JPH06150681A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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Publication number
JPH06150681A
JPH06150681A JP30001992A JP30001992A JPH06150681A JP H06150681 A JPH06150681 A JP H06150681A JP 30001992 A JP30001992 A JP 30001992A JP 30001992 A JP30001992 A JP 30001992A JP H06150681 A JPH06150681 A JP H06150681A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bit line
transistor
level
potential
power supply
Prior art date
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Pending
Application number
JP30001992A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasunori Sakamoto
安準 坂本
Kazuya Fujimoto
和也 藤本
Yuichi Sato
雄一 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP30001992A priority Critical patent/JPH06150681A/en
Publication of JPH06150681A publication Critical patent/JPH06150681A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To lower a power source voltage by starting a H or L level by connecting sources to low or high power source potentials and connecting drains to either an inversion or non-inversion bit lines in the case when the memory cores of a ROM are N or P MOS transisters. CONSTITUTION:When a word line 122 or 123 goes to a H level to be selected, N MOS transisters (Tr) 110 or 111 goes to ON and the power source potential VSS of a source is transmitted to the non-inversion or inversion bit line 130 or 131. Furthere, when a word line 120 or 121 goes to a L level and is selected, P MOS Tr 112 or 113 goes to ON, high power source potential VVDD of a source is also transmitted to the inversion or non-inversion bit line 133 or 132. The potential of the conversion bit line 130 is outputted by inverters 160 to 162, the potential of the non-inversion bit line 132 is outputted by inverters 163, 164, 166. In such a manner, the power source voltage is lowered to the higher threshold value among P and N MOS Tr s.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、CMOSマスタスライ
ス型半導体集積回路装置(以下、「ゲートアレイ」とい
う)のベーシックセル列上に構成する読み出し専用記憶
回路(以下、「ROM」という)に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a read-only memory circuit (hereinafter referred to as "ROM") formed on a basic cell column of a CMOS master slice type semiconductor integrated circuit device (hereinafter referred to as "gate array"). Is.

【0002】[0002]

【従来の技術】ゲートアレイは、通常NMOSトランジ
スタとPMOSトランジスタとを有する基本構成セル
(以下、「ベーシックセル」という)が並べられ、これ
らを配線工程以降の工程で接続することにより、論理回
路を構成する。ベーシックセルを複数個使ってROMを
構成する場合も、配線工程以降の工程で各トランジスタ
を接続する。
2. Description of the Related Art In a gate array, basic constituent cells (hereinafter, referred to as "basic cells") each having an NMOS transistor and a PMOS transistor are arranged, and a logic circuit is formed by connecting these cells in a step after a wiring step. Constitute. Even when a ROM is formed by using a plurality of basic cells, each transistor is connected in the steps after the wiring step.

【0003】図2に示すように、ROMは、大きく分け
て、アドレスデコーダ1、メモリコア2、センスアンプ
3及び出力バッファ4より構成される。
As shown in FIG. 2, the ROM is roughly divided into an address decoder 1, a memory core 2, a sense amplifier 3 and an output buffer 4.

【0004】図3に従来の回路例を示す。FIG. 3 shows an example of a conventional circuit.

【0005】メモリコアを構成するトランジスタ10,
…,13(10,11:NMOSトランジスタ、12,
13:PMOSトランジスタ)はベーシックセルのトラ
ンジスタであり、各々のソースを高電源電位(以下、
「VDD」または「Hレベル」という)または低電源電
位(以下、「VSS」または「Lレベル」という)に接
続することによりデータを記憶する。メモリコアトラン
ジスタ10,…,13のゲートは各々ワード線20,
…,26に接続され、また、各々のドレインはビット線
30,31に接続されている。なお、メモリコアトラン
ジスタがNMOSとPMOSの2種類あるため、ワード
線およびビット線には、NMOS用とPMOS用の2種
類が設けられている。
Transistor 10 constituting the memory core,
..., 13 (10, 11: NMOS transistor, 12,
13: PMOS transistor) is a transistor of a basic cell, the source of each is a high power supply potential (hereinafter,
Data is stored by connecting to “VDD” or “H level”) or a low power supply potential (hereinafter referred to as “VSS” or “L level”). The gates of the memory core transistors 10, ..., 13 are word lines 20, respectively.
, 26, and the respective drains thereof are connected to the bit lines 30, 31. Since there are two types of memory core transistors, NMOS and PMOS, the word line and bit line are provided with two types, one for NMOS and one for PMOS.

