JPH06150697A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents
Semiconductor integrated circuitInfo
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- JPH06150697A JPH06150697A JP4302001A JP30200192A JPH06150697A JP H06150697 A JPH06150697 A JP H06150697A JP 4302001 A JP4302001 A JP 4302001A JP 30200192 A JP30200192 A JP 30200192A JP H06150697 A JPH06150697 A JP H06150697A
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- power supply
- word line
- circuit
- short
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 フェイルビットアドレス判定試験時にワード
線の短絡を確実に検出する。
【構成】 チップ内部で昇圧電源を発生する昇圧電源発
生回路2と、昇圧電源と同等の電圧を供給する第1の外
部電源7と、第1の外部電源7が接続可能な昇圧電源プ
ローブ検査用パッド1とを有し、昇圧電源プローブ検査
用パッド1を、昇圧電源用配線6に電圧降下用の抵抗8
を介して接続したことを特徴とする半導体集積回路であ
る。
【効果】 フェイルビットアドレス判定試験時に、短絡
したワード線電位を回路が検出可能な電位まで低下さ
せ、短絡したワード線を確実に検出する。
(57) [Summary] [Purpose] To reliably detect a short circuit in a word line during a fail bit address judgment test. [Structure] A step-up power supply generation circuit 2 that generates a step-up power supply inside a chip, a first external power supply 7 that supplies a voltage equivalent to that of the step-up power supply, and a step-up power supply probe test capable of connecting the first external power supply 7 Pad 1 and step-up power supply probe inspection pad 1 connected to step-up power supply wiring 6 and resistor 8 for voltage drop.
It is a semiconductor integrated circuit characterized by being connected via. [Effect] During the fail bit address determination test, the short-circuited word line potential is lowered to a potential that can be detected by the circuit, and the short-circuited word line is reliably detected.
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は負荷を高速に充電するた
めの昇圧電源発生回路を有する半導体集積回路に関し、
特にメモリー用半導体集積回路において不良メモリーセ
ルの冗長救済のためのフェイルビットアドレス判定試験
を確実に実施することを可能にする半導体集積回路に関
する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit having a step-up power supply generation circuit for charging a load at high speed,
In particular, the present invention relates to a semiconductor integrated circuit capable of reliably performing a fail bit address determination test for redundancy repair of a defective memory cell in a memory semiconductor integrated circuit.
【0002】[0002]
【従来の技術】メモリー用半導体集積回路では歩留り向
上のために、微細化に伴うメモリーセル欠陥部を正常な
セルで置き換えて救済する冗長救済の手法が一般的に使
用され、救済すべきメモリーセルのアドレス特定のため
にフェイルビットアドレス判定試験が行われている。2. Description of the Related Art In a semiconductor integrated circuit for a memory, a redundancy repairing method of repairing a defective cell by replacing a defective memory cell with a normal cell in order to improve a yield is generally used. The fail bit address judgment test is being performed to identify the address.
【0003】以下図面を参照しながら、従来の半導体集
積回路の一例について説明する。図6に従来の半導体集
積回路の昇圧電源プローブ検査用パッドの接続図の一例
を示す。図6において、ワード線駆動回路3は、図示さ
れていないが、アドレスをデコードすることにより決定
されるワード線ドライバーを用いてワード線を昇圧電位
まで充電し、選択されたメモリーセルのトランスファー
ゲートをオンにする。昇圧電源プローブ検査用パッド1
はワード線駆動回路3に昇圧電圧を供給する昇圧電源発
生回路2とワード線駆動回路3の間の昇圧電源配線6に
接続されている。An example of a conventional semiconductor integrated circuit will be described below with reference to the drawings. FIG. 6 shows an example of a connection diagram of a boosting power supply probe inspection pad of a conventional semiconductor integrated circuit. In FIG. 6, the word line drive circuit 3 charges the word line to a boosted potential by using a word line driver (not shown) determined by decoding an address to transfer the transfer gate of the selected memory cell. turn on. Step-up power supply probe inspection pad 1
Is connected to the boosted power supply line 6 between the word line drive circuit 3 and the boosted power supply generation circuit 2 that supplies the boosted voltage to the word line drive circuit 3.
【0004】以上のように構成された従来の半導体集積
回路について、以下、開発初期段階におけるその使用方
法と動作について説明する。With respect to the conventional semiconductor integrated circuit configured as described above, its usage and operation in the early stage of development will be described below.
