JPH0616624A - ３−アミノ−４，４−ジアルキルピロリジン誘導体 - Google Patents
３−アミノ−４，４−ジアルキルピロリジン誘導体Info
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- JPH0616624A JPH0616624A JP4198985A JP19898592A JPH0616624A JP H0616624 A JPH0616624 A JP H0616624A JP 4198985 A JP4198985 A JP 4198985A JP 19898592 A JP19898592 A JP 19898592A JP H0616624 A JPH0616624 A JP H0616624A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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Abstract
(57)【要約】
【構成】次の一般式
【化１】
（式中、Ｒ1 及びＲ2 は同一若しくは異なって低級アル
キル基を、Ｒ3 及びＲ4は同一若しくは異なって水素原
子，低級アルキル基又はアミノ保護基を、Ｒ5 は水素原
子又はアミノ保護基を表す。）で示される３−アミノ−
４，４−ジアルキルピロリジン誘導体及びその塩。 【効果】これらの化合物は、抗菌剤，抗腫瘍剤，エイズ
ウィルス治療剤等の医薬品及び農薬等の合成中間体とし
て有用である。
キル基を、Ｒ3 及びＲ4は同一若しくは異なって水素原
子，低級アルキル基又はアミノ保護基を、Ｒ5 は水素原
子又はアミノ保護基を表す。）で示される３−アミノ−
４，４−ジアルキルピロリジン誘導体及びその塩。 【効果】これらの化合物は、抗菌剤，抗腫瘍剤，エイズ
ウィルス治療剤等の医薬品及び農薬等の合成中間体とし
て有用である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は抗菌剤，抗腫瘍剤及びエ
イズウィルス治療剤等の医薬品及び農薬の合成中間体と
して有用な次の一般式（Ｉ）
イズウィルス治療剤等の医薬品及び農薬の合成中間体と
して有用な次の一般式（Ｉ）
【化２】 （式中、Ｒ1 及びＲ2 は同一若しくは異なって低級アル
キル基を、Ｒ3 及びＲ4は同一若しくは異なって水素原
子，低級アルキル基又はアミノ保護基を、Ｒ5 は水素原
子又はアミノ保護基を表す。）で示される新規な３−ア
ミノ−４，４−ジアルキルピロリジン誘導体及びその塩
に関するものである。
キル基を、Ｒ3 及びＲ4は同一若しくは異なって水素原
子，低級アルキル基又はアミノ保護基を、Ｒ5 は水素原
子又はアミノ保護基を表す。）で示される新規な３−ア
ミノ−４，４−ジアルキルピロリジン誘導体及びその塩
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】本発明に係る、４位にアルキル基が２個
置換した３−アミノピロリジン誘導体はこれまで全く知
られていない。
置換した３−アミノピロリジン誘導体はこれまで全く知
られていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】抗菌剤，抗腫瘍剤，エ
イズウィルス治療剤等の医薬品や農薬の製造の為の新規
なピロリジン誘導体の開発が望まれている。
イズウィルス治療剤等の医薬品や農薬の製造の為の新規
なピロリジン誘導体の開発が望まれている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前述の事
情を鑑み鋭意研究した結果、本発明に係る新規な３−ア
ミノ−４，４−ジアルキルピロリジン誘導体が、上記医
薬品や農薬の重要な合成中間体として有用であることを
見い出し、本発明を完成させた。
情を鑑み鋭意研究した結果、本発明に係る新規な３−ア
ミノ−４，４−ジアルキルピロリジン誘導体が、上記医
薬品や農薬の重要な合成中間体として有用であることを
見い出し、本発明を完成させた。
【０００５】即ち、本発明は次の一般式（Ｉ）
【化３】 （式中、Ｒ1,Ｒ2,Ｒ3,Ｒ4 及びＲ5 は前述と同意義を表
す。）で示される新規な３−アミノ−４，４−ジアルキ
ルピロリジン誘導体及びその塩に関するものである。
す。）で示される新規な３−アミノ−４，４−ジアルキ
ルピロリジン誘導体及びその塩に関するものである。
【０００６】本発明の前記一般式（Ｉ）中、Ｒ1,Ｒ2,Ｒ
3 及びＲ4 で示される低級アルキル基としては、たとえ
ば、メチル基，エチル基，n-プロピル基，イソプロピル
基，n-ブチル基，イソブチル基，sec-ブチル基，tert-
ブチル基等が挙げられ、Ｒ3,Ｒ4 及びＲ5 で示されるア
ミノ保護基としては、たとえば、ホルミル基，アセチル
基，プロパノイル基，ブチロイル基，tert- ブチロイル
基等の低級アルカノイル基、フルオロアセチル基，ジフ
ルオロアセチル基，トリフルオロアセチル基，クロロア
セチル基等のハロゲノ低級アルカノイル基、ベンジルオ
キシカルボニル基，エトキシカルボニル基，メトキシカ
ルボニル基，tert- ブトキシカルボニル基等のカルボン
酸エステル残基、又はフェニルメチル基，α−メチルフ
ェニルメチル基，p-メトキシフェニルメチル基等の置換
基を有していても良いフェニルメチル基等が挙げられ
る。
3 及びＲ4 で示される低級アルキル基としては、たとえ
ば、メチル基，エチル基，n-プロピル基，イソプロピル
基，n-ブチル基，イソブチル基，sec-ブチル基，tert-
ブチル基等が挙げられ、Ｒ3,Ｒ4 及びＲ5 で示されるア
ミノ保護基としては、たとえば、ホルミル基，アセチル
基，プロパノイル基，ブチロイル基，tert- ブチロイル
基等の低級アルカノイル基、フルオロアセチル基，ジフ
ルオロアセチル基，トリフルオロアセチル基，クロロア
セチル基等のハロゲノ低級アルカノイル基、ベンジルオ
キシカルボニル基，エトキシカルボニル基，メトキシカ
ルボニル基，tert- ブトキシカルボニル基等のカルボン
酸エステル残基、又はフェニルメチル基，α−メチルフ
ェニルメチル基，p-メトキシフェニルメチル基等の置換
基を有していても良いフェニルメチル基等が挙げられ
る。
【０００７】本発明の前記一般式（Ｉ）で示される化合
物は、所望に応じて塩に変換することも、又は生成した
塩から塩基を遊離させることもできる。
物は、所望に応じて塩に変換することも、又は生成した
塩から塩基を遊離させることもできる。
【０００８】本発明の前記一般式（Ｉ）で示される化合
物の塩としては、たとえば、塩酸，臭化水素酸，ヨウ化
水素酸，硝酸，硫酸，燐酸等の鉱酸塩、あるいは、酢
酸，マレイン酸，フマル酸，クエン酸，シュウ酸，リン
ゴ酸，メタンスルホン酸，p-トルエンスルホン酸，マン
デル酸，10- カンファースルホン酸，酒石酸等の有機酸
塩等が挙げられる。
物の塩としては、たとえば、塩酸，臭化水素酸，ヨウ化
水素酸，硝酸，硫酸，燐酸等の鉱酸塩、あるいは、酢
酸，マレイン酸，フマル酸，クエン酸，シュウ酸，リン
ゴ酸，メタンスルホン酸，p-トルエンスルホン酸，マン
デル酸，10- カンファースルホン酸，酒石酸等の有機酸
塩等が挙げられる。
【０００９】本発明の前記一般式（Ｉ）で示される化合
物は、１個又は複数個の不斉炭素原子を有しており、い
