JPH06168589A - Semiconductor storage - Google Patents

Semiconductor storage

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JPH06168589A
JPH06168589A JP34163292A JP34163292A JPH06168589A JP H06168589 A JPH06168589 A JP H06168589A JP 34163292 A JP34163292 A JP 34163292A JP 34163292 A JP34163292 A JP 34163292A JP H06168589 A JPH06168589 A JP H06168589A
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JP
Japan
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bit line
memory
sense amplifier
bit
bit lines
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JP34163292A
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Japanese (ja)
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Kyoko Ishii
京子 石井
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To obtain a technique for reducing a bit line noise without lowering a memory access speed. CONSTITUTION:This storage is provided with plural memory mats MM mat divided and a bit line 2 capable of reading data in a memory cell 4. A complementary bit line pair is formed by the corresponding bit line 2 between the memory mats MM different from each other, and the same sense amplifier 1 is shared by the complementary bit line pair, and the memory cell 4 is arranged so that the bit line adjacent to the bit line activated in a read cycle becomes an inactive state in the same read cycle. Thus, cross talk between bit lines 2 each other are reduced, and the bit line noise is reduced.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体記憶装置、さら
にはそれにおけるビット線の耐ノイズ性の向上を図るた
めの技術に関し、例えばDRAM(ダイナミック・ラン
ダム・アクセス・メモリ)に適用して有効な技術に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device and a technique for improving noise resistance of bit lines in the semiconductor memory device, which is effective when applied to, for example, a DRAM (dynamic random access memory). Related technology.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体メモリにおいて、マトリクス配置
されたメモリセルの入出力端子に結合される相補ビット
線ペアは最小限の間隔を以て規則的に多数配置され、該
ビット線の間には絶縁膜が介在されている。したがっ
て、隣接するビット線相互間には容量性カップリングを
生じ負所望な容量成分が寄生する。従来4MDRAMま
では、ビット線ピッチが5μm以上であり、ビット線間
のカップリングは特に問題とはならなかった。しかしな
がら、16MDRAMでは、ビット線ピッチは3μmに
まで縮小され、ビット線間カップリングノイズに起因す
る誤動作、データ破壊が問題となってきた。DRAMで
はワード線が選択されることでトランスファMOSがオ
ンされ、電荷蓄積部の電荷が微小信号としてビット線に
伝達される。この微小信号は140mV程度であり、非
常に小さい。このとき、ビット線間のカップリングノイ
ズによりこの微小信号が反転され、データが破壊されて
しまう。これを防止するための従来技術として、ビット
線クロス方式、及びSRL方式を挙げることができる。
2. Description of the Related Art In a semiconductor memory, a large number of complementary bit line pairs coupled to input / output terminals of matrix-arranged memory cells are regularly arranged with a minimum interval, and an insulating film is provided between the bit lines. Intervened. Therefore, capacitive coupling occurs between the adjacent bit lines, and a negative desired capacitance component is parasitic. Up to the conventional 4MDRAM, the bit line pitch is 5 μm or more, and the coupling between bit lines has not been a particular problem. However, in 16M DRAM, the bit line pitch is reduced to 3 μm, and malfunctions and data destruction due to coupling noise between bit lines have become a problem. In the DRAM, when the word line is selected, the transfer MOS is turned on, and the charge in the charge storage section is transmitted to the bit line as a minute signal. This minute signal is about 140 mV, which is very small. At this time, this minute signal is inverted by the coupling noise between the bit lines, and the data is destroyed. Conventional techniques for preventing this include a bit line cross method and an SRL method.

【0003】ビット線クロス方式では、「H.Hide
ko et al.”Twisted Bit lin
e Architectures for Megab
itDRAM’S”IEEE T,S,S,C,Vo
l.24 No.1 P21(1989)」に記載され
ているように、相補ビット線をクロスさせることにより
相補ビット線相互のカップリングノイズを等しくするよ
うにしている。それによれば、相補ビット線相互に同量
/同相ノイズが乗るため、相補ビット線の信号量の差も
変化しない。
In the bit line cross system, "H. Hide
ko et al. "Twisted Bit lin
e Architectures for Megab
itDRAM'S "IEEE T, S, S, C, Vo
l. 24 No. 1 P21 (1989) ", the complementary bit lines are crossed to equalize the coupling noise between the complementary bit lines. According to this, since the same amount / in-phase noise is put on the complementary bit lines, the difference in the signal amount of the complementary bit lines does not change.