【0006】今、仮に、アドレスデコーダによりNMO
S用ワード線22が選択されたとする。このワード線に
接続されているメモリコアトランジスタ10を導通状態
にするために、ワード線22の電位はHレベルに設定さ
れる。これにより、トランジスタ10のゲート・ソース
間には電位差が生じ、トランジスタ10は導通状態にな
り、ソースに接続されているVSSがビット線30に伝
わる。ビット線30の電位は、インバータ60,61に
よってバッファリングされ、Lレベルが出力される。な
お、40はプルアップ制御PMOSトランジスタ、42
はプルアップ抵抗である。同様に、PMOS用ワード線
20,21はLレベルになることにより選択され、PM
OSトランジスタ12,13を導通状態にし、ビット線
31に各々のソース電位が伝わる。ビット線31の電位
はインバータ62,63によってバッファリングされ、
出力される。なお、41はプルダウン制御NMOSトラ
ンジスタ、43はプルダウン抵抗である。
Now, suppose that an address decoder is used for NMO.
It is assumed that the S word line 22 is selected. In order to bring the memory core transistor 10 connected to this word line into a conductive state, the potential of the word line 22 is set to the H level. As a result, a potential difference is generated between the gate and the source of the transistor 10, the transistor 10 becomes conductive, and VSS connected to the source is transmitted to the bit line 30. The potential of the bit line 30 is buffered by the inverters 60 and 61, and the L level is output. In addition, 40 is a pull-up control PMOS transistor, 42
Is a pull-up resistor. Similarly, the PMOS word lines 20 and 21 are selected when they become L level, and PM
The OS transistors 12 and 13 are turned on, and the source potential of each is transmitted to the bit line 31. The potential of the bit line 31 is buffered by the inverters 62 and 63,
Is output. Reference numeral 41 is a pull-down control NMOS transistor, and 43 is a pull-down resistor.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図3の
NMOSメモリコアトランジスタ11のように、ソース
にVDDが接続されている場合、ワード線23が選択さ
れてHレベルになっても、ゲート・ソース間に電位差は
無い。トランジスタ11はゲート・ドレイン間の電位差
によって導通状態となり、ソース電位をビット線に伝え
るが、ビット線30の電位が上昇し、ゲートとの電位差
がトランジスタ11のしきい値電圧より小さくなると、
トランジスタ11はカットオフとなり、非導通状態とな
る。すなわち、ビット線30の電位は、これ以上、上昇
しない。このときのビット線30の電位は、 ビット線30の電位=高電源電位−トランジスタ11の
しきい値電圧 となる。この電位がNMOSトランジスタのしきい値電
圧より充分高いとして、CMOSインバータ60で受け
た場合、トランジスタ50は導通状態になる。しかし、
トランジスタ51のゲート・ソース間には、トランジス
タ11のしきい値電圧分の電位差があり、もし、この電
位差がトランジスタ51のしきい値電圧より高ければ、
トランジスタ51も導通状態になり、インバータ60に
は貫通電流が流れてしまう。これを防ぐために、プルア
ップ回路(プルアップ制御トランジスタ40、プルアッ
プ抵抗42)によって、ビット線30の電位をVDDま
で引き上げている。プルアップ回路は、インバータ60
の出力がLレベルになったときのみ導通し、ビット線3
0がLレベルになったときは、インバータ60の出力は
Hレベルになり、プルアップ回路は非導通となる。しか
しながら電源電圧を下げて動作させた場合、先のビット
線30のHレベルがトランジスタ50のしきい値電圧に
近付き、トランジスタ50は完全な導通状態とはなら
ず、インバータ60の出力には中間電位が出力される。
この状態では、プルアップ回路のトランジスタ40は導
通せず、出力にも正常な値が出力されない。PMOSト
ランジスタのソースがVSSに接続されている場合も同
様の結果となり、電源電圧がNMOSトランジスタのし
きい値電圧とPMOSトランジスタのしきい値電圧の和
以下の低電源電圧での動作が困難である。
However, when VDD is connected to the source like the NMOS memory core transistor 11 in FIG. 3, even if the word line 23 is selected and becomes H level, the gate / source is There is no potential difference between them. The transistor 11 becomes conductive due to the potential difference between the gate and the drain, and transmits the source potential to the bit line. However, when the potential of the bit line 30 rises and the potential difference with the gate becomes smaller than the threshold voltage of the transistor 11,
The transistor 11 is cut off and becomes non-conductive. That is, the potential of the bit line 30 does not rise any more. The potential of the bit line 30 at this time is: potential of the bit line 30 = high power supply potential−threshold voltage of the transistor 11. When this potential is received by the CMOS inverter 60 assuming that the potential is sufficiently higher than the threshold voltage of the NMOS transistor, the transistor 50 becomes conductive. But,
There is a potential difference corresponding to the threshold voltage of the transistor 11 between the gate and the source of the transistor 51. If this potential difference is higher than the threshold voltage of the transistor 51,
The transistor 51 also becomes conductive, and a through current flows through the inverter 60. To prevent this, the potential of the bit line 30 is raised to VDD by the pull-up circuit (pull-up control transistor 40, pull-up resistor 42). The pull-up circuit is an inverter 60
Bit line 3 conducts only when the output of
When 0 becomes L level, the output of the inverter 60 becomes H level and the pull-up circuit becomes non-conductive. However, when operating with the power supply voltage lowered, the previous H level of the bit line 30 approaches the threshold voltage of the transistor 50, the transistor 50 does not become completely conductive, and the output of the inverter 60 has an intermediate potential. Is output.
In this state, the transistor 40 of the pull-up circuit does not conduct, and a normal value is not output. The same result is obtained when the source of the PMOS transistor is connected to VSS, and it is difficult to operate at a low power supply voltage whose power supply voltage is equal to or less than the sum of the threshold voltage of the NMOS transistor and the threshold voltage of the PMOS transistor. .

