JPH06157624A - Phosphonium salt and photocurable cationically polymerizable resin containing the same - Google Patents
Phosphonium salt and photocurable cationically polymerizable resin containing the sameInfo
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- JPH06157624A JPH06157624A JP29889592A JP29889592A JPH06157624A JP H06157624 A JPH06157624 A JP H06157624A JP 29889592 A JP29889592 A JP 29889592A JP 29889592 A JP29889592 A JP 29889592A JP H06157624 A JPH06157624 A JP H06157624A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、貯蔵安定性に優れ、か
つ光によって速やかに硬化し、良好な物性を有するエポ
キシ樹脂等のカチオン重合性組成物、およびそのような
組成物に含有せしむベき光重合触媒となり得る新規なホ
スホニウム塩に関する。FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a cationically polymerizable composition such as an epoxy resin which has excellent storage stability, can be rapidly cured by light, and has good physical properties, and can be contained in such a composition. The present invention relates to a novel phosphonium salt that can serve as a photopolymerization catalyst.
【0002】[0002]
【従来の技術】一般に、エポキシ樹脂は機械的、電気
的、化学的性質などが優れているため、高性能材料を必
要とする種々の用途に使われている。エポキシ樹脂は、
通常硬化剤としてポリアミン類、カルボン酸無水物等と
混合する、いわゆる2液系で使用されている。これらの
系は使用直前に各成分を計量混合する必要があるため、
使用者にとってはこれらの工程が不必要な1液性エポキ
シ樹脂が望まれている。エポキシ樹脂を1液系として硬
化させることのできる硬化剤や触媒としてジシアンジア
ミドやフッ化ホウ素モノエチルアミンのようなアミン錯
化合物があるが、160℃又はそれ以上の温度でも硬化
に数時間要する。この結果、これらの1液系エポキシ組
成物は、熱に敏感な電子部品の被覆には用いることがで
きない。又、硬化温度を下げるためイミダゾール化合物
のごとき促進剤を添加することが行われているが、そう
すると保存安定性が大幅に悪化する欠点がある。2. Description of the Related Art Generally, epoxy resins are excellent in mechanical, electrical and chemical properties, and are therefore used in various applications requiring high performance materials. Epoxy resin is
It is usually used as a so-called two-component system in which it is mixed with polyamines, carboxylic acid anhydrides and the like as a curing agent. Since these systems require metered mixing of each component immediately before use,
A one-component epoxy resin that does not require these steps is desired by the user. Although there are amine complex compounds such as dicyandiamide and boron monoethylamine fluoride as a curing agent and a catalyst that can cure an epoxy resin as a one-component system, curing takes several hours even at a temperature of 160 ° C. or higher. As a result, these one-part epoxy compositions cannot be used to coat heat-sensitive electronic components. Further, an accelerator such as an imidazole compound has been added to lower the curing temperature, but this has a drawback that storage stability is significantly deteriorated.
【0003】加熱を必要としない光重合触媒としては、
例えば芳香族ジアゾニウム塩が提案されている。このも
のは、エポキシ樹脂を光照射することにより急速に硬化
させることができる。しかし、ジアゾニウム塩は光分解
により窒素を放出するため、これにより得られる硬化物
が気泡を含むという問題が生じる。また、暗所において
さえ次第に重合が進行するために保存安定性が悪く、熱
的に不安定で無制限に分解する恐れがあるためにこれら
の物質の使用には危険が伴う。As a photopolymerization catalyst which does not require heating,
For example, aromatic diazonium salts have been proposed. This can be rapidly cured by irradiating an epoxy resin with light. However, the diazonium salt releases nitrogen by photolysis, which causes a problem that the cured product obtained thereby contains bubbles. In addition, the use of these substances is dangerous because the storage stability is poor due to the gradual polymerization even in a dark place and there is a risk of thermal instability and unlimited decomposition.
【0004】上記の課題の改良として、特開昭50−1
51996および特開昭50−151997に係わるも
の(芳香族ヨードニウム塩および芳香族スルホニウム塩
をそれぞれ光重合触媒とする光硬化性組成物)が挙げら
れるが、未だ硬化性は充分でない。As an improvement on the above-mentioned problems, Japanese Patent Laid-Open No. 50-1
51996 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 50-151997 (photo-curable compositions containing an aromatic iodonium salt and an aromatic sulfonium salt as a photopolymerization catalyst), but the curability is not yet sufficient.
【0005】また、特開昭50−158698に係わる
ものは、光照射によりルイス酸を放出してエポキシ樹脂
を硬化させることのできるホスホニウム塩であるが、こ
の光触媒を用いたエポキシ硬化物は耐アルカリ性に劣る
と言われている。Further, Japanese Patent Laid-Open No. 50-158698 discloses a phosphonium salt capable of releasing a Lewis acid by light irradiation to cure an epoxy resin. An epoxy cured product using this photocatalyst has alkali resistance. It is said to be inferior to.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、光で
カチオン重合性化合物を迅速に重合硬化させることがで
きる重合触媒を提案し、かつこのような重合触媒を含有
する保存安定性に優れたカチオン重合性組成物を提供す
ることである。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to propose a polymerization catalyst capable of rapidly polymerizing and curing a cationically polymerizable compound by light, and containing such a polymerization catalyst, which is excellent in storage stability. Another object of the present invention is to provide a cationically polymerizable composition.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題を
解決すべく鋭意検討した結果、下記一般式(II)で示さ
れるホスホニウム塩をカチオン重合性化合物の光重合触
媒として用いることにより光硬化性組成物を作成できる
ことを見いだし、この知見に基づき本発明を完成した。
なお、一般式(II)で示されるホスホニウム塩のうちで
一般式(I)で示されるものは新規化合物である。Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted extensive studies to solve the above problems, and as a result, by using a phosphonium salt represented by the following general formula (II) as a photopolymerization catalyst for a cationically polymerizable compound, the It has been found that a curable composition can be prepared, and the present invention has been completed based on this finding.
