JPH06126604A - 研磨方法及び装置 - Google Patents
研磨方法及び装置Info
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- JPH06126604A JPH06126604A JP27823992A JP27823992A JPH06126604A JP H06126604 A JPH06126604 A JP H06126604A JP 27823992 A JP27823992 A JP 27823992A JP 27823992 A JP27823992 A JP 27823992A JP H06126604 A JPH06126604 A JP H06126604A
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 研磨面に双列角型台地部を形成したワークの
各台地部周辺エッジを全周に亘って面取り研磨して双球
面加工する研磨方法及び装置を提供する。 【構成】 方法は、双列角型台地部を形成したワークの
各台地部周辺エッジを面取り研磨して双球面加工するに
あたり、弾性取り付け治具にワークを取り付け、その姿
勢を検知しながら研磨盤に対し台地部頂端面を平行保持
した姿勢で台地部を研磨盤に加圧接触させ、取り付け治
具及び研磨盤を回転させてワークを研磨する。装置は、
回転自在の研磨盤7と、弾性取り付け部材10に、台地部1
d、1eを形成したワーク1が研磨面を表向きに、且つ、研
磨盤7に対し台地部頂端面を平行保持して取り付けら
れ、台地部1d、1eが研磨盤7に加圧接触回転してワーク1
を双球面研磨加工する回転自在で姿勢調整可能な取り付
け治具8と、ワーク姿勢を検知して台地部1d、1eと研磨盤
7との平行姿勢を検出するセンサ手段9とを具備する。
各台地部周辺エッジを全周に亘って面取り研磨して双球
面加工する研磨方法及び装置を提供する。 【構成】 方法は、双列角型台地部を形成したワークの
各台地部周辺エッジを面取り研磨して双球面加工するに
あたり、弾性取り付け治具にワークを取り付け、その姿
勢を検知しながら研磨盤に対し台地部頂端面を平行保持
した姿勢で台地部を研磨盤に加圧接触させ、取り付け治
具及び研磨盤を回転させてワークを研磨する。装置は、
回転自在の研磨盤7と、弾性取り付け部材10に、台地部1
d、1eを形成したワーク1が研磨面を表向きに、且つ、研
磨盤7に対し台地部頂端面を平行保持して取り付けら
れ、台地部1d、1eが研磨盤7に加圧接触回転してワーク1
を双球面研磨加工する回転自在で姿勢調整可能な取り付
け治具8と、ワーク姿勢を検知して台地部1d、1eと研磨盤
7との平行姿勢を検出するセンサ手段9とを具備する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は研磨方法及び装置に関
し、詳しくは研磨面に双列角型台地部を形成した被研磨
用ワークの上記各台地部周辺エッジを全周に亘ってそれ
ぞれ面取り研磨して双球面加工する研磨方法及び装置に
関するものである。
し、詳しくは研磨面に双列角型台地部を形成した被研磨
用ワークの上記各台地部周辺エッジを全周に亘ってそれ
ぞれ面取り研磨して双球面加工する研磨方法及び装置に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】研磨面に双列角型台地部を形成したワー
クの一例としてＦＤＤ装置等に使用される磁気ヘッドの
構造例を、図３乃至図５を参照して次に説明する。図３
と図４は研磨加工前の磁気ヘッド（１）の斜視図及び分
解斜視図、図５は研磨加工後の磁気ヘッド（１）の使用
例を示す側面図で、上記磁気ヘッド（１）は、図３及び
図４に示すように、強磁性材からなるコアチップ（２）
