JPH06168987A - Semiconductor package - Google Patents

Semiconductor package

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Publication number
JPH06168987A
JPH06168987A JP4341696A JP34169692A JPH06168987A JP H06168987 A JPH06168987 A JP H06168987A JP 4341696 A JP4341696 A JP 4341696A JP 34169692 A JP34169692 A JP 34169692A JP H06168987 A JPH06168987 A JP H06168987A
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JP
Japan
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semiconductor package
support ring
film carrier
semiconductor element
resin
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Withdrawn
Application number
JP4341696A
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Japanese (ja)
Inventor
Masafumi Imada
雅史 今田
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Nippon Steel Corp
Original Assignee
Nippon Steel Corp
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Publication date
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Withdrawn legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/50Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto

Abstract

PURPOSE:To reduce an effect of flexion due to the flexibility of a film carrier and to facilitate mounting a substrate in a large-sized semiconductor package. CONSTITUTION:In a semiconductor package using a film carrier 20 to be resin sealed according to the patting method, a semiconductor element 3 is connected through a bump 4 to an inner lead 1' protruding to the inside of a device hole 12 in the film carrier 20 which comprises a lead 1 in a formed pattern and a film carrier substrate 2'. And through the lead 1 on a support ring 2, a ring- shape frame member 6 is glued to the film carrier 20 by means of an insulating adhesive 11 or the like. Thereafter, a semiconductor element 3 and its vicinity are sealed with a resin 5 according to the potting method.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、樹脂によりポッティン
グされる樹脂封止型のフィルムキャリアを用いた半導体
パッケージに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor package using a resin-sealed film carrier potted with a resin.

【0002】[0002]

【従来の技術】ウェハから切り出された半導体素子、例
えばICチップの実装技術の一つとして、TAB(Tape
Automated Bonding)方式が知られている。
2. Description of the Related Art A TAB (Tape
The Automated Bonding method is known.

【0003】このTAB方式は、ポリイミド樹脂等から
なる可撓性かつ絶縁性を有するフレキシブルなテープ上
に銅箔等の導電性金属材料からなる複数のリードを形成
してなるフィルムキャリアを用い、それら各リードと半
導体素子に形成された複数の電極とをバンプを介して接
合する方式である。
This TAB system uses a film carrier formed by forming a plurality of leads made of a conductive metal material such as copper foil on a flexible tape having flexibility and insulation made of polyimide resin or the like. This is a method in which each lead and a plurality of electrodes formed on the semiconductor element are bonded via bumps.

【0004】ここで、フィルムキャリアを半導体素子側
から見た時の底面図を図7に、また図7のC−C線矢視
拡大断面図を図8に示す。図7及び図8に示すように、
パターンが形成されているリード1とフィルムキャリア
基材2′とからなるフィルムキャリア20におけるデバ
イス孔12の内側に突出しているインナーリード1′に
半導体素子3がバンプ4を介して接続されており、か
つ、後に説明するポッティング方式により半導体素子3
及びその近傍が樹脂5により封止されている。
Here, a bottom view of the film carrier as seen from the semiconductor element side is shown in FIG. 7, and an enlarged sectional view taken along the line CC of FIG. 7 is shown in FIG. As shown in FIGS. 7 and 8,
A semiconductor element 3 is connected via a bump 4 to an inner lead 1'protruding inside a device hole 12 in a film carrier 20 composed of a lead 1 on which a pattern is formed and a film carrier substrate 2 ', In addition, the semiconductor element 3 is formed by the potting method described later.
And its vicinity are sealed with resin 5.

【0005】なお、フレキシブルテープには、半導体素
子3が位置されるデバイス孔12の他に、各リード1が
架橋されるリード孔(図示せず)が形成され、また、各
リード1を支持するサポートリング2と、フィルムキャ
リア20の外枠を構成する外周枠部(図示せず)とが残
存されている。
In the flexible tape, in addition to the device hole 12 in which the semiconductor element 3 is located, lead holes (not shown) through which the leads 1 are bridged are formed, and each lead 1 is supported. The support ring 2 and the outer peripheral frame portion (not shown) forming the outer frame of the film carrier 20 remain.