Among the phosphonium salts represented by the general formula (II), those represented by the general formula (I) are novel compounds.
【0008】すなわち、本発明は、(a)下記一般式
(I)で示されるホスホニウム塩That is, the present invention provides (a) a phosphonium salt represented by the following general formula (I):
【0009】[0009]
【化3】 [Chemical 3]
【0010】(式中、R1 、R2 およびR3 はフェニル
基、ハロゲン化フェニル基、シアノフェニル基、ベンゾ
イルフェニル基、アルキルフェニル基またはアルキル基
を表し、R4 およびR5 はアルキル基または水素原子を
表し、R6 はフェニル基、ナフチル基、ピレニル基、ア
ントラセニル基またはスチリル基を表し、R7 、R8 お
よびR9 はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、
ニトロ基、水酸基、シリル基、シリルオキシ基または水
素原子を表す。また、X- は非求核性アニオンを表す。
但し、R1 、R2 およびR3 がフェニル基で、R4 およ
びR5 が水素原子であり、R6 がフェニル基で、R7 お
よびR8 が水素原子で、そしてR9 が水素原子、クロロ
基またはニトロ基であるものは除く。)、(b)カチオ
ン重合性化合物および重合触媒として下記一般式(II)
で示されるホスホニウム塩を含有することを特徴とする
光硬化型カチオン重合性組成物(Wherein R 1 , R 2 and R 3 represent a phenyl group, a halogenated phenyl group, a cyanophenyl group, a benzoylphenyl group, an alkylphenyl group or an alkyl group, and R 4 and R 5 represent an alkyl group or Represents a hydrogen atom, R 6 represents a phenyl group, a naphthyl group, a pyrenyl group, an anthracenyl group or a styryl group, R 7 , R 8 and R 9 represent an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom,
It represents a nitro group, a hydroxyl group, a silyl group, a silyloxy group or a hydrogen atom. X − represents a non-nucleophilic anion.
Provided that R 1 , R 2 and R 3 are phenyl groups, R 4 and R 5 are hydrogen atoms, R 6 is a phenyl group, R 7 and R 8 are hydrogen atoms, and R 9 is a hydrogen atom, Those that are chloro or nitro are excluded. ), (B) as a cationically polymerizable compound and as a polymerization catalyst, the following general formula (II)
Photo-curable cationically polymerizable composition containing a phosphonium salt represented by
【0011】[0011]
【化4】 [Chemical 4]
【0012】(式中、R1 、R2 およびR3 はフェニル
基、ハロゲン化フェニル基、シアノフェニル基、ベンゾ
イルフェニル基、アルキルフェニル基またはアルキル基
を表し、R4 およびR5 はアルキル基または水素原子を
表し、R6 はフェニル基、ナフチル基、ピレニル基、ア
ントラセニル基またはスチリル基を表し、R7 、R8 お
よびR9 はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、
ニトロ基、水酸基、シリル基、シリルオキシ基または水
素原子を表す。また、X- は非求核性アニオンを表
す。)、および(c)請求項2記載のカチオン重合性組
成物を光硬化することにより得られた硬化物、に関す
る。(Wherein R 1 , R 2 and R 3 represent a phenyl group, a halogenated phenyl group, a cyanophenyl group, a benzoylphenyl group, an alkylphenyl group or an alkyl group, and R 4 and R 5 represent an alkyl group or Represents a hydrogen atom, R 6 represents a phenyl group, a naphthyl group, a pyrenyl group, an anthracenyl group or a styryl group, R 7 , R 8 and R 9 represent an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom,
It represents a nitro group, a hydroxyl group, a silyl group, a silyloxy group or a hydrogen atom. X − represents a non-nucleophilic anion. ), And (c) a cured product obtained by photocuring the cationically polymerizable composition according to claim 2.
【0013】一般式(I)および(II)における非求核
性アニオンとしては、SbF6 - 、AsF6 - 、PF6
- 、BF4 - 等が挙げられる。また、一般式(I)およ
び(II)のホスホニウム塩は、光の輻射エネルギーによ
り開裂してベンジルカチオンを発生する。これによりエ
ポキシ樹脂等のカチオン重合反応が進行し、対応する硬
化物を生成すると考えられる。The non-nucleophilic anions in the general formulas (I) and (II) include SbF 6 − , AsF 6 − , PF 6
-, BF 4 -, and the like. Further, the phosphonium salts of the general formulas (I) and (II) are cleaved by the radiant energy of light to generate a benzyl cation. It is considered that this causes the cationic polymerization reaction of the epoxy resin and the like to proceed to produce a corresponding cured product.
【0014】以下、本発明を逐次説明する。The present invention will be sequentially described below.
