の下方には、第2図に
示すように2本のガイド軸8a,8bが互いに平
行となるように配設されている。これらガイド軸
8a,8b上には、摺動テーブル9が載置されて
いる。このテーブル9上には、係合板10が立設
され、かつ該係合板10には前記ガイド軸8a,
8bと平行に配置されたボールネジ11が螺合さ
れている。このボートネジ11の一端は、支持板
12に軸支され、かつ他端はパルスモータ13に
連結されている。このモータ13は、モータ駆動
回路14に接続され、かつ該駆動回路14は制御
回路15接続されている。つまり、前記制御回路
15から所定の信号を駆動回路14に出力するこ
とによりパルスモータ13が駆動し、該モータ1
3と連結されたボールネジ11が回転する。ボー
ルネジ11の回転により、該ボールネジ11に係
合板10を介して係合された摺動テーブル9が2
本のガイドレール8a,8bに沿つて移動する。
Said carrier stage 2 and boat stage 3
An elongated hole 7 is formed in the housing 1 on the nearer side. Below the elongated hole 7, two guide shafts 8a and 8b are arranged parallel to each other, as shown in FIG. A sliding table 9 is placed on these guide shafts 8a and 8b. An engagement plate 10 is erected on the table 9, and the guide shaft 8a,
A ball screw 11 arranged parallel to 8b is screwed together. One end of this boat screw 11 is pivotally supported by a support plate 12, and the other end is connected to a pulse motor 13. This motor 13 is connected to a motor drive circuit 14, and the drive circuit 14 is connected to a control circuit 15. That is, by outputting a predetermined signal from the control circuit 15 to the drive circuit 14, the pulse motor 13 is driven, and the motor 1
The ball screw 11 connected to 3 rotates. Due to the rotation of the ball screw 11, the sliding table 9, which is engaged with the ball screw 11 via the engagement plate 10, moves 2
The book moves along guide rails 8a and 8b.

