JPH0612491A - 画像処理における検査対象位置設定方法 - Google Patents
画像処理における検査対象位置設定方法Info
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- JPH0612491A JPH0612491A JP4233071A JP23307192A JPH0612491A JP H0612491 A JPH0612491 A JP H0612491A JP 4233071 A JP4233071 A JP 4233071A JP 23307192 A JP23307192 A JP 23307192A JP H0612491 A JPH0612491 A JP H0612491A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 試料が方形または円形に限定されている場
合、輪郭の認識を行わずとも、その少なくとも３頂点ま
たは外接正方形のとの一方の直径上の２接点さえ特定す
ればその試料画像上での領域が特定出来ることに着目し
て、簡単な処理で試料上の検査対象領域を設定し得る画
像処理における検査対象位置設定方法を提供する。 【構成】 予めその内部に検査対象位置が設定された方
形モデルM1または円形モデルM2を設定し、試料11または
12全体の画像110 または120 をＸ−Ｙ座標系上で２値化
して一方の値の領域を処理対象領域として抽出し、方形
の試料11では抽出された処理対象領域のＸ軸方向の最
大，最小座標値及びそれぞれのＹ座標値と、Ｙ軸方向の
最大，最小座標値及びそれぞれのＸ座標値の内の少なく
とも３点を求め、円形の試料12ではＸ軸方向またはＹ軸
方向の最大，最小座標値及びそれぞれのＹ座標値または
Ｘ座標値を求め、これらに基づいて方形モデルM1または
円形モデルM2の座標を当てはめて予め設定されている検
査対象位置を決定する。
合、輪郭の認識を行わずとも、その少なくとも３頂点ま
たは外接正方形のとの一方の直径上の２接点さえ特定す
ればその試料画像上での領域が特定出来ることに着目し
て、簡単な処理で試料上の検査対象領域を設定し得る画
像処理における検査対象位置設定方法を提供する。 【構成】 予めその内部に検査対象位置が設定された方
形モデルM1または円形モデルM2を設定し、試料11または
12全体の画像110 または120 をＸ−Ｙ座標系上で２値化
して一方の値の領域を処理対象領域として抽出し、方形
の試料11では抽出された処理対象領域のＸ軸方向の最
大，最小座標値及びそれぞれのＹ座標値と、Ｙ軸方向の
最大，最小座標値及びそれぞれのＸ座標値の内の少なく
とも３点を求め、円形の試料12ではＸ軸方向またはＹ軸
方向の最大，最小座標値及びそれぞれのＹ座標値または
Ｘ座標値を求め、これらに基づいて方形モデルM1または
円形モデルM2の座標を当てはめて予め設定されている検
査対象位置を決定する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は試料を画像処理により検
査する際に、特に試料が方形または円形である場合に試
料上の検査対象位置を自動的に設定する方法に関する。
査する際に、特に試料が方形または円形である場合に試
料上の検査対象位置を自動的に設定する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】検査対象の試料を撮像して得られた画像
を解析して試料を検査する場合、試料全体の内の極めて
微細な領域をたとえば光学顕微鏡あるいは電子顕微鏡に
より撮像し、この結果得られた画像を処理して検査を行
う場合がある。このような場合、試料全体に対して検査
対象となる微細領域をどのようにして特定し、顕微鏡の
視野をその領域に同定するかが問題となる。
を解析して試料を検査する場合、試料全体の内の極めて
微細な領域をたとえば光学顕微鏡あるいは電子顕微鏡に
より撮像し、この結果得られた画像を処理して検査を行
う場合がある。このような場合、試料全体に対して検査
対象となる微細領域をどのようにして特定し、顕微鏡の
視野をその領域に同定するかが問題となる。
【０００３】このような場合、従来はたとえば人手を介
して試料上のおおよその位置に顕微鏡の視野を設定した
後に目視により確認するか、あるいは、検査対象領域が
試料上の一定の位置に固定されているような場合には位
置決め用の治具を使用する等の手法が採られている。し
かし、これらの手法は極めて原始的であるために自動処
理にはなじまず非効率的であること、また後者では特定
の試料にしか適用できないなどの難点がある。
して試料上のおおよその位置に顕微鏡の視野を設定した
後に目視により確認するか、あるいは、検査対象領域が
試料上の一定の位置に固定されているような場合には位
置決め用の治具を使用する等の手法が採られている。し
かし、これらの手法は極めて原始的であるために自動処
理にはなじまず非効率的であること、また後者では特定
の試料にしか適用できないなどの難点がある。
【０００４】しかし、近年の画像処理技術の発達に伴
い、たとえば特公平１-28991号公報に開示されているよ
うな自動処理技術も開発されている。この特公平１-289
91号公報の発明では、試料の全体の画像を撮像し、得ら
れた画像から試料の輪郭を自動的に認識し、認識された
輪郭を基準にして検査対象位置を設定するようにしてい
る。
い、たとえば特公平１-28991号公報に開示されているよ
うな自動処理技術も開発されている。この特公平１-289
91号公報の発明では、試料の全体の画像を撮像し、得ら
れた画像から試料の輪郭を自動的に認識し、認識された
