JPH06167464A - Inspecting apparatus for cut surface of single crystal material - Google Patents

Inspecting apparatus for cut surface of single crystal material

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JPH06167464A
JPH06167464A JP34317392A JP34317392A JPH06167464A JP H06167464 A JPH06167464 A JP H06167464A JP 34317392 A JP34317392 A JP 34317392A JP 34317392 A JP34317392 A JP 34317392A JP H06167464 A JPH06167464 A JP H06167464A
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JP
Japan
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ray
crystal
single crystal
crystal material
cut surface
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Application number
JP34317392A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshiro Machitani
芳郎 町谷
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Rigaku Denki Co Ltd
Rigaku Corp
Original Assignee
Rigaku Denki Co Ltd
Rigaku Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To dispense with the changing of a position of an X ray optical system and to remove a danger of the X ray beam from a worker when a single crystal material of an inspection object is changed to the other kind in the case where an X-ray optical system of a double crystal method capable of inspecting a cut surface with high accuracy is used. CONSTITUTION:An apparatus for inspecting a cut surface of a single crystal material comprises an X-ray tube 9 emitting an X-ray, a first crystal 13 diffracting the X-ray to a single crystal material 2 and an X-ray counter 6 which detects the X-ray diffracted by the single crystal material 2. On the basis of a diffraction angle of the X-ray detected by the X-ray counter 6, the apparatus measures a deviation angle between a cut surface 2a and an internal crystal lattice face. A channel cut crystal is utilized for the first crystal 13.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、単結晶材料のカット面
の内部結晶格子面に対する角度偏差を測定する単結晶材
料のカット面検査装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a single crystal material cut surface inspection apparatus for measuring an angular deviation of a single crystal material cut surface from an internal crystal lattice plane.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、単結晶材料が工業的に広く用いら
れている。例えば、発振源として用いられる水晶板や半
導体用として用いられるSi(シリコン)単結晶ウエハ
等が単結晶材料として知られている。これらの単結晶材
料は、一般に、棒状の原材料を例えば0.2mm程度の
薄さに切断することによって形成される。今、例えば水
晶板を例にあげて考えた場合、水晶板内部の結晶格子面
に対する水晶板のカット面の傾斜角度が種々に変化する
と、それに応じて水晶板の特性が変化する。
2. Description of the Related Art In recent years, single crystal materials have been widely used industrially. For example, a crystal plate used as an oscillation source and a Si (silicon) single crystal wafer used for semiconductors are known as single crystal materials. These single crystal materials are generally formed by cutting a rod-shaped raw material into a thin film of, for example, about 0.2 mm. Now, taking a crystal plate as an example, when the inclination angle of the cut surface of the crystal plate with respect to the crystal lattice plane inside the crystal plate changes variously, the characteristics of the crystal plate change accordingly.

【0003】水晶の原材料をカット装置によって一定の
設備条件でカットしたとしても、実際上、各水晶板のカ
ット面の内部結晶格子面に対する傾斜角度はかなりの偏
差を持っている。従って、カットされた複数の水晶板を
選別することなく無秩序に使用する場合には、各水晶板
に関して均一な出力特性を得ることはできない。よって
通常は、カットされた各水晶板についてカット面の傾斜
角度を測定し、それらの水晶板を所定範囲の角度偏差毎
に分類して、使用している。
Even if the raw material of the quartz crystal is cut by the cutting device under a fixed equipment condition, the inclination angle of the cut surface of each crystal plate with respect to the internal crystal lattice plane actually has a considerable deviation. Therefore, in the case of randomly using a plurality of cut quartz plates without selecting them, it is not possible to obtain uniform output characteristics for each quartz plate. Therefore, normally, the inclination angle of the cut surface of each of the cut crystal plates is measured, and the crystal plates are used by classifying them according to an angular deviation within a predetermined range.