【0015】本発明における、一般式(I)で示される
ホスホニウム塩として好ましいものとしては、ベンジル
トリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネー
ト、p−クロロベンジルトリフェニルホスホニウムヘキ
サフルオロアンチモネート、p−メチルベンジルトリフ
ェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート、p
−メトキシベンジルトリフェニルホスホニウムヘキサフ
ルオロアンチモネート、α−メチルベンジルトリフェニ
ルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート、シンナ
ミルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモ
ネート、2−ヒドロキシ−5−ニトロベンジルトリフェ
ニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート、1−
ナフチルメチルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオ
ロアンチモネート、3−トリメチルシリル−4−トリメ
チルシロキシベンジルトリフェニルホスホニウムヘキサ
フルオロアンチモネート、p−メトキシベンジルトリス
(p−クロロフェニル)ホスホニウムヘキサフルオロア
ンチモネート、p−メトキシベンジルトリス(p−メチ
ルフェニル)ホスホニウムヘキサフルオロアンチモネー
ト、シンナミルトリス(p−クロロフェニル)ホスホニ
ウムヘキサフルオロアンチモネート、p−メトキシベン
ジルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロホスフェ
ート、1−ピレニルメチル−トリフェニルホスホニウム
ヘキサフルオロアンチモネート、1−ピレニルメチル−
ブチルジフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモ
ネート、9−アントラセニルメチル−トリフェニルホス
ホニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられ
る。上記の化合物は、方法自体は公知の常法により、相
当するフォスフィンと塩素化物とでホスホニウム塩を調
製後、塩交換することにより得られる。Preferred as the phosphonium salt represented by the general formula (I) in the present invention are benzyltriphenylphosphonium hexafluoroantimonate, p-chlorobenzyltriphenylphosphonium hexafluoroantimonate and p-methylbenzyltriphenyl. Phosphonium hexafluoroantimonate, p
-Methoxybenzyltriphenylphosphonium hexafluoroantimonate, α-methylbenzyltriphenylphosphonium hexafluoroantimonate, cinnamyltriphenylphosphonium hexafluoroantimonate, 2-hydroxy-5-nitrobenzyltriphenylphosphonium hexafluoroantimonate, 1 −
Naphthylmethyltriphenylphosphonium hexafluoroantimonate, 3-trimethylsilyl-4-trimethylsiloxybenzyl triphenylphosphonium hexafluoroantimonate, p-methoxybenzyl tris (p-chlorophenyl) phosphonium hexafluoroantimonate, p-methoxybenzyl tris (p -Methylphenyl) phosphonium hexafluoroantimonate, cinnamyltris (p-chlorophenyl) phosphonium hexafluoroantimonate, p-methoxybenzyl triphenylphosphonium hexafluorophosphate, 1-pyrenylmethyl-triphenylphosphonium hexafluoroantimonate, 1-pyrenylmethyl −
Butyldiphenylphosphonium hexafluoroantimonate, 9-anthracenylmethyl-triphenylphosphonium hexafluoroantimonate and the like can be mentioned. The above-mentioned compound can be obtained by a conventional method known per se, by preparing a phosphonium salt with a corresponding phosphine and a chlorinated product, and then performing salt exchange.
【0016】本発明のカチオン重合性組成物の主成分で
あるカチオン重合性化合物にも特別な制限はなく、たと
えばエポキシ樹脂を挙げることができる。The cationically polymerizable compound which is the main component of the cationically polymerizable composition of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include an epoxy resin.
【0017】エポキシ樹脂にも特別の制限はなく、平均
して1分子当り2個以上のエポキシ基を有するものであ
る。好ましいものとしては、グリセリンやポリエチレン
グリコール等の多価アルコールとエピクロルヒドリンと
を反応させて得られるポリグリシジルエーテル、および
シクロヘキセンもしくはシクロペンテン環含有化合物を
過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化するこ
とによって得られるシクロヘキセンオキサイドもしくは
シクロペンテンオキサイド含有化合物等の脂環式エポキ
シを挙げることができる。上記のエポキシ樹脂の代表例
を市販商品のうちから選択して挙げると次の通りであ
る。すなわち、脂環式エポキシ樹脂としては、「セロキ
サイド2021、2000および3000」および「E
HPE−3150−1」(以上、ダイセル化学工業
(株)製);「ERL4206、4221、4299お
よび4234」(以上、ユニオンカーバイト(株)
製);「アラルダイトCY177および179」(以
上、チバガイギー(株)製)などが挙げられる。また、
芳香族エポキシ樹脂として、ビスフェノールA、ビスフ
ェノールF、ビスフェノールAD、カテコール、レゾル
シノール等の多価フェノールまたはp−ヒドロキシ安息
香酸、β−ヒドロキシナフトエ酸のようなヒドロキシカ
ルボン酸とエピクロルヒドリンとを反応させて得られる
ポリグリシジルエーテル;フタル酸およびテレフタル酸
のようなポリカルボン酸とエピクロルヒドリンとを反応
させて得られるポリグリシジルエステル;等が挙げられ
る。さらには、エポキシ化フェノールノボラック樹脂、
エポキシ化クレゾールノボラック樹脂、エポキシ化ポリ
オレフィン、その他ウレタン変性エポキシ樹脂等が挙げ
られる。The epoxy resin is also not particularly limited, and has an average of two or more epoxy groups per molecule. Preferred are polyglycidyl ethers obtained by reacting polyhydric alcohols such as glycerin and polyethylene glycol with epichlorohydrin, and cyclohexene or cyclopentene ring-containing compounds are epoxidized with an appropriate oxidizing agent such as hydrogen peroxide or peracid. Examples thereof include alicyclic epoxies such as cyclohexene oxide- and cyclopentene oxide-containing compounds obtained by the above. Typical examples of the above-mentioned epoxy resin are as follows when selected from commercial products. That is, as the alicyclic epoxy resin, "Celoxide 2021, 2000 and 3000" and "E
HPE-3150-1 "(all manufactured by Daicel Chemical Industries Ltd.);" ERL4206, 4221, 4299 and 4234 "(all Union Carbide Corporation)
Manufactured by Ciba-Geigy Co., Ltd.) and the like. Also,
As an aromatic epoxy resin, polyphenols such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol AD, catechol, and resorcinol, or hydroxycarboxylic acids such as p-hydroxybenzoic acid and β-hydroxynaphthoic acid are obtained by reacting with epichlorohydrin. And polyglycidyl ethers; polyglycidyl esters obtained by reacting polycarboxylic acids such as phthalic acid and terephthalic acid with epichlorohydrin; and the like. Furthermore, epoxidized phenol novolac resin,
Examples thereof include epoxidized cresol novolac resin, epoxidized polyolefin, and urethane-modified epoxy resin.
【0018】その他のカチオン重合性化合物としては、
スチレン、環状エーテル、ビニルエーテル、ラクトン、
環状カーボネート等が挙げられる。Other cationically polymerizable compounds include:
Styrene, cyclic ether, vinyl ether, lactone,
Examples include cyclic carbonates and the like.