【0004】また、SRL方式では、「K.Tsuch
ick et al.”The Stabilized
Reference−Line (SRL) Tec
knique for Scaled DRAM”19
89 SymposiumオンVLSI Curcui
ts P99」に記載されているように、2交点DRA
Mにおいてリファレンス用のビット線のレベルをワード
線駆動時に所定時間ハーフ電圧(電源電圧Vccの1/
2)レベルに固定することにより、隣接ビットペアから
のカップリングノイズ、及び同一ペア間のカップリング
を防止するようにしている。
Further, in the SRL system, "K.
ick et al. "The Stabilized
Reference-Line (SRL) Tec
Knique for Scaled DRAM "19
89 Symposium on VLSI Curcui
2 intersection DRA as described in ts P99 "
In M, the level of the reference bit line is set to a half voltage (1/1 of the power supply voltage Vcc for a predetermined time during word line driving).
2) By fixing the level, the coupling noise from the adjacent bit pair and the coupling between the same pairs are prevented.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記ビ
ット線クロス方式では、相補ビット線対すなわち同一ペ
アビット線間のカップリングノイズを低減することがで
きないため、今後、半導体集積回路の高集積化、微細化
が進むにつれ、メモリセルデータが破壊されるおそれが
ある。
However, since the coupling noise between the complementary bit line pair, that is, the same pair bit line cannot be reduced in the above-mentioned bit line crossing method, it is expected that the semiconductor integrated circuit will be highly integrated and miniaturized in the future. There is a possibility that memory cell data will be destroyed as the number of memory cells increases.

【0006】また、SRL方式では、隣接ペアビット線
からのカップリングノイズ、同一ペアビット線間のカッ
プリングノイズの低減が可能であるが、ワード線選択後
に、参照ビット線をハーフ電圧レベルに固定するための
MOSFETをオフすることによってビット線プリチャ
ージを解除しなければならないから、そのようなMOS
FET動作制御やタイミング制御のために、その分メモ
リアクセス速度が遅延される。
Further, in the SRL system, it is possible to reduce the coupling noise from the adjacent pair bit lines and the coupling noise between the same pair bit lines, but since the reference bit line is fixed to the half voltage level after the word line is selected. Since it is necessary to release the bit line precharge by turning off the MOSFET of
Due to the FET operation control and timing control, the memory access speed is delayed accordingly.

【0007】本発明の目的は、メモリアクセス速度を低
下させることなく、ビット線ノイズを低減するための技
術を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a technique for reducing bit line noise without reducing the memory access speed.

【0008】本発明の前記並びにその他の目的と新規な
特徴は本明細書の記述及び添付図面から明らかになるで
あろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば下記
の通りである。
The outline of the representative one of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

【0010】すなわち、それぞれ複数のメモリセルを含
んで形成された複数のメモリマットと、上記メモリセル
のデータを読出し可能とするビット線とを含み、異なる
メモリマット間の対応ビット線によって相補ビット線対
が形成されるとともに当該相補ビット線対によって同一
のセンスアンプが共有されるとき、読出しサイクルで活
性化されるビット線と隣り合うビット線が、それと同一
の読出しサイクルでは非活性状態となるように上記メモ
リセルを配置するものである。このとき、同一メモリマ
ットのビット線一本おきに、当該ビット線に対応するセ
ンスアンプを、当該メモリマットの両側に分散配置する
ことができる。また、センスアンプ数の減少を可能とす
るには、同一メモリマットの隣り合う複数のビット線に
よって同一のセンスアンプを共有させ、当該複数のビッ
ト線を択一的に当該センスアンプに結合するための選択
回路を設けるとよい。
That is, a plurality of memory mats each including a plurality of memory cells and a bit line for reading data from the memory cells are included, and complementary bit lines are provided by corresponding bit lines between different memory mats. When a pair is formed and the same sense amplifier is shared by the pair of complementary bit lines, the bit line adjacent to the bit line activated in the read cycle becomes inactive in the same read cycle. The memory cells are arranged in the memory cell. At this time, every other bit line of the same memory mat, the sense amplifiers corresponding to the bit line can be dispersedly arranged on both sides of the memory mat. In order to reduce the number of sense amplifiers, a plurality of adjacent bit lines of the same memory mat share the same sense amplifier, and the plurality of bit lines are selectively coupled to the sense amplifier. It is advisable to provide a selection circuit.

【0011】[0011]

【作用】上記した手段によれば、活性ビット線に隣接す
るビット線を非活性状態とすることは、読出しサイクル
における非活性ビット線が活性ビット線をシールドする
ように作用し、このことが、ビット線のノイズ低減を達
成するとともに、不活性ビット線について従来のSRL
方式のようにビット線プリチャージを解除するなどの動
作やタイミング制御を不要とすることによってメモリア
クセス遅延を排除する。
According to the above means, deactivating the bit line adjacent to the active bit line acts so that the inactive bit line in the read cycle shields the active bit line. Achieves noise reduction on the bit line and reduces the noise on the inactive bit line by the conventional SRL
The memory access delay is eliminated by eliminating the need for operations such as releasing the bit line precharge and timing control as in the method.

【0012】[0012]

【実施例】図4には本発明の一実施例であるDRAMが
示される。同図に示されるDRAMは、特に制限されな
いが、公知の半導体集積回路製造技術によってシリコン
基板のような一つの半導体基板に形成されている。
FIG. 4 shows a DRAM which is an embodiment of the present invention. Although not particularly limited, the DRAM shown in the figure is formed on one semiconductor substrate such as a silicon substrate by a known semiconductor integrated circuit manufacturing technique.

