JPH06145362A - アミノホスファゼンポリマー、該ポリマーからなる架橋成形体の製造法、および眼用材料 - Google Patents
アミノホスファゼンポリマー、該ポリマーからなる架橋成形体の製造法、および眼用材料Info
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- JPH06145362A JPH06145362A JP4327461A JP32746192A JPH06145362A JP H06145362 A JPH06145362 A JP H06145362A JP 4327461 A JP4327461 A JP 4327461A JP 32746192 A JP32746192 A JP 32746192A JP H06145362 A JPH06145362 A JP H06145362A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 新規アミノホスファゼンポリマーを提供する
こと、またそのアミノホスファゼンポリマーを架橋する
ことにより、該ポリマーの持つ好ましい性質を維持しな
がらも、その機械的特性が向上した架橋成形体を製造す
る方法を提供すること、さらには上記ポリマーの成形物
またはその架橋成形体からなる眼用材料を提供すること
を目的とする。 【構成】 アルキル（炭素数１〜８）アミノ−ジアリル
アミノホスファゼンからなる単位を有する新規アミノホ
スファゼンポリマーである。このアミノホスファゼンポ
リマーの成形物を電子線照射すれば、アミノホスファゼ
ンポリマー架橋成形体が得られる。この成形物またはそ
の架橋成形体はコンタクトレンズなどの眼用材料として
用いられる。
こと、またそのアミノホスファゼンポリマーを架橋する
ことにより、該ポリマーの持つ好ましい性質を維持しな
がらも、その機械的特性が向上した架橋成形体を製造す
る方法を提供すること、さらには上記ポリマーの成形物
またはその架橋成形体からなる眼用材料を提供すること
を目的とする。 【構成】 アルキル（炭素数１〜８）アミノ−ジアリル
アミノホスファゼンからなる単位を有する新規アミノホ
スファゼンポリマーである。このアミノホスファゼンポ
リマーの成形物を電子線照射すれば、アミノホスファゼ
ンポリマー架橋成形体が得られる。この成形物またはそ
の架橋成形体はコンタクトレンズなどの眼用材料として
用いられる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なアミノホスファ
ゼンポリマーに関するものである。またそのアミノホス
ファゼンポリマーの架橋成形体、さらにはそのポリマー
の成形物またはその架橋成形体からなる眼用材料に関す
るものである。
ゼンポリマーに関するものである。またそのアミノホス
ファゼンポリマーの架橋成形体、さらにはそのポリマー
の成形物またはその架橋成形体からなる眼用材料に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】ポリオルガノホスファゼンは、エラスト
マー、生体材料、医薬品、液晶性ポリマー、ガス分離
膜、導電性材料などの用途への使用可能性があり、特に
エラストマーの用途についてはすでに現実に利用されて
いる。（たとえば、「ファインポリマー、１９８５．
４．１５」の５〜２１頁および「ファインポリマー、１
９８５．６．１」の２２〜３４頁の「無機高分子ホスフ
ァゼンの合成と応用」と題する論文参照）
マー、生体材料、医薬品、液晶性ポリマー、ガス分離
膜、導電性材料などの用途への使用可能性があり、特に
エラストマーの用途についてはすでに現実に利用されて
いる。（たとえば、「ファインポリマー、１９８５．
４．１５」の５〜２１頁および「ファインポリマー、１
９８５．６．１」の２２〜３４頁の「無機高分子ホスフ
ァゼンの合成と応用」と題する論文参照）
【０００３】特開昭６２−６２１７号公報には、化３ま
たは化４で示されるアミノホスファゼンポリマーからな
る眼用材料につき開示がある。ここでＲは、炭素数１〜
８のアルキル基またはアリル基、ｎは２５０〜２０００
０の整数である。
たは化４で示されるアミノホスファゼンポリマーからな