【0006】そして、一般に、TAB方式における半導
体素子の保護を図るために樹脂封止が行われる。従来よ
り、この樹脂封止方法としていわゆるポッティング方式
等が知られている。
[0006] In general, resin encapsulation is performed to protect the semiconductor element in the TAB method. Conventionally, a so-called potting method or the like has been known as this resin sealing method.

【0007】ポッティング方式では、リード1が形成さ
れている面のサポートリング2上にソルダレジストを塗
布したフィルムキャリア20に半導体素子3を接合した
後、ディスペンサーを用いて熱硬化型の液状樹脂5を滴
下し、半導体素子3乃至インナーリード部1′の周辺に
滴下された液状樹脂5を硬化することにより樹脂封止が
行われる。
In the potting method, the semiconductor element 3 is bonded to the film carrier 20 coated with the solder resist on the support ring 2 on the surface on which the leads 1 are formed, and then the thermosetting liquid resin 5 is applied by using a dispenser. The liquid resin 5 dropped and cured around the semiconductor element 3 to the inner lead portion 1 ′ is cured by resin.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ポッテ
ィング方式の場合、方法自体は容易であるが、ポッティ
ング方式により製造されたフィルムキャリア20を用い
た半導体パッケージは、大きいサイズの半導体素子3を
搭載する場合やピン数が多い場合にはパッケージのサイ
ズが大きくなってしまう。この結果、サポートリング2
のサイズも大きくなり、フィルムキャリア20の可撓性
により、ソルダレジスト、あるいはポッティング樹脂5
の熱硬化時の熱あるいはインナーリードボンディングの
際の熱により、サポートリング2に撓みが生じ、半導体
パッケージの基板への搭載時のアライメント性が悪くな
るという問題があった。また、このサポートリング2の
撓みにより、リード1の変形、バラツキ等の問題もあっ
た。
However, in the case of the potting method, the method itself is easy, but a semiconductor package using the film carrier 20 manufactured by the potting method has a large semiconductor element 3 mounted thereon. If the number of pins is large or the number of pins is large, the package size becomes large. As a result, support ring 2
Also becomes larger, and the flexibility of the film carrier 20 causes the solder resist or potting resin 5
There is a problem that the support ring 2 is bent due to the heat during the heat curing or the heat during the inner lead bonding, which deteriorates the alignment property when the semiconductor package is mounted on the substrate. Further, due to the bending of the support ring 2, there are problems such as deformation and variation of the lead 1.

【0009】本発明は、上記事情に基づいてなされたも
のであり、フィルムキャリアの可撓性に起因する撓みの
影響を軽減し、パッケージサイズの大きい半導体パッケ
ージの基板搭載を容易に可能にする半導体パッケージを
提供することを目的とする。
The present invention has been made based on the above circumstances, and reduces the influence of bending due to the flexibility of the film carrier, and makes it possible to easily mount a semiconductor package having a large package size on a substrate. Intended to provide the package.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明の半導体パッケージは、フィルム基材と、こ
のフィルム基材上に形成された複数のリードと、前記フ
ィルム基材に搭載された半導体素子とを有し、樹脂によ
りポッティングされる樹脂封止型の半導体パッケージで
あって、前記フィルム基材の前記リードを固定するため
のサポートリング上に、このサポートリングを補強する
ためのサポートリング補強手段を備えたものである。
In order to achieve the above object, the semiconductor package of the present invention is mounted on a film base material, a plurality of leads formed on the film base material, and the film base material. A semiconductor package of a resin encapsulation type having a semiconductor element and potted with a resin, and a support for reinforcing the support ring on a support ring for fixing the leads of the film base material. It is provided with a ring reinforcing means.

【0011】また、前記サポートリング補強手段は、前
記リードを介して前記サポートリング上に形成するとよ
い。
The support ring reinforcing means may be formed on the support ring via the leads.

【0012】[0012]

【作用】上記のように構成された本発明によれば、ポッ
ティング方式により樹脂封止された半導体パッケージの
サポートリング上に補強手段を設けることにより、サイ
ズの大きい半導体パッケージにおいても、インナーリー
ドボンディング工程等での熱によるサポートリングの撓
みを防止することができ、半導体パッケージの基板への
搭載を容易にかつ高い歩留りで行うことができ、生産性
を大幅に向上できる。
According to the present invention having the above-described structure, by providing the reinforcing means on the support ring of the resin-sealed semiconductor package by the potting method, the inner lead bonding process can be performed even in a large-sized semiconductor package. It is possible to prevent the support ring from being bent by heat due to heat, etc., and it is possible to easily mount the semiconductor package on the substrate with a high yield, thereby significantly improving the productivity.