【0013】図4において24は複数個のダイナミック
型メモリセルをマトリクス配置したメモリセルアレイで
あり、メモリセルの選択端子はロウ方向毎にワード線に
結合され、メモリセルのデータ端子はカラム方向毎に相
補データ線に結合される。そしてそれぞれの相補データ
線は、相補データ線に1対1で結合された複数個のカラ
ム選択スイッチを含むY選択スイッチ回路27を介して
相補コモンデータ線に共通接続される。
In FIG. 4, reference numeral 24 is a memory cell array in which a plurality of dynamic memory cells are arranged in a matrix. Select terminals of the memory cells are connected to word lines in each row direction, and data terminals of the memory cells are connected in each column direction. Coupling to complementary data lines. Each complementary data line is commonly connected to the complementary common data line via a Y selection switch circuit 27 including a plurality of column selection switches which are coupled to the complementary data line in a one-to-one relationship.

【0014】本実施例DRAMでは、特に制限されない
が、アドレスマルチプレクス方式が採用され、ロウ及び
カラムアドレス入力信号を、それらのタイミングをずら
すことにより共通のアドレス端子から取込むようにして
いる。すなわちXアドレスラッチ及びXデコーダ22
と、Yアドレスラッチ及びYデコーダ26の前段にはア
ドレスマルチプレクサ21が配置され、アドレスバッフ
ァ20を介して取込まれるアドレス信号が、アドレスマ
ルチプレクサ21によりXアドレスラッチ及びXデコー
ダ22と、Yアドレスラッチ及びYデコーダ26とに振
分けられる。このようなアドレス入力を円滑に行うため
RAS*(ロウアドレスストローブ)及びCAS*(カ
ラムアドレスストローブ)の2種類のクロック信号を外
部から与えるようにしている。尚、「*」は、ローアク
ティブ信号を意味する。
Although not particularly limited, the DRAM of this embodiment adopts the address multiplex system, and the row and column address input signals are fetched from a common address terminal by shifting their timings. That is, the X address latch and X decoder 22
An address multiplexer 21 is arranged in front of the Y address latch and Y decoder 26, and an address signal taken in through the address buffer 20 is converted into an X address latch and X decoder 22 by the address multiplexer 21 and a Y address latch and It is distributed to the Y decoder 26. In order to smoothly perform such address input, two types of clock signals, RAS * (row address strobe) and CAS * (column address strobe), are applied from the outside. In addition, "*" means a low active signal.

【0015】一つのメモリサイクル(RAS*クロック
の1周期)中に読出しあるいは書込みの一方の動作のみ
を可能とするため、RAS*クロックの立下り時点でロ
ウアドレスを、CAS*クロックの立下り時点でカラム
アドレスを内部回路に取込むようにし、ライトイネーブ
ル信号WE*の状態によって当該サイクルが書込みサイ
クルか読出しサイクルかの判断を可能としている。この
ような判断並びに各部の動作制御は制御部25によって
行われる。
Since only one read or write operation is possible during one memory cycle (one cycle of the RAS * clock), the row address is set at the falling point of the RAS * clock and the row address is set at the falling point of the CAS * clock. The column address is taken in by the internal circuit, and it is possible to judge whether the relevant cycle is a write cycle or a read cycle depending on the state of the write enable signal WE *. The control unit 25 performs such determination and operation control of each unit.

【0016】ワードドライバ23は、それの前段に配置
されたXアドレスラッチ及びXデコーダのデコードに基
づいてワード線を選択レベルに駆動する。そしてYアド
レスラッチ及びYデコーダ26のデコード出力に基づい
てY選択スイッチ回路27が駆動され、これにより特定
されるメモリセルからのデータ読出し若しくはデータ書
込みが可能とされる。また、上記メモリセルアレイ24
にはセンスアンプ1が結合され、メモリセルデータがこ
のセンスアンプ1で増幅されるようになっている。この
場合、データ入出力回路28にはメインアンプなどが含
まれ、このメインアンプを介して読出しデータの外部送
出が可能とされる。
The word driver 23 drives the word line to the selection level based on the decoding of the X address latch and the X decoder arranged in the preceding stage. Then, the Y selection switch circuit 27 is driven based on the Y address latch and the decoded output of the Y decoder 26, thereby enabling data read or data write from the specified memory cell. In addition, the memory cell array 24
A sense amplifier 1 is coupled to the sense amplifier 1, and the memory cell data is amplified by the sense amplifier 1. In this case, the data input / output circuit 28 includes a main amplifier and the like, and the read data can be externally transmitted via the main amplifier.

【0017】図1には上記DRAMの主要部の詳細な構
成が示される。
FIG. 1 shows a detailed structure of a main part of the DRAM.