の両側面に非磁性材からなる一対の第１、第２スライダ
（３）（４）を接着固定して頂端面に双列角型台地部
（１ａ）（１ｂ）を形成したものである。上記コアチッ
プ（２）は頂端面に磁気ギャップ（Ｇ）を有する。第１
スライダ部（３）は、図４に示すように、断面略Ｌ字状
非磁性体の上面に棒状角型台地部（３ａ）を有してな
り、台地部（３ａ）の頂端面はコアチップ（２）の頂端
面と面一に形成され、コアチップ（２）に直接、接着さ
れる。第２スライダ部（４）は断面略Ｌ字状非磁性体の
上面にエア抜き溝（４ａ）を挟んで平行な棒状角型台地
部（４ｂ）（１ｂ）を有してなり、台地部（４ｂ）（４
ｃ）の各頂端面はコアチップ（２）の頂端面と面一に形
成され、台地部（４ｂ）はコアチップ（２）に直接、接
着される。そこで、コアチップ（２）の両側面に一対の
第１、第２スライダ（３）（４）を接着固定すると、台
地部（３ａ）（４ｂ）とコアチップ（２）が一方の角型
台地部（１ａ）を形成し、第２スライダ（４）の台地部
（１ｂ）とで双列角型台地部（１ａ）（１ｂ）を形成し
てその頂端面に磁気記録媒体が摺接する。
クの一例としてＦＤＤ装置等に使用される磁気ヘッドの
構造例を、図３乃至図５を参照して次に説明する。図３
と図４は研磨加工前の磁気ヘッド（１）の斜視図及び分
解斜視図、図５は研磨加工後の磁気ヘッド（１）の使用
例を示す側面図で、上記磁気ヘッド（１）は、図３及び
図４に示すように、強磁性材からなるコアチップ（２）
の両側面に非磁性材からなる一対の第１、第２スライダ
（３）（４）を接着固定して頂端面に双列角型台地部
（１ａ）（１ｂ）を形成したものである。上記コアチッ
プ（２）は頂端面に磁気ギャップ（Ｇ）を有する。第１
スライダ部（３）は、図４に示すように、断面略Ｌ字状
非磁性体の上面に棒状角型台地部（３ａ）を有してな
り、台地部（３ａ）の頂端面はコアチップ（２）の頂端
面と面一に形成され、コアチップ（２）に直接、接着さ
れる。第２スライダ部（４）は断面略Ｌ字状非磁性体の
上面にエア抜き溝（４ａ）を挟んで平行な棒状角型台地
部（４ｂ）（１ｂ）を有してなり、台地部（４ｂ）（４
ｃ）の各頂端面はコアチップ（２）の頂端面と面一に形
成され、台地部（４ｂ）はコアチップ（２）に直接、接
着される。そこで、コアチップ（２）の両側面に一対の
第１、第２スライダ（３）（４）を接着固定すると、台
地部（３ａ）（４ｂ）とコアチップ（２）が一方の角型
台地部（１ａ）を形成し、第２スライダ（４）の台地部
（１ｂ）とで双列角型台地部（１ａ）（１ｂ）を形成し
てその頂端面に磁気記録媒体が摺接する。
【０００３】又、磁気ヘッド（１）は、図５（ａ）
（ｂ）に示すように、台地部（１ａ）（１ｂ）の頂端面
における外側周辺エッジを面取り研磨して単球面加工
し、テーパ状面取り部（１ｃ）を形成して磁気記録媒体
の損傷を防止している。
（ｂ）に示すように、台地部（１ａ）（１ｂ）の頂端面
における外側周辺エッジを面取り研磨して単球面加工
し、テーパ状面取り部（１ｃ）を形成して磁気記録媒体
の損傷を防止している。
【０００４】上記磁気ヘッド（１）を使用するに際して
は、図５（ａ）（ｂ）に示すように、まず一対の磁気ヘ
ッド（１）（１）をそれぞれジンバルプレート（５）
（５）に取り付け、媒体摺接面となる台地部（１ａ）
（１ｂ）の頂端面を磁気記録媒体（６）の表裏面にジン
バルプレート（５）（５）の弾性で弾性接触させる。こ
の状態で磁気記録媒体（６）を、図５（ｂ）の矢印方向
に走行させて、磁気ヘッド（１）（１）の台地部（１
ａ）（１ａ）にある磁気ギャップ（Ｇ）（Ｇ）で磁気記
録媒体（６）の情報の記録再生を行なう。この時、上下
の磁気ヘッド（１）は、各々のコアチップ（２）（２）
が対向しないように、互いに１８０°反対の方向でジン