くつかの立体異性体が存在し得るが、本発明にはこれら
異性体及びその混合物も包含される。
物は、１個又は複数個の不斉炭素原子を有しており、い
くつかの立体異性体が存在し得るが、本発明にはこれら
異性体及びその混合物も包含される。
【００１０】本発明の前記一般式（Ｉ）で示される新規
な３−アミノ−４，４−ジアルキルピロリジン誘導体は
下記の製造方法により製造することができるが、該化合
物の製造方法はこれらの方法に限定されるものではな
い。
な３−アミノ−４，４−ジアルキルピロリジン誘導体は
下記の製造方法により製造することができるが、該化合
物の製造方法はこれらの方法に限定されるものではな
い。
【００１１】本発明に係る化合物の製造方法の第一の様
式によれば、前記一般式（Ｉ）で示される化合物は、次
の一般式（II）
式によれば、前記一般式（Ｉ）で示される化合物は、次
の一般式（II）
【化４】 （式中、Ｒ1,Ｒ2 及びＲ5 は前述と同意義を表し、Ｒ6
は水酸基を表す。）で示される３−イミノ−４，４−ジ
アルキル−５−オキソピロリジン誘導体を水素化金属に
より還元することにより製造することができる。
は水酸基を表す。）で示される３−イミノ−４，４−ジ
アルキル−５−オキソピロリジン誘導体を水素化金属に
より還元することにより製造することができる。
【００１２】本製造方法である水素化金属による還元
は、それ自体公知の方法であり、各種の溶媒中で反応す
ることができる。
は、それ自体公知の方法であり、各種の溶媒中で反応す
ることができる。
【００１３】本製造方法において使用される溶媒として
は、反応を阻害しない限りいかなるものでもよく、たと
えば、エーテル，テトラヒドロフラン，１，４−ジオキ
サン，ジグリム，ベンゼン，トルエン，キシレン，ヘキ
サン等が挙げられ、水素化金属としては、水素化アルミ
ニウムリチウム，水素化アルミニウムナトリウム等の水
素化アルミニウム類、リチウムトリ-tert-ブトキシアル
ミノヒドリド，リチウムトリエトキシアルミノヒドリ
ド，ナトリウムビス（２−メトキシエトキシ）アルミノ
ヒドリド等の水素化アルコキシアルミニウム類等が挙げ
られ、又、反応は氷冷下から溶媒の還流温度までの範囲
で行われる。
は、反応を阻害しない限りいかなるものでもよく、たと
えば、エーテル，テトラヒドロフラン，１，４−ジオキ
サン，ジグリム，ベンゼン，トルエン，キシレン，ヘキ
サン等が挙げられ、水素化金属としては、水素化アルミ
ニウムリチウム，水素化アルミニウムナトリウム等の水
素化アルミニウム類、リチウムトリ-tert-ブトキシアル
ミノヒドリド，リチウムトリエトキシアルミノヒドリ
ド，ナトリウムビス（２−メトキシエトキシ）アルミノ
ヒドリド等の水素化アルコキシアルミニウム類等が挙げ
られ、又、反応は氷冷下から溶媒の還流温度までの範囲
で行われる。
【００１４】尚、本製造方法において、出発原料となっ
た前記一般式(II)で示される３−イミノ−４，４−ジア
ルキル−５−オキソピロリジン誘導体は、以下の様にし
て製造することができる。
た前記一般式(II)で示される３−イミノ−４，４−ジア
ルキル−５−オキソピロリジン誘導体は、以下の様にし
て製造することができる。
【化５】 （式中、Ｒ1,Ｒ2,Ｒ5 及びＲ6 は前述と同意義を表
す。）
す。）
【００１５】本発明に係る化合物の製造方法の第二の様
式によれば、前記一般式（Ｉ）で示される化合物のうち
Ｒ3 又は／及びＲ4 が水素原子である化合物は、前記一
般式（Ｉ）中、Ｒ3 又は／及びＲ4 がアミノ保護基であ
る化合物を、脱保護することにより製造することができ
る。アミノ保護基が、低級アルカノイル基，ハロゲノ低
級アルカノイル基である化合物は加水分解により、カル
ボン酸エステル残基である化合物は無溶媒あるいは溶媒
中カチオンスカベンジャーの存在下あるいは非存在下、
酸で処理することにより、又、フェニルメチル基類であ
る化合物は、溶媒中、触媒を用いて酸又はアルカリ存在
下又は非存在下水素化分解することにより製造すること
ができる。
式によれば、前記一般式（Ｉ）で示される化合物のうち
Ｒ3 又は／及びＲ4 が水素原子である化合物は、前記一
般式（Ｉ）中、Ｒ3 又は／及びＲ4 がアミノ保護基であ
る化合物を、脱保護することにより製造することができ
る。アミノ保護基が、低級アルカノイル基，ハロゲノ低
級アルカノイル基である化合物は加水分解により、カル
ボン酸エステル残基である化合物は無溶媒あるいは溶媒
中カチオンスカベンジャーの存在下あるいは非存在下、
酸で処理することにより、又、フェニルメチル基類であ
る化合物は、溶媒中、触媒を用いて酸又はアルカリ存在
下又は非存在下水素化分解することにより製造すること
ができる。
【００１６】アミノ保護基が低級アルカノイル基，ハロ
ゲノ低級アルカノイル基である化合物の加水分解はそれ
自体公知の方法で、酸又はアルカリを用いて行われ、酸
性加水分解には塩酸，硫酸等の酸を、アルカリ性加水分
解には水酸化ナトリウム，水酸化カリウム，ナトリウム
アルコラート等のアルカリを用い、これら酸又はアルカ
リは水溶液、もしくは、メタノール，エタノール，n-ブ
タノール，sec-ブタノール，tert- ブタノール等の有機
溶媒、あるいは含水有機溶媒による溶液として反応に用
いることができ、反応は室温から溶媒の加熱還流温度下
において行われる。
ゲノ低級アルカノイル基である化合物の加水分解はそれ
自体公知の方法で、酸又はアルカリを用いて行われ、酸
性加水分解には塩酸，硫酸等の酸を、アルカリ性加水分
解には水酸化ナトリウム，水酸化カリウム，ナトリウム
アルコラート等のアルカリを用い、これら酸又はアルカ
リは水溶液、もしくは、メタノール，エタノール，n-ブ
タノール，sec-ブタノール，tert- ブタノール等の有機
溶媒、あるいは含水有機溶媒による溶液として反応に用
いることができ、反応は室温から溶媒の加熱還流温度下
において行われる。
【００１７】カルボン酸エステル残基の脱保護反応にお
いて使用される溶媒としては、たとえば、酢酸，酢酸エ
チル，ジオキサン，水，メタノール，エタノールあるい
はこれらの混合溶媒等が挙げられ、カチオンスカベンジ
ャーとしては、たとえば、アニソール，チオアニソール
等が挙げられ、酸としては、たとえば、塩酸，臭化水素
酸，トリフルオロ酢酸等が挙げられ、反応は氷冷下から
室温までの温度範囲で行われる。
いて使用される溶媒としては、たとえば、酢酸，酢酸エ
チル，ジオキサン，水，メタノール，エタノールあるい
はこれらの混合溶媒等が挙げられ、カチオンスカベンジ
ャーとしては、たとえば、アニソール，チオアニソール
等が挙げられ、酸としては、たとえば、塩酸，臭化水素
酸，トリフルオロ酢酸等が挙げられ、反応は氷冷下から
室温までの温度範囲で行われる。
【００１８】又、フェニルメチル基類の水素化分解にお
いて使用される溶媒としては、たとえば、メタノール，
エタノール，n-プロパノール，イソプロパノール，n-ブ
タノール等のアルコール系溶媒、アセトニトリル，Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド，Ｎ−メチル−２−ピロリド
ン，ジメチルスルホキシド，ヘキサメチルホスフォリッ
クトリアミド等の非プロトン性極性溶媒、ベンゼン，ト
ルエン等の芳香族炭化水素系溶媒等が挙げられる。又、