【0018】上記メモリセルアレイ24は、マット分割
された複数のメモリマットMMを有し、図1にはそのう
ちの一つのメモリマットMMが示される。同図に示され
るように一つのメモリマットMMはダイナミック型の複
数のメモリセル4を含む。図中3で示されるのは複数の
ワード線であり、このワード線3は上記ワードドライバ
23によって択一的に選択レベルに駆動される。この複
数のワード線3に交差するように複数のビット線2が配
置され、それらの交差箇所に上記メモリセル4が配置さ
れる。ただし、ワード線3とビット線2との交差箇所の
全てにメモリセル4が配置されるのではなく、読出しサ
イクルで活性化されるビット線と隣り合うビット線が、
それと同一の読出しサイクルでは非活性状態となるよう
に、メモリセル4は当該交差箇所一つおきに配置され
る。尚、10で示されるのはダミーワード線である。
The memory cell array 24 has a plurality of memory mats MM divided into mats, one of which is shown in FIG. As shown in the figure, one memory mat MM includes a plurality of dynamic type memory cells 4. Reference numeral 3 in the drawing denotes a plurality of word lines, and the word line 3 is alternatively driven to the selected level by the word driver 23. A plurality of bit lines 2 are arranged so as to intersect the plurality of word lines 3, and the memory cells 4 are arranged at the intersections thereof. However, the memory cells 4 are not arranged at all the intersections of the word lines 3 and the bit lines 2, but the bit lines adjacent to the bit lines activated in the read cycle are
The memory cells 4 are arranged at every other intersection so that they are inactivated in the same read cycle. Incidentally, 10 is a dummy word line.

【0019】さらに、複数のビット線2に対応して複数
のセンスアンプ1が設けられ、本実施例では、ビット線
一本おきに、それに対応するセンスアンプ1がメモリマ
ットMMの両側に分散配置されている。すなわち、図1
において、複数のメモリセル4を含むメモリマットMM
の左側には第1のセンスアンプ群SA1が配置され、当
該メモリマットMMの右側には第2のセンスアンプ群S
A2が配置される。
Further, a plurality of sense amplifiers 1 are provided corresponding to a plurality of bit lines 2, and in the present embodiment, the sense amplifiers 1 corresponding to every other bit line are dispersedly arranged on both sides of the memory mat MM. Has been done. That is, FIG.
In, a memory mat MM including a plurality of memory cells 4
The first sense amplifier group SA1 is arranged on the left side of the memory mat, and the second sense amplifier group S1 is arranged on the right side of the memory mat MM.
A2 is arranged.

【0020】ここで、第1のセンスアンプSA1と第2
のセンスアンプSA2とは、相補的に動作される。つま
り、1サイクル内に動作されるセンスアンプ群は、第1
のセンスアンプSA1と第2のセンスアンプSA2のい
ずれか一方のみとされる。そのような制御はセンスアン
プに含まれるセンスアンプ駆動用MOSFETのオン・
オフ制御によって可能とされる。複数のセンスアンプ1
は、二つの端子を有し、一方の端子が、それに対応する
ビット線2に結合され、他方の端子は、図示されない隣
接メモリマットの対応ビット線に結合される。つまり、
本実施例においてセンスアンプ1とビット線2との結合
は、いわゆる1交点方式とされ、一つのセンスアンプ1
への相補入力信号は、図1の隣接ビット線のペアではな
く、図1に示される一つのビット線と、図示されない隣
接メモリマットにおける対応ビット線とされる。つま
り、相補ビット線対は、隣接するところの異なるメモリ
マット間で形成される。従って、メモリマットMMにお
いて、ある1本のワード線3が選択レベルに駆動された
場合、当該ワード線に結合されたメモリセル4に対応す
るビット線が活性化される。換言すれば、メモリ読出し
サイクルにおいて、ビット線は一本おきに活性化され、
当該読出しサイクルでは、活性化されるビット線と隣り
合うビット線は必ず非活性状態とされる。
Here, the first sense amplifier SA1 and the second sense amplifier SA1
The sense amplifier SA2 is operated in a complementary manner. That is, the sense amplifier group operated in one cycle is the first
Only one of the sense amplifier SA1 and the second sense amplifier SA2. Such control is performed by turning on the sense amplifier driving MOSFET included in the sense amplifier.
Enabled by off control. Multiple sense amplifiers 1
Has two terminals, one of which is coupled to a corresponding bit line 2 and the other of which is coupled to a corresponding bit line of an adjacent memory mat (not shown). That is,
In this embodiment, the sense amplifier 1 and the bit line 2 are coupled to each other by a so-called one-intersection method, and one sense amplifier 1 is connected.
The complementary input signal to the pair is not the pair of adjacent bit lines in FIG. 1 but one bit line shown in FIG. 1 and a corresponding bit line in an adjacent memory mat (not shown). That is, the complementary bit line pair is formed between different memory mats adjacent to each other. Therefore, in the memory mat MM, when one word line 3 is driven to the selection level, the bit line corresponding to the memory cell 4 coupled to the word line is activated. In other words, every other bit line is activated in the memory read cycle,
In the read cycle, the bit line adjacent to the activated bit line is always inactivated.