【0019】本発明のカチオン重合性組成物を調製する
際の、ホスホニウム塩のカチオン重合性化合物に対する
配合比は、この塩が光または熱により活性化されない限
り実質的に不活性状態にあるので広い範囲で変えること
ができる。ホスホニウム塩を硬化性組成物の重量を基準
として0.1〜20重量部の割合で用いることができ
る。しかし、カチオン重合性化合物の性質、照射の強
さ、所要硬化時間、硬化物の物性およびコスト等のよう
な因子にしたがってこれよりも量を増減させることもで
きる。In preparing the cationically polymerizable composition of the present invention, the compounding ratio of the phosphonium salt to the cationically polymerizable compound is wide because it is in a substantially inactive state unless the salt is activated by light or heat. You can change the range. The phosphonium salt may be used in a proportion of 0.1 to 20 parts by weight based on the weight of the curable composition. However, the amount can be increased or decreased depending on factors such as the nature of the cationically polymerizable compound, the intensity of irradiation, the required curing time, the physical properties of the cured product and the cost.
【0020】本発明のカチオン重合性組成物は、常温光
硬化、加熱光硬化、光硬化後のアフターキュアーなどの
方法により硬化することができるので、文脈から明らか
に異なる意味に解されぬ限りにおいて、これらを総称し
て本発明では単に光硬化ということがある。従って、本
発明に言う光硬化は広義に定義されていることに留意さ
れたい。そこで、例えば、加熱光硬化は加熱および光照
射の併用による光硬化を意味する。光硬化に必要な波長
は200〜500nmである。光照射時間は、1秒〜5
分、好ましくは5秒〜2分である。加熱光硬化時の温度
は、通常20〜150℃である。光硬化後のアフターキ
ュアーは、例えば20〜150℃にて10時間以内であ
る。The cationically polymerizable composition of the present invention can be cured by a method such as room temperature photocuring, heat photocuring, and post-curing after photocuring, so that it is not clearly understood from the context. In the present invention, these may be collectively referred to simply as photocuring. Therefore, it should be noted that the photocuring referred to in the present invention is broadly defined. Therefore, for example, heating photocuring means photocuring by the combined use of heating and light irradiation. The wavelength required for photocuring is 200 to 500 nm. Light irradiation time is 1 to 5
Minutes, preferably 5 seconds to 2 minutes. The temperature at the time of photocuring by heating is usually 20 to 150 ° C. After-curing after photocuring is, for example, at 20 to 150 ° C. and within 10 hours.
【0021】本発明に係わるカチオン重合性組成物に
は、必要に応じてまたは所望により充填剤、希釈剤、溶
剤、顔料、可撓性付与剤、増感剤、酸化防止剤等の各種
添加剤を加えることができる。In the cationically polymerizable composition according to the present invention, various additives such as a filler, a diluent, a solvent, a pigment, a flexibility-imparting agent, a sensitizer and an antioxidant are added, if necessary or desired. Can be added.
【0022】本発明における光硬化用光源としては、低
圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、キセ
ノンランプ、カーボンアーク灯などが挙げられる。Examples of the light source for photocuring in the present invention include a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a xenon lamp and a carbon arc lamp.
【0023】本発明のカチオン重合性組成物をこのよう
にして光硬化させて得られる硬化物は、耐水性、耐薬品
性、電気特性等に優れたものである。The cured product obtained by photocuring the cationically polymerizable composition of the present invention in this manner is excellent in water resistance, chemical resistance, electrical characteristics and the like.
【0024】[0024]
【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳しく説明
する。The present invention will be described in more detail with reference to the following examples.
【0025】実施例1 (a)ベンジルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオ
ロアンチモネートの合成撹拌装置、還流冷却器、温度計
を備え付けた1リットル容量の4首フラスコを窒素置換
した後、これにトリフェニルホスフィン52.4g
(0.2モル)およびアセトニトリル200mlを加えて
混合溶解し、撹拌しながら加熱還流条件下で100mlの
アセトニトリルに溶解したベンジルクロライド25.3
g(0.2モル)を1時間かけて滴下し、さらに5時間
撹拌しながら加熱還流条件下で反応を続けたところ、白
色の結晶が析出した。Example 1 (a) Synthesis of benzyltriphenylphosphonium hexafluoroantimonate A 1-liter 4-necked flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a thermometer was purged with nitrogen, and then triphenylphosphine 52 was added thereto. 0.4 g
(0.2 mol) and 200 ml of acetonitrile were added, mixed and dissolved, and benzyl chloride 25.3 dissolved in 100 ml of acetonitrile under heating and reflux conditions with stirring.
g (0.2 mol) was added dropwise over 1 hour, and the reaction was continued under heating and refluxing conditions for 5 hours with stirring. As a result, white crystals were precipitated.
【0026】続いて室温まで冷却し、析出した結晶を濾
別し、乾燥したところ、ベンジルトリフェニルホスホニ
ウムクロライド67.5g(収率86.7%)が得られ
た。このベンジルトリフェニルホスホニウムクロライド
の融点は、287〜288℃であった。Then, the mixture was cooled to room temperature, and the precipitated crystals were separated by filtration and dried to obtain 67.5 g of benzyltriphenylphosphonium chloride (yield 86.7%). The melting point of this benzyltriphenylphosphonium chloride was 287 to 288 ° C.
【0027】このようにして得られたベンジルトリフェ
ニルホスホニウムクロライド19.4g(0.05モ
ル)をメタノール−水(1/1(容積比))200mlに
溶解して同容量のフラスコに入れ、得られた溶液に30
0mlの水に溶解されたソジウムヘキサフルオロアンチモ
ネート12.9g(0.05モル)を撹拌しながら滴下
したところ、沈澱が生じて白濁しスラリー状となった。19.4 g (0.05 mol) of benzyltriphenylphosphonium chloride thus obtained was dissolved in 200 ml of methanol-water (1/1 (volume ratio)) and placed in a flask of the same volume to obtain 30 in the given solution
When 12.9 g (0.05 mol) of sodium hexafluoroantimonate dissolved in 0 ml of water was added dropwise with stirring, a precipitate was generated, which turned cloudy and became a slurry.