前記テーブル9上には、突き上げ機構16が設
けられている。この突き上げ機構16は、上下動
するピストン17を有する第1のシリンダ18
と、このピストン17の上端にに取着され、該ピ
ストン17の上下動作により前記キヤリアステー
ジ2の穴5を通して出没される円弧状の溝を複数
形成した押上板19とか構成されている。また、
前記テーブル9上部分には、上下動する一対のピ
ストン20a,20bを有する第2のシリンダ2
1が設けられてている。これらピストン20a,
20bの先端には、第3図に示すようにチヤツク
駆動機構22設けられている。この駆動機構22
は、本体23から水平方向に延びる前進・後退が
自在な4本の作動軸24a〜24dと、該本体2
3内に位置する前記各作動軸24a〜24dの後
端に設けられ、各作動軸24a,24bと24
c,24dを互いに反対方向に駆動する歯車系
(図示せず)と、この歯車系を回転されるモータ
(図示せず)とから構成されている。前記チヤツ
ク駆動機構22には、ウエハチヤツク25が取付
けられている。このウエハチヤツク25は、互い
に平行して対向配置された一対の開閉板26a,
26bを備えている。前記本体23に近い側に位
置する一方の開閉板26aは、前記4本の作動軸
24a〜24d中の同一方向に動作する2本(例
えば24a,24b)の先端に下面が水平方向に
対して角度Θの傾きをもつて支持されている。ま
た、他方の開閉板24bは前記一方の開閉板26
aを貫通し同一方向に動作する残り2本の作動軸
24c,24dの先端に下面が水平方向に対して
角度Θの傾きをもつて支持されている。前記各開
閉板26a,26bの中央付近から下端に亙る内
面には、夫々ウエハを保持する保持部27a,2
7bが取付けられており、かつこれら保持部27
a,27bの内面には上端から下端に延びる複数
の爪がその幅方向に亙つて形成されている。こう
したチヤツク駆動機構22において、該駆動機構
22のモータを作動すると本体23に近い側のウ
エハチヤツク25の開閉板26aを支持する2本
の作動軸24a,24bが後退し、他方の開閉板
26bを支持する2本の作動軸24c,24dが
前進して一対の開閉板26a,26bが開かれ
る。また、夫々の開閉板26a,26bを支持す
る作動軸24a,24bと24c,24dを前記
と反対方向に動作させると、一対の開閉板26
a,26bが閉じられる。なお、前記ボールネジ
11を回転させるパルスモータ13、第1、第2
のシリンダ18,21及びチヤツク駆動機構22
は前記操作パネル4に設けられた図示しない制御
装置からのプログラミング信号により移替に必要
なタイミングで動作される。
A push-up mechanism 16 is provided on the table 9. This thrusting mechanism 16 includes a first cylinder 18 having a piston 17 that moves up and down.
A push-up plate 19 is attached to the upper end of the piston 17, and has a plurality of arcuate grooves formed therein that extend and retract through the hole 5 of the carrier stage 2 as the piston 17 moves up and down. Also,
A second cylinder 2 having a pair of pistons 20a and 20b that moves up and down is disposed above the table 9.
1 is provided. These pistons 20a,
At the tip of 20b, a chuck drive mechanism 22 is provided as shown in FIG. This drive mechanism 22
The main body 2 has four actuating shafts 24a to 24d that extend horizontally from the main body 23 and can freely move forward and backward.
Each of the operating shafts 24a, 24b and 24 is provided at the rear end of each operating shaft 24a to 24d located within the
It consists of a gear system (not shown) that drives the gears c and 24d in opposite directions, and a motor (not shown) that rotates this gear system. A wafer chuck 25 is attached to the chuck drive mechanism 22. This wafer chuck 25 includes a pair of opening/closing plates 26a, which are arranged parallel to each other and facing each other.
26b. One opening/closing plate 26a located on the side closer to the main body 23 has a lower surface at the tips of two of the four operating shafts 24a to 24d (for example, 24a and 24b) that operate in the same direction, with the lower surface facing the horizontal direction. It is supported at an angle Θ. Further, the other opening/closing plate 24b is connected to the one opening/closing plate 24b.
The remaining two operating shafts 24c and 24d, which pass through the shaft a and move in the same direction, are supported at their tips with their lower surfaces inclined at an angle Θ with respect to the horizontal direction. Holding portions 27a and 2 for holding wafers are provided on the inner surfaces of the opening and closing plates 26a and 26b from near the center to the lower ends, respectively.
7b is attached, and these holding parts 27
A plurality of claws extending from the upper end to the lower end are formed on the inner surfaces of a and 27b in the width direction thereof. In such a chuck drive mechanism 22, when the motor of the drive mechanism 22 is operated, the two operating shafts 24a and 24b that support the opening/closing plate 26a of the wafer chuck 25 on the side closer to the main body 23 move backward, and support the other opening/closing plate 26b. The two operating shafts 24c and 24d move forward, and the pair of opening/closing plates 26a and 26b are opened. Also, when the operating shafts 24a, 24b, 24c, 24d supporting the respective opening/closing plates 26a, 26b are moved in the opposite direction, the pair of opening/closing plates 26
a, 26b are closed. Note that the pulse motor 13, the first and second pulse motors that rotate the ball screw 11,
cylinders 18, 21 and chuck drive mechanism 22
is operated at the timing necessary for the transfer by a programming signal from a control device (not shown) provided on the operation panel 4.

次に、前述した第1図〜第4図及び第5図〜第
8図を参照してウエハ移替方法を説明する。
Next, a wafer transfer method will be explained with reference to the aforementioned FIGS. 1 to 4 and FIGS. 5 to 8.