る眼用材料につき開示がある。ここでＲは、炭素数１〜
８のアルキル基またはアリル基、ｎは２５０〜２０００
０の整数である。
【０００４】
【化３】
【０００５】
【化４】
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上述のアミノホスファ
ゼンポリマーからなる眼用材料は、無色透明であるこ
と、実質的に非含水性材料であるため細菌による汚染性
が小さいこと、材質自体が柔軟であるため眼に装用した
とき装用感が好ましいこと、撥水性がシリコーンラバー
ほどは高くないことなどの性質があるので、特にコンタ
クトレンズ用に適していると思われるが、機械的特性が
不足するという問題点があるため、実用化にまでは至っ
ていない。
ゼンポリマーからなる眼用材料は、無色透明であるこ
と、実質的に非含水性材料であるため細菌による汚染性
が小さいこと、材質自体が柔軟であるため眼に装用した
とき装用感が好ましいこと、撥水性がシリコーンラバー
ほどは高くないことなどの性質があるので、特にコンタ
クトレンズ用に適していると思われるが、機械的特性が
不足するという問題点があるため、実用化にまでは至っ
ていない。
【０００７】本発明は、このような背景下において、新
規アミノホスファゼンポリマーを提供すること、またそ
のアミノホスファゼンポリマーを架橋することにより、
該ポリマーの持つ好ましい性質を維持しながらも、その
機械的特性が向上した架橋成形体を製造する方法を提供
すること、さらにはその上記ポリマーの成形物またはそ
の架橋成形体からなる眼用材料を提供することを目的と
するものである。
規アミノホスファゼンポリマーを提供すること、またそ
のアミノホスファゼンポリマーを架橋することにより、
該ポリマーの持つ好ましい性質を維持しながらも、その
機械的特性が向上した架橋成形体を製造する方法を提供
すること、さらにはその上記ポリマーの成形物またはそ
の架橋成形体からなる眼用材料を提供することを目的と
するものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明のアミノホスファ
ゼンポリマーの一つは、下記の一般式(1)
ゼンポリマーの一つは、下記の一般式(1)
【化５】 （ただし、R1は炭素数１〜８のアルキル基、ｎは１００
〜５０００の整数）で示されるものである。
〜５０００の整数）で示されるものである。
【０００９】本発明のアミノホスファゼンポリマーの他
の一つは、下記の一般式(2)
の一つは、下記の一般式(2)
【化６】 （ただし、R1, R2は炭素数１〜８のアルキル基、ｎ＋ｍ
は１００〜５０００の整数、 0.1≦ n／(n+m) ＜１）で
示されるものである。
は１００〜５０００の整数、 0.1≦ n／(n+m) ＜１）で
示されるものである。
【００１０】本発明のアミノホスファゼンポリマー架橋
成形体の製造法は、上記一般式(1)または(2) のアミノ
ホスファゼンポリマーの成形物を電子線照射することを
特徴とするものである。
成形体の製造法は、上記一般式(1)または(2) のアミノ
ホスファゼンポリマーの成形物を電子線照射することを
特徴とするものである。
【００１１】また本発明の眼用材料は、上記ポリマー成
形物またはその架橋成形体からなるものである。
形物またはその架橋成形体からなるものである。
【００１２】以下本発明を詳細に説明する。
【００１３】本発明のアミノホスファゼンポリマーの一
つは、上記の一般式(1) で示されるものである。このポ
リマーは、ジアリルアミノ基を有するユニットに着目す
ればホモポリマーであるということができる。
つは、上記の一般式(1) で示されるものである。このポ
リマーは、ジアリルアミノ基を有するユニットに着目す
ればホモポリマーであるということができる。
【００１４】R1は炭素数１〜８（望ましくは３〜８）の
アルキル基であり、アミン化反応時の取り扱いや成形物
としたときの柔軟性などを考慮すると、特に炭素数４〜
６のアルキル基（なかんずくｎ−ブチル基）が好まし
い。R1が水素であるときは成形が困難になり、炭素数が
８を越えるとアミン化反応が困難となる上、成形物とし
たときの柔軟性が過多となる。R1は分岐アルキル基であ