バルプレート（５）（５）に取り付けている。
は、図５（ａ）（ｂ）に示すように、まず一対の磁気ヘ
ッド（１）（１）をそれぞれジンバルプレート（５）
（５）に取り付け、媒体摺接面となる台地部（１ａ）
（１ｂ）の頂端面を磁気記録媒体（６）の表裏面にジン
バルプレート（５）（５）の弾性で弾性接触させる。こ
の状態で磁気記録媒体（６）を、図５（ｂ）の矢印方向
に走行させて、磁気ヘッド（１）（１）の台地部（１
ａ）（１ａ）にある磁気ギャップ（Ｇ）（Ｇ）で磁気記
録媒体（６）の情報の記録再生を行なう。この時、上下
の磁気ヘッド（１）は、各々のコアチップ（２）（２）
が対向しないように、互いに１８０°反対の方向でジン
バルプレート（５）（５）に取り付けている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】解決しようとする課題
は、媒体摺接面となる磁気ヘッド（１）の台地部（１
ａ）（１ｂ）の頂端面が平坦で磁気記録媒体（６）に面
接触するため、面取り部（１ｃ）によってその面積を小
さくしても上記頂端面と磁気記録媒体（６）間のスペー
シング量、摩擦抵抗を小さくするのに限界がある点であ
る。そのため、磁気記録媒体（６）が走行した時の若干
の抵抗で、磁気ヘッド（１）が磁気記録媒体（６）の走
行前後に微動するピッチング現象が発生することがあ
る。そうすると、このピッチング現象で、磁気ギャップ
（Ｇ）と磁気記録媒体（６）の間のスペーシング量が変
動し、再生出力の最大値と最小値の変動比であるモジュ
レーションが低下したり、磁気記録媒体（６）の磁性層
を剥離させてしまうという不具合が生じる。
は、媒体摺接面となる磁気ヘッド（１）の台地部（１
ａ）（１ｂ）の頂端面が平坦で磁気記録媒体（６）に面
接触するため、面取り部（１ｃ）によってその面積を小
さくしても上記頂端面と磁気記録媒体（６）間のスペー
シング量、摩擦抵抗を小さくするのに限界がある点であ
る。そのため、磁気記録媒体（６）が走行した時の若干
の抵抗で、磁気ヘッド（１）が磁気記録媒体（６）の走
行前後に微動するピッチング現象が発生することがあ
る。そうすると、このピッチング現象で、磁気ギャップ
（Ｇ）と磁気記録媒体（６）の間のスペーシング量が変
動し、再生出力の最大値と最小値の変動比であるモジュ
レーションが低下したり、磁気記録媒体（６）の磁性層
を剥離させてしまうという不具合が生じる。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、方法として、
研磨面に双列角型台地部を形成した被研磨用ワークの上
記各台地部周辺エッジを全周に亘ってそれぞれ面取り研
磨して双球面加工するにあたり、縦揺動自在の弾性取り
付け治具に研磨面を表向きにして上記ワークを取り付
け、ワーク姿勢を検知しながら研磨砥粒を塗布した研磨
盤に対し上記台地部頂端面を常に平行保持した姿勢で台
地部を研磨盤に加圧接触させ、且つ、取り付け治具及び
研磨盤を回転させてワークを研磨することを特徴とし、
研磨面に双列角型台地部を形成した被研磨用ワークの上
記各台地部周辺エッジを全周に亘ってそれぞれ面取り研
磨して双球面加工するにあたり、縦揺動自在の弾性取り
付け治具に研磨面を表向きにして上記ワークを取り付
け、ワーク姿勢を検知しながら研磨砥粒を塗布した研磨
盤に対し上記台地部頂端面を常に平行保持した姿勢で台
地部を研磨盤に加圧接触させ、且つ、取り付け治具及び
研磨盤を回転させてワークを研磨することを特徴とし、
【０００７】又、装置として、研磨砥粒を塗布した回転
自在の研磨盤と、縦揺動自在の弾性取り付け部材に、研
磨面に双列角型台地部を形成した被研磨用ワークが研磨
面を表向きに、且つ、上記研磨盤に対し台地部頂端面を
平行保持して取り付けられ、上記台地部頂端面が研磨盤