【0005】まずプロービング検査時に昇圧電源発生回
路2が設計通りの能力を実現しているかどうかを、昇圧
電源プローブ検査用パッド1に針5をおとし、昇圧電圧
(VPP)及び昇圧電源発生回路2の消費電流を測定す
ることが可能である。また、昇圧電源発生回路2は本来
チップ内部のワード線等で消費された電荷を補充する為
の回路であり電流供給能力が低いため、選択されたワー
ド線が他電源と短絡している場合には、電流が前記昇圧
電源発生回路2の能力以上に流れる。First, at the time of probing inspection, it is checked whether or not the boosted power supply generation circuit 2 has achieved the capability as designed, by setting the needle 5 on the boosted power supply probe inspection pad 1 to detect the boosted voltage (VPP) and the boosted power supply generation circuit 2. It is possible to measure the current consumption. Further, the boosted power supply generation circuit 2 is a circuit for replenishing the charges originally consumed by the word line inside the chip and has a low current supply capability. Therefore, when the selected word line is short-circuited with another power supply, Current flows more than the capacity of the boosted power supply generation circuit 2.
【0006】従って、選択されたワード線が短絡してい
る時、昇圧電圧(VPP)の電位が降下し、次に正常な
ワード線が選択された時に昇圧電圧が完全な電位に回復
していないために誤動作が起こることがあった。昇圧電
源プローブ検査用パッド1に電流供給能力のある昇圧電
源電圧と同等の電圧の第1の外部電源7を接続すること
により、上記誤動作を防止することができた。フェイル
ビットアドレス判定試験後の冗長救済を行ったチップで
は、昇圧電源発生回路2の電流供給能力で充分である。Therefore, when the selected word line is short-circuited, the potential of the boosted voltage (VPP) drops, and when the next normal word line is selected, the boosted voltage is not restored to the complete potential. This sometimes caused malfunctions. By connecting the first external power supply 7 having a voltage equivalent to the boosted power supply voltage capable of supplying current to the boosted power supply probe inspection pad 1, the malfunction can be prevented. In the chip that has been subjected to redundancy repair after the fail bit address determination test, the current supply capability of the boosted power supply generation circuit 2 is sufficient.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の従
来の構成では、以下に説明するように、フェイルビット
アドレス判定試験時にワード線の短絡を見逃してしまう
ことがあった。However, in the above-mentioned conventional structure, as described below, a short circuit of the word line may be missed during the fail bit address judgment test.
【0008】図7は選択されたワード線と非選択ワード
線が短絡している想定図で、図3に図7中の回路の1部
分の拡大図を示す。FIG. 7 is an assumed view in which a selected word line and a non-selected word line are short-circuited, and FIG. 3 shows an enlarged view of a part of the circuit in FIG.
【0009】図7、図3において選択ワード線34が非
選択ワード線35と短絡している場合、昇圧電源発生回
路2とワード線駆動回路3間の抵抗17の抵抗値R2、
ワード線駆動回路3と接地電源パッド(以下VSSパッ
ド)4間の抵抗18の抵抗値R3、ショート箇所14の
抵抗33の抵抗値R4、選択されたワード線34の抵抗
15の抵抗値R5、選択されたワード線34と短絡して
いる非選択ワード線35の抵抗16の抵抗値R6、ワー
ド線ドライブ信号ドライブ用トランジスター30のオン
抵抗Rtr1、ワード線充電用トランジスター31のオ
ン抵抗Rtr2、ワード線接地用トランジスター32の
オン抵抗Rtr3の抵抗の比により昇圧電圧(VPP)
が分配され、フェイルビットアドレス判定試験時におい
て、短絡によるワード線電位の低下(数1)は、パッド
の配置、ショート箇所の位置に依存するため、場合によ
っては上記ワード線の電位低下を回路が感知できず、短
絡している救済すべきワード線を、正常なワード線と見
なしてしまう恐れがあるという課題を有していた。In FIG. 7 and FIG. 3, when the selected word line 34 is short-circuited with the non-selected word line 35, the resistance value R2 of the resistor 17 between the step-up power supply generation circuit 2 and the word line drive circuit 3,
The resistance value R3 of the resistor 18 between the word line drive circuit 3 and the ground power supply pad (hereinafter referred to as VSS pad) 4, the resistance value R4 of the resistor 33 in the short-circuited portion 14, the resistance value R5 of the resistor 15 in the selected word line 34, and the selection The resistance value R6 of the resistor 16 of the unselected word line 35 short-circuited with the selected word line 34, the ON resistance Rtr1 of the word line drive signal driving transistor 30, the ON resistance Rtr2 of the word line charging transistor 31, and the word line ground Voltage (VPP) depending on the ratio of the on-resistance Rtr3 of the transistor 32 for use
In the fail bit address judgment test, the decrease in the word line potential due to a short circuit (Equation 1) depends on the arrangement of pads and the position of the short circuit. There is a problem that the word line to be rescued that cannot be detected and is short-circuited may be regarded as a normal word line.