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】前記の問題を解決するた
めに、ビット線を常に安定的な高電源電位または低電源
電位に保つようにする。すなわち、メモリコアトランジ
スタがNMOSの場合は、ソースを低電源電位に、PM
OSの場合は、ソースを高電源電位に接続する。そし
て、ビット線として、非反転ビット線と反転ビット線の
2種類を用意し、メモリコアトランジスタのドレインを
どちらのビット線に接続するかを選択することにより、
Lレベルを記憶するか、Hレベルを記憶するかを決定す
る。前記2種類のビット線は、それぞれインバータに接
続されており、各インバータは互いの入力に接続されて
いるビット線を駆動する。メモリコアトランジスタのド
レインが非反転ビット線に接続されている場合は、その
トランジスタのソース電位を出力し、メモリコアトラン
ジスタのドレインが反転ビット線に接続されている場合
は、そのトランジスタのソース電位を反転して出力す
る。
To solve the above problems, the bit line is always kept at a stable high power supply potential or low power supply potential. That is, when the memory core transistor is an NMOS, the source is set to a low power supply potential and the PM
In the case of OS, the source is connected to the high power supply potential. Then, two kinds of bit lines, a non-inverted bit line and an inverted bit line, are prepared, and by selecting which bit line the drain of the memory core transistor is connected to,
It is determined whether to store the L level or the H level. The two types of bit lines are connected to respective inverters, and the respective inverters drive the bit lines connected to their inputs. When the drain of the memory core transistor is connected to the non-inverted bit line, the source potential of that transistor is output, and when the drain of the memory core transistor is connected to the inverted bit line, the source potential of that transistor is output. Invert and output.

【0009】[0009]

【実施例】以下、実施例に基づいて本発明を詳細に説明
する。
EXAMPLES The present invention will be described in detail below based on examples.

【0010】図1は本発明の一実施例の構成図である。FIG. 1 is a block diagram of an embodiment of the present invention.