に加圧接触回転してワークを双球面研磨加工する回転自
在で姿勢調整可能な取り付け治具と、上記ワーク姿勢を
検知して台地部頂端面と研磨盤との平行姿勢を検出する
センサ手段とを具備したことを特徴とする。
自在の研磨盤と、縦揺動自在の弾性取り付け部材に、研
磨面に双列角型台地部を形成した被研磨用ワークが研磨
面を表向きに、且つ、上記研磨盤に対し台地部頂端面を
平行保持して取り付けられ、上記台地部頂端面が研磨盤
に加圧接触回転してワークを双球面研磨加工する回転自
在で姿勢調整可能な取り付け治具と、上記ワーク姿勢を
検知して台地部頂端面と研磨盤との平行姿勢を検出する
センサ手段とを具備したことを特徴とする。
【０００８】
【作用】上記技術的手段によれば、双列角型台地部を形
成した被研磨用ワークの上記各台地部周辺エッジを全周
に亘って面取り研磨して双球面加工するにあたり、縦揺
動自在の弾性取り付け治具にワークを取り付け、ワーク
姿勢を検知しながら研磨砥粒を塗布した研磨盤に対し上
記台地部頂端面を常に平行保持した姿勢で台地部を研磨
盤に加圧接触させ、且つ、取り付け治具及び研磨盤を回
転させてワークを研磨する。
成した被研磨用ワークの上記各台地部周辺エッジを全周
に亘って面取り研磨して双球面加工するにあたり、縦揺
動自在の弾性取り付け治具にワークを取り付け、ワーク
姿勢を検知しながら研磨砥粒を塗布した研磨盤に対し上
記台地部頂端面を常に平行保持した姿勢で台地部を研磨
盤に加圧接触させ、且つ、取り付け治具及び研磨盤を回
転させてワークを研磨する。
【０００９】
【実施例】本発明に係る研磨方法及び装置の実施例を図
１及び図２を参照して以下に説明する。まず図１（ａ）
は本発明に係る研磨装置の実施例を示し、図において
（７）は研磨盤、（８）は取り付け治具、（９）はセン
サ手段である。上記研磨盤（７）は、錫からなる回転円
盤の上面に螺旋状の微小溝（７ａ）を形成すると共に、
溝上にダイヤモンド砥粒を散布したもので、回転軸（Ｐ
ａ）を中心に回転する。取り付け治具（８）は回転軸
（Ｐｂ）を中心に回転する上下動自在の本体（８ａ）
と、その下面に形成した凹部（８ｂ）内に周端部を保持
した縦揺動自在の弾性取り付け部材、例えば３０μｍ厚
の板バネ材からなるジンバルプレート（１０）とを具備
し、研磨盤（７）の上方に対向・配置する。ジンバルプ
レート（１０）は、図１（ｂ）に示すように、被研磨用
ワークとしての磁気ヘッド（１）を研磨面を表向きにし
て固定・支持した方形状第１支持板（１０ａ）と、第１
支持板（１０ａ）を回転軸（Ｐｃ）を中心に縦揺動自在
に支持する方形枠状第２支持板（１０ｂ）と、第２支持
板（１０ｂ）を回転軸（Ｐｄ）を中心に縦揺動自在に支
持する方形枠状第３支持板（１０ｃ）とを具備し、図１
（ａ）に示すように、取り付け状態で磁気ヘッド（１）
の研磨面を下に向けて研磨盤（７）に対向させる。セン
サ手段（９）は、取り付け治具（８）の本体（８ａ）の
周囲に設けた少なくとも３本のレーザ距離センサからな
り、ジンバルプレート（１０）の姿勢を検知して磁気ヘ
ッド（１）の特に台地部（１ｄ）（１ｅ）の頂端面と研
磨盤（７）との平面平行度を検知する。
１及び図２を参照して以下に説明する。まず図１（ａ）
は本発明に係る研磨装置の実施例を示し、図において
（７）は研磨盤、（８）は取り付け治具、（９）はセン
サ手段である。上記研磨盤（７）は、錫からなる回転円
盤の上面に螺旋状の微小溝（７ａ）を形成すると共に、
溝上にダイヤモンド砥粒を散布したもので、回転軸（Ｐ
ａ）を中心に回転する。取り付け治具（８）は回転軸
（Ｐｂ）を中心に回転する上下動自在の本体（８ａ）
と、その下面に形成した凹部（８ｂ）内に周端部を保持
した縦揺動自在の弾性取り付け部材、例えば３０μｍ厚
の板バネ材からなるジンバルプレート（１０）とを具備