【0010】[0010]
【数1】 [Equation 1]
【0011】本発明は上記従来の課題を解決するもの
で、フェイルビットアドレス判定試験時において、ワー
ド線短絡によるワード線電位の低下をパッドの配置、シ
ョート箇所の位置によらず確実に回路が感知できる電位
に制御することが可能な半導体集積回路を提供すること
を目的とする。The present invention solves the above-mentioned conventional problems. In the fail bit address judgment test, the circuit surely senses the decrease in the word line potential due to the short circuit of the word line regardless of the arrangement of the pads and the position of the short circuit. It is an object to provide a semiconductor integrated circuit that can be controlled to a potential that can be adjusted.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の半導体集積回路は、昇圧電源と同等の電圧を
供給する第1の外部電源が接続可能な昇圧電源プローブ
検査用パッドを、電圧降下用の抵抗を介して昇圧電源用
配線に接続した構成、もしくは、昇圧電源の電圧より低
い最適化された電圧を供給する第2の外部電源が接続可
能な昇圧電源プローブ検査用パッドを、昇圧電源用配線
に接続した構成を有している。In order to solve the above-mentioned problems, a semiconductor integrated circuit according to the present invention comprises a step-up power supply probe inspection pad to which a first external power supply for supplying a voltage equivalent to that of the step-up power supply can be connected. A structure for connecting to a wiring for boosting power supply via a resistance for voltage drop, or a boosting power supply probe inspection pad to which a second external power supply for supplying an optimized voltage lower than the voltage of the boosting power supply can be connected, It has a structure connected to the step-up power supply wiring.
【0013】[0013]
【作用】本発明は上記した構成により、チップ開発段階
のフェイルビットアドレス判定試験時に、選択ワード線
と他電源の短絡による昇圧電圧の降下を原因として生じ
る誤動作を昇圧電源プローブ検査用パッドに昇圧電源と
同等の電圧の第1の電源を接続することにより防止す
る。更に、ワード線短絡時のワード線電位の降下を昇圧
電源発生回路と昇圧電源プローブ検査用パッド間に挿入
された最適な抵抗値を持つ抵抗によって制御、もしくは
抵抗を挿入する代わりに昇圧電源プローブ検査用パッド
に昇圧電位より低い最適化された第2の外部電源によっ
て制御し、チップの冗長救済アドレスを確実に把握する
ことを可能にする。According to the present invention, with the above configuration, a malfunction caused by a drop in boosted voltage due to a short circuit between the selected word line and another power supply is caused in the fail bit address judgment test at the chip development stage. This is prevented by connecting a first power source having a voltage equivalent to Furthermore, the drop of the word line potential when the word line is short-circuited is controlled by the resistor with the optimum resistance value inserted between the boost power supply generation circuit and the boost power supply probe inspection pad, or instead of inserting the resistance, the boost power supply probe inspection is performed. The pad is controlled by the optimized second external power supply having a voltage lower than the boosted potential, and the redundant repair address of the chip can be surely grasped.
【0014】[0014]
(実施例1)以下本発明の一実施例の半導体集積回路に
ついて、図面を参照しながら説明する。図1は本発明の
実施例における半導体集積回路の構成を示すものであ
る。(Embodiment 1) A semiconductor integrated circuit according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows the configuration of a semiconductor integrated circuit according to an embodiment of the present invention.
【0015】図1において、昇圧電源発生回路2は、図
1には示されていないが、ワード線駆動回路3内のワー
ド線ドライバーのゲートとソースに電圧を供給し、ワー
ド線駆動回路3はロウアドレスのデコード信号によりワ
ード線を選択し、ワード線を高速に充電しメモリーセル
内のトランスファーゲートをオンにする。昇圧電源プロ
ーブ検査用パッド1はワード線駆動回路3と昇圧電源発
生回路2間の昇圧電源用配線6に、パッドの配置とワー
ストケースのワード線ショート箇所の位置から計算され
た抵抗8を介して接続されている。In FIG. 1, the boosted power supply generation circuit 2 supplies a voltage to the gate and the source of the word line driver in the word line drive circuit 3, which is not shown in FIG. The word line is selected by the decode signal of the row address, the word line is charged at high speed, and the transfer gate in the memory cell is turned on. The step-up power supply probe inspection pad 1 is connected to the step-up power supply wiring 6 between the word line drive circuit 3 and the step-up power supply generation circuit 2 via the resistor 8 calculated from the pad arrangement and the position of the worst case word line short circuit. It is connected.