触媒としては、５％パラジウム炭素，１０％パラジウム
炭素，２０％水酸化パラジウム炭素，ラネーニッケル等
の含金属化合物等が挙げられ、酸又はアルカリとして
は、塩酸，臭化水素酸，ヨウ化水素酸，硝酸，硫酸，リ
ン酸等の鉱酸あるいは、酢酸，メタンスルホン酸等の有
機酸、水酸化ナトリウム，水酸化カリウム，水酸化カル
シウム，アンモニア水等の無機塩基が挙げられる。反応
温度は室温から２００℃の範囲で、水素圧は、常圧から
１５０気圧の範囲で行われる。
いて使用される溶媒としては、たとえば、メタノール，
エタノール，n-プロパノール，イソプロパノール，n-ブ
タノール等のアルコール系溶媒、アセトニトリル，Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド，Ｎ−メチル−２−ピロリド
ン，ジメチルスルホキシド，ヘキサメチルホスフォリッ
クトリアミド等の非プロトン性極性溶媒、ベンゼン，ト
ルエン等の芳香族炭化水素系溶媒等が挙げられる。又、
触媒としては、５％パラジウム炭素，１０％パラジウム
炭素，２０％水酸化パラジウム炭素，ラネーニッケル等
の含金属化合物等が挙げられ、酸又はアルカリとして
は、塩酸，臭化水素酸，ヨウ化水素酸，硝酸，硫酸，リ
ン酸等の鉱酸あるいは、酢酸，メタンスルホン酸等の有
機酸、水酸化ナトリウム，水酸化カリウム，水酸化カル
シウム，アンモニア水等の無機塩基が挙げられる。反応
温度は室温から２００℃の範囲で、水素圧は、常圧から
１５０気圧の範囲で行われる。
【００１９】本発明に係る化合物の製造方法の第三の様
式によれば、前記一般式（Ｉ）で示される化合物のう
ち、Ｒ5 が水素原子である化合物は、前記一般式（Ｉ）
中、Ｒ5 がアミノ保護基である化合物を脱保護すること
により製造することができる。アミノ保護基が、低級ア
ルカノイル基，ハロゲノ低級アルカノイル基である化合
物は加水分解により、カルボン酸エステル残基である化
合物は無溶媒あるいは溶媒中カチオンスカベンジャーの
存在下あるいは非存在下、酸で処理することにより、
又、フェニルメチル基類である化合物は、溶媒中、触媒
を用いて酸又はアルカリ存在下又は非存在下水素化分解
することにより製造することができる。
式によれば、前記一般式（Ｉ）で示される化合物のう
ち、Ｒ5 が水素原子である化合物は、前記一般式（Ｉ）
中、Ｒ5 がアミノ保護基である化合物を脱保護すること
により製造することができる。アミノ保護基が、低級ア
ルカノイル基，ハロゲノ低級アルカノイル基である化合
物は加水分解により、カルボン酸エステル残基である化
合物は無溶媒あるいは溶媒中カチオンスカベンジャーの
存在下あるいは非存在下、酸で処理することにより、
又、フェニルメチル基類である化合物は、溶媒中、触媒
を用いて酸又はアルカリ存在下又は非存在下水素化分解
することにより製造することができる。
【００２０】アミノ保護基が低級アルカノイル基，ハロ
ゲノ低級アルカノイル基である化合物の加水分解はそれ
自体公知の方法で、酸又はアルカリを用いて行われ、酸
性加水分解には塩酸，硫酸等の酸を、アルカリ性加水分
解には水酸化ナトリウム，水酸化カリウム，ナトリウム
アルコラート等のアルカリを用い、これら酸又はアルカ
リは水溶液、もしくは、メタノール，エタノール，n-ブ
タノール，sec-ブタノール，tert- ブタノール等の有機
溶媒、あるいは含水有機溶媒による溶液として反応に用
いることができ、反応は室温から溶媒の加熱還流温度下
において行われる。
ゲノ低級アルカノイル基である化合物の加水分解はそれ
自体公知の方法で、酸又はアルカリを用いて行われ、酸
性加水分解には塩酸，硫酸等の酸を、アルカリ性加水分
解には水酸化ナトリウム，水酸化カリウム，ナトリウム
アルコラート等のアルカリを用い、これら酸又はアルカ
リは水溶液、もしくは、メタノール，エタノール，n-ブ
タノール，sec-ブタノール，tert- ブタノール等の有機
溶媒、あるいは含水有機溶媒による溶液として反応に用
いることができ、反応は室温から溶媒の加熱還流温度下
において行われる。
【００２１】カルボン酸エステル残基の水素化分解にお
いて使用される溶媒としては、たとえば、酢酸，酢酸エ
チル，ジオキサン，水，メタノール，エタノールあるい
はこれらの混合溶媒等が挙げられ、カチオンスカベンジ
ャーとしては、たとえば、アニソール，チオアニソール
等が挙げられ、酸としては、たとえば、塩酸，臭化水素
酸，トリフルオロ酢酸等が挙げられ、反応は氷冷下から
室温までの温度範囲で行われる。
いて使用される溶媒としては、たとえば、酢酸，酢酸エ
チル，ジオキサン，水，メタノール，エタノールあるい
はこれらの混合溶媒等が挙げられ、カチオンスカベンジ
ャーとしては、たとえば、アニソール，チオアニソール
等が挙げられ、酸としては、たとえば、塩酸，臭化水素
酸，トリフルオロ酢酸等が挙げられ、反応は氷冷下から
室温までの温度範囲で行われる。
【００２２】又、フェニルメチル基類の水素化分解にお
いて使用される溶媒としては、たとえば、メタノール，
エタノール，n-プロパノール，イソプロパノール，n-ブ
タノール等のアルコール系溶媒、アセトニトリル，Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド，Ｎ−メチル−２−ピロリド
ン，ジメチルスルホキシド，ヘキサメチルホスフォリッ
クトリアミド等の非プロトン性極性溶媒、ベンゼン，ト
ルエン等の芳香族炭化水素系溶媒等が挙げられる。又、
触媒としては、５％パラジウム炭素，１０％パラジウム
炭素，２０％水酸化パラジウム炭素，ラネーニッケル等
の含金属化合物等が挙げられ、酸又はアルカリとして
は、塩酸，臭化水素酸，ヨウ化水素酸，硝酸，硫酸，リ
ン酸等の鉱酸あるいは、酢酸，メタンスルホン酸等の有
機酸、水酸化ナトリウム，水酸化カリウム，水酸化カル
シウム，アンモニア水等の無機塩基が挙げられる。反応
温度は室温から２００℃の範囲で、水素圧は、常圧から
１５０気圧の範囲で行われる。
いて使用される溶媒としては、たとえば、メタノール，
エタノール，n-プロパノール，イソプロパノール，n-ブ
タノール等のアルコール系溶媒、アセトニトリル，Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド，Ｎ−メチル−２−ピロリド
ン，ジメチルスルホキシド，ヘキサメチルホスフォリッ
クトリアミド等の非プロトン性極性溶媒、ベンゼン，ト
ルエン等の芳香族炭化水素系溶媒等が挙げられる。又、
触媒としては、５％パラジウム炭素，１０％パラジウム
炭素，２０％水酸化パラジウム炭素，ラネーニッケル等
の含金属化合物等が挙げられ、酸又はアルカリとして
は、塩酸，臭化水素酸，ヨウ化水素酸，硝酸，硫酸，リ
ン酸等の鉱酸あるいは、酢酸，メタンスルホン酸等の有
機酸、水酸化ナトリウム，水酸化カリウム，水酸化カル
シウム，アンモニア水等の無機塩基が挙げられる。反応
温度は室温から２００℃の範囲で、水素圧は、常圧から
１５０気圧の範囲で行われる。
【００２３】本発明に係る化合物の製造方法の第四の様
式によれば、前記一般式（Ｉ）で示される化合物のうち
Ｒ3 又は／及びＲ4 が低級アルキル基である化合物は、
前記一般式（Ｉ）中、Ｒ3 又は／及びＲ4 が水素原子で
ある化合物とハロゲノ低級アルキルとを、溶媒中、塩基