【0021】ハーフ電圧発生回路6は、ビット線2を電
源電圧VCCの1/2の電位にプリチャージするための
ハーフ電圧を発生するための回路であり、当該回路6に
よって発生された電圧は、複数のプリチャージ用MOS
FET11A,11Bを介してビット線2に印加される
ようになっている。プリチャージ用MOSFET11A
は第1センスアンプSA1側に配置され、プリチャージ
用MOSFET11Bは第2センスアンプSA2側に配
置されており、それぞれプリチャージ制御信号5A,5
Bがアサートされることによってオンされ、それによっ
て、対応するビット線2がプリチャージされるようにな
っている。プリチャージ制御信号5A,5Bは、上記制
御回路25によって生成される。ビット線は、非活性状
態とされる期間において、常に上記ハーフ電圧に固定さ
れた状態とされる。上記のようにビット線1本おきに活
性化されるので、メモリ読出しサイクルにおいて、同一
メモリマットMMで活性化されるビット線と隣り合うビ
ット線は必ず上記ハーフ電圧に固定された状態とされ、
それによって、当該活性化ビット線が非活性ビット線に
よってシールドされた状態とされる。
The half voltage generation circuit 6 is a circuit for generating a half voltage for precharging the bit line 2 to a potential half the power supply voltage VCC, and the voltage generated by the circuit 6 is: Multiple precharge MOS
It is adapted to be applied to the bit line 2 via the FETs 11A and 11B. Precharge MOSFET 11A
Is arranged on the first sense amplifier SA1 side, and the precharge MOSFET 11B is arranged on the second sense amplifier SA2 side. The precharge control signals 5A and 5A, respectively.
It is turned on when B is asserted, so that the corresponding bit line 2 is precharged. The precharge control signals 5A and 5B are generated by the control circuit 25. The bit line is always fixed to the half voltage during the inactive state. Since every other bit line is activated as described above, the bit line adjacent to the bit line activated by the same memory mat MM is always fixed to the half voltage in the memory read cycle.
As a result, the activated bit line is shielded by the inactive bit line.

【0022】図3には上記メモリセルアレイ24の主要
部の詳細な構成が示される。
FIG. 3 shows a detailed structure of a main part of the memory cell array 24.

【0023】図3において、15はデータを保持可能な
容量蓄積ノードであり、17は拡散層であり、18はプ
レートである。異なる配線層を結合するためのコンタク
トホール16が設けられ、このコンタクトホール16に
よって、ビット線2と拡散層17とが結合される。上記
容量蓄積ノード15は、ワード線3とビット線2との交
差する箇所に形成され、それによってメモリセル4が形
成される。
In FIG. 3, reference numeral 15 is a capacitance storage node capable of holding data, 17 is a diffusion layer, and 18 is a plate. A contact hole 16 for connecting different wiring layers is provided, and the bit line 2 and the diffusion layer 17 are connected by this contact hole 16. The capacitance storage node 15 is formed at the intersection of the word line 3 and the bit line 2, and the memory cell 4 is formed thereby.

【0024】上記実施例によれば以下の作用効果が得ら
れる。
According to the above embodiment, the following operational effects can be obtained.

【0025】(1)従来方式であるビット線クロス方式
では、同一ペア間のカップリングノイズを消去すること
ができないため、半導体集積回路の高集積化、微細化が
進むにつれ、メモリセルデータが破壊されるおそれがあ
るのに対して、上記実施例によれば、複数のメモリセル
4を含んでマット分割されて成る複数のメモリマットM
Mと、上記メモリセル4のデータを読出し可能とするビ
ット線2とを含み、異なるメモリマットMM間の対応ビ
ット線2によって相補ビット線対が形成されるとともに
当該相補ビット線対によって同一のセンスアンプ1が共
有され、読出しサイクルで活性化されるビット線と隣り
合うビット線が、それと同一の読出しサイクルでは非活
性状態となるように上記メモリセル4が配置されること
により、非活性ビット線によって活性ビット線がシール
ドされ、それによって、ビット線2相互のクロストーク
が低減され、ノイズ発生が抑制される。
(1) In the conventional bit line cross method, the coupling noise between the same pair cannot be erased. Therefore, the memory cell data is destroyed as the degree of integration and miniaturization of the semiconductor integrated circuit progresses. On the other hand, according to the above-described embodiment, a plurality of memory mats M including a plurality of memory cells 4 are divided into mats.
M and a bit line 2 that allows the data in the memory cell 4 to be read, and a corresponding bit line 2 between different memory mats MM forms a complementary bit line pair and the complementary bit line pair has the same sense. By arranging the memory cell 4 so that the amplifier 1 is shared and the bit line adjacent to the bit line activated in the read cycle becomes inactive in the same read cycle, the inactive bit line The active bit line is shielded by, thereby reducing crosstalk between the bit lines 2 and suppressing noise generation.