【0016】以上のように構成された半導体集積回路に
ついて、フェイルビットアドレス判定試験時において、
選択ワード線と非選択ワード線が短絡している場合の動
作を説明する。図2は選択されたワード線と非選択ワー
ド線が短絡しているときの想定図で、図3は図2中の回
路の1部を拡大したものである。Regarding the semiconductor integrated circuit configured as described above, in the fail bit address judgment test,
The operation when the selected word line and the non-selected word line are short-circuited will be described. FIG. 2 is an assumed view when a selected word line and a non-selected word line are short-circuited, and FIG. 3 is an enlarged view of a part of the circuit in FIG.
【0017】図2、図3において、フェイルビットアド
レス判定試験時、1本の選択ワード線34と1本の非選
択ワード線35がショートしているとする。ショートし
ている非選択ワード線の数を1本としたのは、その場合
が最もワード線電位が高いからである。このとき、昇圧
電源発生回路2と昇圧電源プローブ検査用パッド1間に
挿入された抵抗8の抵抗値をR1、昇圧電源発生回路2
とワード線駆動回路3間の配線抵抗17の抵抗値をR
2、ワード線駆動回路3とVSSパッド4間の配線抵抗
18の抵抗値をR3、選択ワード線34の配線抵抗15
の抵抗値をR5、非選択ワード線35の配線抵抗16の
抵抗値をR6とし、ショート箇所抵抗33の抵抗値をR
4、ワード線ドライブ信号ドライブ用トランジスター3
0のオン抵抗をRtr1、ワード線充電用トランジスタ
ー31のオン抵抗をRtr2、ワード線接地用トランジ
スター32のオン抵抗をRtr3とする。このとき昇圧
電源の電位をVPPとすると、選択されたワード線34
の電位は(数2)となり、昇圧電源プローブ検査用パッ
ド1と昇圧電源発生回路2間の抵抗8の抵抗値R1を最
適化することにより、選択ワード線の電位を確実に低下
させることができるため、ワード線の短絡を確実に検出
することが可能である。2 and 3, it is assumed that one selected word line 34 and one unselected word line 35 are short-circuited during the fail bit address determination test. The number of short-circuited non-selected word lines is set to one because the word line potential is the highest in that case. At this time, the resistance value of the resistor 8 inserted between the step-up power supply generation circuit 2 and the step-up power supply probe inspection pad 1 is R1, and the step-up power supply generation circuit 2
And the resistance value of the wiring resistance 17 between the word line driving circuit 3 and R
2, the resistance value of the wiring resistance 18 between the word line drive circuit 3 and the VSS pad 4 is R3, and the wiring resistance 15 of the selected word line 34 is 15.
R5, the resistance value of the wiring resistance 16 of the non-selected word line 35 is R6, and the resistance value of the short-circuit resistance 33 is R
4, word line drive signal drive transistor 3
The on resistance of 0 is Rtr1, the on resistance of the word line charging transistor 31 is Rtr2, and the on resistance of the word line grounding transistor 32 is Rtr3. At this time, if the potential of the boosting power source is VPP, the selected word line 34
Is equal to (Equation 2), and the potential of the selected word line can be surely lowered by optimizing the resistance value R1 of the resistor 8 between the boost power supply probe inspection pad 1 and the boost power supply generation circuit 2. Therefore, it is possible to reliably detect the short circuit of the word line.
【0018】[0018]
【数2】 [Equation 2]
【0019】次に、図2、3のようなパッド配置を例に
とり、昇圧電源発生回路2と昇圧電源プローブ検査用パ
ッド1間に付加する抵抗8の抵抗値R1の最適値を実際
に求めてみる。最適値の条件として、(1)選択された
ワード線が非選択ワード線とショートしている時、選択
されたワード線の電位が十分に落ちること、(2)アド
レスを変化させて選択ワード線をショートしているワー
ド線からショートしていないワード線に変更したとき、
ワード線ドライブ信号の電位が昇圧電位まで回復する時
間がアドレス変化後の正常なワード線が立ち上がるまで
の時間に比べ短いことを課す。Next, taking the pad arrangements shown in FIGS. 2 and 3 as an example, the optimum value of the resistance value R1 of the resistor 8 added between the step-up power supply generation circuit 2 and the step-up power supply probe inspection pad 1 is actually obtained. View. The optimum value condition is (1) when the selected word line is short-circuited with the non-selected word line, the potential of the selected word line drops sufficiently, and (2) the address is changed to change the selected word line. When changing from a shorted word line to a non-shorted word line,
It is required that the time required for the potential of the word line drive signal to recover to the boosted potential is shorter than the time required for a normal word line to rise after an address change.