() まず、第1図及び第6図に示すようにキヤ
リアステージ2上に複数枚のウエハ28が収納
された第1治具としての例えば4個のキヤリア
29a〜29dを所定位置に夫々設置する。ま
た、垂直方向に対して所定の角度(Θ)で傾斜
させた複数の溝(図示せず)が切り込まれた石
英ボート30を図示しない搬送装置によりボー
トステージ3の高さの異なるボート支持部材6
a,6b上に設置する。この時、ボート支持部
材6a,6bの頂部間の傾斜角度は前記溝の傾
斜角度(Θ)に相当するように設定してあるた
め、設置された石英ボート30の溝は垂直方向
に向くよう位置される。
() First, as shown in FIGS. 1 and 6, for example, four carriers 29a to 29d, each serving as a first jig containing a plurality of wafers 28, are installed at predetermined positions on the carrier stage 2. . In addition, the quartz boat 30 in which a plurality of grooves (not shown) that are inclined at a predetermined angle (Θ) with respect to the vertical direction are cut is transferred to a boat support member with different heights of the boat stage 3 by a transport device (not shown). 6
a, 6b. At this time, since the inclination angle between the tops of the boat support members 6a and 6b is set to correspond to the inclination angle (Θ) of the groove, the groove of the installed quartz boat 30 is positioned so that it faces vertically. be done.

() 次いで、制御回路15から駆動回路14に
所定の信号を出力してパルスモータ13を所定
時間回転し、該モータ13に連結されたボール
ネジ11を回転させる。これにより、ボールネ
ジ11係合板10を介して係合された摺動テー
ブル9がガイド軸8a,8bに沿つて移動さ
れ、該テーブル9に第2のシリンダ21及びチ
ヤツク駆動機構22等を介して支持固定された
ウエハチヤツク25を1番目のキヤリア29a
の直上に位置される(第4図A図示)。
() Next, the control circuit 15 outputs a predetermined signal to the drive circuit 14 to rotate the pulse motor 13 for a predetermined period of time, thereby rotating the ball screw 11 connected to the motor 13. As a result, the sliding table 9, which is engaged with the ball screw 11 through the engagement plate 10, is moved along the guide shafts 8a and 8b, and is supported by the table 9 through the second cylinder 21, chuck drive mechanism 22, etc. The fixed wafer chuck 25 is transferred to the first carrier 29a.
(as shown in Figure 4A).

次いで、チヤツク駆動機構22のモータを回
転して、ウエハチヤツク25における該駆動機
構22に近い側の開閉板26aを支持する2本
の作動軸24a,24bを後退させ、他方の開
閉板26bを支持する2本の作動軸24c,2
4dを前進させて一対の開閉板26a,26b
を開く。つづいて、突き上げ機構16の第1の
シリンダ18を駆動してピストン17を上昇さ
せ、該ピストン17先端に取着した押上板19
を上昇させる。これにより押上板19はキヤリ
アステージ2の穴5を通り、その上部の円弧状
の溝内でキヤリア29a内に収納した複数枚の
ウエハ28を受け止め、各ウエハ28を押上板
19と共に開状態のウエハチヤツク25を通し
てその上方に移行させる(第4図B図示)。
Next, the motor of the chuck drive mechanism 22 is rotated to move back the two operating shafts 24a and 24b that support the opening/closing plate 26a on the side of the wafer chuck 25 closer to the driving mechanism 22, and supporting the other opening/closing plate 26b. Two operating shafts 24c, 2
4d is advanced to open and close the pair of opening/closing plates 26a, 26b.
open. Next, the first cylinder 18 of the push-up mechanism 16 is driven to raise the piston 17, and the push-up plate 19 attached to the tip of the piston 17 is
to rise. As a result, the push-up plate 19 passes through the hole 5 of the carrier stage 2, receives the plurality of wafers 28 stored in the carrier 29a within the arc-shaped groove at its upper part, and lifts each wafer 28 together with the push-up plate 19 into the open wafer chuck. 25 (as shown in FIG. 4B).