【0028】滴下終了後、室温で1時間撹拌を続け、次
いで結晶を濾別した後メタノールで再結晶したところ、
ベンジルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアン
チモネート24.5g(収率83.0%)が得られた。
このベンジルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロ
アンチモネートの融点は、172℃であった。After completion of the dropping, stirring was continued at room temperature for 1 hour, and then the crystals were separated by filtration and recrystallized from methanol.
24.5 g (yield 83.0%) of benzyltriphenylphosphonium hexafluoroantimonate was obtained.
The melting point of this benzyltriphenylphosphonium hexafluoroantimonate was 172 ° C.
【0029】また、上記ベンジルトリフェニルホスホニ
ウムヘキサフルオロアンチモネートの元素分析を行っ
た。結果を第1表に示す。Further, elemental analysis of the above benzyltriphenylphosphonium hexafluoroantimonate was carried out. The results are shown in Table 1.
【0030】[0030]
【表1】 [Table 1]
【0031】(b)上記のベンジルトリフェニルホスホ
ニウムヘキサフルオロアンチモネート1.8重量部をビ
スフェノールA型エポキシ樹脂「エピコート828」
(油化シェルエポキシ(株)製商品名、エポキシ当量1
90)100重量部に溶解して均一系の重合性組成物を
得た。(B) 1.8 parts by weight of the above benzyltriphenylphosphonium hexafluoroantimonate was added to a bisphenol A type epoxy resin "Epicoat 828".
(Yukaka Shell Epoxy Co., Ltd. product name, epoxy equivalent 1
90) Dissolved in 100 parts by weight to obtain a uniform polymerizable composition.
【0032】これを厚さ0.015mmにガラスエポキ
シ基板上に塗布した。これに高圧水銀ランプ(120W
/cm)で17cmの距離から紫外線を照射したとこ
ろ、36秒でタックフリーとなった(硬化時間)。さら
に、この重合性組成物の遮光下での40℃におけるポッ
トライフは、6か月以上であり、保存安定性は良好であ
った。This was applied on a glass epoxy substrate to a thickness of 0.015 mm. High pressure mercury lamp (120W
/ Cm) was irradiated with ultraviolet rays from a distance of 17 cm, and it became tack-free in 36 seconds (curing time). Furthermore, the pot life of this polymerizable composition at 40 ° C. in the dark was 6 months or more, and the storage stability was good.
【0033】実施例2〜11 第2表に示す種々のホスホニウム塩を実施例1と同様の
方法で合成した。Examples 2 to 11 Various phosphonium salts shown in Table 2 were synthesized in the same manner as in Example 1.
【0034】また、実施例1のエポキシ樹脂および第2
表に示すホスホニウム塩を用いてさらに別の重合性組成
物を調製し、実施例1と同様にしてそれぞれのホスホニ
ウム塩について紫外線硬化を行った。その結果も同表に
示す。また、これらの光硬化性組成物は何れも均一なも
ので、ポットライフテストの結果はその保存安定性が6
か月以上という良好なものであった。The epoxy resin of Example 1 and the second resin
Another polymerizable composition was prepared using the phosphonium salts shown in the table, and each phosphonium salt was UV-cured in the same manner as in Example 1. The results are also shown in the table. Further, all of these photocurable compositions were uniform, and the pot life test showed that the storage stability was 6
It was a good one over a month.
【0035】また、これらの組成物をこのようにして紫
外線硬化して得られた硬化物には気泡を全く生じず、ま
たこれらの硬化物からは臭気も発生しなかった。The cured products obtained by curing these compositions with ultraviolet light in this manner did not generate air bubbles at all, and no odor was generated from these cured products.
【0036】[0036]
【表2】 [Table 2]
【0037】実施例12 ベンジルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアン
チモネート2.5重量部を脂環族エポキシ樹脂「セロキ
サイド2021」(ダイセル化学(株)製の(3,4−
エポキシシクロヘキシル)メチル−3,4−エポキシシ
クロヘキシルカルボキシレート)100重量部に溶解し
て均一系の重合性組成物を得た。Example 12 2.5 parts by weight of benzyltriphenylphosphonium hexafluoroantimonate was added to an alicyclic epoxy resin "Celoxide 2021" ((3,4-
Epoxycyclohexyl) methyl-3,4-epoxycyclohexylcarboxylate) was dissolved in 100 parts by weight to obtain a uniform polymerizable composition.
【0038】これを厚さ0.015mmにガラスエポキ
シ基板上に塗布した。これに高圧水銀ランプ(120W
/cm)で17cmの距離から紫外線を照射したとこ
ろ、6秒でタックフリーとなった。さらに、この重合性
組成物の遮光下での40℃におけるポットライフは、6
か月以上であり、保存安定性は良好であった。This was applied to a glass epoxy substrate with a thickness of 0.015 mm. High pressure mercury lamp (120W
/ Cm), it was tack-free in 6 seconds when it was irradiated with ultraviolet rays from a distance of 17 cm. Furthermore, the pot life of this polymerizable composition at 40 ° C. in the dark is 6
The storage stability was good for more than a month.
【0039】実施例13〜22 実施例12と同様にして、第3表に示す種々のホスホニ
ウム塩について紫外線硬化を行った。その結果も同表に
示す。また、これらの光重合性組成物はいずれも均一な
もので、ポットライフテストの結果はその保存安定性が
6か月以上という良好なものであった。Examples 13 to 22 In the same manner as in Example 12, various phosphonium salts shown in Table 3 were UV-cured. The results are also shown in the table. Moreover, all of these photopolymerizable compositions were uniform, and the pot life test showed that the storage stability was good, being 6 months or more.
【0040】また、本発明の組成物より得られる硬化物
には、気泡を全く生じず、またこれらの硬化物からは臭
気も発生しなかった。The cured products obtained from the composition of the present invention did not generate air bubbles at all, and no odor was generated from these cured products.