【0004】上記のように水晶板等の単結晶材料のカッ
ト面の結晶格子面に対する傾斜角度を測定するための装
置として、X線の回折を利用したカット面検査装置が広
く用いられている。このようなカット面検査装置とし
て、例えば図3に示すような、いわゆるスリット光学系
の装置がある。この装置では、ポイントフォーカスまた
はラインフォーカスのX線源1からX線が放射される。
このX線は、連続X線成分と、きわだって強い強度を持
つ幅の狭い特性X線成分とによって構成されているが、
このX線がNi(ニッケル)箔のフィルタ4を通過する
ことにより単色化、すなわちその特性X線成分のみが出
力側(図の右側)に取り出される。取り出されたX線は
スリット3で方向づけされて単結晶材料2に入射する。
As described above, a cut surface inspection apparatus utilizing X-ray diffraction is widely used as an apparatus for measuring the inclination angle of the cut surface of a single crystal material such as a quartz plate with respect to the crystal lattice plane. As such a cut surface inspection device, there is a so-called slit optical system device as shown in FIG. 3, for example. In this apparatus, X-rays are emitted from the point-focused or line-focused X-ray source 1.
This X-ray is composed of a continuous X-ray component and a narrow characteristic X-ray component having a remarkably strong intensity.
The X-rays are made monochromatic by passing through the Ni (nickel) foil filter 4, that is, only the characteristic X-ray component is extracted to the output side (right side in the figure). The extracted X-rays are directed by the slit 3 and enter the single crystal material 2.

【0005】単結晶材料2は、カット面2aまたは2b
を適宜のクランプ手段によって位置固定した状態で常に
ゴニオメータ5によって一定の位置に支持されている。
このゴニオメータ5は単結晶材料2を紙面垂直方向に延
びる軸線Lのまわりに回転、いわゆるω回転させること
ができ、また、結晶表面に対するX線の入射角δを読み
取ることができる。通常は、30秒程度の読み取り精度
で測角できる。X線の入射方向が単結晶材料2の結晶格
子面に対してブラッグ角θになったとき回折条件が満足
され、入射X線に対して回折角2θの方向にX線が回折
する。この回折方向にはX線検出手段としてのX線カウ
ンタ6が配置されていて、このX線カウンタ6によって
回折X線が検出される。
The single crystal material 2 has a cut surface 2a or 2b.
Is always supported at a fixed position by the goniometer 5 in a state where the position is fixed by an appropriate clamp means.
This goniometer 5 can rotate the single crystal material 2 around an axis L extending in the direction perpendicular to the paper surface, that is, so-called ω rotation, and can read the incident angle δ of X-rays on the crystal surface. Normally, the angle can be measured with a reading accuracy of about 30 seconds. The diffraction condition is satisfied when the incident direction of the X-ray becomes the Bragg angle θ with respect to the crystal lattice plane of the single crystal material 2, and the X-ray is diffracted in the direction of the diffraction angle 2θ with respect to the incident X-ray. An X-ray counter 6 as X-ray detection means is arranged in this diffraction direction, and the X-ray counter 6 detects diffracted X-rays.

【0006】単結晶材料2を微小角度範囲内でω回転さ
せると、図6に示すような周知のロッキングカーブ、す
なわち回折強度曲線が得られる。そのロッキングカーブ
のピーク位置θ1を読み取って基準位置と比較すれば、
その単結晶材料2のカット面2aまたは2bの結晶格子
面に対する傾斜角度の偏差を知ることができる。
When the single crystal material 2 is rotated by ω within a minute angle range, a known rocking curve, that is, a diffraction intensity curve as shown in FIG. 6 is obtained. If the peak position θ1 of the rocking curve is read and compared with the reference position,
The deviation of the tilt angle of the cut surface 2a or 2b of the single crystal material 2 with respect to the crystal lattice plane can be known.

【0007】しかしながら、このスリット光学系のカッ
ト面検査装置では、スリット3を用いてX線の発散を抑
えているもののその発散を完全に除去することはでき
ず、どうしてもロッキングカーブ(図6)における半値
幅Wが、例えば3分〜5分程度の広がりを有する。その
結果、精度の高い測定が困難であった。
However, in this slit optical system cut surface inspection apparatus, although the divergence of X-rays is suppressed by using the slit 3, the divergence cannot be completely removed, and the rocking curve (FIG. 6) is inevitable. The full width at half maximum W has a spread of, for example, about 3 to 5 minutes. As a result, it was difficult to measure with high accuracy.