【0020】初めに最適値の(1)の条件を課し、付加
する抵抗の抵抗値の下限について考える。このようなパ
ッド配置の時、ショートしたワード線の電位が1番高く
なるのは、パッドに1番近いワード線がショートした時
である。ワード線ドライブ信号ドライブ用pチャンネル
トランジスタ30のオン抵抗Rtr1を200Ω、ワー
ド線ドライブ用のnチャンネルトランジスタ31のオン
抵抗Rtr2を200Ω、ワード線プリチャージ用のn
チャンネルトランジスタ32のオン抵抗Rtr3を45
0Ωとし、選択ワード線34の配線抵抗値R5と非選択
ワード線の配線抵抗値R6が等しいとしR5=R6=2
KΩとする。1層アルミのシート抵抗を55mΩ、2層
アルミのシート抵抗を35mΩ、昇圧電源用配線の配線
幅を10μm、配線長を4mm、VSS電源用配線の配
線幅を50μm、配線長を4mmとしチップ長辺方向の
配線は2層アルミ、チップ短辺方向の配線は1層アルミ
とすると、昇圧電源用配線抵抗17の抵抗値R2は22
Ω、VSS電源用配線抵抗18の抵抗値R3は4Ωとな
り、ワード線ショート箇所抵抗33の抵抗値R4を68
Ωとし、昇圧電源の電位をVPPとすると付加抵抗8を
挿入しない時、短絡したワード線電位Vwlは0.51
VPPとなる。First, the condition (1) of the optimum value is imposed, and the lower limit of the resistance value of the added resistance is considered. In such a pad arrangement, the shorted word line has the highest potential when the word line closest to the pad is shorted. The ON resistance Rtr1 of the p-channel transistor 30 for driving the word line drive signal is 200Ω, the ON resistance Rtr2 of the n-channel transistor 31 for driving the word line is 200Ω, and the n resistance for the word line precharge is nΩ.
The on resistance Rtr3 of the channel transistor 32 is set to 45
Assuming that the wiring resistance value R5 of the selected word line 34 and the wiring resistance value R6 of the non-selected word line are equal to 0Ω, R5 = R6 = 2
Let KΩ. Sheet resistance of 1 layer aluminum is 55 mΩ, sheet resistance of 2 layers aluminum is 35 mΩ, wiring width of boosting power supply wiring is 10 μm, wiring length is 4 mm, wiring width of VSS power supply wiring is 50 μm, wiring length is 4 mm, and chip length is 4 mm. If the wiring in the side direction is a two-layer aluminum and the wiring in the short side of the chip is a one-layer aluminum, the resistance value R2 of the wiring resistor 17 for the step-up power supply is 22.
Ω, the resistance value R3 of the VSS power supply wiring resistance 18 becomes 4Ω, and the resistance value R4 of the word line short-circuit point resistance 33 becomes 68.
Ω and the potential of the step-up power supply is VPP, the short-circuited word line potential Vwl is 0.51 when the additional resistor 8 is not inserted.
It becomes VPP.
【0021】フェイルビット判定試験でワード線電位が
1番必要になる時は図4においてメモリーセル40にH
(VDD)を書き込み、引き続きHを読み出す場合で、
ビット線46、47のプリチャージ電位を1.5V、メ
モリーセル内トランスファーゲート42のしきい値電圧
を1Vとすると、センスアンプ41の感度を考慮にいれ
なくてもワード線の電位は単純に2.5V以上、昇圧電
源の昇圧電圧VPPを5Vとすると0.5VPP以上は
必要となってくる。センスアンプの感度を考慮にいれれ
ばさらに高いワード線電位が必要になる。そこでショー
トしたワード線電位を0.5VPP以下にするためには
付加抵抗8の抵抗値R1を100Ω以上にしなければな
らないということになる。When the word line potential is the first required in the fail bit judgment test, the memory cell 40 in FIG.
When (VDD) is written and H is continuously read,
If the precharge potential of the bit lines 46 and 47 is 1.5 V and the threshold voltage of the transfer gate 42 in the memory cell is 1 V, the potential of the word line is simply 2 even if the sensitivity of the sense amplifier 41 is not taken into consideration. If 0.5V or more and the boost voltage VPP of the boost power source is 5V, 0.5VPP or more is required. If the sensitivity of the sense amplifier is taken into consideration, a higher word line potential is required. Therefore, in order to set the shorted word line potential to 0.5 VPP or less, the resistance value R1 of the additional resistor 8 must be 100 Ω or more.