ってもよいが、直鎖アルキル基の方が反応性、成形物と
したときの機械的特性の点で好ましい。
アルキル基であり、アミン化反応時の取り扱いや成形物
としたときの柔軟性などを考慮すると、特に炭素数４〜
６のアルキル基（なかんずくｎ−ブチル基）が好まし
い。R1が水素であるときは成形が困難になり、炭素数が
８を越えるとアミン化反応が困難となる上、成形物とし
たときの柔軟性が過多となる。R1は分岐アルキル基であ
ってもよいが、直鎖アルキル基の方が反応性、成形物と
したときの機械的特性の点で好ましい。
【００１５】ｎは１００〜５０００（好ましくは２５０
〜２０００）の整数であり、ｎが１００未満では必要な
機械的特性が得られず、一方５０００を越えると成形が
困難となる。
〜２０００）の整数であり、ｎが１００未満では必要な
機械的特性が得られず、一方５０００を越えると成形が
困難となる。
【００１６】一般式(1) で表わされるアミノホスファゼ
ンポリマーのうち主なものとしては、たとえば、 ・ ポリ（ｎ−プロピルアミノ−ジアリルアミノホスフ
ァゼン）、 ・ ポリ（ｎ−ブチルアミノ−ジアリルアミノホスファ
ゼン）、 ・ ポリ（ｎ−ペンチルアミノ−ジアリルアミノホスフ
ァゼン）、 ・ ポリ（ｎ−ヘキシルアミノ−ジアリルアミノホスフ
ァゼン）、 ・ ポリ（ｎ−オクチルアミノ−ジアリルアミノホスフ
ァゼン）、 などがあげられる。
ンポリマーのうち主なものとしては、たとえば、 ・ ポリ（ｎ−プロピルアミノ−ジアリルアミノホスフ
ァゼン）、 ・ ポリ（ｎ−ブチルアミノ−ジアリルアミノホスファ
ゼン）、 ・ ポリ（ｎ−ペンチルアミノ−ジアリルアミノホスフ
ァゼン）、 ・ ポリ（ｎ−ヘキシルアミノ−ジアリルアミノホスフ
ァゼン）、 ・ ポリ（ｎ−オクチルアミノ−ジアリルアミノホスフ
ァゼン）、 などがあげられる。
【００１７】上記のアミノホスファゼンポリマーは、二
塩化窒化リン３量体(N=PCl2)3 を重合することにより-
(N=PCl2)n- で示されるポリマーを得た後、このポリマ
ーにジアリルアミンおよび炭素数１〜８の一級アルキル
アミンを反応させることにより製造される。
塩化窒化リン３量体(N=PCl2)3 を重合することにより-
(N=PCl2)n- で示されるポリマーを得た後、このポリマ
ーにジアリルアミンおよび炭素数１〜８の一級アルキル
アミンを反応させることにより製造される。
【００１８】二塩化窒化リン３量体の重合は、バルク重
合法や溶液重合法によりなされる。バルク重合の場合に
は、二塩化窒化リン３量体をアンプルに入れ、真空下に
高温で加熱重合する。この場合、触媒としてイオウ、エ
タノール、エーテル、安息香酸、パラキノン、スズなど
を共存させることが望ましい。溶液重合の場合には、二
塩化窒化リン３量体を適当な溶媒に溶解し、有機イオウ
化合物（テトラプロピルチウラムジサルファイド等）な
どの触媒の存在下に重合させる。
合法や溶液重合法によりなされる。バルク重合の場合に
は、二塩化窒化リン３量体をアンプルに入れ、真空下に
高温で加熱重合する。この場合、触媒としてイオウ、エ
タノール、エーテル、安息香酸、パラキノン、スズなど
を共存させることが望ましい。溶液重合の場合には、二
塩化窒化リン３量体を適当な溶媒に溶解し、有機イオウ
化合物（テトラプロピルチウラムジサルファイド等）な
どの触媒の存在下に重合させる。
【００１９】アミン化反応は、好適には、二塩化窒化リ
ンポリマーの溶媒溶液にジアリルアミンの溶媒溶液を加
えて室温ないし加温下に反応させ、さらに炭素数１〜８
の一級アルキルアミンの溶媒溶液を加えて室温ないし加
温下に反応させることにより達成できる。溶媒として
は、たとえば、エーテル類（テトラヒドロフラン等）、
芳香族炭化水素類（ベンゼン等）、含ハロゲン溶媒（ト
リクロロエタノール、トリフルオロエタノール等）、ケ
トン類、エステル類、アルコール類などが用いられる。
アミン化反応に際しては、脱塩化水素のため、三級アミ
ンを共存させることが好ましい。
ンポリマーの溶媒溶液にジアリルアミンの溶媒溶液を加
えて室温ないし加温下に反応させ、さらに炭素数１〜８
の一級アルキルアミンの溶媒溶液を加えて室温ないし加
温下に反応させることにより達成できる。溶媒として