【0008】この問題点を解消するため、例えば図4に
示すような、いわゆる2結晶法と呼ばれるカット面検査
装置がある。この装置は、X線源1から放射されたX線
がスリット3によってその発散角を規制され、そして第
1結晶7で回折した後に、第2結晶すなわち単結晶材料
2に入射する。単結晶材料2をω回転させながら行われ
る測定自体は図3に示したスリット光学系の装置の場合
と同じである。図示した装置は2個の結晶7及び2を
(+,−)平行配置させた光学系構造を有しており、通
常、第1結晶7は単結晶材料2と同じ結晶格子面間隔
(d値)を持つ格子欠陥等のない完全結晶によって構成
される。
In order to solve this problem, for example, there is a so-called two-crystal method cut surface inspection apparatus as shown in FIG. In this device, the divergence angle of X-rays emitted from an X-ray source 1 is regulated by a slit 3, and after diffracted by a first crystal 7, the X-rays are incident on a second crystal, that is, a single crystal material 2. The measurement itself performed while rotating the single crystal material 2 by ω is the same as that of the device of the slit optical system shown in FIG. The illustrated apparatus has an optical system structure in which two crystals 7 and 2 are arranged in parallel (+, −). Usually, the first crystal 7 has the same crystal lattice spacing (d value) as the single crystal material 2. ) With a perfect crystal without lattice defects.

【0009】この2結晶法の装置によれば、X線が第1
結晶で回折することによりそのX線の単色化及びコリメ
ート(すなわち、X線の発散の抑制)が行われ、それ
故、ロッキングカーブにおける半値幅Wを、例えば数秒
〜数十秒以内に抑えることができる。その結果、高精度
のカット面検査が可能となる。しかしながらこの装置で
は、次に述べるような欠点がある。
According to the device of the two-crystal method, the X-ray is the first
The X-ray is monochromated and collimated (that is, the divergence of the X-ray is suppressed) by diffracting with a crystal, and therefore, the full width at half maximum W in the rocking curve can be suppressed within, for example, several seconds to several tens of seconds. it can. As a result, highly accurate cut surface inspection becomes possible. However, this device has the following drawbacks.

【0010】近年、例えば水晶板を考えた場合、結晶格
子面に対するカット面のカット角度を種々に変えること
により、ATカット板、SCカット板、Xカット板、Y
カット板、Zカット板その他非常に多種類のカット板が
製造されている。これら各種のカット板はそれぞれが固
有のX線回折角度を有しているので、検査対象である第
2結晶2を結晶格子面指数の異なる第2結晶に変更する
ときは、その都度、第2結晶と同等の格子間隔を有する
第1結晶7により、第1結晶7の回折角度に合わせて第
2結晶2の位置、すなわちゴニオメータ全体を再配置し
なければならない。この作業はきわめて面倒であり、ま
た、移動後のX線光学系の光軸調整も非常に面倒であ
る。
In recent years, for example, when considering a crystal plate, various cutting angles of the cut surface with respect to the crystal lattice plane are used to change the AT cut plate, SC cut plate, X cut plate, and Y cut plate.
A wide variety of cut plates, Z-cut plates and other cut plates are manufactured. Each of these various cut plates has a unique X-ray diffraction angle, and therefore, when changing the second crystal 2 to be inspected to a second crystal having a different crystal lattice plane index, the second crystal is changed each time. With the first crystal 7 having the same lattice spacing as the crystal, the position of the second crystal 2, that is, the entire goniometer must be rearranged in accordance with the diffraction angle of the first crystal 7. This work is extremely troublesome, and adjusting the optical axis of the X-ray optical system after the movement is also very troublesome.