し、研磨盤（７）の上方に対向・配置する。ジンバルプ
レート（１０）は、図１（ｂ）に示すように、被研磨用
ワークとしての磁気ヘッド（１）を研磨面を表向きにし
て固定・支持した方形状第１支持板（１０ａ）と、第１
支持板（１０ａ）を回転軸（Ｐｃ）を中心に縦揺動自在
に支持する方形枠状第２支持板（１０ｂ）と、第２支持
板（１０ｂ）を回転軸（Ｐｄ）を中心に縦揺動自在に支
持する方形枠状第３支持板（１０ｃ）とを具備し、図１
（ａ）に示すように、取り付け状態で磁気ヘッド（１）
の研磨面を下に向けて研磨盤（７）に対向させる。セン
サ手段（９）は、取り付け治具（８）の本体（８ａ）の
周囲に設けた少なくとも３本のレーザ距離センサからな
り、ジンバルプレート（１０）の姿勢を検知して磁気ヘ
ッド（１）の特に台地部（１ｄ）（１ｅ）の頂端面と研
磨盤（７）との平面平行度を検知する。
【００１０】上記構成に基づき本発明の動作（方法）を
次に説明する。まず図１（ａ）に示すように、双列角型
台地部（１ｄ）（１ｅ）を形成した被研磨用ワークとし
ての磁気ヘッド（１）を取り付け部材（１０）に固定し
た取り付け治具（８）を、磁気ヘッド（１）の研磨に係
る台地部（１ｄ）（１ｅ）を下に向けて研磨盤（７）に
対向・配置する。そして、研磨盤（７）の回転軸（Ｐ
ａ）と取り付け治具（８）の回転軸（Ｐｂ）とを平行
に、即ち台地部（１ｄ）（１ｅ）の頂端面が研磨盤
（７）に対して真上から接触するように配置状態を設定
する。そこで、その平行状態を保持しつつ取り付け治具
（８）を下降させて磁気ヘッド（１）の台地部（１ｄ）
（１ｅ）の頂端面を研磨盤（７）上に加圧・接触させ、
取り付け治具（８）及び研磨盤（７）を回転させる。こ
の時、ジンバルプレート（１０）の揺動によって台地部
（１ｄ）（１ｅ）の頂端面は研磨盤（７）の表面形状に
倣い、平行状態を保持する。一方、研磨盤（７）は回転
によって上下に微動し、又、加圧量｛取り付け治具
（８）の移動量｝及び回転速度によって台地部（１ｄ）
（１ｅ）の頂端面と研磨盤（７）との摩擦抵抗が変化す
ると、平行状態が変化するため、予め加圧量及び回転速
度も最適条件に設定しておく。
次に説明する。まず図１（ａ）に示すように、双列角型
台地部（１ｄ）（１ｅ）を形成した被研磨用ワークとし
ての磁気ヘッド（１）を取り付け部材（１０）に固定し
た取り付け治具（８）を、磁気ヘッド（１）の研磨に係
る台地部（１ｄ）（１ｅ）を下に向けて研磨盤（７）に
対向・配置する。そして、研磨盤（７）の回転軸（Ｐ
ａ）と取り付け治具（８）の回転軸（Ｐｂ）とを平行
に、即ち台地部（１ｄ）（１ｅ）の頂端面が研磨盤
（７）に対して真上から接触するように配置状態を設定
する。そこで、その平行状態を保持しつつ取り付け治具
（８）を下降させて磁気ヘッド（１）の台地部（１ｄ）
（１ｅ）の頂端面を研磨盤（７）上に加圧・接触させ、
取り付け治具（８）及び研磨盤（７）を回転させる。こ
の時、ジンバルプレート（１０）の揺動によって台地部
（１ｄ）（１ｅ）の頂端面は研磨盤（７）の表面形状に
倣い、平行状態を保持する。一方、研磨盤（７）は回転
によって上下に微動し、又、加圧量｛取り付け治具
（８）の移動量｝及び回転速度によって台地部（１ｄ）
（１ｅ）の頂端面と研磨盤（７）との摩擦抵抗が変化す
ると、平行状態が変化するため、予め加圧量及び回転速
度も最適条件に設定しておく。
【００１１】そうすると、台地部（１ｄ）（１ｅ）の頂
端面は研磨盤（７）に対して真上から接触し、且つ、ジ
ンバルプレート（１０）に縦揺動自在に保持されている
ため、磁気ヘッド（１）の台地部（１ｄ）（１ｅ）の頂
端面は研磨盤（７）の表面形状に倣って平行状態を保持
しながら研磨される。そうすると、研磨盤（７）と接触
している台地部（１ｄ）（１ｅ）の周辺エッジにおいて