【0041】[0041]
【表3】 [Table 3]
【0042】実施例23 p−メトキシベンジルトリス(p−クロロフェニル)ホ
スホニウムヘキサフルオロアンチモネート2.1重量部
をビスフェノールA型エポキシ樹脂「エピコート82
8」100重量部に溶解して均一系の光重合性組成物を
得た。Example 23 2.1 parts by weight of p-methoxybenzyl tris (p-chlorophenyl) phosphonium hexafluoroantimonate was added to a bisphenol A type epoxy resin "Epicoat 82".
8 "was dissolved in 100 parts by weight to obtain a uniform photopolymerizable composition.
【0043】これを厚さ0.015mmにガラスエポキ
シ基板上に塗布した。これに高圧水銀ランプ(120W
/cm)で17cmの距離から紫外線を6秒照射した
後、100℃で30分間のアフターキュアーにより硬化
した。さらに、この光重合性組成物は遮光下での40℃
におけるポットライフが6か月以上であり、保存安定性
の良好なものであった。This was applied on a glass epoxy substrate to a thickness of 0.015 mm. High pressure mercury lamp (120W
/ Cm) and ultraviolet rays were irradiated from a distance of 17 cm for 6 seconds, and then cured by after-curing at 100 ° C. for 30 minutes. Furthermore, this photopolymerizable composition is kept at 40 ° C. in the dark.
The pot life was 6 months or more, and the storage stability was good.
【0044】実施例24 1−ピレニルメチル−トリフェニルホスホニウムヘキサ
フルオロアンチモネートの合成 アルゴン零囲気下、オキシ塩化リン(7.0g、46ミ
リモル)をDMF(10ml)中にゆっくり滴下した。
得られた溶液を室温まで冷却し、ピレン(9.2g、4
5ミリモル)のクロロホルム(50ml)溶液に滴下し
た。滴下終了後、さらに室温で24時間撹拌したのち、
水(300ml)に加え、クロロホルムで抽出した。ク
ロロホルム層を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液で数回洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧乾燥し
て得られた黄色の固体をカラムクロマトグラフィーによ
って精製し、1−ホルミルピレン2.5g(収率24
%)を得た。Example 24 Synthesis of 1-pyrenylmethyl-triphenylphosphonium hexafluoroantimonate Phosphorus oxychloride (7.0 g, 46 mmol) was slowly added dropwise to DMF (10 ml) under a blanket of argon.
The resulting solution was cooled to room temperature and pyrene (9.2 g, 4
5 mmol) in chloroform (50 ml) was added dropwise. After completion of dropping, after stirring at room temperature for 24 hours,
It was added to water (300 ml) and extracted with chloroform. The chloroform layer was washed several times with a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate and dried over magnesium sulfate. The yellow solid obtained by drying the solvent under reduced pressure was purified by column chromatography to give 1-formylpyrene (2.5 g, yield 24).
%) Was obtained.
【0045】続いて、1−ホルミルピレン(2.3g、
10ミリモル)をTHF(20ml)に溶解し、水素化
ホウ素ナトリウム(0.10g、2.6ミリモル)を加
えて室温で30分間撹拌した。メタノール(20ml)
を加えた後、さらに6時間撹拌した。反応溶液を水(1
00ml)に加え、クロロホルムで抽出した。クロロホ
ルム層を塩化ナトリウム飽和水溶液で数回洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られる
淡黄色の固体をカラムクロマトグラフィーによって精製
し、1−ヒドロキシメチルピレン2.2g(収率95
%)を得た。Subsequently, 1-formylpyrene (2.3 g,
10 mmol) was dissolved in THF (20 ml), sodium borohydride (0.10 g, 2.6 mmol) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes. Methanol (20 ml)
After adding, the mixture was further stirred for 6 hours. The reaction solution was mixed with water (1
(00 ml) and extracted with chloroform. The chloroform layer was washed several times with saturated aqueous sodium chloride solution and dried over magnesium sulfate. The pale yellow solid obtained by distilling off the solvent under reduced pressure was purified by column chromatography to obtain 2.2 g of 1-hydroxymethylpyrene (yield 95
%) Was obtained.
【0046】次に、塩化チオニル(5ml)に1−ヒド
ロキシメチルピレン(1.0g、4.3ミリモル)を加
え、室温で3時間撹拌した後、過剰の塩化チオニルを減
圧留去した。更に、残査に乾燥トルエン(20ml)を
加え、これを減圧留去した。得られた黄色の固体に、ト
リフェニルホスフィン(1.2g、4.6ミリモル)お
よびトルエン(10ml)を加え、6時間加熱還流し
た。冷却後、ヘキサン(50ml)を加え、沈殿物を吸
引濾過により濾別した。得られた結晶は、ヘキサンによ
って数回洗浄し、1−ピレニルメチル−トリフェニルホ
スホニウムクロライド1.6g(収率71%)を得た。Next, 1-hydroxymethylpyrene (1.0 g, 4.3 mmol) was added to thionyl chloride (5 ml) and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours, and then excess thionyl chloride was distilled off under reduced pressure. Further, dry toluene (20 ml) was added to the residue, and this was distilled off under reduced pressure. Triphenylphosphine (1.2 g, 4.6 mmol) and toluene (10 ml) were added to the obtained yellow solid, and the mixture was heated under reflux for 6 hours. After cooling, hexane (50 ml) was added, and the precipitate was filtered off by suction filtration. The obtained crystals were washed several times with hexane to obtain 1-pyrenylmethyl-triphenylphosphonium chloride (1.6 g, yield 71%).
