JPH06132350A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JPH06132350A
JPH06132350A JP27845192A JP27845192A JPH06132350A JP H06132350 A JPH06132350 A JP H06132350A JP 27845192 A JP27845192 A JP 27845192A JP 27845192 A JP27845192 A JP 27845192A JP H06132350 A JPH06132350 A JP H06132350A
Authority
JP
Japan
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lead
bump
ball
semiconductor device
bumps
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP27845192A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shunichi Kuramoto
俊一 藏本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyushu Fujitsu Electronics Ltd
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Kyushu Fujitsu Electronics Ltd
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Publication of JPH06132350A publication Critical patent/JPH06132350A/en
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  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

PURPOSE:To prevent the generation of a short circuit between the adjacent electrodes due to the deformation of a ball bump in a semiconductor device with which an inner lead bonding operation is conducted on the ball bump on an element electrode. CONSTITUTION:An inner lead 2 is directly connected to the ball-like bump 5 to be formed on a plurality of electrode parts of a semiconductor element, and this lead 2 is packaged in such a manner that it is led to outside in this semiconductor device. An irregular part is formed on the surface where the lead 2 and the bump 5 are connected.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置に係り、特
にインナーリードボンディングを行う半導体装置に関す
る。近年、半導体装置の高集積化は益々進み、電極間が
狭いもの、また薄型化をはかるために柔らかいフレキシ
ブル板上に半導体素子を搭載するものもでてきている。
このような場合、半導体素子のパッドとリード間はワイ
ヤボンディングでの接続は困難であるため、これに代わ
りTABテープのインナーリードボンディング法が用い
られるようになってきた。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly to a semiconductor device for inner lead bonding. In recent years, the degree of integration of semiconductor devices has been increasing more and more, and some of them have narrow gaps between electrodes, and some of them have semiconductor elements mounted on a flexible flexible plate in order to reduce the thickness.
In such a case, since it is difficult to connect the pads of the semiconductor element to the leads by wire bonding, the inner lead bonding method of the TAB tape has been used instead.

【0002】インナーリードボンディング法とは、半導
体素子の電極部分に金等でバンプを形成し、この上にリ
ードを配置して加熱、加圧することでリードを直接バン
プに接続するものである。
The inner lead bonding method is a method in which bumps are formed on the electrode portions of a semiconductor element with gold or the like, and the leads are arranged on the bumps and heated and pressed to directly connect the leads to the bumps.

【0003】[0003]

【従来の技術】従来、インナーリードボンディングにお
ける半導体素子のバンプの形成は金等のメッキにより行
っていた。しかしながら、多品種少量生産のゲートアレ
イ等においては、このバンプを形成するのに品種毎にマ
スクから製造する必要があり、その手間及びコストは莫
大なものとなっていた。
2. Description of the Related Art Conventionally, bumps of a semiconductor element in inner lead bonding have been formed by plating with gold or the like. However, in the case of a gate array or the like that produces a large number of products in small quantities, it is necessary to manufacture each bump from a mask in order to form the bumps, and the labor and cost thereof are enormous.

【0004】そこで、比較的簡単に形成できるボールパ
ンプを用いる技術が注目されている。これは、半導体素
子の電極の部分に球状のバンプを形成するもので、従来
のワイヤボンディングの技術を応用したものである。以
下図面により、ボールバンプを用いインナーリードボン
ディングした従来の半導体装置の説明をする。
Therefore, a technique using a ball pump which can be formed relatively easily is drawing attention. This is for forming a spherical bump on the electrode portion of a semiconductor element, and is a conventional wire bonding technique applied. A conventional semiconductor device in which inner lead bonding is performed using ball bumps will be described below with reference to the drawings.

【0005】まず、ボールバンプの形成であるが、これ
は従来のワイヤボンディング技術と同様で、図6(A)
に示すように金ワイヤ10を供給するキャピラリー1を
用いる。トーチ電極11によりキャピラリー9の先端に
導出するワイヤ10との間にスパークを起こしてワイヤ
先端を図6(B)に示す如く球状(ボール12)にす
る。このボール12を図6(C)のように半導体素子1
の電極上にボンディングして図6(D)の如きボールバ
ンプ13を形成する。
First, the formation of ball bumps, which is the same as the conventional wire bonding technique, is shown in FIG.
A capillary 1 for supplying a gold wire 10 is used as shown in FIG. A spark is generated between the torch electrode 11 and the wire 10 led to the tip of the capillary 9 to make the tip of the wire spherical (ball 12) as shown in FIG. 6 (B). This ball 12 is attached to the semiconductor element 1 as shown in FIG.
Bonding is performed on the electrodes of to form ball bumps 13 as shown in FIG.