の存在下又は非存在下で反応させるか、もしくは、次の
一般式(III)
式によれば、前記一般式（Ｉ）で示される化合物のうち
Ｒ3 又は／及びＲ4 が低級アルキル基である化合物は、
前記一般式（Ｉ）中、Ｒ3 又は／及びＲ4 が水素原子で
ある化合物とハロゲノ低級アルキルとを、溶媒中、塩基
の存在下又は非存在下で反応させるか、もしくは、次の
一般式(III)
【化６】 （式中、Ｒ7 は水素原子又は低級アルキル基を表す。）
で示されるアルデヒド化合物とを、ギ酸の存在下で反応
させることにより製造することができる。
で示されるアルデヒド化合物とを、ギ酸の存在下で反応
させることにより製造することができる。
【００２４】本製造方法のうちハロゲノ低級アルキルを
用いる場合の溶媒としては、たとえば、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド，アセトン，エタノール，テトラヒドロ
フラン，ベンゼン，クロロホルム等が挙げられ、塩基と
しては、たとえば、トリエチルアミン，炭酸カリウム等
が挙げられる。
用いる場合の溶媒としては、たとえば、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド，アセトン，エタノール，テトラヒドロ
フラン，ベンゼン，クロロホルム等が挙げられ、塩基と
しては、たとえば、トリエチルアミン，炭酸カリウム等
が挙げられる。
【００２５】又、本製造方法のうちアルデヒド化合物を
用いる場合の前記一般式(III) で示されるアルデヒド化
合物としては、ホルムアルデヒド，アセトアルデヒド，
プロピオンアルデヒド等が挙げられ、ホルムアルデヒド
はホルムアルデヒド水溶液（ホルマリン）として使用す
ることが好ましく、又、アセトアルデヒド及びプロピオ
ンアルデヒドを使用する時は、ニトロベンゼンを溶媒と
して用いることが好ましい。
用いる場合の前記一般式(III) で示されるアルデヒド化
合物としては、ホルムアルデヒド，アセトアルデヒド，
プロピオンアルデヒド等が挙げられ、ホルムアルデヒド
はホルムアルデヒド水溶液（ホルマリン）として使用す
ることが好ましく、又、アセトアルデヒド及びプロピオ
ンアルデヒドを使用する時は、ニトロベンゼンを溶媒と
して用いることが好ましい。
【００２６】本発明に係る化合物の製造方法の第五の様
式によれば、前記一般式（Ｉ）で示される化合物のうち
光学活性な化合物は、そのラセミ体を、光学活性な酸と
ジアステレオマー塩を形成させ、適当な溶媒から分別再
結晶することにより製造することができる。
式によれば、前記一般式（Ｉ）で示される化合物のうち
光学活性な化合物は、そのラセミ体を、光学活性な酸と
ジアステレオマー塩を形成させ、適当な溶媒から分別再
結晶することにより製造することができる。
【００２７】本製造方法において使用される光学活性な
酸としては、L-若しくはD-マンデル酸，L-若しくはD-酒
石酸，L-若しくはD-ジベンゾイル酒石酸，L-若しくはD-
ジパラトルオイル酒石酸，L-若しくはD-カンファーカル
ボン酸，L-若しくはD-カンファー酸，L-若しくはD-カン
ファー-10-スルホン酸等が挙げられ、使用される溶媒と
しては、たとえば、メタノール，エタノール，イソプロ
パノール，n-ブタノール，sec-ブタノール，tert- ブタ
ノール等のアルコール系溶媒、アセトン，テトラヒドロ
フラン，酢酸エチル，酢酸メチル，エーテル，イソプロ
ピルエーテル等の有機溶媒、塩化メチレン，１，２−ジ
クロルエタン，クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系
溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド，Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアセトアミド等のアミド系溶媒及び水、又はこれらの
混合溶媒等が挙げられる。
酸としては、L-若しくはD-マンデル酸，L-若しくはD-酒
石酸，L-若しくはD-ジベンゾイル酒石酸，L-若しくはD-
ジパラトルオイル酒石酸，L-若しくはD-カンファーカル
ボン酸，L-若しくはD-カンファー酸，L-若しくはD-カン
ファー-10-スルホン酸等が挙げられ、使用される溶媒と
しては、たとえば、メタノール，エタノール，イソプロ
パノール，n-ブタノール，sec-ブタノール，tert- ブタ
ノール等のアルコール系溶媒、アセトン，テトラヒドロ
フラン，酢酸エチル，酢酸メチル，エーテル，イソプロ
ピルエーテル等の有機溶媒、塩化メチレン，１，２−ジ
クロルエタン，クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系
溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド，Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアセトアミド等のアミド系溶媒及び水、又はこれらの
混合溶媒等が挙げられる。
【００２８】本発明に係る化合物の製造方法の第六の様
式によれば、前記一般式（Ｉ）で示される化合物のうち
Ｒ3 又はＲ4 が低級アルカノイル基又はハロゲノ低級ア
ルカノイル基である化合物は、前記一般式（Ｉ）中Ｒ3
又はＲ4 が水素原子である化合物と、次の一般式(IV)
式によれば、前記一般式（Ｉ）で示される化合物のうち
Ｒ3 又はＲ4 が低級アルカノイル基又はハロゲノ低級ア
ルカノイル基である化合物は、前記一般式（Ｉ）中Ｒ3
又はＲ4 が水素原子である化合物と、次の一般式(IV)
【化７】 （式中、Ｒ8 は低級アルキル基又はハロゲノ低級アルキ
ル基を表す。）で示される酸無水物誘導体、あるいは次
の一般式（Ｖ） Ｒ8 −ＣＯ−Ｘ （Ｖ） （式中、Ｒ8 は前述と同意義を表し、Ｘはハロゲン原子
を表す。）で示される酸ハライド誘導体とを、塩基の存
在下、又は非存在下、無溶媒中あるいは溶媒中で反応さ
せることにより製造することができる。
ル基を表す。）で示される酸無水物誘導体、あるいは次
の一般式（Ｖ） Ｒ8 −ＣＯ−Ｘ （Ｖ） （式中、Ｒ8 は前述と同意義を表し、Ｘはハロゲン原子
を表す。）で示される酸ハライド誘導体とを、塩基の存
在下、又は非存在下、無溶媒中あるいは溶媒中で反応さ
せることにより製造することができる。
【００２９】本製造方法において使用される溶媒として
は、反応を阻害しない限りいかなるものでもよく、たと
えば、エチレングリコールジメチルエーテル（モノグラ
イム），ジエチレングリコールジメチルエーテル（ジグ
ライム），トリエチレングリコールジメチルエーテル
（トリグライム）等のエーテル類、クロロホルム，塩化
メチレン，１，２−ジクロルエタン等のハロゲン化炭化
水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド，ジメチルスル
ホキシド，ヘキサメチルフォスホリックトリアミド等の
非プロトン性極性溶媒、ベンゼン，トルエン等の芳香族
炭化水素系溶媒、あるいは、ピリジン，ピコリン，ルチ
ジン，コリジン，トリエチルアミン等の有機塩基等が挙
げられる。
は、反応を阻害しない限りいかなるものでもよく、たと
えば、エチレングリコールジメチルエーテル（モノグラ