は、たとえば、エーテル類（テトラヒドロフラン等）、
芳香族炭化水素類（ベンゼン等）、含ハロゲン溶媒（ト
リクロロエタノール、トリフルオロエタノール等）、ケ
トン類、エステル類、アルコール類などが用いられる。
アミン化反応に際しては、脱塩化水素のため、三級アミ
ンを共存させることが好ましい。
【００２０】本発明のアミノホスファゼンポリマーの他
の一つは、上記の一般式(2) で示されるものである。こ
のポリマーは、ジアリルアミノ基を有するユニットに着
目すればコポリマーであるということができる。
の一つは、上記の一般式(2) で示されるものである。こ
のポリマーは、ジアリルアミノ基を有するユニットに着
目すればコポリマーであるということができる。
【００２１】R1, R2は炭素数１〜８、望ましくは３〜
８、特に４〜６のアルキル基であり、ｎ＋ｍは１００〜
５０００の整数である。この範囲からはずれたときの問
題点は一般式(1) のポリマーの場合と同様である。
８、特に４〜６のアルキル基であり、ｎ＋ｍは１００〜
５０００の整数である。この範囲からはずれたときの問
題点は一般式(1) のポリマーの場合と同様である。
【００２２】上記の限定のほか、 0.1≦ n／(n+m) ＜１
を満足することも要求される。この規定は、ジアリルア
ミノ基を有するユニットの共重合割合が１０モル％以上
１００モル％未満であることを意味する。 n／(n+m) が
0.1未満では架橋にあずかる基が不足し、後述の電子線
照射によっても成形物の機械的特性の向上効果が不足す
る。なお n／(n+m) ＝１の場合は先に述べた一般式(1)
のポリマーと同一になるので、一般式(2) のポリマーか
らは除外する。
を満足することも要求される。この規定は、ジアリルア
ミノ基を有するユニットの共重合割合が１０モル％以上
１００モル％未満であることを意味する。 n／(n+m) が
0.1未満では架橋にあずかる基が不足し、後述の電子線
照射によっても成形物の機械的特性の向上効果が不足す
る。なお n／(n+m) ＝１の場合は先に述べた一般式(1)
のポリマーと同一になるので、一般式(2) のポリマーか
らは除外する。
【００２３】このようにして得られたアミノホスファゼ
ンポリマーから成形物を得るには、このアミノホスファ
ゼンポリマーの溶媒溶液を適当な支持体上に流すか型に
注型した後、乾燥すればよい。
ンポリマーから成形物を得るには、このアミノホスファ
ゼンポリマーの溶媒溶液を適当な支持体上に流すか型に
注型した後、乾燥すればよい。
【００２４】得られた成形物の機械的特性を上げるため
には、この成形物を電子線照射することが望ましい。電
子線の照射量は１〜２０Mrad（殊に２〜６Mrad）とする
ことが好ましく、１Mrad未満の照射量では架橋不充分の
ため機械的特性の向上が期待できず、一方２０Mradを越
えると架橋成形体が固くかつ脆くなって、かえって機械
的特性が低下するようになる。
には、この成形物を電子線照射することが望ましい。電
子線の照射量は１〜２０Mrad（殊に２〜６Mrad）とする
ことが好ましく、１Mrad未満の照射量では架橋不充分の
ため機械的特性の向上が期待できず、一方２０Mradを越
えると架橋成形体が固くかつ脆くなって、かえって機械
的特性が低下するようになる。
【００２５】一般式(1) または(2) で示されるアミノホ
スファゼンポリマーから得られる成形物、あるいはその
成形物を電子線照射することにより得られた架橋成形体
は、コンタクトレンズ、眼内レンズ、人工角膜などの眼
用材料として有用である。
スファゼンポリマーから得られる成形物、あるいはその
成形物を電子線照射することにより得られた架橋成形体
は、コンタクトレンズ、眼内レンズ、人工角膜などの眼
用材料として有用である。
【００２６】
【作用】式(1) または(2) で示される本発明のアミノホ
スファゼンポリマーに電子線照射すると、主鎖に結合し
ているジアリルアミノ基が閉環してピペリジン環を形成
すると共に、単官能モノマーのように重合性を有するよ
うになり、その結果そのポリマーまたは他のポリマーの
との間で架橋反応を生ずる。このような現象は、従来の
技術の項で述べた特開昭６２−６２１７号公報の化３ま