【0011】また、単結晶材料2としてZカット板のよ
うにX線回折角の大きいものを適用する場合には、必然
的に第1結晶7を同等の結晶格子面のものを用いるので
X線回折角は大きくなる。この場合には、図5に示すよ
うに、第1結晶7で回折した回折線Rが図4の場合に比
べて、より手前側方向に移動する。通常、作業者は装置
の手前側(図の下側)に立って作業を行うので、図5の
ように回折線Rが手前側に向かって進行するということ
は作業者にとって非常に危険である。この危険性を回避
するために作業者の前方位置にビームストッパを設ける
と、作業性が非常に悪くなる。
When a single crystal material 2 having a large X-ray diffraction angle, such as a Z-cut plate, is used, the first crystal 7 necessarily has the same crystal lattice plane, so that the X-ray is used. The diffraction angle becomes large. In this case, as shown in FIG. 5, the diffraction line R diffracted by the first crystal 7 moves further toward the front side than in the case of FIG. Normally, the worker stands on the front side (the lower side in the figure) of the apparatus to perform the work, and therefore it is very dangerous for the worker that the diffraction line R advances toward the front side as shown in FIG. . If a beam stopper is provided in front of the worker to avoid this danger, the workability will be extremely deteriorated.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来のカッ
ト面検査装置における上記の問題点を解消するためにな
されたものであって、高精度のカット面検査が可能な2
結晶法のX線光学系を用いた場合でも、測定対象である
単結晶材料を別の種類に変えるときにもX線光学系の配
置を変更する必要がなく、さらに作業者にとってX線ビ
ームによる危険性取り除くことを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems in the conventional cut surface inspection apparatus and is capable of highly accurate cut surface inspection.
Even when the X-ray optical system of the crystal method is used, it is not necessary to change the arrangement of the X-ray optical system when changing the single crystal material to be measured to another type, and the operator can use the X-ray beam. The purpose is to eliminate the risk.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め本発明に係る単結晶材料のカット面検査装置は、X線
を放射するX線源と、X線源から放射されたX線を単結
晶材料へ向けて回折させる第1結晶と、単結晶材料で回
折したX線を検出するX線検出手段とを有するカット面
検査装置において、第1結晶としてチャンネルカット結
晶を用いたことを特徴としている。
In order to achieve the above object, a cut surface inspection apparatus for a single crystal material according to the present invention provides an X-ray source which emits an X-ray and an X-ray emitted from the X-ray source. A channel cut crystal is used as the first crystal in a cut surface inspection apparatus having a first crystal that diffracts toward a single crystal material and an X-ray detection unit that detects X-rays diffracted by the single crystal material. I am trying.

【0014】チャンネルカット結晶というのは、それ自
体周知の通り、水晶、ゲルマニウムその他の結晶ブロッ
クに溝を掘って、その溝を形成する両側壁の内面をX線
反射面として利用するX線反射要素である。
As known per se, a channel-cut crystal is an X-ray reflection element in which a groove is formed in a crystal block such as quartz, germanium or the like, and the inner surfaces of both side walls forming the groove are used as an X-ray reflection surface. Is.

【0015】[0015]

【作用】カット面検査の対象である単結晶材料、すなわ
ち第2結晶に入射するX線は、チャンネルカット結晶に
よって反射したものであって、単色化され、さらにコリ
メートすなわちその発散が抑制されている。従って、単
結晶材料からの回折線によって得られるロッキングカー
ブの半値幅はきわめて狭いものとなり、よってカット面
の結晶格子面に対する傾斜角度をきわめて精度高く測定
できる。
The single crystal material which is the object of the cut surface inspection, that is, the X-ray incident on the second crystal is reflected by the channel cut crystal, is monochromatic, and further is collimated, that is, its divergence is suppressed. . Therefore, the full width at half maximum of the rocking curve obtained by the diffraction line from the single crystal material becomes extremely narrow, and therefore the inclination angle of the cut surface with respect to the crystal lattice plane can be measured with extremely high accuracy.

【0016】また、チャンネルカット結晶に入射するX
線の方向とそれから出射するX線の方向は、チャンネル
カット結晶を構成する結晶材料にかかわらず常に同一で
ある。従って、単結晶材料を配置する位置は、その単結
晶材料の材質にかかわりなく常に一定の位置で良く、材
質毎に変更する必要がない。さらに、チャンネルカット
結晶から出射するX線の方向を作業者に向かう方向から
ずらせておけば、作業者がX線ダイレクトビームに被爆
することもなくなって非常に安全である。
X incident on the channel-cut crystal
The direction of the line and the direction of the X-ray emitted therefrom are always the same regardless of the crystal material forming the channel cut crystal. Therefore, the position of disposing the single crystal material may be always a constant position regardless of the material of the single crystal material, and it is not necessary to change it for each material. Furthermore, if the direction of the X-ray emitted from the channel-cut crystal is shifted from the direction toward the worker, the worker is not exposed to the X-ray direct beam, which is very safe.