【0013】また、枠部材の外周と同面積の板状の放熱
部材を前記枠部材に、あるいは半導体素子裏面に接着す
ることにより、半導体パッケージ本体の機械的強度が著
しく上がり、同時に半導体素子から発生する熱の放熱効
果をも向上させることができる。さらに、凹型の放熱部
材を接着しても、同様に半導体パッケージ本体の機械的
強度が著しく上がり、同時に半導体素子から発生する熱
の放熱効果をも向上させることができる。
Further, by adhering a plate-shaped heat dissipation member having the same area as the outer periphery of the frame member to the frame member or to the back surface of the semiconductor element, the mechanical strength of the semiconductor package body is significantly increased, and at the same time, the semiconductor element is generated from the semiconductor element. It is also possible to improve the heat dissipation effect of the generated heat. Further, even if the concave heat dissipation member is adhered, the mechanical strength of the semiconductor package body is also remarkably increased, and at the same time, the heat dissipation effect of heat generated from the semiconductor element can be improved.

【0014】[0014]

【実施例】以下、本発明の第一実施例を図1及び図2を
参照して説明する。図1は第一実施例である半導体パッ
ケージの底面図、図2は前記半導体パッケージのフィル
ムキャリアに半導体素子を搭載してポッティング方式に
て樹脂封止した状態における図1のA−A線矢視拡大断
面図である。なお、従来例と実質的に同一の構成部分に
は同一の符号を付してその説明を省略する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A first embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. FIG. 1 is a bottom view of a semiconductor package according to a first embodiment, and FIG. 2 is a view taken along the line AA of FIG. 1 in a state where a semiconductor element is mounted on a film carrier of the semiconductor package and resin-sealed by a potting method. It is an expanded sectional view. In addition, the same reference numerals are given to substantially the same components as those of the conventional example, and the description thereof will be omitted.

【0015】図2に示すように、本発明の第一実施例の
半導体パッケージでは、パターンが形成されているリー
ド1とフィルムキャリア基材2′とからなるフィルムキ
ャリア20におけるデバイス孔12の内側に突出してい
るインナーリード1′に半導体素子3がバンプ4を介し
てインナーリードボンディング工程により接続されてい
る。ここで、図1及び図2に示すように、熱圧着等によ
るインナーリードボンディングした後に、半導体素子3
側のアウターリード1″内側近傍に位置するサポートリ
ング2上にリード1を介して、リング状の枠部材6を形
成する。この枠部材6は、エポキシ系等の樹脂あるいは
アルミニウム等の金属からできており、絶縁性の接着剤
11等を用いてフィルムキャリア20に接着されてい
る。この時、サポートリング2は、インナーリードボン
ディング時の加熱により撓みが生じるが、枠部材6を接
着し補強させる。そして、ポッティング方式により半導
体素子3及びその近傍が樹脂5により封止されている。
As shown in FIG. 2, in the semiconductor package of the first embodiment of the present invention, inside the device hole 12 in the film carrier 20 consisting of the lead 1 and the film carrier base material 2'on which the pattern is formed. The semiconductor element 3 is connected to the protruding inner lead 1 ′ through the bump 4 by the inner lead bonding process. Here, as shown in FIGS. 1 and 2, after inner lead bonding such as thermocompression bonding is performed, the semiconductor element 3
The ring-shaped frame member 6 is formed on the support ring 2 located near the inner side of the outer lead 1 ″ on the side of the outer lead 1 ″ through the lead 1. The frame member 6 is made of a resin such as an epoxy resin or a metal such as aluminum. And is adhered to the film carrier 20 using an insulating adhesive 11 etc. At this time, the support ring 2 is bent by heating during inner lead bonding, but the frame member 6 is adhered and reinforced. The semiconductor element 3 and its vicinity are sealed with resin 5 by the potting method.