次いで、チヤツク駆動機構22のモータを前
記と逆方向に回転して、ウエハチヤツク25に
おける該駆動機構22に近い側の開閉板26a
を支持する2本の作動軸24a,24bを前進
させ、他方の開閉板26bを支持する2本の作
動軸24c,24dを後退させて一対の開閉板
26a,26bを閉じる(第4図C図示)。つ
づいて、突き上げ機構16の第1のシリンダ1
8を駆動してピストン17を下降させ、該ピス
トン17先端に取着した押上板19を下降させ
る。押上板19がウエハチヤツク25の閉状態
の開閉板26a,26b間を下降する際に、該
押上板19に受け止められたウエハ28は開閉
板26a,26bの保持部27a,27bに形
成された爪の谷間に係合される。この時、前記
開閉板26a,26bは下面が水平線に対して
Θの角度で傾斜しいるため、各ウエハ28は前
記保持部27a,27bの上方側の爪間から順
次係合し移替がなされ、第4図D及び第5図に
示すように各ウエハ28はウエハチヤツク24
によりそれらウエハ28の下端が一端から他端
に向かつて順次水平線に対し前記ボート30の
溝の傾斜角度に相当する角度(Θ)上に位置す
るように保持される。
Next, the motor of the chuck drive mechanism 22 is rotated in the opposite direction to the above, and the opening/closing plate 26a of the wafer chuck 25 on the side closer to the drive mechanism 22 is rotated.
The two operating shafts 24a, 24b supporting the other opening/closing plate 26b are moved forward, and the two operating shafts 24c, 24d supporting the other opening/closing plate 26b are retreated to close the pair of opening/closing plates 26a, 26b (as shown in FIG. 4C). ). Next, the first cylinder 1 of the thrusting mechanism 16
8 to lower the piston 17, and lower the push-up plate 19 attached to the tip of the piston 17. When the push-up plate 19 descends between the closed opening/closing plates 26a, 26b of the wafer chuck 25, the wafer 28 received by the pushing up plate 19 is moved by the claws formed on the holding parts 27a, 27b of the opening/closing plates 26a, 26b. Engaged in the valley. At this time, since the lower surfaces of the opening/closing plates 26a and 26b are inclined at an angle of Θ with respect to the horizontal line, each wafer 28 is sequentially engaged and transferred from between the claws on the upper side of the holding parts 27a and 27b. , each wafer 28 is connected to the wafer chuck 24 as shown in FIGS. 4D and 5.
Accordingly, the lower ends of the wafers 28 are held so as to be located at an angle (Θ) corresponding to the inclination angle of the groove of the boat 30 with respect to the horizontal line from one end to the other.

() 次いで、第2のシリンダ21駆動してピス
トン20a,20bを上昇させてチヤツク駆動
機構22に支持されたウエハチヤツク25を所
定の位置まで持ち上げる(第6図図示)。つづ
いて、制御回路15から駆動回路14に所定の
信号を出力してパルスモータ13を所定時間回
転し、該モータ13に連結されたボールネジ1
1を回転させることによりボールネジ11に係
合板10を介して係合された摺動テーブル9を
ガイド軸8a,8bに沿つて移動させ、該テー
ブル9に第2のシリンダ21及びチヤツク駆動
機構22等を介して支持固定されたウエハチヤ
ツク25を前記石英ボート30の前段側の直上
(第7図中のXA)に位置させる。この後、第2
のシリンダ21を駆動してピストン20a,2
0bを下降させてキヤリア駆動機構22に支持
されたウエハチヤツク25を第7図に示すZA
の位置まで下降させる。これにより、該チヤツ
ク25に保持された各ウエハ28は水平線に対
して角度(Θ)で傾斜された石英ボート30の
溝に係合されて移替がなされる。この時、石英
ボート30は固定され、ウエハチヤツク25の
みが上下動するため、該ウエハチヤツク25と
の関係で石英ボート30幅は制約されず、充分
に広い幅の石英ボート30を使用できるため、
移替られたウエハ28を石英ボート30に安定
的に保持できる。
() Next, the second cylinder 21 is driven to raise the pistons 20a, 20b and lift the wafer chuck 25 supported by the chuck drive mechanism 22 to a predetermined position (as shown in FIG. 6). Next, a predetermined signal is output from the control circuit 15 to the drive circuit 14 to rotate the pulse motor 13 for a predetermined time, and the ball screw 1 connected to the motor 13 is rotated.
1, the sliding table 9 engaged with the ball screw 11 via the engagement plate 10 is moved along the guide shafts 8a, 8b, and the second cylinder 21, chuck drive mechanism 22, etc. are attached to the table 9. The wafer chuck 25 supported and fixed via the quartz boat 30 is positioned directly above the front stage side of the quartz boat 30 (X A in FIG. 7). After this, the second
pistons 20a, 2 by driving the cylinder 21 of
The wafer chuck 25 supported by the carrier drive mechanism 22 is shown in FIG.
lower it to the position. As a result, each wafer 28 held in the chuck 25 is engaged with the groove of the quartz boat 30 inclined at an angle (Θ) with respect to the horizontal line, and the wafers 28 are transferred. At this time, since the quartz boat 30 is fixed and only the wafer chuck 25 moves up and down, the width of the quartz boat 30 is not restricted in relation to the wafer chuck 25, and a sufficiently wide quartz boat 30 can be used.
The transferred wafer 28 can be stably held in the quartz boat 30.