【0017】[0017]

【実施例】図1は本発明に係る単結晶材料のカット面検
査装置の一実施例を示している。同図は、その装置を上
方から見た場合を示している。このカット面検査装置
は、フレーム8の上に配設されたX線管9、ゴニオメー
タ5、そしてX線検出手段としてのX線カウンタ6を有
している。X線管9の内部は真空に保持されていて、そ
の内部にフィラメント10及びターゲット11が収納さ
れている。ターゲット11は、例えば銅(Cu)によっ
て形成される。ゴニオメータ5の上にはクランプ板12
が設けられており、このクランプ板12に水晶板等とい
た単結晶材料2が真空吸引、機械的クランプ手段その他
の任意の固定方法によって固定されている。この場合、
単結晶材料2のカット面2aがクランプ板12の前面に
密着して位置決めされている。ゴニオメータ5は、カッ
ト面2aを通る軸線Lのまわりに単結晶材料2を回転、
すなわちω回転させることができる。また、X線の入射
角度δを測角できる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows an embodiment of a cut surface inspection apparatus for a single crystal material according to the present invention. The figure shows the apparatus viewed from above. This cut surface inspection device has an X-ray tube 9 arranged on a frame 8, a goniometer 5, and an X-ray counter 6 as X-ray detection means. The inside of the X-ray tube 9 is kept in a vacuum, and the filament 10 and the target 11 are housed inside the X-ray tube 9. The target 11 is formed of, for example, copper (Cu). A clamp plate 12 is provided on the goniometer 5.
The single crystal material 2 such as a crystal plate is fixed to the clamp plate 12 by vacuum suction, mechanical clamping means or any other fixing method. in this case,
The cut surface 2a of the single crystal material 2 is positioned in close contact with the front surface of the clamp plate 12. The goniometer 5 rotates the single crystal material 2 around an axis L passing through the cut surface 2a,
That is, it can be rotated by ω. Further, the incident angle δ of X-ray can be measured.

【0018】X線管9とゴニオメータ5との間にはスリ
ット3及び第1結晶として作用するチャンネルカット結
晶13が固定配置されている。このチャンネルカット結
晶13は、単結晶材料2と同じ材質で格子欠陥等のない
完全結晶によって形成されている。そしてその形状は、
図2に示すように、1つの直方体形状の結晶ブロック1
4の中央部に溝Mを掘ることによって、その溝Mの両側
に2つの側壁14a及び14bを形成した形状となって
いる。それら両側壁14a及び14bのうちの互いに対
向する内壁面をX線反射面として利用する。
Between the X-ray tube 9 and the goniometer 5, a slit 3 and a channel cut crystal 13 acting as a first crystal are fixedly arranged. The channel-cut crystal 13 is made of the same material as the single crystal material 2 and is a perfect crystal having no lattice defect or the like. And its shape is
As shown in FIG. 2, one rectangular parallelepiped crystal block 1
By digging the groove M at the center of the groove 4, the side wall 14a and 14b are formed on both sides of the groove M. Inner wall surfaces of the both side walls 14a and 14b facing each other are used as X-ray reflecting surfaces.

【0019】以下、上記構成より成るカット面検査装置
についてその動作を説明する。通電によって発熱するフ
ィラメント10から放出された熱電子がターゲット11
に衝突して、そこからX線が放射される。放射されたX
線は、スリット3によってその発散が制限された後、チ
ャンネルカット結晶13に入射して、2個の反射面14
a及び14bで順次反射、すなわち回折する。この回折
により、発散のない単色化されたX線、例えばCuのK
α線が取り出される。取り出されたX線は、第2結晶で
ある単結晶材料2に入射し、回折条件が満足されたとき
にそこで回折する。この回折X線はX線カウンタ6によ
って検出される。
The operation of the cut surface inspection apparatus having the above structure will be described below. The thermoelectrons emitted from the filament 10 that generate heat when energized are targeted 11
X-rays are radiated from there. Radiated X
After the divergence of the line is limited by the slit 3, the line is incident on the channel-cut crystal 13 and the two reflection surfaces 14
The light is sequentially reflected or diffracted at a and 14b. Due to this diffraction, monochromatic X-rays without divergence, for example, K of Cu
Alpha rays are extracted. The extracted X-rays are incident on the single crystal material 2 that is the second crystal and are diffracted there when the diffraction condition is satisfied. This diffracted X-ray is detected by the X-ray counter 6.