【0016】上記のように構成された本実施例によれ
ば、フィルムキャリア20に半導体素子3をバンプ4を
介してインナーリードボンディングした後、サポートリ
ング2上にリード1を介して、樹脂あるいは金属よりな
るリング状の枠部材6を形成したので、リード1を固定
させ、インナーリードボンディング工程等における熱に
よって生ずるサポートリング2の撓みを防止あるいは矯
正することができる。
According to the present embodiment configured as described above, after the semiconductor element 3 is inner lead-bonded to the film carrier 20 via the bump 4, the resin or metal is placed on the support ring 2 via the lead 1. Since the ring-shaped frame member 6 is formed, the leads 1 can be fixed, and the bending of the support ring 2 caused by heat in the inner lead bonding process or the like can be prevented or corrected.

【0017】なお、上記実施例では、インナーリードボ
ンディングを行った直後に枠部材6を接着したが、接着
する時期は上記実施例に限定することはなく、インナー
リードボンディング工程前、あるいはポッティング方式
による樹脂封止後に接着しても同様の効果が得られる。
Although the frame member 6 is adhered immediately after the inner lead bonding is performed in the above-mentioned embodiment, the time of adhering is not limited to the above-mentioned embodiment, and may be performed before the inner lead bonding step or by the potting method. The same effect can be obtained by adhering after resin sealing.

【0018】次に本発明の第二実施例を図3を参照して
説明する。図3は第二実施例である半導体パッケージの
フィルムキャリアに半導体素子を搭載してポッティング
方式にて樹脂封止した状態における拡大断面図である。
なお、従来例と実質的に同一の構成部分には同一の符号
を付してその説明を省略する。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view showing a state in which a semiconductor element is mounted on the film carrier of the semiconductor package of the second embodiment and resin-sealed by the potting method.
In addition, the same reference numerals are given to substantially the same components as those of the conventional example, and the description thereof will be omitted.

【0019】第二実施例は、上記第一実施例と同様に半
導体素子3をフィルムキャリア20に搭載した後、イン
ナーリードボンディングを行い、枠部材6を接着し、ポ
ッティング方式にて樹脂封止を行う。上記第一実施例と
異なる点は、補強手段として、枠部材6をサポートリン
グ2上に絶縁性の接着剤11等を用いて接着することで
ある。
In the second embodiment, after mounting the semiconductor element 3 on the film carrier 20 as in the first embodiment, inner lead bonding is performed, the frame member 6 is adhered, and resin sealing is performed by the potting method. To do. The difference from the first embodiment is that the frame member 6 is bonded to the support ring 2 as a reinforcing means by using an insulating adhesive 11 or the like.

【0020】上記のように構成された本実施例によれ
ば、フィルムキャリア20に半導体素子3をバンプ4を
介してインナーリードボンディングした後、サポートリ
ング2上に、樹脂あるいは金属よりなるリング状の枠部
材6を形成したので、リード1を固定させ、インナーリ
ードボンディング工程等における熱によって生ずるサポ
ートリング2の撓みを防止あるいは矯正することができ
る。
According to the present embodiment configured as described above, after the semiconductor element 3 is inner lead bonded to the film carrier 20 via the bump 4, the support ring 2 is formed into a ring shape made of resin or metal. Since the frame member 6 is formed, the leads 1 can be fixed, and the bending of the support ring 2 caused by heat in the inner lead bonding process or the like can be prevented or corrected.

【0021】なお、上記実施例においても、枠部材6を
接着する時期は上記実施例のインナーリードボンディン
グを行った直後に限定することはなく、インナーリード
ボンディング工程前、あるいはポッティング方式による
樹脂封止後に接着しても同様の効果が得られる。
In the above embodiment as well, the timing of adhering the frame member 6 is not limited to immediately after the inner lead bonding of the above embodiment, but before the inner lead bonding step or resin sealing by the potting method. Similar effects can be obtained even if they are bonded later.

【0022】次に本発明の第三実施例を図4及び図5を
参照して説明する。図4は第三実施例である半導体パッ
ケージのフィルムキャリアの底面図、図5は前記フィル
ムキャリアに半導体素子を搭載してポッティング方式に
て樹脂封止した状態における図4のB−B線矢視拡大断
面図である。なお、従来例と実質的に同一の構成部分に
は同一の符号を付してその説明を省略する。
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 4 is a bottom view of a film carrier of a semiconductor package according to a third embodiment, and FIG. 5 is a view taken along the line BB in FIG. 4 in a state where a semiconductor element is mounted on the film carrier and resin-sealed by a potting method. It is an expanded sectional view. In addition, the same reference numerals are given to substantially the same components as those of the conventional example, and the description thereof will be omitted.