【0006】一方、インナーリードは打ち抜き形成され
フレキシブル板に固定されることで、TABテープ状を
なしている。(図示なし) このTABテープを供給しながら、図7の如く半導体素
子1をヒータ16を内蔵する支持台15上に配置し、イ
ンナーリード14とバンプ13とを対応させて、ヒータ
18を内蔵するボンディングツール17により加圧及び
加熱することで図8に示すような接続状態とする。尚、
図8は上面図であり、TABテープ19にリード14が
固定されており、半導体素子1をリード14と接続する
ことで一体化されている。但し、三方のリードは省略し
ている。
On the other hand, the inner lead is punched and fixed to the flexible plate to form a TAB tape. (Not shown) While supplying this TAB tape, the semiconductor element 1 is arranged on the support base 15 containing the heater 16 as shown in FIG. 7, and the inner lead 14 and the bump 13 are made to correspond to each other and the heater 18 is incorporated. By applying pressure and heat with the bonding tool 17, a connected state as shown in FIG. 8 is obtained. still,
FIG. 8 is a top view, in which the leads 14 are fixed to the TAB tape 19 and are integrated by connecting the semiconductor element 1 to the leads 14. However, the leads on the three sides are omitted.

【0007】このようなTABテープ19を所定位置で
切断し、アウターリードボンディング後に図9に示すよ
うに樹脂20で封止することでリード21が外部に導出
されるようにパッケージング化されている。
Such a TAB tape 19 is cut at a predetermined position, and after outer lead bonding is sealed with a resin 20 as shown in FIG. 9, leads 21 are packaged so as to be led out to the outside. .

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】インナーリードとバン
プとの接続部分の拡大断面図を図10に示す。ボールバ
ンプは、メッキバンプに比べ、金純度が高くなり柔らか
で、球状をしているために、リードとの接続の際に変形
し易い。特に、リードとバンプとの間に位置ずれが生じ
たような場合には、図10(A)に示すようにリード2
がバンプ5の傾斜部分に接続され、リード2が傾斜部分
を滑り、それによりバンプ5を隣の接続部側へ押し潰し
隣の電極4との接触によりショートしたり、或いは図1
0(B)に示すようにリード2が半導体素子表面の近く
まで沈み込み半導体素子のエッジ部分に接触してショー
トする等の恐れがある。
FIG. 10 shows an enlarged cross-sectional view of the connecting portion between the inner lead and the bump. The ball bump has a higher gold purity and is softer than the plated bump, and since it has a spherical shape, it is easily deformed when connected to a lead. In particular, when the lead and the bump are misaligned with each other, as shown in FIG.
Is connected to the inclined portion of the bump 5, and the lead 2 slides on the inclined portion, thereby crushing the bump 5 to the adjacent connection portion side and short-circuiting due to contact with the adjacent electrode 4, or
As shown in FIG. 0 (B), the lead 2 may sink close to the surface of the semiconductor element and contact the edge portion of the semiconductor element to cause a short circuit.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明の半導体装置は、半導体素子1の複数の電極部分4に
形成されるボール状のバンプ5に対して、インナーリー
ド2が直接接続され、このリード2が外部へ導出するよ
うにパッケージング化されている半導体装置であり、前
記リード2の前記バンプ5と接続される面に窪み3、貫
通穴6、又はのこぎり歯7による凹凸部が形成されてい
ることを特徴とする。
In the semiconductor device of the present invention for solving the above problems, the inner leads 2 are directly connected to the ball-shaped bumps 5 formed on the plurality of electrode portions 4 of the semiconductor element 1. In the semiconductor device in which the lead 2 is packaged so as to be led out to the outside, a recessed portion, a through hole 6, or an uneven portion due to a saw tooth 7 is formed on a surface of the lead 2 connected to the bump 5. It is characterized by being formed.

【0010】[0010]

【作用】上記の如き本発明によると、リードの窪み、貫
通穴又はのこぎりはが柔らかいボールバンプにしっかり
くいつき、インナーリードの位置ずれが生じることはな
い。従って、バンプが押し潰されることもなく、ショー
トの可能性も小さくなる。
According to the present invention as described above, the depression, the through hole or the saw of the lead firmly sticks to the soft ball bump, and the inner lead is not displaced. Therefore, the bumps are not crushed and the possibility of short circuit is reduced.

【0011】[0011]

【実施例】以下に、本発明の半導体装置の具体的な構成
について説明する。半導体素子に対するバンプ形成は、
従来の技術の項(図6)でも説明したとおり、ワイヤボ
ンディング技術を応用する。金ワイヤ10を供給するキ
ャピラリー9の先端部分下にトーチ電極11を配置し、
キャピラリー9の先端から導出するワイヤ10との間に
スパークを起こすことでワイヤ先端を球状(ボール1
2)にする。
EXAMPLE A specific structure of the semiconductor device of the present invention will be described below. Bump formation for semiconductor elements is
As described in the section of the conventional technique (FIG. 6), the wire bonding technique is applied. The torch electrode 11 is arranged below the tip of the capillary 9 for supplying the gold wire 10,
A spark is generated between the tip of the capillary 9 and the wire 10 led out from the tip of the capillary 9 so that the tip of the wire is spherical (ball 1).
Set to 2).