たは化４で示されるアミノホスファゼンポリマーでは、
たとえＲがアリル基であっても起こらない。
スファゼンポリマーに電子線照射すると、主鎖に結合し
ているジアリルアミノ基が閉環してピペリジン環を形成
すると共に、単官能モノマーのように重合性を有するよ
うになり、その結果そのポリマーまたは他のポリマーの
との間で架橋反応を生ずる。このような現象は、従来の
技術の項で述べた特開昭６２−６２１７号公報の化３ま
たは化４で示されるアミノホスファゼンポリマーでは、
たとえＲがアリル基であっても起こらない。
【００２７】なお、電子線照射に代えて紫外線照射を行
った場合には架橋反応がほとんど進まない。電子線照射
に代えて60Ｃo 照射を行った場合は、着色を生じたりす
るなどの不都合を生ずる。
った場合には架橋反応がほとんど進まない。電子線照射
に代えて60Ｃo 照射を行った場合は、着色を生じたりす
るなどの不都合を生ずる。
【００２８】電子線照射により得られた架橋成形体は、
照射前の成形体に比し機械的特性が改善される上、その
際にアミノホスファゼンポリマーの本来有する特質（無
色透明性、非含水性、柔軟性、抑制された撥水性）がほ
とんど損なわれないことが確認される。
照射前の成形体に比し機械的特性が改善される上、その
際にアミノホスファゼンポリマーの本来有する特質（無
色透明性、非含水性、柔軟性、抑制された撥水性）がほ
とんど損なわれないことが確認される。
【００２９】
【実施例】次に実施例をあげて本発明をさらに説明す
る。
る。
【００３０】〈アミノホスファゼンポリマーの合成〉 実施例１ 二塩化窒化リン３量体３０ｇ（日本精化株式会社製）と
精製イオウ（触媒） 0.1ｇをアンプルチューブに入れ、
１mmHg以下で１時間脱気した後、封管し、２７０〜２８
０℃で１時間加熱して重合させた。
精製イオウ（触媒） 0.1ｇをアンプルチューブに入れ、
１mmHg以下で１時間脱気した後、封管し、２７０〜２８
０℃で１時間加熱して重合させた。
【００３１】生成したポリマーをテトラヒドロフランに
溶解し、大量のｎ−ヘプタン中で析出させ、精製ポリマ
ーを得た。
溶解し、大量のｎ−ヘプタン中で析出させ、精製ポリマ
ーを得た。
【００３２】上記で得たポリマー２８ｇをテトラヒドロ
フラン３００mlに溶解した溶液に、ジアリルアミン３０
ml（ポリマー中の含有Ｃｌに対し１／２当量に相当）お
よびトリエチルアミン４８ml（0.35モル）をテトラヒド
ロフラン１００mlに溶解した溶液を滴下し、室温で２４
時間反応させた。
フラン３００mlに溶解した溶液に、ジアリルアミン３０
ml（ポリマー中の含有Ｃｌに対し１／２当量に相当）お
よびトリエチルアミン４８ml（0.35モル）をテトラヒド
ロフラン１００mlに溶解した溶液を滴下し、室温で２４
時間反応させた。
【００３３】この反応液に、ｎ−ブチルアミン３６ml
（0.36モル）およびトリエチルアミン５０mlをテトラヒ
ドロフラン５０mlに溶かした溶液を滴下し、２５℃で撹
拌下に２日間反応させた。
（0.36モル）およびトリエチルアミン５０mlをテトラヒ
ドロフラン５０mlに溶かした溶液を滴下し、２５℃で撹
拌下に２日間反応させた。
【００３４】この反応液から副生した塩酸塩をろ別し、
ろ液を９５％エタノール中に注いでポリマーを沈殿させ
た。
ろ液を９５％エタノール中に注いでポリマーを沈殿させ
た。
【００３５】このポリマーをテトラヒドロフランに溶か
し、エタノール溶媒で再沈、精製することにより、先の
一般式(1) のR1がｎ−ブチル基、ｎが約５００であるポ
リ（ｎ−ブチルアミノ−ジアリルアミノホスファゼン）
を得た。
し、エタノール溶媒で再沈、精製することにより、先の
一般式(1) のR1がｎ−ブチル基、ｎが約５００であるポ
リ（ｎ−ブチルアミノ−ジアリルアミノホスファゼン）
を得た。
【００３６】このポリマーのＮＭＲチャートを図１に、
ＩＲチャートを図２に示す。
ＩＲチャートを図２に示す。
【００３７】実施例２ ジアリルアミンの添加量を 7.5mlとし、ｎ−ブチルアミ
ンの添加量を５４mlとしたほかは実施例１を繰り返し
た。得られたポリマーは、先の式(1) のR1, R2がｎ−ブ
チル基、ｎが約１２５、ｍが約３７５、 n／(n+m) が0.