均等に研磨盤（７）のダイヤモンド砥粒との接触回数が
多くなり、そこから全周に亘って上記周辺エッジが徐々
にだれて来て、外周辺面取り部（１ｆ）（１ｆ）と共に
上記周辺エッジが面取り研磨される。結果として、各台
地部（１ｄ）（１ｅ）毎にそれぞれ周辺エッジ部を面取
りするため、図２（ｂ）に示すように、各台地部（１
ｄ）（１ｅ）毎にそれぞれ球面研磨され、０．１〜０．
３μｍ程度の高さに双球面加工される。
端面は研磨盤（７）に対して真上から接触し、且つ、ジ
ンバルプレート（１０）に縦揺動自在に保持されている
ため、磁気ヘッド（１）の台地部（１ｄ）（１ｅ）の頂
端面は研磨盤（７）の表面形状に倣って平行状態を保持
しながら研磨される。そうすると、研磨盤（７）と接触
している台地部（１ｄ）（１ｅ）の周辺エッジにおいて
均等に研磨盤（７）のダイヤモンド砥粒との接触回数が
多くなり、そこから全周に亘って上記周辺エッジが徐々
にだれて来て、外周辺面取り部（１ｆ）（１ｆ）と共に
上記周辺エッジが面取り研磨される。結果として、各台
地部（１ｄ）（１ｅ）毎にそれぞれ周辺エッジ部を面取
りするため、図２（ｂ）に示すように、各台地部（１
ｄ）（１ｅ）毎にそれぞれ球面研磨され、０．１〜０．
３μｍ程度の高さに双球面加工される。
【００１２】そこで、例えば図２（ｂ）に示すように、
台地部（１ｄ）（１ｅ）を双球面加工した磁気ヘッド
（１）をジンバルプレート（５）（５）に取り付け、台
地部（１ｄ）（１ｅ）を磁気記録媒体（６）に接触させ
て情報を記録再生する際、台地部（１ｄ）（１ｅ）と磁
気記録媒体（６）との接触面積が小さくなり、摩擦抵抗
が小さくなってスペーシング量が低減すると共に、ピッ
チングが防止され、記録再生特性が大幅に向上する。
台地部（１ｄ）（１ｅ）を双球面加工した磁気ヘッド
（１）をジンバルプレート（５）（５）に取り付け、台
地部（１ｄ）（１ｅ）を磁気記録媒体（６）に接触させ
て情報を記録再生する際、台地部（１ｄ）（１ｅ）と磁
気記録媒体（６）との接触面積が小さくなり、摩擦抵抗
が小さくなってスペーシング量が低減すると共に、ピッ
チングが防止され、記録再生特性が大幅に向上する。
【００１３】尚、磁気ヘッド（１）と研磨盤（７）との
摩擦抵抗は研磨盤（７）の研磨状態、例えば材料、ダイ
ヤモンドの濃度や量、磁気ヘッド（１）の接触位置、ジ
ンバルプレート（１０）の硬さや撓み量等によって決ま
るが、研磨が進行して螺旋状の微小溝（７ａ）が磨耗し
て浅くなって来ると、研磨状態が変化して上記摩擦抵抗
が大きくなり、磁気ヘッド（１）が揺られて傾斜する。
そのため、図２（ａ）に示すように、回転軸（Ｐａ）
（Ｐｂ）が非平行になり、そのまま研磨すると、従来と
同様、単球面加工となる。そのため、研磨中にセンサ手
段（９）によりジンバルプレート（１０）の動的姿勢を
検知して回転軸（Ｐａ）（Ｐｂ）の平行状態、即ち台地
部（１ｄ）（１ｅ）と研磨盤（７）との平行状態を常に
検知しておく。そして、非平行を検知すると、研磨中に
適宜、加圧量や回転速度を下げ、磁気ヘッド（１）の台
地部（１ｄ）（１ｅ）と研磨盤（７）との摩擦抵抗を出
来るだけ低減して平行状態を保持し、或いは研磨時間を
調整して研磨する。
摩擦抵抗は研磨盤（７）の研磨状態、例えば材料、ダイ
ヤモンドの濃度や量、磁気ヘッド（１）の接触位置、ジ
ンバルプレート（１０）の硬さや撓み量等によって決ま
るが、研磨が進行して螺旋状の微小溝（７ａ）が磨耗し
て浅くなって来ると、研磨状態が変化して上記摩擦抵抗
が大きくなり、磁気ヘッド（１）が揺られて傾斜する。
そのため、図２（ａ）に示すように、回転軸（Ｐａ）
（Ｐｂ）が非平行になり、そのまま研磨すると、従来と
同様、単球面加工となる。そのため、研磨中にセンサ手
段（９）によりジンバルプレート（１０）の動的姿勢を