() 次いで、1番目のキヤリア29a内のウエ
ハの移替動作が終了した後、第2のシリンダ2
1ピストン20a,20bによるウエハチヤツ
ク25の上昇、パルスモータ13の回転による
テーブル9に移動、ウエハチヤツク25の2番
目のキヤリア29b上への移動、第2のシリン
ダ21ピストン20a,20bによるウエハチ
ヤツク25の下降を行なつて2番目のキヤリア
内のウエハ28の移替の準備を行なう。つづい
て、前記()と同様な工程により2番目のキ
ヤリア29b内の複数枚のウエハ28をウエハ
チヤツク24により各ウエハ28の下端が一端
から他端に向かつて順次水平線に対し前記ボー
ト30の溝の傾斜角度に相当する角度(Θ)上
に位置するように保持する。この後、前記
()と同様な工程(但し石英ボート30上へ
のウエハチヤツク25の位置は第7図に示す
XB、ボート30への下降位置は第7図のZB
する)によつてチヤツク25に保持された各ウ
エハ28を石英ボート30の既に移替がなされ
た領域より右側の溝に係合させて移替を行な
う。この時、石英ボート30はボート支持部材
6a,6bに固定されているため、1回目の移
替操作により既にボート30に立掛えられたウ
エハ25への振動等の影響を回避できる。
() Next, after the wafer transfer operation in the first carrier 29a is completed, the second cylinder 29a is transferred to the second cylinder 29a.
The wafer chuck 25 is raised by the first piston 20a, 20b, moved to the table 9 by the rotation of the pulse motor 13, the wafer chuck 25 is moved onto the second carrier 29b, and the wafer chuck 25 is lowered by the second cylinder 21 piston 20a, 20b. Then, preparations are made for transferring the wafer 28 into the second carrier. Subsequently, in a process similar to the above (), the plurality of wafers 28 in the second carrier 29b are moved by the wafer chuck 24 so that the lower end of each wafer 28 is moved from one end to the other, and the grooves of the boat 30 are successively aligned with the horizontal line. It is held so that it is positioned at an angle (Θ) corresponding to the inclination angle. After this, the same process as in () above (however, the position of the wafer chuck 25 on the quartz boat 30 is shown in FIG. 7).
XB , the lowering position to the boat 30 is ZB in FIG. and perform the transfer. At this time, since the quartz boat 30 is fixed to the boat support members 6a and 6b, it is possible to avoid the influence of vibrations on the wafers 25 already placed on the boat 30 due to the first transfer operation.

次いで、3番目、4番目のキヤリア29c,
29dに収納されたウエハ28に対しても同様
な操作を行なうことによつて4個のキヤリア2
9a〜29d内のウエハ28を全て水平線に対
して角度(Θ)で傾斜された石英ボート30の
溝に係合させて移替を行なう。但し、3番目の
キヤリア29c内のウエハ28の移替におい
て、石英ボート30上へのウエハチヤツク25
の位置は第7図に示すXC、ボート30への下
降位置は第7図のZCとする。また、4番目のキ
ヤリア29d内のウエハ28の移替において、
石英ボート30上へのウエハチヤツク25の位
置は第7図に示すXD、ボート30への下降位
置は第7図のZDとする。このような移替操作を
行なつた後、石英ボート30を水平状態に設置
することにより第8図に示すように移替がなさ
れた各ウエハ28はボート30に垂直方向に対
して角度(Θ)で傾斜して立かけられる。
Next, the third and fourth carrier 29c,
By performing the same operation on the wafer 28 stored in the wafer 29d, the four carriers 2
The transfer is performed by engaging all of the wafers 28 in 9a to 29d with the grooves of the quartz boat 30 inclined at an angle (Θ) with respect to the horizontal line. However, when transferring the wafer 28 in the third carrier 29c, the wafer chuck 25 is transferred onto the quartz boat 30.
The position of is X C shown in FIG. 7, and the lowering position to the boat 30 is Z C shown in FIG. In addition, in transferring the wafer 28 in the fourth carrier 29d,
The position of the wafer chuck 25 on the quartz boat 30 is X D shown in FIG. 7, and the position of the wafer chuck 25 lowered onto the boat 30 is Z D in FIG. After performing such a transfer operation, the quartz boat 30 is placed horizontally so that each transferred wafer 28 is placed at an angle (Θ) with respect to the vertical direction of the boat 30 as shown in FIG. ) so that it can be propped up at an angle.