25であるｎ−ブチルアミノ−ジアリルアミノホスファゼ
ンとビス（ｎ−ブチルアミノ）ホスファゼンとの共重合
体である。
ンの添加量を５４mlとしたほかは実施例１を繰り返し
た。得られたポリマーは、先の式(1) のR1, R2がｎ−ブ
チル基、ｎが約１２５、ｍが約３７５、 n／(n+m) が0.
25であるｎ−ブチルアミノ−ジアリルアミノホスファゼ
ンとビス（ｎ−ブチルアミノ）ホスファゼンとの共重合
体である。
【００３８】実施例３ ジアリルアミンの添加量を 3.8mlとし、ｎ−ブチルアミ
ンの添加量を５７mlとしたほかは実施例１を繰り返し
た。得られたポリマーは、先の式(1) のR1, R2がｎ−ブ
チル基、ｎが約６０、ｍが約４４０、 n／(n+m) が0.12
であるｎ−ブチルアミノ−ジアリルアミノホスファゼン
とビス（ｎ−ブチルアミノ）ホスファゼンとの共重合体
である。
ンの添加量を５７mlとしたほかは実施例１を繰り返し
た。得られたポリマーは、先の式(1) のR1, R2がｎ−ブ
チル基、ｎが約６０、ｍが約４４０、 n／(n+m) が0.12
であるｎ−ブチルアミノ−ジアリルアミノホスファゼン
とビス（ｎ−ブチルアミノ）ホスファゼンとの共重合体
である。
【００３９】〈アミノホスファゼンポリマー成形物およ
びその架橋成形体の製造〉 実験例１ 実施例１で得たポリ（ｎ−ブチルアミノ−ジアリルアミ
ノホスファゼン）２ｇをテトラヒドロフラン５０mlに溶
かし、0.45μm のフィルターで加圧ろ過後、ろ液を直径
１１cmのシャーレに流し込み、風乾して厚さ２００μm
のフィルムを作製した。このフィルムに、岩崎電機株式
会社製の「エレクトロカーテンＣＢ−２５０−１５−１
８０Ｌ」を用いて電子線照射を行った。
びその架橋成形体の製造〉 実験例１ 実施例１で得たポリ（ｎ−ブチルアミノ−ジアリルアミ
ノホスファゼン）２ｇをテトラヒドロフラン５０mlに溶
かし、0.45μm のフィルターで加圧ろ過後、ろ液を直径
１１cmのシャーレに流し込み、風乾して厚さ２００μm
のフィルムを作製した。このフィルムに、岩崎電機株式
会社製の「エレクトロカーテンＣＢ−２５０−１５−１
８０Ｌ」を用いて電子線照射を行った。
【００４０】実験例２〜３ 実験例１と同様にして、実施例２および３で得たポリマ
ーについても、フィルムの作製、電子線照射を行った。
ーについても、フィルムの作製、電子線照射を行った。
【００４１】比較例１ 実験例１で得たフィルムを用い、電子線照射に代えて紫
外線照射を行った。照射量は６３４mj/m2 ×１０回とし
た。
外線照射を行った。照射量は６３４mj/m2 ×１０回とし
た。
【００４２】比較例２ 実験例１で得たフィルムを用い、電子線照射に代えて60
Ｃo による照射を８時間行った。
Ｃo による照射を８時間行った。
【００４３】〈照射条件および結果〉実験例１〜３およ
び比較例１〜２の照射条件と結果を表１にまとめて示
す。酸素透過係数の単位は、 10-11・cc・cm/cm2・sec
・mmHgである。
び比較例１〜２の照射条件と結果を表１にまとめて示
す。酸素透過係数の単位は、 10-11・cc・cm/cm2・sec
・mmHgである。
【００４４】
【表１】 引張弾性率 破断強度 破断伸び 酸素透過 (kg/cm2) (kg/cm2) (%) 係数 実験例１ 電子線 照射せず 400 17 7 52 電子線 2.3Mrad 770 45 64 26 電子線 7.6Mrad 1110 67 8 37 電子線 22.8Mrad （割れて試験片作製不能のため測定せず） 実験例２ 電子線 照射せず 500 34 38 54 電子線 2.3Mrad 690 35 79 40 電子線 4.3Mrad 670 43 86 23 実験例３ 電子線 照射せず 320 10 74 56 電子線 2.3Mrad 490 24 122 48 電子線 4.3Mrad 450 38 116 49 比較例１ 紫外線 634mj/m2×10回 400 15 8 −* 比較例２ 60Ｃo ８hr 590 38 282 −** （注）* 機械的特性が上がらないため、酸素透過係数
は未測定。** 照射フィルムが黄褐色に着色するため、酸素透過係
数は未測定。
は未測定。** 照射フィルムが黄褐色に着色するため、酸素透過係
数は未測定。
【００４５】表１から、適度の電子線照射により機械的
特性が向上することがわかる。なお電子線照射により酸
素透過係数が低下するが、この程度の低下は眼用材料と
して用いたときに特に支障とはならない。
特性が向上することがわかる。なお電子線照射により酸
素透過係数が低下するが、この程度の低下は眼用材料と
して用いたときに特に支障とはならない。