検知して回転軸（Ｐａ）（Ｐｂ）の平行状態、即ち台地
部（１ｄ）（１ｅ）と研磨盤（７）との平行状態を常に
検知しておく。そして、非平行を検知すると、研磨中に
適宜、加圧量や回転速度を下げ、磁気ヘッド（１）の台
地部（１ｄ）（１ｅ）と研磨盤（７）との摩擦抵抗を出
来るだけ低減して平行状態を保持し、或いは研磨時間を
調整して研磨する。
【００１４】
【発明の効果】本発明によれば、双列角型台地部を形成
した被研磨用ワークの上記各台地部周辺エッジを全周に
亘ってそれぞれ面取り研磨して双球面加工したから、特
に磁気記録媒体に接触する双列角型台地部を有する磁気
ヘッドでは台地部と磁気記録媒体との接触面積が小さく
なり、摩擦抵抗が低減してスペーシング量が減少してピ
ッチングが防止され、磁気記録再生特性が大幅に向上す
ると共に、磁気記録媒体の磁性層の剥離を防止出来る。
した被研磨用ワークの上記各台地部周辺エッジを全周に
亘ってそれぞれ面取り研磨して双球面加工したから、特
に磁気記録媒体に接触する双列角型台地部を有する磁気
ヘッドでは台地部と磁気記録媒体との接触面積が小さく
なり、摩擦抵抗が低減してスペーシング量が減少してピ
ッチングが防止され、磁気記録再生特性が大幅に向上す
ると共に、磁気記録媒体の磁性層の剥離を防止出来る。
【図１】（ａ）は本発明に係る研磨装置の実施例を示す
要部概略側面図である。（ｂ）は本発明に係る取り付け
治具の取り付け部材の一例を示すジンバルプレートの斜
視図である。
要部概略側面図である。（ｂ）は本発明に係る取り付け
治具の取り付け部材の一例を示すジンバルプレートの斜
視図である。
【図２】（ａ）は図１（ａ）に示す研磨装置の不具合使
用状態を示す要部概略側面図である。（ｂ）は図１
（ａ）に示す装置によって加工した磁気ヘッドとその使
用状態の一例を示す要部側面図である。
用状態を示す要部概略側面図である。（ｂ）は図１
（ａ）に示す装置によって加工した磁気ヘッドとその使
用状態の一例を示す要部側面図である。
【図３】磁気ヘッドの一例を示す斜視図である。
【図４】図３に示す磁気ヘッドの分解斜視図である。
【図５】（ａ）は図３に示す磁気ヘッドの使用状態の側
面図である。（ｂ）は図３に示す磁気ヘッドの使用状態
の異なる方向から見た側面図である。
面図である。（ｂ）は図３に示す磁気ヘッドの使用状態
の異なる方向から見た側面図である。
１ ワーク ７ 研磨盤 ８ 取り付け治具 ９ センサ手段
Claims (3)
- 【請求項１】 研磨面に双列角型台地部を形成した被研
磨用ワークの上記各台地部周辺エッジを全周に亘ってそ
れぞれ面取り研磨して双球面加工するにあたり、 縦揺動自在の弾性取り付け治具に研磨面を表向きにして
上記ワークを取り付け、ワーク姿勢を検知することによ
って常に研磨砥粒を塗布した研磨盤に対し上記台地部頂
端面を常に平行保持した姿勢で台地部を研磨盤に加圧接
触させ、且つ、取り付け治具及び研磨盤を回転させてワ
ークを研磨することを特徴とする研磨方法。 - 【請求項２】 研磨面に双列角型台地部を形成した被研
磨用ワークの上記各台地部周辺エッジを全周に亘ってそ
れぞれ面取り研磨して双球面加工するにあたり、 縦揺動自在の弾性取り付け治具に研磨面を表向きにして
上記ワークを取り付け、ワーク姿勢を検知することによ
って研磨加圧量や回転速度を調整して常に研磨砥粒を塗
布した研磨盤に対し上記台地部頂端面を常に平行保持し
た姿勢で台地部を研磨盤に加圧接触させ、且つ、取り付
け治具及び研磨盤を回転させてワークを研磨することを
特徴とする研磨方法。 - 【請求項３】 研磨砥粒を塗布した回転自在の研磨盤
と、縦揺動自在の弾性取り付け部材に、研磨面に双列角
型台地部を形成した被研磨用ワークが研磨面を表向き
に、且つ、上記研磨盤に対し台地部頂端面を平行保持し