【0023】第三実施例は、上記第一実施例と同様にフ
ィルムキャリア20に半導体素子3を搭載した後、イン
ナーリードボンディングを行い、枠部材7と放熱板8と
を接着し、ポッティング方式にて樹脂封止を行う。上記
第一実施例と異なる点は、補強手段として、半導体素子
3の厚さと同等あるいはそれ以上の高さを有するリング
状の枠部材7をサポートリング2上にリード1を介し
て、絶縁性接着剤11等を用いて接着し、その後、枠部
材7の外周面積と同等の面積を有する放熱板8を熱伝導
性の優れた接着剤9を用いて半導体素子3に、接着剤1
3を用いて枠部材7に接着することである。なお、枠部
材7は、エポキシ系等の樹脂あるいはアルミニウム等の
金属よりできており、放熱板8は、アルミニウム等の金
属よりできている。
In the third embodiment, as in the first embodiment, after mounting the semiconductor element 3 on the film carrier 20, inner lead bonding is performed and the frame member 7 and the heat sink 8 are adhered to each other by the potting method. Resin sealing. The difference from the first embodiment is that, as a reinforcing means, a ring-shaped frame member 7 having a height equal to or higher than the thickness of the semiconductor element 3 is adhered to the support ring 2 via the lead 1 via an insulating adhesive. Then, the heat radiating plate 8 having an area equal to the outer peripheral area of the frame member 7 is bonded to the semiconductor element 3 using the adhesive 9 having excellent thermal conductivity.
3 is used to adhere to the frame member 7. The frame member 7 is made of an epoxy resin or a metal such as aluminum, and the heat dissipation plate 8 is made of a metal such as aluminum.

【0024】上記のように構成された本実施例によれ
ば、フィルムキャリア20に半導体素子3を搭載し、イ
ンナーリードボンディングした後、サポートリング2上
にリード1を介して、樹脂あるいは金属よりなるリング
状の枠部材7を形成したので、リード1を固定させ、ボ
ンディング工程等における熱によって生ずるサポートリ
ング2の撓みを防止あるいは矯正することができる。ま
た、枠部材7と半導体素子3とに放熱板8を接着させた
ので、半導体素子3より発生する熱の放熱効果を高め、
半導体パッケージ本体の機械的強度が著しく向上する。
According to the present embodiment configured as described above, after mounting the semiconductor element 3 on the film carrier 20 and performing inner lead bonding, it is made of resin or metal via the lead 1 on the support ring 2. Since the ring-shaped frame member 7 is formed, it is possible to fix the lead 1 and prevent or correct the bending of the support ring 2 caused by heat in the bonding process or the like. Further, since the heat dissipation plate 8 is adhered to the frame member 7 and the semiconductor element 3, the heat dissipation effect of the heat generated from the semiconductor element 3 is enhanced,
The mechanical strength of the semiconductor package body is significantly improved.

【0025】なお、上記実施例においても、枠部材7を
接着する時期は上記実施例のインナーリードボンディン
グを行った直後に限定することはなく、ポッティング方
式による樹脂封止後に接着しても同様の効果が得られ
る。
In the above embodiment as well, the timing of adhering the frame member 7 is not limited to the time immediately after the inner lead bonding of the above embodiment is carried out, and the same applies when adhering after resin sealing by the potting method. The effect is obtained.

【0026】次に本発明の第四実施例を図6を用いて説
明する。図6は第四実施例である半導体パッケージの拡
大断面図である。また、半導体素子側より見た時の底面
図は図4に示すように第三実施例の時と同様である。な
お、従来例と実質的に同一の構成部分には同一の符号を
付してその説明を省略する。
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 6 is an enlarged sectional view of the semiconductor package of the fourth embodiment. The bottom view as seen from the semiconductor element side is the same as that of the third embodiment as shown in FIG. In addition, the same reference numerals are given to substantially the same components as those of the conventional example, and the description thereof will be omitted.