【0022】次に最適値の(2)の条件を課し付加する
抵抗の抵抗値の上限について考える。フェイルビットア
ドレス判定試験においてチップのプリチャージ期間を
1.5μS確保することにする。本来の評価においては
1チップ当りの判定時間は数十nSであるが、より確実
にフェイルビットを判定する為には高い抵抗値の方が望
ましい。抵抗が高い場合には、(2)の条件を満たすの
が厳しくなる。付加抵抗はフェイルビットアドレス判定
試験時のみ使用するので、前記試験時はサイクルタイム
を長くして試験を行う。実デバイスに適用した場合、上
記の試験を行うことによる試験時間の増加も、トータル
の試験時間から見ればわずかなものである。1.5μS
の間に0.5VPPの電位からVPPの電位まで回復す
る必要があり、昇圧電源発生回路のワード線駆動回路ま
での寄生容量を300pFとすると、付加抵抗8の抵抗
値R1の値は5KΩ以下でなければならないことにな
る。Next, the upper limit of the resistance value of the resistance to be added by imposing the condition (2) of the optimum value will be considered. In the fail bit address determination test, a chip precharge period of 1.5 μS is secured. In the original evaluation, the determination time per chip is several tens of nanoseconds, but a higher resistance value is desirable for more reliable determination of the fail bit. When the resistance is high, it becomes difficult to satisfy the condition (2). Since the additional resistance is used only in the fail bit address judgment test, the cycle time is extended during the test. When applied to an actual device, the increase in test time due to the above-mentioned test is also slight when viewed from the total test time. 1.5 μS
It is necessary to recover from the potential of 0.5 VPP to the potential of VPP during this period, and assuming that the parasitic capacitance up to the word line drive circuit of the booster power supply generation circuit is 300 pF, the resistance value R1 of the additional resistor 8 is 5 KΩ or less. It will have to be done.
【0023】以上の条件(1)、(2)を課した考察か
ら付加抵抗8の抵抗値R1は100Ωから5KΩの範囲
であればよいことがわかる。評価時間を短くしたい場合
は付加する抵抗の値を小さめに数百Ωにすれば良く、シ
ョートの抵抗のばらつきを考慮して確実に判定する場合
には大きめの抵抗を付加すれば良い。From the consideration given the above conditions (1) and (2), it is understood that the resistance value R1 of the additional resistor 8 may be in the range of 100Ω to 5KΩ. If the evaluation time is desired to be shortened, the value of the resistance to be added may be set to a small value of several hundreds Ω, and if the judgment is made surely considering the variation in the resistance of the short circuit, a larger resistance may be added.
【0024】(実施例2)図5は第2の実施例における
半導体集積回路の構成図である。図1と比較して図5に
示す様に、昇圧電源発生回路2と昇圧電源プローブ検査
用パッド1間に最適化された抵抗を挿入する代わりに、
昇圧電源プローブ検査用パッド1に昇圧電源の電圧以下
の最適化された第2の外部電源8を接続可能な構成を持
っている。(Embodiment 2) FIG. 5 is a block diagram of a semiconductor integrated circuit in a second embodiment. As shown in FIG. 5 as compared with FIG. 1, instead of inserting an optimized resistance between the boost power supply generation circuit 2 and the boost power supply probe inspection pad 1,
The boosting power supply probe inspection pad 1 has a configuration capable of connecting an optimized second external power supply 8 having a voltage equal to or lower than the voltage of the boosting power supply.
【0025】以下、フェイルビットアドレス判定試験時
のその動作を、上記と同じ例を用いて考える。選択され
たワード線が非選択ワード線短絡している時に、十分に
ワード線の電位が低下する条件から考える。先の例の結
果より、R1=0のとき、ショートしたワード線の電位
が0.51VPPであったことより、第2の外部電源の
電圧をV2とするとショートしたワード線の電位は0.
51V2となる。The operation during the fail bit address judgment test will be considered below using the same example as above. Consider from the condition that the potential of the word line is sufficiently lowered when the selected word line is short-circuited with the non-selected word line. From the result of the previous example, when R1 = 0, the potential of the short-circuited word line was 0.51 VPP. Therefore, when the voltage of the second external power supply is V2, the potential of the short-circuited word line is 0.
It becomes 51V2.
【0026】よって、ワード線の短絡を確実に把握する
ためには、第2の外部電源の電圧V2の値をV2<0.