【0012】そして、半導体素子1をキャピラリーの下
に移送して、キャピラリーを下降させることでボールを
半導体素子3の電極上にボンディングする。このボンデ
ィングは2度それぞれ位置をずらして行われ、2度目の
後、ワイヤ10が切断される。但し、2度目のボンディ
ングはワイヤ先端にボールを形成することなく行われ
る。このようにボンディングするとボールバンプ5はキ
ャピラリー1先端の形状にも依存して、図2(A)に示
されるように段状に形成される。
Then, the semiconductor element 1 is transferred below the capillary, and the ball is bonded onto the electrode of the semiconductor element 3 by lowering the capillary. This bonding is performed twice by shifting their positions, and after the second bonding, the wire 10 is cut. However, the second bonding is performed without forming a ball at the tip of the wire. With this bonding, the ball bumps 5 are formed in a stepped shape as shown in FIG. 2A depending on the shape of the tip of the capillary 1.

【0013】本発明の一実施例は、このバンプ形状を利
用したものである。即ち、リードの接続部の形状をバン
プ形状に対応させるもので、図1、図2(A)に示すよ
うにバンプ5の上側の凸部より少し大きめの窪み3を形
成しておく。この窪み3はリードの打ち抜き形成の時に
突出する型を配置しておくことで同時に形成することが
できる。このような窪み3を備えるリードをフレキシブ
ル板に固定してTABテープ状とする。
One embodiment of the present invention utilizes this bump shape. That is, the shape of the connecting portion of the lead is made to correspond to the shape of the bump, and as shown in FIGS. 1 and 2A, the depression 3 which is slightly larger than the convex portion on the upper side of the bump 5 is formed. The recess 3 can be formed at the same time by arranging a die that protrudes when the lead is punched out. A lead having such a depression 3 is fixed to a flexible plate to form a TAB tape.

【0014】尚、インナーリードは、銅或いは鉄等のベ
ース材の表面に錫メッキを施したものである。このTA
Bテープを供給しながら、図7により説明したとおり、
半導体素子を所定位置に配置し、インナーリードとバン
プとを対応させて、加圧及び加熱することで接続する。
The inner lead is formed by tinning the surface of a base material such as copper or iron. This TA
While supplying the B tape, as described with reference to FIG.
The semiconductor element is arranged at a predetermined position, the inner lead and the bump are made to correspond to each other, and they are connected by applying pressure and heat.

【0015】この接続は、バンプ材料である金と、リー
ドにメッキされる錫とが共晶状態となることで実現す
る。本実施例の場合、図2(B)に接続状態を示すが、
バンプとリードとがかみ合うことになるため、リードが
ずれたり、傾いて接続されることがなく、バンプが偏っ
て変形することはない。
This connection is realized by making the gold, which is the bump material, and the tin plated on the leads into a eutectic state. In the case of this embodiment, the connection state is shown in FIG.
Since the bumps and the leads are engaged with each other, the leads are not displaced or connected at an angle, and the bumps are not deformed unevenly.

【0016】また図3に、第二実施例のリード斜視図を
示すが、このように示すように窪みの代わりにバンプ形
状に対応する貫通穴6を形成しても同様の効果がある。
この貫通穴6は打ち抜き、又はエッチングにより形成で
きる。次に、リード形状を変えた第三実施例を図4によ
り説明する。図4は、リードの接続部形状をのこぎり歯
状にしたもので、図4(A)はリード斜視図、図4
(B)はバンプとの接触状態を示す断面図である。この
例では、角度を鋭角にした場合、特にバンプにしっかり
とくいつき、位置ずれが生じることはない。
FIG. 3 is a perspective view of the lead of the second embodiment, but the same effect can be obtained by forming the through hole 6 corresponding to the bump shape instead of the depression as shown in FIG.
This through hole 6 can be formed by punching or etching. Next, a third embodiment in which the lead shape is changed will be described with reference to FIG. 4A and 4B show a sawtooth shape of the connecting portion of the lead, and FIG. 4A is a perspective view of the lead.
(B) is a cross-sectional view showing a contact state with a bump. In this example, when the angle is set to an acute angle, the bumps are firmly stuck to the bumps and the positional deviation does not occur.