【0026】(2)また、従来方式であるSRL方式で
は、ワード線選択後、参照ビット線をハーフ電圧レベル
に固定するためのMOSFETをオフにする動作やタイ
ミング制御が必要となり、それによりメモリアクセス速
度が遅くなるが、上記実施例によれば、上記シールドと
して作用する非活性ビット線は当該読出しサイクルでは
動作されないから、当該不活性ビット線についてワード
線選択後にビット線プリチャージを解除するなどの動作
やタイミング制御が不要であり、上記(1)の作用効果
を得る上でメモリアクセス速度の遅延を生じない。
(2) Further, in the conventional SRL method, after the word line is selected, the operation for turning off the MOSFET for fixing the reference bit line to the half voltage level and the timing control are required, which results in the memory access. Although the speed becomes slower, according to the above embodiment, since the inactive bit line acting as the shield is not operated in the read cycle, the bit line precharge is released after the word line is selected for the inactive bit line. No operation or timing control is required, and the memory access speed is not delayed in obtaining the effect of (1) above.

【0027】(3)さらに、ビット線クロス方式ではビ
ット線クロス分のチップ面積増加があるが、本実施例の
場合、チップサイズは従来のDRAMと同様であり、上
記(1),(2)の作用効果を得る上でチップ面積的な
デメリットはない。
(3) Further, in the bit line cross system, the chip area is increased by the bit line cross, but in the case of this embodiment, the chip size is the same as that of the conventional DRAM, and the above (1), (2) There is no demerit in terms of chip area in obtaining the effect of.

【0028】図2には本発明の他の実施例が示される。FIG. 2 shows another embodiment of the present invention.

【0029】図2において、メモリマットMMとセンス
アンプ1との間にはビット線プリチャージ用のMOSF
ET群11と、選択回路12とが配置される。図2の構
成では、メモリマットMMにおいて、隣り合う1組のビ
ット線によって同一のセンスアンプが共有されており、
選択回路12で当該1組のビット線を択一的に当該セン
スアンプ1に結合するようにしている。この選択回路1
2は、Q1〜Q6で示されるように、ビット線2に対応
して配置された複数のMOSFETによって形成され
る。
In FIG. 2, a MOSF for precharging a bit line is provided between the memory mat MM and the sense amplifier 1.
An ET group 11 and a selection circuit 12 are arranged. In the configuration of FIG. 2, in the memory mat MM, the same sense amplifier is shared by a pair of adjacent bit lines,
The selection circuit 12 selectively couples the set of bit lines to the sense amplifier 1. This selection circuit 1
2 is formed by a plurality of MOSFETs arranged corresponding to the bit line 2, as indicated by Q1 to Q6.

【0030】MOSFETQ1,Q3,Q5は、選択制
御信号9Aがアサートされることによって、また、MO
SFETQ2,Q4,Q6は選択制御信号9Bがアサー
トされることによって、それぞれオンされ、それによっ
て、対応するビット線2がセンスアンプ1に選択的に結
合される。このようにセンスアンプを共有させることに
より、隣接する2本のビット線に対して1個の割合でセ
ンスアンプ1を配置すれば足りるから、結果的にセンス
アンプ1の数は上記実施例の場合の1/2とされる。
The MOSFETs Q1, Q3 and Q5 are also driven by the selection control signal 9A being asserted.
The SFETs Q2, Q4, Q6 are turned on by the selection control signal 9B being asserted, whereby the corresponding bit line 2 is selectively coupled to the sense amplifier 1. By sharing the sense amplifiers in this way, it suffices to arrange the sense amplifiers 1 at a ratio of one to two adjacent bit lines. As a result, the number of sense amplifiers 1 is larger than that in the above-described embodiment. It is set to 1/2.

【0031】また、このように、隣り合う1組のビット
線によって同一のセンスアンプが共有され、1組のビッ
ト線を択一的に当該センスアンプ1に結合するための選
択回路12が、メモリマットMMとセンスアンプ1との
間に配置された場合においてビット線2のプリチャージ
を的確に行うため、メモリマットMMと選択回路12と
の間にプリチャージ用のMOSFET群11が配置さ
れ、読出しサイクルで、活性化されるビット線に接続さ
れるプリチャージ用MOSFETは、一つのワード線選
択前にオフ状態とされ、それに対応するビット線はハー
フ電圧発生回路6から電気的に切り放される。そに対し
て、非活性ビット線に結合さたプリチャージ用MOSF
ETは動作時もオンされたままの状態とされ、それによ
り当該読出しサイクルにおいて、当該ビット線はハーフ
電圧レベルに固定された状態とされる。
As described above, the same sense amplifier is shared by a pair of bit lines adjacent to each other, and the selection circuit 12 for selectively coupling one set of bit lines to the sense amplifier 1 is a memory. In order to accurately precharge the bit line 2 when it is arranged between the mat MM and the sense amplifier 1, a MOSFET group 11 for precharge is arranged between the memory mat MM and the selection circuit 12, and the read operation is performed. In a cycle, the precharge MOSFET connected to the activated bit line is turned off before selecting one word line, and the corresponding bit line is electrically disconnected from the half voltage generation circuit 6. . On the other hand, the precharging MOSF coupled to the inactive bit line
The ET is kept in the ON state even during operation, so that the bit line is fixed to the half voltage level in the read cycle.