【0011】メモリコアを構成するトランジスタ11
0,111はNMOSトランジスタであり、各々のソー
スは低電源電位(VSS)に接続されており、ゲートは
各々のワード線122,123に接続されている。トラ
ンジスタ110のドレインは非反転ビット線130に接
続されており、ワード線122がHレベルになり選択さ
れた場合、トランジスタ110は、ゲート・ソース間の
電位差により導通状態となり、低電源電位をビット線1
30に伝える。一方、トランジスタ111のドレインは
反転ビット線131に接続されており、ワード線123
がHレベルになり選択された場合、トランジスタ111
は、ゲート・ソース間の電位差により導通状態になり、
低電源電位を反転ビット線131に伝える。2種類のビ
ット線130,131は、それぞれセンスアンプの役割
を成すインバータ161,160に接続されており、そ
れぞれのインバータの出力は他方のインバータの入力に
接続されているビット線を相互に駆動している。インバ
ータ162は出力用で、インバータ161の出力に接続
されており、非反転ビット線130の電位を出力する。
Transistor 11 forming a memory core
Reference numerals 0 and 111 are NMOS transistors, each source is connected to the low power supply potential (VSS), and each gate is connected to each word line 122, 123. The drain of the transistor 110 is connected to the non-inverting bit line 130, and when the word line 122 becomes H level and is selected, the transistor 110 becomes conductive due to the potential difference between the gate and the source, and the low power supply potential is applied to the bit line. 1
Tell 30 On the other hand, the drain of the transistor 111 is connected to the inverted bit line 131 and the word line 123.
Becomes H level and is selected, the transistor 111
Becomes conductive due to the potential difference between the gate and source,
The low power supply potential is transmitted to the inverted bit line 131. The two kinds of bit lines 130 and 131 are respectively connected to the inverters 161 and 160 which function as sense amplifiers, and the outputs of the respective inverters mutually drive the bit lines connected to the input of the other inverter. ing. The inverter 162 is for output, is connected to the output of the inverter 161, and outputs the potential of the non-inverting bit line 130.

【0012】次に、PMOSトランジスタ部分について
説明する。メモリコアを構成するトランジスタ112,
113はPチャネルMOSトランジスタであり、各々の
ソースは高電源電位(VDD)に接続されており、ゲー
トは各々のワード線120,121に接続されている。
トランジスタ112のドレインは反転ビット線133に
接続されており、ワード線120がLレベルになり、選
択された場合、トランジスタ112は、ゲート・ソース
間の電位差により導通状態となり、高電源電位を反転ビ
ット線133に伝える。一方、トランジスタ113のド
レインは非反転ビット線132に接続されており、ワー
ド線121がLレベルになり選択された場合、トランジ
スタ113はゲート・ソース間の電位差により導通状態
になり、高電源電位を非反転ビット線132に伝える。
2種類のビット線132,133は、それぞれセンスア
ンプの役割を成すインバータ164,163に接続され
ており、それぞれのインバータの出力は他方のインバー
タの入力に接続されているビット線を相互に駆動してい
る。インバータ166はインバータ出力用で、インバー
タ164の出力に接続されており、非反転ビット線13
2の電位を出力する。
Next, the PMOS transistor portion will be described. A transistor 112 forming a memory core,
Reference numeral 113 is a P-channel MOS transistor, each source is connected to the high power supply potential (VDD), and the gate is connected to each word line 120, 121.
The drain of the transistor 112 is connected to the inversion bit line 133, and when the word line 120 becomes L level and is selected, the transistor 112 becomes conductive due to the potential difference between the gate and the source, and the high power supply potential is inverted. Reach line 133. On the other hand, the drain of the transistor 113 is connected to the non-inverted bit line 132, and when the word line 121 becomes L level and is selected, the transistor 113 becomes conductive due to the potential difference between the gate and the source, and the high power supply potential is applied. Transfer to non-inverted bit line 132.
The two types of bit lines 132 and 133 are connected to the inverters 164 and 163, respectively, which serve as sense amplifiers, and the outputs of the respective inverters mutually drive the bit lines connected to the input of the other inverter. ing. The inverter 166 is for the inverter output, is connected to the output of the inverter 164, and is connected to the non-inverted bit line 13
The potential of 2 is output.

【0013】以下、動作を説明する。The operation will be described below.