【0020】ゴニオメータ5は微小角度範囲で単結晶材
料2をω回転させる。このとき、X線カウンタ6によっ
て回折X線強度のピーク値が検出され、そのときのX線
入射角δが読み取られる。このときの角度δを基準の角
度値と比較することにより、結晶格子面に対するカット
面2aの傾斜角度が測定される。
The goniometer 5 rotates the single crystal material 2 by ω within a minute angle range. At this time, the X-ray counter 6 detects the peak value of the diffracted X-ray intensity, and the X-ray incident angle δ at that time is read. By comparing the angle δ at this time with a reference angle value, the inclination angle of the cut surface 2a with respect to the crystal lattice surface is measured.

【0021】本実施例では、第1結晶13及び第2結晶
2を用いた、いわゆる2結晶法を採用しているので、精
度の高いカット面検査が行われる。しかも、第1結晶1
3としてチャンネルカット結晶を用いているので、第1
結晶13の材質が変化してもそこから出射するX線の方
向は常に一定である。従って、検査対象である単結晶材
料2が異なるX線回折角を有する種々の材質に変更され
る場合でも、その単結晶材料2を配置する位置はほぼ一
定の位置に固定され、光学系を大きく再配置する必要が
なくなる。さらに、通常、作業者15は装置の手前側に
立って各種の作業を行うが、チャンネルカット結晶13
から出射されるX線はその作業者15の方向へは向かわ
ないように設定されており、その設定はチャンネルカッ
ト結晶13の材質が変わったときでも変化はない。従っ
て、作業者15がX線ダイレクトビームによって被爆す
るおそれがなく安全である。
In the present embodiment, since the so-called two-crystal method using the first crystal 13 and the second crystal 2 is adopted, highly accurate cut surface inspection is performed. Moreover, the first crystal 1
Since a channel cut crystal is used as 3,
Even if the material of the crystal 13 changes, the direction of X-rays emitted therefrom is always constant. Therefore, even when the single crystal material 2 to be inspected is changed to various materials having different X-ray diffraction angles, the position where the single crystal material 2 is arranged is fixed at a substantially constant position, and the optical system is enlarged. No need to relocate. Furthermore, although the operator 15 usually stands on the front side of the apparatus and performs various operations, the channel cut crystal 13
The X-rays emitted from the device are set so as not to go toward the worker 15, and the setting does not change even when the material of the channel cut crystal 13 changes. Therefore, there is no risk of the worker 15 being exposed to the X-ray direct beam, which is safe.

【0022】以上、1つの実施例をあげて本発明を説明
したが、本発明はその実施例に限定されるものではな
い。例えば、チャンネルカット結晶13の結晶材質は必
ずしも単結晶材料2、すなわち第2結晶と同じものに限
られない。場合によっては、単結晶材料2の格子面間隔
(d値)と同一の格子面間隔を有する他種類の単結晶を
用いることができる。また、チャンネルカット結晶の数
は1個に限られず、例えば2個のチャンネルカット結晶
を組み合わせることにより4結晶(結晶コリメート)を
用いることができる。
Although the present invention has been described with reference to one embodiment, the present invention is not limited to this embodiment. For example, the crystal material of the channel cut crystal 13 is not necessarily the same as the single crystal material 2, that is, the same as the second crystal. In some cases, another type of single crystal having the same lattice plane spacing as the lattice plane spacing (d value) of the single crystal material 2 can be used. The number of channel-cut crystals is not limited to one, and four crystals (crystal collimates) can be used by combining two channel-cut crystals, for example.