【0032】メモリマットMMや、それに含まれるメモ
リセル4の構成、及び配置については上記実施例と同様
であり、活性化されるビット線と隣り合うビット線が非
活性状態となるように複数のビット線2が配置されるの
で、非活性ビット線によって活性ビット線がシールドさ
れ、それによって、ビット線2相互のクロストークが低
減され、ノイズ発生が抑制される。また、上記シールド
として作用する非活性ビット線は当該サイクルでは動作
されないから、SRL方式のようにワード線選択後、参
照ビット線をハーフ電圧レベルに固定するためのMOS
FETをオフにすることによってビット線プリチャージ
を解除するなどの動作やタイミング制御が不要とされ、
メモリアクセス速度の遅延を生じない。
The structure and arrangement of the memory mat MM and the memory cells 4 included therein are the same as those in the above-described embodiment, and a plurality of bit lines adjacent to the bit line to be activated are inactivated. Since the bit line 2 is arranged, the active bit line is shielded by the inactive bit line, which reduces crosstalk between the bit lines 2 and suppresses noise generation. Since the inactive bit line acting as the shield is not operated in the cycle, a MOS for fixing the reference bit line to the half voltage level after selecting the word line as in the SRL system.
By turning off the FETs, operations such as releasing the bit line precharge and timing control are unnecessary,
No delay in memory access speed.

【0033】さらに、本実施例では、隣り合う1組のビ
ット線によって同一のセンスアンプが共有されており、
選択回路12で当該1組のビット線を択一的に当該セン
スアンプ1に結合するようにしているので、隣接する2
本のビット線に対して1個の割合でセンスアンプ1を配
置すれば足り、結果的にセンスアンプ1の数は上記実施
例の場合の1/2とされ、センスアンプ数の低減を図る
ことができる、という特有の効果を奏する。
Further, in this embodiment, the same sense amplifier is shared by a pair of adjacent bit lines,
Since the pair of bit lines is selectively coupled to the sense amplifier 1 by the selection circuit 12, adjacent two
It suffices to arrange the sense amplifiers 1 at a ratio of one to one bit line, and as a result, the number of sense amplifiers 1 is halved as compared with the case of the above embodiment, and the number of sense amplifiers should be reduced. There is a unique effect that you can.

【0034】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づいて具体的に説明したが、本発明はそれに限定
されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲におい
て種々変更可能であることは言うまでもない。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited thereto, and it goes without saying that various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Yes.

【0035】例えば、上記実施例ではアドレスマルチプ
レクス方式を採用したDRAMについて説明したが、ロ
ウアドレス、カラムアドレスをそれぞれ別個の入力端子
から取込むようにしてもよい。また、メモリマットの分
割数やワード線,ビット線の本数、メモリセルの数など
は適宜に変更可能である。
For example, in the above embodiment, the DRAM adopting the address multiplex system has been described, but the row address and the column address may be taken in from separate input terminals. Further, the number of divisions of the memory mat, the number of word lines and bit lines, the number of memory cells, etc. can be appropriately changed.

【0036】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるDRA
Mに適用した場合について説明したが、本発明はそれに
限定されるものではなく、例えばフラッシュRAM、E
PROM、EEPROMなど各種半導体記憶装置、更に
はそれを含むデータ処理装置などに広く適用することが
できる。
In the above description, the invention made by the present inventor is the field of application behind the invention, which is the DRA.
Although the case where the present invention is applied to M has been described, the present invention is not limited thereto, and for example, a flash RAM, an E
It can be widely applied to various semiconductor memory devices such as PROM and EEPROM, and further to data processing devices including the same.

【0037】本発明は、少なくとも複数のビット線を含
むことを条件に適用することができる。
The present invention can be applied on the condition that at least a plurality of bit lines are included.

【0038】[0038]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下記
の通りである。
The effects obtained by the typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