【0027】第四実施例は、上記第三実施例と同様に半
導体素子3を搭載した後、インナーリードボンディング
を行い、フィルムキャリア20に放熱部材10を接着
し、ポッティング方式にて樹脂封止を行う。上記第三実
施例と異なる点は、補強手段として枠部材7と放熱板8
とが一体になった凹型の放熱部材10が形成されている
ことである。フィルムキャリア20に半導体素子3を搭
載し、インナーリードボンディングした後、サポートリ
ング2上にリード1を介して、アルミニウム等の金属よ
りなる放熱部材10を接着させる。この時、放熱部材1
0をリード1を介してサポートリング2上に接着するの
に絶縁性接着剤11等を用い、半導体素子3に接着する
のに熱伝導性の優れた接着剤9を用いる。
In the fourth embodiment, as in the third embodiment, after mounting the semiconductor element 3, inner lead bonding is performed, the heat dissipation member 10 is adhered to the film carrier 20, and resin sealing is performed by the potting method. To do. The difference from the third embodiment is that the frame member 7 and the heat dissipation plate 8 serve as reinforcing means.
That is, the concave heat dissipation member 10 in which is integrated is formed. After mounting the semiconductor element 3 on the film carrier 20 and performing inner lead bonding, the heat dissipation member 10 made of metal such as aluminum is adhered onto the support ring 2 via the lead 1. At this time, the heat dissipation member 1
An insulating adhesive 11 or the like is used to bond 0 onto the support ring 2 via the lead 1, and an adhesive 9 having excellent thermal conductivity is used to bond the semiconductor chip 3 to the semiconductor element 3.

【0028】上記のように構成された本実施例によれ
ば、フィルムキャリア20に半導体素子3を搭載し、イ
ンナーリードボンディングした後、サポートリング2上
にリード1を介して、金属よりなる凹型の放熱部材10
を形成したので、リード1を固定させ、ボンディング工
程等における熱によって生ずるサポートリング2の撓み
を防止することができ、また、半導体素子3より発生す
る熱の放熱効果が高まる。さらに、半導体パッケージ本
体の機械的強度が著しく向上する。
According to the present embodiment configured as described above, after mounting the semiconductor element 3 on the film carrier 20 and performing inner lead bonding, a concave type made of metal is formed on the support ring 2 via the lead 1. Heat dissipation member 10
Since the lead 1 is formed, it is possible to fix the lead 1 and prevent the support ring 2 from bending due to heat in the bonding process and the like, and enhance the heat dissipation effect of the heat generated from the semiconductor element 3. Furthermore, the mechanical strength of the semiconductor package body is significantly improved.

【0029】なお、上記実施例においても、放熱部材1
0を接着する時期は上記実施例のインナーリードボンデ
ィングを行った直後に限定することはなく、ポッティン
グ方式による樹脂封止後に接着しても同様の効果が得ら
れる。
In the above embodiment as well, the heat dissipation member 1
The time of bonding 0 is not limited to immediately after the inner lead bonding of the above-described embodiment, and the same effect can be obtained by bonding after resin sealing by the potting method.

【0030】なお、本発明は上記各実施例に限定される
ものではなく、本発明の意図する構造を有するものには
同様の効果が得られる。
The present invention is not limited to the above-mentioned embodiments, and the same effects can be obtained with the structure having the structure intended by the present invention.

【0031】[0031]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ポッティング方式により樹脂封止された半導体パッケー
ジにおいて、サポートリングに補強手段を設けることに
より、パッケージサイズの大きい半導体パッケージにお
いても熱によるサポートリングの撓みを防止することが
でき、半導体パッケージの基板への搭載を容易にかつ高
い歩留りで行うことができ、生産性を大幅に向上でき
る。
As described above, according to the present invention,
In a semiconductor package that is resin-sealed by the potting method, by providing a reinforcing means on the support ring, it is possible to prevent the support ring from bending due to heat even in a semiconductor package with a large package size, and mounting the semiconductor package on the substrate. Can be performed easily and with a high yield, and the productivity can be significantly improved.