【0023】[0023]

【発明の効果】本発明によれば、2結晶法のX線光学系
を用いているので、高精度のカット面検査が可能であ
る。また、第1結晶としてチャンネルカット結晶を用い
たので、その第1結晶を任意の異なる種類に変更した場
合でもチャンネルカット結晶から出射するX線の方向を
常に一定方向に固定できる。従って、検査対象である単
結晶材料を別の種類に変えるときにもX線光学系の配置
を変更する必要がない。さらにチャンネルカット結晶か
ら出射するX線ビームの方向を予め作業者に向かう方向
からずらせておくことにより、作業者がX線ダイレクト
ビームに被爆するという危険性を確実に除去できる。
According to the present invention, since the X-ray optical system of the two-crystal method is used, highly accurate cut surface inspection is possible. Further, since the channel-cut crystal is used as the first crystal, the direction of the X-ray emitted from the channel-cut crystal can always be fixed to a fixed direction even when the first crystal is changed to an arbitrary different type. Therefore, it is not necessary to change the arrangement of the X-ray optical system when changing the single crystal material to be inspected to another type. Furthermore, by previously shifting the direction of the X-ray beam emitted from the channel-cut crystal from the direction toward the worker, the risk of the worker being exposed to the X-ray direct beam can be reliably eliminated.

【0024】[0024]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る単結晶材料のカット面検査装置の
一実施例を示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of a cut surface inspection device for a single crystal material according to the present invention.

【図2】チャンネルカット結晶の一実施例を示す斜視図
である。
FIG. 2 is a perspective view showing an embodiment of a channel cut crystal.

【図3】従来の単結晶材料のカット面検査装置の一実施
例を示す平面図である。
FIG. 3 is a plan view showing an embodiment of a conventional cut surface inspection apparatus for a single crystal material.

【図4】従来の単結晶材料のカット面検査装置の他の一
実施例を示す平面図である。
FIG. 4 is a plan view showing another example of a conventional cut surface inspection apparatus for a single crystal material.

【図5】図4に示す従来例で単結晶の材質を変更した場
合のX線光学系の配置を示す平面図である。
5 is a plan view showing the arrangement of the X-ray optical system when the material of the single crystal is changed in the conventional example shown in FIG.

【図6】ロッキングカーブの一例を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing an example of a rocking curve.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 X線源 2 単結晶材料(第2結晶) 6 X線カウンタ(X線検出手段) 13 チャンネルカット結晶(第1結晶) 14 結晶ブロック 14a 側壁反射面 14b 側壁反射面 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 X-ray source 2 Single crystal material (2nd crystal) 6 X-ray counter (X-ray detection means) 13 Channel cut crystal (1st crystal) 14 Crystal block 14a Side wall reflection surface 14b Side wall reflection surface

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 X線を放射するX線源と、X線源から放
射されたX線を単結晶材料へ向けて回折させる第1結晶
と、単結晶材料で回折したX線を検出するX線検出手段
とを有しており、X線検出手段によって検出されるX線
の回折角度から単結晶材料のカット面の内部結晶格子面
に対する角度偏差を測定する単結晶材料のカット面検査
装置において、 上記第1結晶としてチャンネルカット結晶を用いたこと
を特徴とする単結晶材料のカット面検査装置。
1. An X-ray source that emits X-rays, a first crystal that diffracts the X-rays emitted from the X-ray source toward a single crystal material, and an X that detects the X-rays diffracted by the single crystal material. A cut surface inspection device for a single crystal material, which has an X-ray detection means and measures an angular deviation of a cut surface of the single crystal material with respect to an internal crystal lattice plane from an X-ray diffraction angle detected by the X-ray detection means. A cut surface inspection device for a single crystal material, wherein a channel cut crystal is used as the first crystal.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105092583A (en) * 2015-08-13 2015-11-25 中国振华集团永光电子有限公司(国营第八七三厂) Silicon single crystal orientation deviation testing device with common light source

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105092583A (en) * 2015-08-13 2015-11-25 中国振华集团永光电子有限公司(国营第八七三厂) Silicon single crystal orientation deviation testing device with common light source

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