【0014】今、ワード線122が選択されてHレベル
になったとする。他のワード線は非選択状態なので、ワ
ード線123はLレベル、PMOSトランジスタに接続
されているワード線120,121はHレベルに設定さ
れている。トランジスタ110は、ゲート・ソース間の
電位差により導通状態となり、ソースに接続されている
低電源電位を非反転ビット線130に伝える。このと
き、非反転ビット線130は、インバータ160により
高電源電位または低電源電位の何れかにドライブされて
いるが、仮に高電源電位にドライブされている場合で
も、トランジスタ110によって非反転ビット線130
の電位をLレベルに設定できるよう、インバータ160
の高電源電位側ドライブ能力をトランジスタ110より
下げている。この時点では、一時的に貫通電流が流れる
が、ビット線130にLレベルが伝わると、インバータ
161により反転ビット線131はHレベルにドライブ
され、インバータ160はLレベルを出力する。これに
より、貫通電流の経路が断たれる。ビット線130はL
レベルに、ビット線131はHレベルに確定し、インバ
ータ162はLレベルを出力する。
It is now assumed that the word line 122 is selected and becomes H level. Since the other word lines are in the non-selected state, the word line 123 is set to the L level and the word lines 120 and 121 connected to the PMOS transistors are set to the H level. The transistor 110 becomes conductive due to the potential difference between the gate and the source, and transmits the low power supply potential connected to the source to the non-inverting bit line 130. At this time, the non-inverting bit line 130 is driven to either the high power supply potential or the low power supply potential by the inverter 160, but even if it is driven to the high power supply potential, the non-inverting bit line 130 is driven by the transistor 110.
Inverter 160 so that the potential of
The drive capability on the high power supply potential side of the transistor is lower than that of the transistor 110. At this point, a through current temporarily flows, but when the L level is transmitted to the bit line 130, the inverted bit line 131 is driven to the H level by the inverter 161, and the inverter 160 outputs the L level. As a result, the path of the through current is cut off. Bit line 130 is L
The bit line 131 is fixed to the H level, and the inverter 162 outputs the L level.

【0015】次に、ワード線123が選択されてHレベ
ルになったとする。トランジスタ111は、ゲート・ソ
ース間の電位差により導通状態となり、ソースに接続さ
れている低電源電位を反転ビット線131に伝える。ビ
ット線131も、インバータ161により高電源電位ま
たは低電源電位の何れかにドライブされているが、仮に
高電源電位にドライブされている場合でも、トランジス
タ111によってビット線131の電位をLレベルに設
定できるよう、インバータ161の高電源電位側ドライ
ブ能力をトランジスタ111より下げている。前記と同
様の動作により、今度はビット線130がHレベルに、
ビット線131がLレベルに確定し、インバータ162
はHレベルを出力することになる。
Next, it is assumed that the word line 123 is selected and becomes H level. The transistor 111 becomes conductive due to the potential difference between the gate and the source, and transmits the low power supply potential connected to the source to the inversion bit line 131. The bit line 131 is also driven to either the high power supply potential or the low power supply potential by the inverter 161, but even if it is driven to the high power supply potential, the potential of the bit line 131 is set to the L level by the transistor 111. For this reason, the drive capability of the inverter 161 on the high power supply potential side is lower than that of the transistor 111. By the same operation as described above, the bit line 130 is set to the H level,
The bit line 131 is fixed to the L level, and the inverter 162
Will output an H level.

【0016】次に、ワード線120が選択されて、Lレ
ベルになったとする。トランジスタ112は、ゲート・
ソース間の電位差により導通状態となり、ソースに接続
されている高電源電位を反転ビット線133に伝える。
このとき、反転ビット線133は、インバータ164に
より高電源電位または低電源電位の何れかにドライブさ
れているが、仮に低電源電位にドライブされている場合
でも、トランジスタ112によって反転ビット線133
の電位をHレベルに設定できるよう、インバータ164
の低電源電位側ドライブ能力をトランジスタ112より
下げている。同様の動作により、ビット線132がLレ
ベルに、ビット線133がHレベルに確定し、インバー
タ166はLレベルを出力する。
Next, it is assumed that the word line 120 is selected and becomes L level. The transistor 112 has a gate
Due to the potential difference between the sources, it becomes conductive, and the high power supply potential connected to the source is transmitted to the inversion bit line 133.
At this time, the inverted bit line 133 is driven to either the high power supply potential or the low power supply potential by the inverter 164, but even if it is driven to the low power supply potential, the inverted bit line 133 is driven by the transistor 112.
Inverter 164 so that the potential of
Of the low power supply potential side is lower than that of the transistor 112. By the same operation, the bit line 132 is set to L level, the bit line 133 is set to H level, and the inverter 166 outputs L level.