[発明の効果] 以上詳述した如く、本発明のウエハ移替方法に
よれば第2治具の幅がウエハチヤツクとの関係で
制約されることなく、第1治具内の複数枚のウエ
ハを第2治具の傾斜した溝に安定的に移替でき、
しかも2回目以降の第1治具から第2治具へのウ
エハの移替操作において既に第2治具に移替られ
たウエハへの振動の影響を回避できるため、以下
に列挙する種々効果を発揮できる。
[Effects of the Invention] As detailed above, according to the wafer transfer method of the present invention, the width of the second jig is not limited by the relationship with the wafer chuck, and a plurality of wafers in the first jig can be transferred. It can be stably transferred to the inclined groove of the second jig,
Moreover, in the second and subsequent wafer transfer operations from the first jig to the second jig, it is possible to avoid the effects of vibration on the wafers that have already been transferred to the second jig, so that the various effects listed below can be achieved. I can demonstrate it.

移替操作途中でのウエハの第2治具からの脱
落や隣接するウエハ間の接触による損傷発生を
防止できる。特に、複数個の第1治具のウエハ
を1つ第2治具に移替を行なう際、2回目以降
の第1治具からの第2治具に移替においてウエ
ハの脱落や隣接するウエハ間の接触による損傷
発生を効果的に防止できる。
Damage caused by falling of the wafer from the second jig or contact between adjacent wafers during the transfer operation can be prevented. In particular, when transferring one wafer from a plurality of first jigs to a second jig, wafers may fall off or adjacent wafers may fall off during the second and subsequent transfers from the first jig to the second jig. Damage caused by contact between the two can be effectively prevented.

ウエハが大口径化されても第2治具に安定的
に移替できる。
Even if the wafer has a large diameter, it can be stably transferred to the second jig.