【0047】さらに、1−ピレニルメチル−トリフェニ
ルホスホニウムクロライド(1.5g、29ミリモル)
をメタノール(20ml)に溶解し、撹拌下、直前に調
製した5%六フッ化アンチモン酸カリウム水溶液(20
ml)を加えた。生成した沈殿を吸引濾過により濾別
し、水で数回洗浄した後、100℃で減圧乾燥した。得
られた結晶を少量のアセトンに溶解し、これにエーテル
を徐々に滴下し、析出してくる褐色のタール状物質をデ
カンテーションによって除いた。さらに上澄みにエーテ
ル(100〜200ml)を加え、析出してきた淡黄色
の粉末を濾別し100℃で減圧乾燥した。その沈殿操作
を5回繰り返し、純粋な1−ピレニルメチル−トリフェ
ニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート4.8
g(収率62%)を得た。この化合物の融点は274℃
であった。Further, 1-pyrenylmethyl-triphenylphosphonium chloride (1.5 g, 29 mmol)
Was dissolved in methanol (20 ml) and stirred under stirring to prepare a 5% potassium hexafluoroantimonate aqueous solution (20
ml) was added. The generated precipitate was filtered by suction filtration, washed with water several times, and then dried under reduced pressure at 100 ° C. The obtained crystals were dissolved in a small amount of acetone, ether was gradually added dropwise thereto, and the brown tar-like substance that had precipitated was removed by decantation. Further, ether (100 to 200 ml) was added to the supernatant, the pale yellow powder which had precipitated was separated by filtration, and dried under reduced pressure at 100 ° C. The precipitation operation was repeated 5 times to obtain pure 1-pyrenylmethyl-triphenylphosphonium hexafluoroantimonate 4.8.
g (yield 62%) was obtained. The melting point of this compound is 274 ° C.
Met.
【0048】実施例25 1−ピレニルメチル−ブチルジフェニルホスホニウムヘ
キサフルオロアンチモネートの合成 クロロジフェニルホスフィン(6.5g、30ミリモ
ル)を乾燥エーテル(50ml)に溶解し、アルゴン零
囲気下、激しく撹拌しながら1.62Mのn−ブチルリ
チウムヘキサン溶液(22ml)をエーテルが還流しな
い程度にゆっくりと滴下した。滴下終了後、さらに室温
で2時間撹拌した。生成してくる沈殿を濾別した後、濾
液を水で数回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶
媒を減圧留去して得られる淡黄色油状の生成物をさらに
減圧蒸留によって精製し、ブチルジフェニルホスフィン
4.3g(収率59%)を得た。Example 25 Synthesis of 1-pyrenylmethyl-butyldiphenylphosphonium hexafluoroantimonate Chlorodiphenylphosphine (6.5 g, 30 mmol) was dissolved in dry ether (50 ml) and stirred vigorously under argon at 50 ° C. A 62M n-butyllithium hexane solution (22 ml) was slowly added dropwise so that the ether did not reflux. After the dropping was completed, the mixture was further stirred at room temperature for 2 hours. After the generated precipitate was filtered off, the filtrate was washed with water several times and dried over magnesium sulfate. The pale yellow oily product obtained by distilling off the solvent under reduced pressure was further purified by distillation under reduced pressure to obtain 4.3 g of butyldiphenylphosphine (yield 59%).
【0049】次に、塩化チオニル(5ml)に1−ヒド
ロキシメチルピレン(1.0g、4.3ミリモル)を加
え、室温で3時間撹拌した後、過剰の塩化チオニルを減
圧留去した。更に、残査に乾燥トルエン(20ml)を
加え、これを減圧留去した。得られた黄色の固体に、ブ
チルジフェニルホスフィン(3.3g、14ミリモル)
およびトルエン(10ml)を加え、6時間加熱還流し
た。冷却後、ヘキサン(50ml)を加え、沈殿を吸引
濾過により濾別した。得られた結晶は、ヘキサンによっ
て数回洗浄し、1−ピレニルメチル−ブチルジフェニル
ホスホニウムクロライド2.0g(収率31%)を得
た。Next, 1-hydroxymethylpyrene (1.0 g, 4.3 mmol) was added to thionyl chloride (5 ml) and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours, and then excess thionyl chloride was distilled off under reduced pressure. Further, dry toluene (20 ml) was added to the residue, and this was distilled off under reduced pressure. Butyldiphenylphosphine (3.3 g, 14 mmol) was added to the obtained yellow solid.
And toluene (10 ml) were added, and the mixture was heated under reflux for 6 hours. After cooling, hexane (50 ml) was added and the precipitate was filtered off by suction filtration. The obtained crystals were washed several times with hexane to obtain 2.0 g of 1-pyrenylmethyl-butyldiphenylphosphonium chloride (yield 31%).
【0050】さらに、1−ピレニルメチル−ブチルジフ
ェニルホスホニウムクロライド(1.5g、30ミリモ
ル)をメタノール(20ml)に溶解し、撹拌下、直前
に調製した5%六フッ化アンチモン酸カリウム水溶液
(20ml)を加えた。生成した沈殿を吸引濾過により
濾別し、水で数回洗浄した後、100℃で減圧乾燥し
た。得られた結晶を少量のアセトンに溶解し、これにエ
ーテルを徐々に滴下し、析出してくる褐色のタール状物
質をデカンテーションによって除いた。さらに上澄みに
エーテル(100〜200ml)を加え、析出してきた
淡黄色の粉末を濾別し、100℃で減圧乾燥した。この
ような沈殿操作を5回繰り返し、純粋な1−ピレニルメ
チル−ブチルジフェニルホスホニウムヘキサフルオロア
ンチモネート0.84g(収率40%)を得た。この化
合物の融点は214℃であった。Furthermore, 1-pyrenylmethyl-butyldiphenylphosphonium chloride (1.5 g, 30 mmol) was dissolved in methanol (20 ml), and with stirring, the 5% potassium hexafluoroantimonate aqueous solution (20 ml) prepared immediately before was dissolved. added. The generated precipitate was filtered by suction filtration, washed with water several times, and then dried under reduced pressure at 100 ° C. The obtained crystals were dissolved in a small amount of acetone, ether was gradually added dropwise thereto, and the brown tar-like substance that had precipitated was removed by decantation. Further, ether (100 to 200 ml) was added to the supernatant, the pale yellow powder which had precipitated was separated by filtration, and dried under reduced pressure at 100 ° C. This precipitation operation was repeated 5 times to obtain 0.84 g (yield 40%) of pure 1-pyrenylmethyl-butyldiphenylphosphonium hexafluoroantimonate. The melting point of this compound was 214 ° C.