【００４６】
【発明の効果】式(1) または(2) で示される本発明のア
ミノホスファゼンポリマーは、ポリマー分子内に主鎖に
結合するジアリルアミノ基を有しているため、電子線照
射により架橋反応して機械的特性が向上し、しかもその
際にアミノホスファゼンポリマーの本来有する特質（無
色透明性、非含水性、柔軟性、抑制された撥水性）がほ
とんど損なわれない。よってこの架橋成形体は、コンタ
クトレンズをはじめとする眼用材料として好ましい性質
を有する。電子線照射しない成形物も眼用材料として用
いることができる。
ミノホスファゼンポリマーは、ポリマー分子内に主鎖に
結合するジアリルアミノ基を有しているため、電子線照
射により架橋反応して機械的特性が向上し、しかもその
際にアミノホスファゼンポリマーの本来有する特質（無
色透明性、非含水性、柔軟性、抑制された撥水性）がほ
とんど損なわれない。よってこの架橋成形体は、コンタ
クトレンズをはじめとする眼用材料として好ましい性質
を有する。電子線照射しない成形物も眼用材料として用
いることができる。
【図１】実施例１で得られたポリマーのＮＭＲチャート
である。
である。
【図２】実施例１で得られたポリマーのＩＲチャートで
ある。
ある。
Claims (5)
- 【請求項１】下記の一般式(1) 【化１】 （ただし、R1は炭素数１〜８のアルキル基、ｎは１００
〜５０００の整数）で示されるアミノホスファゼンポリ
マー。 - 【請求項２】下記の一般式(2) 【化２】 （ただし、R1, R2は炭素数１〜８のアルキル基、ｎ＋ｍ
は１００〜５０００の整数、 0.1≦ n／(n+m) ＜１）で
示されるアミノホスファゼンポリマー。 - 【請求項３】請求項１または２のアミノホスファゼンポ
リマーの成形物を電子線照射することを特徴とするアミ
ノホスファゼンポリマー架橋成形体の製造法。 - 【請求項４】照射量が１〜２０Mradである請求項３記載
の製造法。 - 【請求項５】請求項１または２のポリマーの成形物また
は請求項３の架橋成形体からなる眼用材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4327461A JPH06145362A (ja) | 1992-11-11 | 1992-11-11 | アミノホスファゼンポリマー、該ポリマーからなる架橋成形体の製造法、および眼用材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4327461A JPH06145362A (ja) | 1992-11-11 | 1992-11-11 | アミノホスファゼンポリマー、該ポリマーからなる架橋成形体の製造法、および眼用材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06145362A true JPH06145362A (ja) | 1994-05-24 |
Family
ID=18199426
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4327461A Withdrawn JPH06145362A (ja) | 1992-11-11 | 1992-11-11 | アミノホスファゼンポリマー、該ポリマーからなる架橋成形体の製造法、および眼用材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06145362A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111370765A (zh) * | 2020-03-14 | 2020-07-03 | 北京化工大学 | 一种成膜性能优异的环醚磷腈聚合物电解质膜的制备方法 |
-
1992
- 1992-11-11 JP JP4327461A patent/JPH06145362A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111370765A (zh) * | 2020-03-14 | 2020-07-03 | 北京化工大学 | 一种成膜性能优异的环醚磷腈聚合物电解质膜的制备方法 |
| CN111370765B (zh) * | 2020-03-14 | 2021-07-20 | 北京化工大学 | 一种成膜性能优异的环醚磷腈聚合物电解质膜的制备方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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