イム），ジエチレングリコールジメチルエーテル（ジグ
ライム），トリエチレングリコールジメチルエーテル
（トリグライム）等のエーテル類、クロロホルム，塩化
メチレン，１，２−ジクロルエタン等のハロゲン化炭化
水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド，ジメチルスル
ホキシド，ヘキサメチルフォスホリックトリアミド等の
非プロトン性極性溶媒、ベンゼン，トルエン等の芳香族
炭化水素系溶媒、あるいは、ピリジン，ピコリン，ルチ
ジン，コリジン，トリエチルアミン等の有機塩基等が挙
げられる。
【００３０】本製造方法において使用される塩基として
は、たとえば、トリエチルアミン，ピリジン，炭酸カリ
ウム等が挙げられ、反応は氷冷下から２００℃の範囲で
行われる。
は、たとえば、トリエチルアミン，ピリジン，炭酸カリ
ウム等が挙げられ、反応は氷冷下から２００℃の範囲で
行われる。
【００３１】
【実施例】以下、本発明を参考例及び実施例によって説
明するが、本発明はこれらの例に限定されるものではな
い。
明するが、本発明はこれらの例に限定されるものではな
い。
【００３２】参考例１ ３，３−ジメチル−２，４−ジオキソ−１−フェニルメ
チルピロリジン ２，２−ジメチル−アセト酢酸エチル９１．１０ｇをエ
タノール９１０mlに溶解し、臭素１０１．４７ｇを室温
攪拌下に滴下した。室温で３時間攪拌した後、過剰の臭
素と溶媒を減圧留去し、得られた残渣をエタノール９１
０mlに溶解し、氷冷攪拌下にベンジルアミン１５７．３
mlを滴下した。室温に戻して１６時間攪拌後、溶媒を減
圧留去し、残留物を塩化メチレンに溶解して、１０％塩
酸，水で順次洗浄して無水硫酸ナトリウムで脱水した。
溶媒を減圧留去し、残留物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（５％メタノール−塩化メチレン）で処理
し、赤褐色油状物５１．２２ｇを得た。 ＮＭＲスペクトル δ (CDCl3) ppm : 1.27(6H,s),3.7
0(2H,s),4.64(2H,s),7.23-7.40(5H,m)
チルピロリジン ２，２−ジメチル−アセト酢酸エチル９１．１０ｇをエ
タノール９１０mlに溶解し、臭素１０１．４７ｇを室温
攪拌下に滴下した。室温で３時間攪拌した後、過剰の臭
素と溶媒を減圧留去し、得られた残渣をエタノール９１
０mlに溶解し、氷冷攪拌下にベンジルアミン１５７．３
mlを滴下した。室温に戻して１６時間攪拌後、溶媒を減
圧留去し、残留物を塩化メチレンに溶解して、１０％塩
酸，水で順次洗浄して無水硫酸ナトリウムで脱水した。
溶媒を減圧留去し、残留物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（５％メタノール−塩化メチレン）で処理
し、赤褐色油状物５１．２２ｇを得た。 ＮＭＲスペクトル δ (CDCl3) ppm : 1.27(6H,s),3.7
0(2H,s),4.64(2H,s),7.23-7.40(5H,m)
【００３３】参考例１の方法に準拠して、参考例２の化
合物を得た。
合物を得た。
【００３４】参考例２ ３，３−ジエチル−２，４−ジオキソ−１−フェニルメ
チルピロリジン 性状 黄色液体 ＮＭＲスペクトル δ (CDCl3) ppm : 0.79(6H,t,J=7.
5Hz),1.65-1.90(4H,m),3.56(2H,s),4.70(2H,s),7.20-7.
45(5H,m)
チルピロリジン 性状 黄色液体 ＮＭＲスペクトル δ (CDCl3) ppm : 0.79(6H,t,J=7.
5Hz),1.65-1.90(4H,m),3.56(2H,s),4.70(2H,s),7.20-7.
45(5H,m)
【００３５】参考例３ ３−ヒドロキシイミノ−４，４−ジメチル−５−オキソ
−１−フェニルメチルピロリジン ３，３−ジメチル−２，４−ジオキソ−１−フェニルメ
チルピロリジン５１．２２ｇにヒドロキシルアミン塩酸
塩４９．２０ｇ，トリエチルアミン９８．２ml及びエタ
ノール５１０mlを加え、室温で一夜攪拌した。溶媒を減
圧留去し、残留物に１０％クエン酸水溶液を加え、塩化
メチレンで抽出した。塩化メチレン抽出液を１０％水酸
化ナトリウム水溶液で抽出し、この水層を１０％塩酸を
加え酸性とし、塩化メチレンで抽出した。抽出液を無水
硫酸ナトリウムで脱水後、溶媒を減圧留去し、淡黄色結
晶を得た。この結晶をジイソプロピルエーテルで洗浄
し、無色結晶３３．６１ｇを得た。酢酸エチルから再結
晶し、融点１７８〜１８１℃の無色板状晶を得た。 元素分析値 Ｃ13Ｈ15Ｎ2 Ｏ2 理論値 Ｃ, 67.51; Ｈ, 6.54; Ｎ, 12.11 実験値 Ｃ, 67.22; Ｈ, 6.83; Ｎ, 12.00
−１−フェニルメチルピロリジン ３，３−ジメチル−２，４−ジオキソ−１−フェニルメ
チルピロリジン５１．２２ｇにヒドロキシルアミン塩酸
塩４９．２０ｇ，トリエチルアミン９８．２ml及びエタ
ノール５１０mlを加え、室温で一夜攪拌した。溶媒を減
圧留去し、残留物に１０％クエン酸水溶液を加え、塩化
メチレンで抽出した。塩化メチレン抽出液を１０％水酸
化ナトリウム水溶液で抽出し、この水層を１０％塩酸を
加え酸性とし、塩化メチレンで抽出した。抽出液を無水
硫酸ナトリウムで脱水後、溶媒を減圧留去し、淡黄色結
晶を得た。この結晶をジイソプロピルエーテルで洗浄
し、無色結晶３３．６１ｇを得た。酢酸エチルから再結
晶し、融点１７８〜１８１℃の無色板状晶を得た。 元素分析値 Ｃ13Ｈ15Ｎ2 Ｏ2 理論値 Ｃ, 67.51; Ｈ, 6.54; Ｎ, 12.11 実験値 Ｃ, 67.22; Ｈ, 6.83; Ｎ, 12.00
【００３６】参考例３の方法に準拠して、参考例４の化
合物を得た。
合物を得た。
【００３７】参考例４ ４，４−ジエチル−３−ヒドロキシイミノ−５−オキソ
−１−フェニルメチルピロリジン 性状 無色針状晶 (AcOEt-n-Hex) 融点 １５７〜１６１℃ ＮＭＲスペクトル δ (CDCl3) ppm : 0.81(6H,t,J=
7.5Hz),1.60-1.95(4H,m),3.92(2H,s),4.59(2H,s),7.20-
7.40(5H,m),7.55(1H,brs)
−１−フェニルメチルピロリジン 性状 無色針状晶 (AcOEt-n-Hex) 融点 １５７〜１６１℃ ＮＭＲスペクトル δ (CDCl3) ppm : 0.81(6H,t,J=
7.5Hz),1.60-1.95(4H,m),3.92(2H,s),4.59(2H,s),7.20-
7.40(5H,m),7.55(1H,brs)
【００３８】実施例１ ３−アミノ−４，４−ジメチル−１−フェニルメチルピ
ロリジン ３−ヒドロキシイミノ−４，４−ジメチル−５−オキソ
−１−フェニルメチルピロリジン４５．７１ｇを無水テ
トラヒドロフラン４５００mlに溶解し、水素化アルミニ
ウムリチウム４６．００ｇを加えて３時間加熱還流し
た。室温に戻した後、水４６ml，１０％水酸化ナトリウ
ム水溶液４６ml，水１３８mlの順に加え、不溶物を濾去
して、濾液を減圧濃縮した。残渣を塩化メチレンに溶解
し、無水硫酸ナトリウムで脱水した後、溶媒を減圧留去
し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（１