【0017】更に、第四実施例を図5に示す。図5はリ
ード斜視図であり、窪み3aを設けたリード2cの接続
部における厚さを厚くしたものであり、特にリードの他
の部分よりも下方へ張り出すようにしたものである。こ
れは、窪み3aを設けた分、リードがバンプにくいこ
み、半導体素子表面に沈み込むことで素子のエッジ等に
リードが触れることを防止するものである。これは、窪
みの場合のみではなく、貫通穴、のこぎり歯の場合も同
様である。
Furthermore, a fourth embodiment is shown in FIG. FIG. 5 is a perspective view of the lead, in which the thickness of the lead 2c provided with the recess 3a is increased at the connecting portion, and particularly, the lead 2c is projected downward from other portions. This is to prevent the leads from coming into contact with the edge of the device by sinking the leads into the bumps due to the provision of the recess 3a and sinking on the surface of the semiconductor device. This is true not only in the case of the depression but also in the case of the through hole and the saw tooth.

【0018】このように、リードの接続部に肉厚部を形
成することで、ショート発生の可能性を更に小さくする
ことができる。尚、このリード厚さを変化させることに
ついても、リードの打ち抜き形成時に同時に行うことが
できる。
As described above, by forming the thick portion in the connecting portion of the lead, the possibility of occurrence of short circuit can be further reduced. The lead thickness can be changed at the same time when the lead is punched and formed.

【0019】[0019]

【効果】本発明の半導体装置によれば、簡単な従来のワ
イヤボンディング技術を利用して形成したボールバンプ
に対して、リードの接続を確実且つ安定して行うことが
可能となり、バンプの偏った変形もなく、ショートの発
生を防止することができる。
According to the semiconductor device of the present invention, leads can be reliably and stably connected to ball bumps formed by using a simple conventional wire bonding technique, and the bumps are biased. It is possible to prevent the occurrence of short circuit without deformation.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の半導体装置におけるリードとボールバ
ンプとの接続部を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing a connecting portion between a lead and a ball bump in a semiconductor device of the present invention.

【図2】本発明の半導体装置におけるリードとボールバ
ンプとの接続部を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a connecting portion between a lead and a ball bump in the semiconductor device of the present invention.

【図3】本発明の第二実施例のリード形状を示す斜視図
である。
FIG. 3 is a perspective view showing a lead shape according to a second embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第三実施例のリード形状を示す斜視
図、及び断面図である。
FIG. 4 is a perspective view and a sectional view showing a lead shape according to a third embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第四実施例のリード形状を示す斜視図
である。
FIG. 5 is a perspective view showing a lead shape according to a fourth embodiment of the present invention.

【図6】ボールバンプの形成方法を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view showing a method of forming ball bumps.

【図7】リードとボールバンプの接続工程を説明する断
面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view illustrating a step of connecting leads and ball bumps.

【図8】半導体素子がリードに接続されTABテープ状
態とされた平面図である。
FIG. 8 is a plan view in which a semiconductor element is connected to leads and is in a TAB tape state.

【図9】本発明で対象とするパッケージングされた半導
体装置断面図である。
FIG. 9 is a cross-sectional view of a packaged semiconductor device targeted by the present invention.

【図10】従来の課題を説明するための接続部断面図で
ある。
FIG. 10 is a sectional view of a connecting portion for explaining a conventional problem.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1──半導体素子 2──リード 3──窪み 4──電極 5──ボールバンプ 6──貫通穴 7──のこぎり歯 8──肉厚部 1-Semiconductor element 2-Lead 3-Recess 4-Electrode 5-Ball bump 6-Through hole 7-Saw tooth 8-Thick section

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】半導体素子の複数の電極部分に形成される
ボール状のバンプ(5)に対して、インナーリード
(2)が直接接続され、このリード(2)が外部へ導出
するようにパッケージング化される半導体装置であり、 前記リード(2)の前記バンプ(5)と接続される面に
該バンプと嵌合する凹部が形成されていることを特徴と
する半導体装置。
1. A package in which an inner lead (2) is directly connected to a ball-shaped bump (5) formed on a plurality of electrode portions of a semiconductor element, and the lead (2) is led out to the outside. The semiconductor device is characterized in that a recess to be fitted with the bump is formed on a surface of the lead (2) connected to the bump (5).
【請求項2】前記リード(2)の凹部は、前記バンプ
(5)の形状に対応する窪み(3)又は貫通穴(6)に
より形成されていることを特徴とする請求項1記載の半
導体装置。
2. The semiconductor according to claim 1, wherein the recess of the lead (2) is formed by a recess (3) or a through hole (6) corresponding to the shape of the bump (5). apparatus.
JP27845192A 1992-10-16 1992-10-16 Semiconductor device Withdrawn JPH06132350A (en)

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JP27845192A JPH06132350A (en) 1992-10-16 1992-10-16 Semiconductor device

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JP27845192A JPH06132350A (en) 1992-10-16 1992-10-16 Semiconductor device

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