上記、の作用により第2治具としての石
英ボートを熱処理炉内に搬送い、炉内を所定の
温度を保持しながら各種の反応ガスを供給する
際、ガスが各ウエハの表面に均一に流れて、均
一な厚さの膜堆積などの処理が可能となる。繰
返しの使用によりボートの溝形状が変化して
も、溝を垂直方向に切込んだ場合のように隣接
するウエハの傾斜方向がまちまちとなるのを回
避して傾斜方向を一定方向に維持できる。
Due to the above action, when the quartz boat serving as the second jig is transported into the heat treatment furnace and various reaction gases are supplied while maintaining the predetermined temperature inside the furnace, the gas flows uniformly over the surface of each wafer. This makes it possible to perform processes such as film deposition with uniform thickness. Even if the groove shape of the boat changes due to repeated use, it is possible to maintain the inclination direction in a constant direction without causing the inclination directions of adjacent wafers to vary, which would occur if the grooves were cut vertically.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明のウエハ移替方法に使用したウ
エハ移替装置の一形態を示す斜視図、第2図は第
1図の移替装置の要部を示す斜視図、第3図は第
2図のチヤツク機構及びウエハチヤツクを拡大し
た斜視図、第4図A〜Dはウエハの移替の途中工
程を示す概略図、第5図は第4図DのA矢視図、
第6図はウエハチヤツクにより石英ボートにウエ
ハの移替を行なう状態を示す概略図、第7図はウ
エハチヤツクにより石英ボートにウエハの移替を
行なう際のウエハチヤツクの位置状態を示す概略
図、第8図はウエハの移替後に水平状態に設置し
た時の石英ボート及び該ボートに傾斜して立てか
けられたウエハを示す概略図である。 1……ハウジング、2……キヤリアステージ、
3……ボートステージ、6a,6b……ボート支
持部材、9……摺動テーブル、13……パルスモ
ータ、17……突き上げ機構、19……押上板、
22……チヤツク駆動機構、24a〜24d……
作動軸、25……ウエハチヤツク、26a,26
b……開閉板、27a,27b……保持部、28
……ウエハ、29a〜29d……キヤリア(第1
治具)、30……石英ボート(第2治具)。
FIG. 1 is a perspective view showing one form of a wafer transfer apparatus used in the wafer transfer method of the present invention, FIG. 2 is a perspective view showing main parts of the transfer apparatus shown in FIG. 1, and FIG. 2 is an enlarged perspective view of the chuck mechanism and wafer chuck; FIGS. 4A to 4D are schematic diagrams showing intermediate steps of wafer transfer; FIG. 5 is a view taken in the direction of arrow A in FIG. 4D;
FIG. 6 is a schematic diagram showing the state in which wafers are transferred to a quartz boat using a wafer chuck, FIG. 7 is a schematic diagram showing the position of the wafer chuck when wafers are transferred to a quartz boat by a wafer chuck, and FIG. 1 is a schematic diagram showing a quartz boat installed in a horizontal state after wafer transfer and a wafer tilted up against the boat; FIG. 1... Housing, 2... Carrier stage,
3... Boat stage, 6a, 6b... Boat support member, 9... Sliding table, 13... Pulse motor, 17... Pushing up mechanism, 19... Pushing up plate,
22...Chuck drive mechanism, 24a to 24d...
Operating axis, 25... Wafer chuck, 26a, 26
b... Opening/closing plate, 27a, 27b... Holding part, 28
...Wafer, 29a-29d...Carrier (first
jig), 30...quartz boat (second jig).

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 第1治具に収納された複数枚のウエハを、垂
直方向に対して所望の角度で傾斜した溝が複数切
られた第2治具に移替する方法において、前記第
1治具内の複数枚のウエハをウエハチツクにより
各ウエハの下端が一端側から他端側に向かつて順
次水平方向に対し前記溝の傾斜角度に相当する角
度上に位置するように保持する工程と、このウエ
ハチヤツクを溝が垂直方向に向くように傾斜して
固定された前記第2治具の上方に移動させ、該ウ
エハチヤツクを下降させてウエハチヤツク内の各
ウエハを第2治具の溝に夫々立てかける工程とを
具備したことを特徴とするウエハ移替方法。 2 ウエハチヤツクは、上下動及び開閉が自在
で、かつ下面が水平方向に対し第2治具の溝の傾
斜角度に相当する角度で傾斜された一対の開閉板
と、これら開閉板内面に設けられ、上端から下端
に延びる複数の爪を幅方向に有する保持部とから
構成されていることを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載のウエハ移替方法。
[Scope of Claims] 1. A method for transferring a plurality of wafers stored in a first jig to a second jig in which a plurality of grooves are cut at a desired angle with respect to the vertical direction. A step of holding a plurality of wafers in the first jig using a wafer hitch so that the lower ends of each wafer are sequentially positioned at an angle corresponding to the inclination angle of the groove with respect to the horizontal direction from one end side to the other end side. Then, the wafer chuck is moved above the second jig fixed at an angle so that the grooves are oriented vertically, and the wafer chuck is lowered to place each wafer in the wafer chuck into the grooves of the second jig. A wafer transfer method characterized by comprising a step of standing the wafer upright. 2. The wafer chuck is capable of vertical movement and opening/closing, and is provided with a pair of opening/closing plates whose lower surfaces are inclined with respect to the horizontal direction at an angle corresponding to the inclination angle of the groove of the second jig, and the inner surfaces of these opening/closing plates, 2. The wafer transfer method according to claim 1, further comprising a holding portion having a plurality of claws extending in the width direction from the upper end to the lower end.
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