０％メタノール−塩化メチレン）で処理し、無色液体３
１．１６ｇを得た。 ＮＭＲスペクトル δ (CDCl3) ppm : 0.97(3H,s),
1.05(3H,s),1.51(2H,br-s),2.30-2.38(1H,m),2.43(1H,
d,J=9Hz),2.49(1H,d,J=9Hz),2.98-3.06(2H,m),3.59(1H,
d,J=13Hz),3.66(1H,d,J=13Hz),7.20-7.35(5H,m)
ロリジン ３−ヒドロキシイミノ−４，４−ジメチル−５−オキソ
−１−フェニルメチルピロリジン４５．７１ｇを無水テ
トラヒドロフラン４５００mlに溶解し、水素化アルミニ
ウムリチウム４６．００ｇを加えて３時間加熱還流し
た。室温に戻した後、水４６ml，１０％水酸化ナトリウ
ム水溶液４６ml，水１３８mlの順に加え、不溶物を濾去
して、濾液を減圧濃縮した。残渣を塩化メチレンに溶解
し、無水硫酸ナトリウムで脱水した後、溶媒を減圧留去
し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（１
０％メタノール−塩化メチレン）で処理し、無色液体３
１．１６ｇを得た。 ＮＭＲスペクトル δ (CDCl3) ppm : 0.97(3H,s),
1.05(3H,s),1.51(2H,br-s),2.30-2.38(1H,m),2.43(1H,
d,J=9Hz),2.49(1H,d,J=9Hz),2.98-3.06(2H,m),3.59(1H,
d,J=13Hz),3.66(1H,d,J=13Hz),7.20-7.35(5H,m)
【００３９】実施例１の方法に準拠して、実施例２の化
合物を得た。
合物を得た。
【００４０】実施例２ ３−アミノ−４，４−ジエチル−１−フェニルメチルピ
ロリジン 性状 淡黄色液体 ＮＭＲスペクトル δ (CDCl3) ppm : 0.82(3H,t,J=
7Hz),0.83(3H,t,J=7Hz),1.20-1.60(6H,m),2.20(1H,dd,J
=9,6Hz),2.31(1H,d,J=9.5Hz),2.44(1H,d,J=9.5Hz),3.06
(1H,dd,J=9,6Hz),3.14(1H,t,J=6Hz),3.52(1H,d,J=13H
z),3.63(1H,d,J=13Hz),7.20-7.40(5H,m)
ロリジン 性状 淡黄色液体 ＮＭＲスペクトル δ (CDCl3) ppm : 0.82(3H,t,J=
7Hz),0.83(3H,t,J=7Hz),1.20-1.60(6H,m),2.20(1H,dd,J
=9,6Hz),2.31(1H,d,J=9.5Hz),2.44(1H,d,J=9.5Hz),3.06
(1H,dd,J=9,6Hz),3.14(1H,t,J=6Hz),3.52(1H,d,J=13H
z),3.63(1H,d,J=13Hz),7.20-7.40(5H,m)
【００４１】実施例３ （＋）−３−アミノ−４，４−ジメチル−１−フェニル
メチルピロリジン・L-酒石酸塩 ３−アミノ−４，４−ジメチル−１−フェニルメチルピ
ロリジン（ラセミ体）２０．０ｇのエタノール１００ml
溶液に、D-酒石酸１４．７ｇを加え、１０分間加熱還流
した。冷後、吸引濾過し、濾液を減圧濃縮し、残渣に水
を加え溶解させ１０％水酸化ナトリウム水溶液を加えア
ルカリ性とした。塩化メチレン抽出し、乾燥後、溶媒を
留去して、淡褐色粘稠液体１１．４ｇを得た。得られた
粘稠液体１１．０ｇのメタノール５０ml溶液に、L-酒石
酸８．０ｇを加え１０分間加熱還流した。冷後、析出結
晶を濾取し、メタノール：水＝１：１の混液から再結晶
し、融点２１２〜２１７℃（分解）の無色結晶７．８ｇ
を得た。 元素分析値 Ｃ13Ｈ20Ｎ2 ・３／２Ｃ4 Ｈ6 Ｏ6 理論値 Ｃ, 53.14; Ｈ, 6.81; Ｎ, 6.52 実験値 Ｃ, 52.94; Ｈ, 6.69; Ｎ, 6.47 比旋光度〔α〕D 20 +20.5° (c=1,H2O)
メチルピロリジン・L-酒石酸塩 ３−アミノ−４，４−ジメチル−１−フェニルメチルピ
ロリジン（ラセミ体）２０．０ｇのエタノール１００ml
溶液に、D-酒石酸１４．７ｇを加え、１０分間加熱還流
した。冷後、吸引濾過し、濾液を減圧濃縮し、残渣に水
を加え溶解させ１０％水酸化ナトリウム水溶液を加えア
ルカリ性とした。塩化メチレン抽出し、乾燥後、溶媒を
留去して、淡褐色粘稠液体１１．４ｇを得た。得られた
粘稠液体１１．０ｇのメタノール５０ml溶液に、L-酒石
酸８．０ｇを加え１０分間加熱還流した。冷後、析出結
晶を濾取し、メタノール：水＝１：１の混液から再結晶
し、融点２１２〜２１７℃（分解）の無色結晶７．８ｇ
を得た。 元素分析値 Ｃ13Ｈ20Ｎ2 ・３／２Ｃ4 Ｈ6 Ｏ6 理論値 Ｃ, 53.14; Ｈ, 6.81; Ｎ, 6.52 実験値 Ｃ, 52.94; Ｈ, 6.69; Ｎ, 6.47 比旋光度〔α〕D 20 +20.5° (c=1,H2O)
【００４２】実施例４ （−）−３−アミノ−４，４−ジメチル−１−フェニル
メチルピロリジン・D-酒石酸塩 ３−アミノ−４，４−ジメチル−１−フェニルメチルピ
ロリジン（ラセミ体）２０．０ｇのエタノール１００ml
溶液に、D-酒石酸１４．７ｇを加え、１０分間加熱還流
した。冷後、析出結晶を濾取し、得られた結晶をメタノ
ール：水＝１：１の混液から再結晶し、融点２１０〜２
１５℃（分解）の無色結晶１２．３ｇを得た。 元素分析値 Ｃ13Ｈ20Ｎ2 ・３／２Ｃ4 Ｈ4 Ｏ6 理論値 Ｃ, 53.14; Ｈ, 6.81; Ｎ, 6.52 実験値 Ｃ, 53.03; Ｈ, 6.79; Ｎ, 6.75 比旋光度〔α〕D 20 -25.0° (c=1,H2O)
メチルピロリジン・D-酒石酸塩 ３−アミノ−４，４−ジメチル−１−フェニルメチルピ
ロリジン（ラセミ体）２０．０ｇのエタノール１００ml
溶液に、D-酒石酸１４．７ｇを加え、１０分間加熱還流
した。冷後、析出結晶を濾取し、得られた結晶をメタノ
ール：水＝１：１の混液から再結晶し、融点２１０〜２
１５℃（分解）の無色結晶１２．３ｇを得た。 元素分析値 Ｃ13Ｈ20Ｎ2 ・３／２Ｃ4 Ｈ4 Ｏ6 理論値 Ｃ, 53.14; Ｈ, 6.81; Ｎ, 6.52 実験値 Ｃ, 53.03; Ｈ, 6.79; Ｎ, 6.75 比旋光度〔α〕D 20 -25.0° (c=1,H2O)
【００４３】実施例５ ４，４−ジメチル−１−フェニルメチル−３−トリフル
オロアセチルアミノピロリジン・塩酸塩 ３−アミノ−４，４−ジメチル−１−フェニルメチルピ
ロリジン３０．６６ｇを塩化メチレン３００mlに溶解
し、氷冷攪拌下、無水トリフルオロ酢酸２２．８mlを滴
下し、３０分間攪拌した。反応液を飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液，水で順次洗浄し、塩化メチレン層を無水硫
酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧留去し、無色結晶４
１．９８ｇを得た。結晶をジイソプロピルエーテルから
再結晶し、融点１３５〜１３７℃の無色針状晶を得た。
得られた無色結晶を常法により塩酸塩とし、無色結晶３
７．６９ｇを得た。この結晶をエタノールから再結晶