て取り付けられ、上記台地部頂端面が研磨盤に加圧接触
回転してワークを双球面研磨加工する回転自在で姿勢調
整可能な取り付け治具と、上記ワーク姿勢を検知して台
地部頂端面と研磨盤との平行姿勢を検出するセンサ手段
とを具備したことを特徴とする研磨装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27823992A JPH06126604A (ja) | 1992-10-16 | 1992-10-16 | 研磨方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27823992A JPH06126604A (ja) | 1992-10-16 | 1992-10-16 | 研磨方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06126604A true JPH06126604A (ja) | 1994-05-10 |
Family
ID=17594562
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27823992A Withdrawn JPH06126604A (ja) | 1992-10-16 | 1992-10-16 | 研磨方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06126604A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6926582B2 (en) | 2002-04-16 | 2005-08-09 | Hitachi Global Storage Technologies Nethrlands B.V. | System and method for rounding disk drive slider corners and/or edges using a flexible slider fixture, an abrasive element, and support elements to control slider orientation |
| CN115008275A (zh) * | 2022-05-30 | 2022-09-06 | 芜湖三江高频焊管有限公司 | 一种焊管模具中弧面光洁度精磨装置 |
-
1992
- 1992-10-16 JP JP27823992A patent/JPH06126604A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6926582B2 (en) | 2002-04-16 | 2005-08-09 | Hitachi Global Storage Technologies Nethrlands B.V. | System and method for rounding disk drive slider corners and/or edges using a flexible slider fixture, an abrasive element, and support elements to control slider orientation |
| CN115008275A (zh) * | 2022-05-30 | 2022-09-06 | 芜湖三江高频焊管有限公司 | 一种焊管模具中弧面光洁度精磨装置 |
| CN115008275B (zh) * | 2022-05-30 | 2024-05-24 | 芜湖三江高频焊管有限公司 | 一种焊管模具中弧面光洁度精磨装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000104 |