【0039】すなわち、複数のメモリマットと、メモリ
セルのデータを読出し可能とするビット線とを含み、異
なるメモリマット間の対応ビット線によって相補ビット
線対が形成されるとともに当該相補ビット線対によって
同一のセンスアンプが共有されるとき、読出しサイクル
で活性化されるビット線と隣り合うビット線が、それと
同一の読出しサイクルでは非活性状態となるように上記
メモリセルが配置され、活性ビット線に隣接するビット
線が非活性状態となるようにしたので、読出しサイクル
における非活性ビット線によって活性ビット線がシール
ドされ、ビット線のノイズが低減される。また、シール
ドとして作用する非活性ビット線は当該読出しサイクル
では動作されないから、当該不活性ビット線についてワ
ード線選択後にビット線プリチャージを解除するなどの
動作やタイミング制御が不要であり、上記ビット線ノイ
ズ低減効果を得る上でメモリアクセス速度の遅延を生じ
ない。
That is, a plurality of memory mats and a bit line for reading the data of the memory cell are included. Corresponding bit lines between different memory mats form a complementary bit line pair, and the complementary bit line pair is used. When the same sense amplifier is shared, the bit line adjacent to the bit line activated in the read cycle and the memory cell are arranged so as to be inactive in the same read cycle. Since the adjacent bit line is made inactive, the active bit line is shielded by the inactive bit line in the read cycle, and the noise of the bit line is reduced. Further, since the inactive bit line acting as a shield is not operated in the read cycle, it is not necessary to perform an operation or timing control such as releasing the bit line precharge after selecting the word line for the inactive bit line. In obtaining the noise reduction effect, the memory access speed is not delayed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例にかかるDRAMの主要部の
構成が示される電気結線図である。
FIG. 1 is an electrical connection diagram showing a configuration of a main part of a DRAM according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の他の実施例にかかるDRAMの主要部
の構成が示される電気結線図である。
FIG. 2 is an electrical connection diagram showing a configuration of a main part of a DRAM according to another embodiment of the present invention.

【図3】上記DRAMに含まれるメモリセルアレイの主
要部の平面図である。
FIG. 3 is a plan view of a main part of a memory cell array included in the DRAM.

【図4】上記DRAMの全体的な構成ブロック図であ
る。
FIG. 4 is an overall configuration block diagram of the DRAM.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 センスアンプ 2 ビット線 3 ワード線 4 メモリセル 6 ハーフ電圧発生回路 11 プリチャージ用MOSFET 11A プリチャージ用MOSFET 11B プリチャージ用MOSFET 12 選択回路 15 容量蓄積ノード 16 コンタクトホール 17 拡散層 18 プレート 20 アドレスバッファ 21 アドレスマルチプレクサ 22 Xアドレスラッチ及びXデコーダ 23 ワードドライバ 24 メモリセルアレイ 25 制御回路 26 Yアドレスラッチ及びYデコーダ 27 Y選択スイッチ回路 28 データ入出力回路 1 Sense Amplifier 2 Bit Line 3 Word Line 4 Memory Cell 6 Half Voltage Generation Circuit 11 Precharge MOSFET 11A Precharge MOSFET 11B Precharge MOSFET 12 Selection Circuit 15 Capacitive Storage Node 16 Contact Hole 17 Diffusion Layer 18 Plate 20 Address Buffer 21 address multiplexer 22 X address latch and X decoder 23 word driver 24 memory cell array 25 control circuit 26 Y address latch and Y decoder 27 Y selection switch circuit 28 data input / output circuit

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数のメモリセルを含みマット分割によ
り形成される複数のメモリマットと、上記メモリセルの
データを読出し可能とするビット線とを含み、異なるメ
モリマット間の対応ビット線によって相補ビット線対が
形成されるとともに当該相補ビット線対によって同一の
センスアンプが共有されて成り、読出しサイクルで活性
化されるビット線と隣り合うビット線が、それと同一の
読出しサイクルでは非活性状態となるように上記メモリ
セルが配置されて成ることを特徴とする半導体記憶装
置。
1. A plurality of memory mats including a plurality of memory cells and formed by mat division, and a bit line capable of reading data of the memory cells, and complementary bits by corresponding bit lines between different memory mats. A pair of lines is formed and the same sense amplifier is shared by the pair of complementary bit lines, and a bit line adjacent to a bit line activated in a read cycle becomes inactive in the same read cycle. A semiconductor memory device characterized in that the memory cells are arranged as described above.
【請求項2】 同一メモリマットのビット線一本おき
に、当該ビット線に対応するセンスアンプが、当該メモ
リマットの両側に分散配置されて成る請求項1記載の半
導体記憶装置。
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein every other bit line of the same memory mat, sense amplifiers corresponding to the bit line are dispersedly arranged on both sides of the memory mat.
【請求項3】 同一メモリマットの隣り合う複数のビッ
ト線によって同一のセンスアンプが共有され、当該複数
のビット線を択一的に当該センスアンプに結合するため
の選択回路が配置されて成る請求項1記載の半導体記憶
装置。
3. The same sense amplifier is shared by a plurality of adjacent bit lines of the same memory mat, and a selection circuit for selectively coupling the plurality of bit lines to the sense amplifier is arranged. Item 2. The semiconductor memory device according to item 1.
【請求項4】 上記ビット線は、非活性時に所定のプリ
チャージレベルに固定される請求項1,2又は3記載の
半導体記憶装置。
4. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said bit line is fixed to a predetermined precharge level when inactive.
JP34163292A 1992-11-27 1992-11-27 Semiconductor storage Withdrawn JPH06168589A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001135077A (en) * 1999-11-08 2001-05-18 Sharp Corp Ferroelectric substance memory

Cited By (1)

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