【0051】実施例26 9−アントラセニルメチル−トリフェニルホスホニウム
ヘキサフルオロアンチモネートを実施例24と同様の方
法で合成した。この化合物の融点は、227℃あった。Example 26 9-anthracenylmethyl-triphenylphosphonium hexafluoroantimonate was synthesized in the same manner as in Example 24. The melting point of this compound was 227 ° C.
【0052】[0052]
【発明の効果】本発明のホスホニウム塩を重合触媒とし
て含有するカチオン重合性組成物は、長期間保存可能
で、光照射で迅速に硬化する機能を備え、吸湿性がな
く、そして耐水性、耐薬品性および電気特性に優れた硬
化物を与えるので、プラスチック保護用、装飾用および
絶縁用被覆、印刷インク、封止剤、接着剤、フォトレジ
スト、含浸注型用、ステレオリソグラフィー等の用途に
適する。The cationically polymerizable composition containing the phosphonium salt of the present invention as a polymerization catalyst can be stored for a long period of time, has a function of rapidly curing upon irradiation with light, has no hygroscopicity, and is water and water resistant. Since it gives a cured product with excellent chemical and electrical properties, it is suitable for applications such as plastic protection, decorative and insulating coatings, printing inks, sealants, adhesives, photoresists, impregnation casting, stereolithography, etc. .
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大橋 賢治 神奈川県厚木市酒井2171 (72)発明者 森 健一 神奈川県川崎市川崎区鈴木町1−1 味の 素株式会社中央研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Kenji Ohashi 2171 Sakai, Atsugi-shi, Kanagawa (72) Inventor Kenichi Mori 1-1, Suzuki-cho, Kawasaki-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Ajinomoto Co., Inc. Central Research Laboratory
Claims (3)
ム塩 【化1】 (式中、R1 、R2 およびR3 はフェニル基、ハロゲン
化フェニル基、シアノフェニル基、ベンゾイルフェニル
基、アルキルフェニル基またはアルキル基を表し、R4
およびR5 はアルキル基または水素原子を表し、R6 は
フェニル基、ナフチル基、ピレニル基、アントラセニル
基またはスチリル基を表し、R7 、R8 およびR9 はア
ルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、水
酸基、シリル基、シリルオキシ基または水素原子を表
す。また、X- は非求核性アニオンを表す。但し、
R1 、R2 およびR3 がフェニル基で、R4 およびR5
が水素原子であり、R6 がフェニル基で、R7 およびR
8 が水素原子で、そしてR9 が水素原子、クロロ基また
はニトロ基であるものは除く。)。1. A phosphonium salt represented by the following general formula (I): (Wherein R 1 , R 2 and R 3 represent a phenyl group, a halogenated phenyl group, a cyanophenyl group, a benzoylphenyl group, an alkylphenyl group or an alkyl group, and R 4
And R 5 represents an alkyl group or a hydrogen atom, R 6 represents a phenyl group, a naphthyl group, a pyrenyl group, an anthracenyl group or a styryl group, and R 7 , R 8 and R 9 represent an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, It represents a nitro group, a hydroxyl group, a silyl group, a silyloxy group or a hydrogen atom. X − represents a non-nucleophilic anion. However,
R 1 , R 2 and R 3 are phenyl groups, and R 4 and R 5
Is a hydrogen atom, R 6 is a phenyl group, and R 7 and R
Except those in which 8 is a hydrogen atom and R 9 is a hydrogen atom, a chloro group or a nitro group. ).
して下記一般式(II)で示されるホスホニウム塩を含有
することを特徴とする光硬化型カチオン重合性組成物 【化2】 (式中、R1 、R2 およびR3 はフェニル基、ハロゲン
化フェニル基、シアノフェニル基、ベンゾイルフェニル
基、アルキルフェニル基またはアルキル基を表し、R4
およびR5 はアルキル基または水素原子を表し、R6 は
フェニル基、ナフチル基、ピレニル基、アントラセニル
基またはスチリル基を表し、R7 、R8 およびR9 はア
ルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、水
酸基、シリル基、シリルオキシ基または水素原子を表
す。また、X- は非求核性アニオンを表す。)。2. A photo-curable cationically polymerizable composition containing a cationically polymerizable compound and a phosphonium salt represented by the following general formula (II) as a polymerization catalyst: (Wherein R 1 , R 2 and R 3 represent a phenyl group, a halogenated phenyl group, a cyanophenyl group, a benzoylphenyl group, an alkylphenyl group or an alkyl group, and R 4
And R 5 represents an alkyl group or a hydrogen atom, R 6 represents a phenyl group, a naphthyl group, a pyrenyl group, an anthracenyl group or a styryl group, R 7 , R 8 and R 9 represent an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, It represents a nitro group, a hydroxyl group, a silyl group, a silyloxy group or a hydrogen atom. X − represents a non-nucleophilic anion. ).
光硬化することにより得られた硬化物。3. A cured product obtained by photocuring the cationically polymerizable composition according to claim 2.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29889592A JPH06157624A (en) | 1992-11-09 | 1992-11-09 | Phosphonium salt and photocurable cationically polymerizable resin containing the same |
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JP29889592A JPH06157624A (en) | 1992-11-09 | 1992-11-09 | Phosphonium salt and photocurable cationically polymerizable resin containing the same |
Publications (1)
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JPH06157624A true JPH06157624A (en) | 1994-06-07 |
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ID=17865550
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JP29889592A Pending JPH06157624A (en) | 1992-11-09 | 1992-11-09 | Phosphonium salt and photocurable cationically polymerizable resin containing the same |
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