【0017】最後に、ワード線121が選択されてLレ
ベルになったとする。トランジスタ113は、ゲート・
ソース間の電位差により導通状態となり、ソースに接続
されている高電源電位を非反転ビット線132に伝え
る。ビット線132も、インバータ163により高電源
電位または低電源電位の何れかにドライブされている
が、仮に低電源電位にドライブされている場合でも、ト
ランジスタ113によってビット線132の電位をHレ
ベルに設定できるよう、インバータ163の低電源電位
側ドライブ能力をトランジスタ113より下げている。
同様の動作により、今度は、ビット線132がHレベル
に、ビット線133がLレベルに確定し、インバータ1
66はHレベルを出力することになる。
Finally, it is assumed that the word line 121 is selected and becomes L level. The transistor 113 has a gate
Due to the potential difference between the sources, it becomes conductive, and the high power supply potential connected to the source is transmitted to the non-inverting bit line 132. The bit line 132 is also driven to either the high power supply potential or the low power supply potential by the inverter 163, but even if it is driven to the low power supply potential, the potential of the bit line 132 is set to the H level by the transistor 113. For this reason, the drive capability of the inverter 163 on the low power supply potential side is lower than that of the transistor 113.
By the same operation, this time, the bit line 132 is set to the H level, the bit line 133 is set to the L level, and the inverter 1
66 outputs H level.

【0018】[0018]

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、選択されたメモリコアトランジスタのゲート・ソ
ース間には必ず所定の電位差があり、ビット線には確実
に高電源電位または低電源電位が伝えられる。これによ
り、各々のビット線に接続されているセンスアンプ(イ
ンバータ)を構成するPMOSトランジスタまたはNM
OSトランジスタ何れかのソース・ゲート間にしきい値
電圧を越える電位が与えられ、各々のトランジスタは確
実に導通する。ビット線の振幅は低電源電位から高電源
電位まで振幅し、振幅電位差は、PMOSトランジスタ
及びNMOSトランジスタそれぞれのしきい値電圧より
も高ければよいことになる。すなわち、PMOSトラン
ジスタ及びNMOSトランジスタ何れか高い方のしきい
値電圧まで低電源電圧化が可能となる。
As described in detail above, according to the present invention, there is always a predetermined potential difference between the gate and the source of the selected memory core transistor, and the bit line is sure to have a high power supply potential or a low potential. Power supply potential is transmitted. As a result, a PMOS transistor or an NM forming a sense amplifier (inverter) connected to each bit line.
A potential exceeding the threshold voltage is applied between the source and the gate of any one of the OS transistors, and each transistor is surely turned on. The amplitude of the bit line varies from a low power supply potential to a high power supply potential, and the amplitude potential difference may be higher than the threshold voltage of each of the PMOS transistor and the NMOS transistor. That is, it is possible to reduce the power supply voltage to the higher threshold voltage of either the PMOS transistor or the NMOS transistor.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例の回路構成図である。FIG. 1 is a circuit configuration diagram of an embodiment of the present invention.

【図2】読み出し専用メモリの構成例を示すブロック図
である。
FIG. 2 is a block diagram showing a configuration example of a read-only memory.

【図3】従来の構成例を示す回路構成図である。FIG. 3 is a circuit configuration diagram showing a conventional configuration example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

110,111 NMOSメモリコアトランジスタ 112,113 PMOSメモリコアトランジスタ 120,121 PMOS用ワード線 122,123 NMOS用ワード線 130,131 NMOS用ビット線 132,133 PMOS用ビット線 160,161,163,164 センスアンプ用イン
バータ 162,166 インバータ
110,111 NMOS memory core transistor 112,113 PMOS memory core transistor 120,121 PMOS word line 122,123 NMOS word line 130,131 NMOS bit line 132,133 PMOS bit line 160,161,163,164 Sense Inverter for amplifier 162,166 Inverter

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 CMOSマスタスライス型半導体集積回
路装置のベーシックセル列上に構成する読み出し専用記
憶回路において、メモリコアを形成するトランジスタが
NMOSの場合はLレベルを、PMOSの場合はHレベ
ルを、各々のソースに接続し、ドレイン側を反転出力用
ビット線または非反転出力用ビット線の何れかに接続す
ることにより、HレベルまたはLレベルを記憶すること
を決定することを特徴とする半導体集積回路装置。
1. In a read-only memory circuit formed on a basic cell column of a CMOS master slice type semiconductor integrated circuit device, an L level is used when a transistor forming a memory core is NMOS, and an H level is used when it is PMOS. A semiconductor integrated device characterized in that it is decided to store an H level or an L level by connecting to each source and connecting the drain side to either an inverting output bit line or a non-inverting output bit line. Circuit device.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005071569A (en) * 2003-08-21 2005-03-17 Hynix Semiconductor Inc Phase delay compensation device in semiconductor element and method therefor

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