【0032】また、半導体パッケージ本体の外的圧力に
よる機械的強度が著しく向上する。
Further, the mechanical strength of the semiconductor package body due to the external pressure is remarkably improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第一実施例による半導体パッケージを
半導体素子面から見た底面図である。
FIG. 1 is a bottom view of a semiconductor package according to a first embodiment of the present invention viewed from a semiconductor device surface.

【図2】図1のA−A線矢視拡大断面図である。FIG. 2 is an enlarged sectional view taken along the line AA of FIG.

【図3】本発明の第二実施例による半導体パッケージの
拡大断面図である。
FIG. 3 is an enlarged sectional view of a semiconductor package according to a second embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第三実施例による半導体パッケージを
半導体素子面から見た底面図である。
FIG. 4 is a bottom view of a semiconductor package according to a third embodiment of the present invention as viewed from a semiconductor device surface.

【図5】図4のB−B線矢視拡大断面図である。5 is an enlarged cross-sectional view taken along the line BB of FIG.

【図6】本発明の第四実施例による半導体パッケージの
拡大断面図である。
FIG. 6 is an enlarged sectional view of a semiconductor package according to a fourth embodiment of the present invention.

【図7】従来の半導体パッケージを半導体素子面から見
た底面図である。
FIG. 7 is a bottom view of a conventional semiconductor package viewed from the semiconductor element surface.

【図8】図7のC−C線矢視拡大断面図である。8 is an enlarged cross-sectional view taken along the line CC of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 リード 2 サポートリング 2′フィルムキャリア基材 3 半導体素子 5 樹脂 6 枠部材 7 枠部材 8 放熱板 10 放熱部材 20 フィルムキャリア 1 Lead 2 Support Ring 2'Film Carrier Substrate 3 Semiconductor Element 5 Resin 6 Frame Member 7 Frame Member 8 Heat Sink 10 Heat Dissipator 20 Film Carrier

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 フィルム基材と、このフィルム基材上に
形成された複数のリードと、前記フィルム基材に搭載さ
れた半導体素子とを有し、樹脂によりポッティングされ
る樹脂封止型の半導体パッケージであって、 前記フィルム基材の前記リードを固定するためのサポー
トリング上に、このサポートリングを補強するためのサ
ポートリング補強手段を備えたことを特徴とする半導体
パッケージ。
1. A resin-encapsulated semiconductor having a film base material, a plurality of leads formed on the film base material, and a semiconductor element mounted on the film base material and potted with a resin. A semiconductor package, comprising: a support ring for fixing the leads of the film base material; and support ring reinforcing means for reinforcing the support ring.
【請求項2】 前記サポートリング補強手段は、前記リ
ードを介して前記サポートリング上に形成したことを特
徴とする請求項1記載の半導体パッケージ。
2. The semiconductor package according to claim 1, wherein the support ring reinforcing means is formed on the support ring via the leads.
【請求項3】 前記サポートリング補強手段は、リング
状の枠部材よりなることを特徴とする請求項1記載の半
導体パッケージ。
3. The semiconductor package according to claim 1, wherein the support ring reinforcing means comprises a ring-shaped frame member.
【請求項4】 前記枠部材は、樹脂あるいは金属よりな
ることを特徴とする請求項3記載の半導体パッケージ。
4. The semiconductor package according to claim 3, wherein the frame member is made of resin or metal.
【請求項5】 前記サポートリング補強手段は、リング
状の枠部材と、この枠部材を覆う板状の放熱部材とより
なることを特徴とする請求項1記載の半導体パッケー
ジ。
5. The semiconductor package according to claim 1, wherein the support ring reinforcing means includes a ring-shaped frame member and a plate-shaped heat dissipation member that covers the frame member.
【請求項6】 前記放熱部材は、金属よりなることを特
徴とする請求項5記載の半導体パッケージ。
6. The semiconductor package according to claim 5, wherein the heat dissipation member is made of metal.
【請求項7】 前記サポートリング補強手段は、凹型の
放熱部材よりなることを特徴とする請求項1記載の半導
体パッケージ。
7. The semiconductor package according to claim 1, wherein the support ring reinforcing means is a concave heat dissipation member.
【請求項8】 前記凹型の放熱部材は、金属よりなるこ
とを特徴とする請求項7記載の半導体パッケージ。
8. The semiconductor package according to claim 7, wherein the concave heat dissipation member is made of metal.
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