し、融点２２７〜２３０℃の無色プリズム晶を得た。 元素分析値 Ｃ15Ｈ19Ｆ3 Ｎ2 Ｏ・ＨＣｌ 理論値 Ｃ, 53.50; Ｈ, 5.99; Ｎ, 8.32 実験値 Ｃ, 53.29; Ｈ, 5.87; Ｎ, 8.35
オロアセチルアミノピロリジン・塩酸塩 ３−アミノ−４，４−ジメチル−１−フェニルメチルピ
ロリジン３０．６６ｇを塩化メチレン３００mlに溶解
し、氷冷攪拌下、無水トリフルオロ酢酸２２．８mlを滴
下し、３０分間攪拌した。反応液を飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液，水で順次洗浄し、塩化メチレン層を無水硫
酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧留去し、無色結晶４
１．９８ｇを得た。結晶をジイソプロピルエーテルから
再結晶し、融点１３５〜１３７℃の無色針状晶を得た。
得られた無色結晶を常法により塩酸塩とし、無色結晶３
７．６９ｇを得た。この結晶をエタノールから再結晶
し、融点２２７〜２３０℃の無色プリズム晶を得た。 元素分析値 Ｃ15Ｈ19Ｆ3 Ｎ2 Ｏ・ＨＣｌ 理論値 Ｃ, 53.50; Ｈ, 5.99; Ｎ, 8.32 実験値 Ｃ, 53.29; Ｈ, 5.87; Ｎ, 8.35
【００４４】実施例５の方法に準拠して、実施例６〜８
の化合物を得た。
の化合物を得た。
【００４５】実施例６ ４，４−ジエチル−１−フェニルメチル−３−トリフル
オロアセチルアミノピロリジン・塩酸塩 性状 無色針状晶 (EtOH-Et2O) 融点 １９９〜２０２℃ 元素分析値 Ｃ17Ｈ23Ｆ3 Ｎ2 Ｏ・ＨＣｌ 理論値 Ｃ, 55.97; Ｈ, 6.63; Ｎ, 7.68 実験値 Ｃ, 55.76; Ｈ, 6.53; Ｎ, 7.62
オロアセチルアミノピロリジン・塩酸塩 性状 無色針状晶 (EtOH-Et2O) 融点 １９９〜２０２℃ 元素分析値 Ｃ17Ｈ23Ｆ3 Ｎ2 Ｏ・ＨＣｌ 理論値 Ｃ, 55.97; Ｈ, 6.63; Ｎ, 7.68 実験値 Ｃ, 55.76; Ｈ, 6.53; Ｎ, 7.62
【００４６】実施例７ （−）−４，４−ジメチル−１−フェニルメチル−３−
トリフルオロアセチルアミノピロリジン・塩酸塩 実施例３の化合物を用いて合成した。 性状 無色針状晶 (EtOH) 融点 ２１８〜２２１℃ 元素分析値 Ｃ15Ｈ19Ｆ3 Ｎ2 Ｏ・ＨＣｌ 理論値 Ｃ, 53.50; Ｈ, 5.99; Ｎ, 8.32 実験値 Ｃ, 53.37; Ｈ, 5.90; Ｎ, 8.25 比旋光度〔α〕D 20 -15.8° (c=1,MeOH)
トリフルオロアセチルアミノピロリジン・塩酸塩 実施例３の化合物を用いて合成した。 性状 無色針状晶 (EtOH) 融点 ２１８〜２２１℃ 元素分析値 Ｃ15Ｈ19Ｆ3 Ｎ2 Ｏ・ＨＣｌ 理論値 Ｃ, 53.50; Ｈ, 5.99; Ｎ, 8.32 実験値 Ｃ, 53.37; Ｈ, 5.90; Ｎ, 8.25 比旋光度〔α〕D 20 -15.8° (c=1,MeOH)
【００４７】実施例８ （＋）−４，４−ジメチル−１−フェニルメチル−３−
トリフルオロアセチルアミノピロリジン・塩酸塩 実施例４の化合物を用いて合成した。 性状 無色針状晶 (EtOH) 融点 ２１７．５〜２２１℃ 元素分析値 Ｃ15Ｈ19Ｆ3 Ｎ2 Ｏ・ＨＣｌ 理論値 Ｃ, 53.50; Ｈ, 5.99; Ｎ, 8.32 実験値 Ｃ, 53.29; Ｈ, 5.95; Ｎ, 8.27 比旋光度〔α〕D 20 +14.6° (c=1,MeOH)
トリフルオロアセチルアミノピロリジン・塩酸塩 実施例４の化合物を用いて合成した。 性状 無色針状晶 (EtOH) 融点 ２１７．５〜２２１℃ 元素分析値 Ｃ15Ｈ19Ｆ3 Ｎ2 Ｏ・ＨＣｌ 理論値 Ｃ, 53.50; Ｈ, 5.99; Ｎ, 8.32 実験値 Ｃ, 53.29; Ｈ, 5.95; Ｎ, 8.27 比旋光度〔α〕D 20 +14.6° (c=1,MeOH)
【００４８】実施例９ ４，４−ジメチル−３−トリフルオロアセチルアミノピ
ロリジン・塩酸塩 ４，４−ジメチル−１−フェニルメチル−３−トリフル
オロアセチルアミノ−ピロリジン・塩酸塩３６．６９の
をメタノール１２０ml及び水３０ml溶液に、１０％パラ
ジウム−炭素３．６７ｇを加え、水素圧３０気圧，４０
℃で３時間水素化分解した。触媒を濾去し、溶媒を留去
後、残渣にエタノールを加えて留去し、無色固体を得
た。ジイソプロピルエーテルで処理して結晶化させ、無
色結晶２６．８６ｇを得た。この結晶をエタノールから
再結晶して、融点２３２〜２３３℃の無色針状晶を得
た。 元素分析値 Ｃ8 Ｈ13Ｆ3 Ｎ2 Ｏ・ＨＣｌ 理論値 Ｃ, 38.96; Ｈ, 5.72; Ｎ, 11.36 実験値 Ｃ, 38.90; Ｈ, 5.60; Ｎ, 11.34
ロリジン・塩酸塩 ４，４−ジメチル−１−フェニルメチル−３−トリフル
オロアセチルアミノ−ピロリジン・塩酸塩３６．６９の
をメタノール１２０ml及び水３０ml溶液に、１０％パラ
ジウム−炭素３．６７ｇを加え、水素圧３０気圧，４０
℃で３時間水素化分解した。触媒を濾去し、溶媒を留去
後、残渣にエタノールを加えて留去し、無色固体を得
た。ジイソプロピルエーテルで処理して結晶化させ、無
色結晶２６．８６ｇを得た。この結晶をエタノールから
再結晶して、融点２３２〜２３３℃の無色針状晶を得
た。 元素分析値 Ｃ8 Ｈ13Ｆ3 Ｎ2 Ｏ・ＨＣｌ 理論値 Ｃ, 38.96; Ｈ, 5.72; Ｎ, 11.36 実験値 Ｃ, 38.90; Ｈ, 5.60; Ｎ, 11.34
【００４９】実施例９の方法に準拠して、実施例１０〜
１２の化合物を得た。
１２の化合物を得た。
【００５０】実施例１０ ４，４−ジエチル−３−トリフルオロアセチルアミノピ
ロリジン・塩酸塩 性状 無色結晶 (EtOH-Et2O) 融点 １８８〜１９０℃ 元素分析値 Ｃ10Ｈ17Ｆ3 Ｎ2 Ｏ・ＨＣｌ 理論値 Ｃ, 43.72; Ｈ, 6.60; Ｎ, 10.20 実験値 Ｃ, 43.49; Ｈ, 6.50; Ｎ, 10.13
ロリジン・塩酸塩 性状 無色結晶 (EtOH-Et2O) 融点 １８８〜１９０℃ 元素分析値 Ｃ10Ｈ17Ｆ3 Ｎ2 Ｏ・ＨＣｌ 理論値 Ｃ, 43.72; Ｈ, 6.60; Ｎ, 10.20 実験値 Ｃ, 43.49; Ｈ, 6.50; Ｎ, 10.13
【００５１】実施例１１ （−）−４，４−ジメチル−３−トリフルオロアセチル
アミノピロリジン・塩酸塩 実施例７の化合物を用いて合成した。 性状 無色針状晶 (iso-PrOH) 融点 ２０１〜２０４℃ 元素分析値 Ｃ8 Ｈ13Ｆ3 Ｎ2 Ｏ・ＨＣｌ 理論値 Ｃ, 38.96; Ｈ, 5.72; Ｎ, 11.36 実験値 Ｃ, 38.79; Ｈ, 5.57; Ｎ, 11.37 比旋光度〔α〕D 20 -24.7° (c=1,MeOH)
アミノピロリジン・塩酸塩 実施例７の化合物を用いて合成した。 性状 無色針状晶 (iso-PrOH) 融点 ２０１〜２０４℃ 元素分析値 Ｃ8 Ｈ13Ｆ3 Ｎ2 Ｏ・ＨＣｌ 理論値 Ｃ, 38.96; Ｈ, 5.72; Ｎ, 11.36 実験値 Ｃ, 38.79; Ｈ, 5.57; Ｎ, 11.37 比旋光度〔α〕D 20 -24.7° (c=1,MeOH)
【００５２】実施例１２ （＋）−４，４−ジメチル−３−トリフルオロアセチル