5VPP/0.51とすればよいことがわかる。今の場
合では、抵抗成分が20Ω程度で遅延時間が約10nS
になることより、短絡した選択ワード線から正常なワー
ド線へアドレスを切り替えて後、測定を開始するまでに
昇圧電源の電位が回復する条件は満足されている。Therefore, in order to reliably grasp the short circuit of the word line, the value of the voltage V2 of the second external power supply is set to V2 <0.
It can be seen that 5VPP / 0.51 is sufficient. In the present case, the resistance component is about 20Ω and the delay time is about 10 nS.
Therefore, after the address is switched from the short-circuited selected word line to the normal word line, the condition that the potential of the boosted power supply is recovered by the time measurement is started is satisfied.
【0027】[0027]
【発明の効果】以上のように本発明は、最適化した付加
抵抗を介して昇圧電源プローブ検査用パッドを昇圧電源
配線に接続すること、または、昇圧電源より低い電圧の
第2の外部電源が接続可能な昇圧電源プローブ検査用パ
ッドを昇圧電源配線に接続することにより、ワード線短
絡時のワード線電位を十分降下させ、フェイルビットア
ドレス判定試験時においてワード線の短絡を確実に検出
することが可能になる。As described above, according to the present invention, the boosting power supply probe inspection pad is connected to the boosting power supply wiring through the optimized additional resistance, or the second external power supply having a voltage lower than that of the boosting power supply is connected. By connecting the connectable step-up power supply probe pad to the step-up power supply wiring, the word line potential at the time of short-circuiting the word line can be sufficiently lowered, and the short-circuit of the word line can be reliably detected during the fail bit address judgment test. It will be possible.
【0028】更に、昇圧電源発生回路の電流供給能力を
昇圧電源と他の電源の短絡を考慮にいれて特に大きく設
計する必要がないため、昇圧電源発生回路の消費電力を
押さえる事を可能にし、複雑な制御を必要とする昇圧電
源を設計する必要がなくなり設計期間を短縮することが
できる。Further, since it is not necessary to design the boosting power supply generation circuit current supply capability particularly in consideration of a short circuit between the boosting power supply and another power supply, it is possible to suppress the power consumption of the boosting power supply generation circuit. There is no need to design a step-up power supply that requires complicated control, and the design period can be shortened.
【図1】本発明の実施例1における昇圧電源プローブ検
査用パッドの構成図FIG. 1 is a configuration diagram of a boost power supply probe inspection pad according to a first embodiment of the present invention.
【図2】ワード線短絡の想定図[Fig. 2] Assuming diagram of word line short circuit
【図3】ワード線短絡の想定図の部分拡大図FIG. 3 is a partially enlarged view of an assumed diagram of a word line short circuit.
【図4】DRAMのメモリーセル構成図FIG. 4 is a memory cell configuration diagram of DRAM.
【図5】本発明の実施例2における昇圧電源プローブ検
査用パッドの構成図FIG. 5 is a configuration diagram of a boost power supply probe inspection pad according to a second embodiment of the present invention.
【図6】従来のチップの昇圧電源プローブ検査用パッド
の構成図FIG. 6 is a block diagram of a conventional pad for testing a boost power supply probe of a chip.
【図7】従来のチップにおけるワード線短絡の想定図FIG. 7 is an assumed diagram of a word line short circuit in a conventional chip.
1 昇圧電源プローブ検査用パッド 2 昇圧電源発生回路 3 ワード線駆動回路 4 接地電源(VSS)パッド 7 第1の外部電源 8 最適化された付加抵抗 9 最適化された第2の電源 14,33 ショート箇所 15 選択されたワード線の抵抗 16 非選択ワード線の抵抗 17 昇圧電源発生回路、ワード線駆動回路間の配線抵
抗 18 ワード線駆動回路、VSSパッド間の配線抵抗 19 昇圧電源発生回路からワード線駆動回路間の対V
SS容量 34 選択されたワード線 35 非選択ワード線1 boosting power supply probe inspection pad 2 boosting power supply generation circuit 3 word line drive circuit 4 ground power supply (VSS) pad 7 first external power supply 8 optimized additional resistance 9 optimized second power supply 14,33 short circuit Location 15 Resistance of selected word line 16 Resistance of non-selected word line 17 Wiring resistance between step-up power supply generation circuit and word line drive circuit 18 Wiring resistance between word line drive circuit and VSS pad 19 Step-up power supply generation circuit to word line V between drive circuits
SS capacitance 34 Selected word line 35 Non-selected word line
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 27/108 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Internal reference number FI Technical indication H01L 27/108
Claims (4)
発生回路と、 前記昇圧電源と同等の電圧を供給する第1の外部電源
と、 前記第1の外部電源が接続可能な昇圧電源プローブ検査
用パッドとを有し、 前記昇圧電源プローブ検査用パッドを、昇圧電源用配線
に電圧降下用の抵抗を介して接続したことを特徴とする
半導体集積回路。1. A step-up power supply generation circuit that generates a step-up power supply inside a chip, a first external power supply that supplies a voltage equivalent to the voltage of the boost power supply, and a step-up power supply probe test to which the first external power supply is connectable. Integrated pad, and the boosting power supply probe inspection pad is connected to the boosting power supply wiring via a resistor for voltage drop.