アミノピロリジン・塩酸塩 実施例８の化合物を用いて合成した。 性状 無色針状晶 (iso-PrOH) 融点 １９９．５〜２０３．５℃ 元素分析値 Ｃ8 Ｈ13Ｆ3 Ｎ2 Ｏ・ＨＣｌ 理論値 Ｃ, 38.96; Ｈ, 5.72; Ｎ, 11.36 実験値 Ｃ, 38.71; Ｈ, 5.44; Ｎ, 11.27 比旋光度〔α〕D 20 +20.0° (c=0.2,MeOH)
アミノピロリジン・塩酸塩 実施例８の化合物を用いて合成した。 性状 無色針状晶 (iso-PrOH) 融点 １９９．５〜２０３．５℃ 元素分析値 Ｃ8 Ｈ13Ｆ3 Ｎ2 Ｏ・ＨＣｌ 理論値 Ｃ, 38.96; Ｈ, 5.72; Ｎ, 11.36 実験値 Ｃ, 38.71; Ｈ, 5.44; Ｎ, 11.27 比旋光度〔α〕D 20 +20.0° (c=0.2,MeOH)
【００５３】参考例５ ７−（４，４−ジメチル−３−トリフルオロアセチルア
ミノ−１−ピロリジニル）−６−フルオロ−１−メチル
−４−オキソ−１Ｈ，４Ｈ−〔１，３〕チアゼト〔３，
２−ａ〕キノリン−３−カルボン酸エチル ６，７−ジフルオロ−１−メチル−４−オキソ−１Ｈ，
４Ｈ−〔１，３〕チアゼト〔３，２−ａ〕キノリン−３
−カルボン酸エチル５．００ｇ，４，４−ジメチル−３
−トリフルオロアセチルアミノピロリジン塩酸塩４．７
６ｇ及び１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕−７−
ウンデセン５．３８ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
５０mlの懸濁液を室温で２５時間攪拌した。反応液を氷
水４００mlの中に加え、析出結晶を吸引濾取して、無色
結晶６．１０ｇを得た。Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
から再結晶し、融点２７２〜２７５℃（分解）の無色針
状晶を得た。 元素分析値 Ｃ22Ｈ23Ｆ4 Ｎ3 Ｏ4 Ｓ 理論値 Ｃ, 52.69; Ｈ, 4.62; Ｎ, 8.38 実験値 Ｃ, 52.61; Ｈ, 4.42; Ｎ, 8.31
ミノ−１−ピロリジニル）−６−フルオロ−１−メチル
−４−オキソ−１Ｈ，４Ｈ−〔１，３〕チアゼト〔３，
２−ａ〕キノリン−３−カルボン酸エチル ６，７−ジフルオロ−１−メチル−４−オキソ−１Ｈ，
４Ｈ−〔１，３〕チアゼト〔３，２−ａ〕キノリン−３
−カルボン酸エチル５．００ｇ，４，４−ジメチル−３
−トリフルオロアセチルアミノピロリジン塩酸塩４．７
６ｇ及び１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕−７−
ウンデセン５．３８ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
５０mlの懸濁液を室温で２５時間攪拌した。反応液を氷
水４００mlの中に加え、析出結晶を吸引濾取して、無色
結晶６．１０ｇを得た。Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
から再結晶し、融点２７２〜２７５℃（分解）の無色針
状晶を得た。 元素分析値 Ｃ22Ｈ23Ｆ4 Ｎ3 Ｏ4 Ｓ 理論値 Ｃ, 52.69; Ｈ, 4.62; Ｎ, 8.38 実験値 Ｃ, 52.61; Ｈ, 4.42; Ｎ, 8.31
【００５４】
【発明の効果】本発明の３−アミノ−４，４−ジアルキ
ルピロリジン誘導体は、たとえば、特願平４−１２１０
３２号及び特願平４−１３７６０３号等に開示されてい
る抗菌剤，抗腫瘍剤及びエイズウィルス治療剤等の医薬
品及び農薬の合成中間体として極めて有用である。
ルピロリジン誘導体は、たとえば、特願平４−１２１０
３２号及び特願平４−１３７６０３号等に開示されてい
る抗菌剤，抗腫瘍剤及びエイズウィルス治療剤等の医薬
品及び農薬の合成中間体として極めて有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山本 陽一 石川県七尾市八田町ウ部72番地
Claims (1)
- 【請求項１】次の一般式 【化１】 （式中、Ｒ1 及びＲ2 は同一若しくは異なって低級アル
キル基を、Ｒ3 及びＲ4は同一若しくは異なって水素原
子，低級アルキル基又はアミノ保護基を、Ｒ5 は水素原
子又はアミノ保護基を表す。）で示される３−アミノ−
４，４−ジアルキルピロリジン誘導体及びその塩。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4198985A JPH0616624A (ja) | 1992-07-03 | 1992-07-03 | ３−アミノ−４，４−ジアルキルピロリジン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4198985A JPH0616624A (ja) | 1992-07-03 | 1992-07-03 | ３−アミノ−４，４−ジアルキルピロリジン誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0616624A true JPH0616624A (ja) | 1994-01-25 |
Family
ID=16400200
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4198985A Pending JPH0616624A (ja) | 1992-07-03 | 1992-07-03 | ３−アミノ−４，４−ジアルキルピロリジン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0616624A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2133279A1 (en) | 1999-01-27 | 2009-12-16 | Tetra Laval Holdings & Finance SA | Laminated packaging material for paper container |
| WO2011031745A1 (en) | 2009-09-09 | 2011-03-17 | Achaogen, Inc. | Antibacterial fluoroquinolone analogs |
-
1992
- 1992-07-03 JP JP4198985A patent/JPH0616624A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2133279A1 (en) | 1999-01-27 | 2009-12-16 | Tetra Laval Holdings & Finance SA | Laminated packaging material for paper container |
| WO2011031745A1 (en) | 2009-09-09 | 2011-03-17 | Achaogen, Inc. | Antibacterial fluoroquinolone analogs |
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