ドレス判定試験時に、非選択のワード線と短絡した選択
ワード線の電位が十分に低下し、かつ、短絡したワード
線から正常なワード線を選択するアドレスに切り換えた
時、正常なワード線が立ち上がるまでに昇圧電源の電位
が所望の値まで回復する抵抗値を有することを特徴とす
る半導体集積回路。2. The resistance according to claim 1, wherein the potential of the selected word line short-circuited with the non-selected word line is sufficiently lowered in the fail bit address judgment test, and the word line from the shorted word line to the normal word line is normal. A semiconductor integrated circuit having a resistance value with which the potential of a boosted power supply recovers to a desired value before a normal word line rises when the address is selected.
KΩの抵抗値であることを特徴とする半導体集積回路。3. The resistance value according to claim 1 is 100Ω to 5
A semiconductor integrated circuit having a resistance value of KΩ.
発生回路と、 前記昇圧電源の電圧より低い電圧を供給する第2の外部
電源と、 前記第2の外部電源が接続可能な昇圧電源プローブ検査
用パッドとを有し、 前記昇圧電源プローブ検査用パッドを、昇圧電源用配線
に接続したことを特徴とする半導体集積回路。4. A step-up power supply generation circuit for generating a step-up power supply inside a chip, a second external power supply for supplying a voltage lower than the voltage of the step-up power supply, and a step-up power supply probe connectable to the second external power supply. A semiconductor integrated circuit, comprising: a test pad, wherein the boost power supply probe test pad is connected to a boost power supply wiring.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4302001A JPH06150697A (en) | 1992-11-12 | 1992-11-12 | Semiconductor integrated circuit |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4302001A JPH06150697A (en) | 1992-11-12 | 1992-11-12 | Semiconductor integrated circuit |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06150697A true JPH06150697A (en) | 1994-05-31 |
Family
ID=17903692
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4302001A Pending JPH06150697A (en) | 1992-11-12 | 1992-11-12 | Semiconductor integrated circuit |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06150697A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0968558A (en) * | 1995-08-30 | 1997-03-11 | Nec Ic Microcomput Syst Ltd | Semiconductor device and inspecting method thereof |
| US5657284A (en) * | 1995-09-19 | 1997-08-12 | Micron Technology, Inc. | Apparatus and method for testing for defects between memory cells in packaged semiconductor memory devices |
| US5885846A (en) * | 1995-09-19 | 1999-03-23 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for testing of dielectric defects in a packaged semiconductor memory device |
| KR100394574B1 (en) * | 2001-04-10 | 2003-08-14 | 삼성전자주식회사 | non-volatile semiconductor memory device having word line defect check circuit |
-
1992
- 1992-11-12 JP JP4302001A patent/JPH06150697A/en active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0968558A (en) * | 1995-08-30 | 1997-03-11 | Nec Ic Microcomput Syst Ltd | Semiconductor device and inspecting method thereof |
| US5657284A (en) * | 1995-09-19 | 1997-08-12 | Micron Technology, Inc. | Apparatus and method for testing for defects between memory cells in packaged semiconductor memory devices |
| US5885846A (en) * | 1995-09-19 | 1999-03-23 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for testing of dielectric defects in a packaged semiconductor memory device |
| US5965902A (en) * | 1995-09-19 | 1999-10-12 | Micron Technology | Method and apparatus for testing of dielectric defects in a packaged semiconductor memory device |
| US6181154B1 (en) * | 1995-09-19 | 2001-01-30 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for testing of dielectric defects in a packaged semiconductor memory device |
| US6625073B1 (en) | 1995-09-19 | 2003-09-23 | Micron Technology, Inc. | Apparatus and method for testing for defects between memory cells in packaged semiconductor memory devices |
| KR100394574B1 (en) * | 2001-04-10 | 2003-08-14 | 삼성전자주식회사 | non-volatile semiconductor memory device having word line defect check circuit |
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