輪郭を基準にして検査対象位置を設定するようにしてい
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上述のような特公平１
-28991号公報の発明では、試料の形状は任意であって制
約はないため、種々の試料に対して有効である。しか
し、画像処理技術においては物体の輪郭を認識する処理
は非常に複雑で長時間を要する。即ち、画像上で物体の
輪郭を認識するにはその輪郭を構成する連続する画素の
全てについて座標値を算出する必要があり、画像の解像
度が高ければ高いほど膨大な演算が必要になる。
-28991号公報の発明では、試料の形状は任意であって制
約はないため、種々の試料に対して有効である。しか
し、画像処理技術においては物体の輪郭を認識する処理
は非常に複雑で長時間を要する。即ち、画像上で物体の
輪郭を認識するにはその輪郭を構成する連続する画素の
全てについて座標値を算出する必要があり、画像の解像
度が高ければ高いほど膨大な演算が必要になる。
【０００６】また、輪郭が認識された後の検査対象領域
の設定にも輪郭形状に応じて種々の制約があり、それな
りの手順が必要になる。即ち、検査対象の領域を特定す
るためには検査対象を撮像する際の視野の位置と輪郭の
座標とを比較し、その視野が検査対象の領域内に位置し
ていることを確認する必要がある。しかし、この処理は
輪郭の形状が直線的な部分に関しては比較的容易である
が、輪郭が曲線あるいは折れ線になっている部分に関し
てはかなり煩雑になる。
の設定にも輪郭形状に応じて種々の制約があり、それな
りの手順が必要になる。即ち、検査対象の領域を特定す
るためには検査対象を撮像する際の視野の位置と輪郭の
座標とを比較し、その視野が検査対象の領域内に位置し
ていることを確認する必要がある。しかし、この処理は
輪郭の形状が直線的な部分に関しては比較的容易である
が、輪郭が曲線あるいは折れ線になっている部分に関し
てはかなり煩雑になる。
【０００７】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
ものであり、試料が予め特定の形状、たとえば長方形,
正方形等の方形または円形に限定されている場合、輪郭
の認識を行わずとも、方形の試料であれば少なくともの
３頂点さえ特定できればその方形の領域が特定できるこ
と、また円形の試料であれば少なくともその直径上の外
接正方形との２接点が特定できればその円形の領域が特
定できることにそれぞれ着目してなされたものであり、
更には方形の試料であればその対角線上の２頂点さえ特
定できればその方形の領域が特定できること、また円形
の試料であればその直径上の２点さえ特定できればその
円形の領域が特定できることにそれぞれ着目してなされ
たものであり、簡単な処理で試料上の検査対象位置を特
定し得る画像処理における検査対象位置設定方法の提供
を目的とする。
ものであり、試料が予め特定の形状、たとえば長方形,
正方形等の方形または円形に限定されている場合、輪郭
の認識を行わずとも、方形の試料であれば少なくともの
３頂点さえ特定できればその方形の領域が特定できるこ
と、また円形の試料であれば少なくともその直径上の外
接正方形との２接点が特定できればその円形の領域が特
定できることにそれぞれ着目してなされたものであり、
更には方形の試料であればその対角線上の２頂点さえ特
定できればその方形の領域が特定できること、また円形
の試料であればその直径上の２点さえ特定できればその
円形の領域が特定できることにそれぞれ着目してなされ
たものであり、簡単な処理で試料上の検査対象位置を特
定し得る画像処理における検査対象位置設定方法の提供
を目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明に係る画像処理に
おける検査対象位置設定方法は、予めその内部に検査対
象位置となるべき点が位置決めされた方形モデルを設定
し、処理対象試料全体の画像を撮像して得られた処理対
象試料全体の画像をＸ−Ｙ座標系上で２値化して一方の
値の領域を処理対象領域として抽出し、そのＸ軸方向の
最大，最小座標値及びそれぞれのＹ座標値と、Ｙ軸方向
の最大，最小座標値及びそれぞれのＸ座標値との４点の
座標値の内の３点または４点の座標値を求め、求められ
た３点または４点の座標値を方形の４頂点の内の対応す
る３頂点または４頂点の座標値としてそれらに前記方形
モデルの対応する点の座標値を当てはめ、当てはめられ
た方形モデルの座標内において予め位置決めされている
点を検査対象位置として設定することを特徴とする。
おける検査対象位置設定方法は、予めその内部に検査対
象位置となるべき点が位置決めされた方形モデルを設定
し、処理対象試料全体の画像を撮像して得られた処理対
象試料全体の画像をＸ−Ｙ座標系上で２値化して一方の
値の領域を処理対象領域として抽出し、そのＸ軸方向の
最大，最小座標値及びそれぞれのＹ座標値と、Ｙ軸方向
の最大，最小座標値及びそれぞれのＸ座標値との４点の
座標値の内の３点または４点の座標値を求め、求められ
た３点または４点の座標値を方形の４頂点の内の対応す
る３頂点または４頂点の座標値としてそれらに前記方形
モデルの対応する点の座標値を当てはめ、当てはめられ
た方形モデルの座標内において予め位置決めされている
点を検査対象位置として設定することを特徴とする。
【０００９】また本発明に係る画像処理における検査対
象位置設定方法は、予めその内部に検査対象位置となる
べき点が位置決めされた円形モデルを設定し、処理対象
試料全体の画像を撮像して得られた処理対象試料全体の
画像をＸ−Ｙ座標系上で２値化して一方の値の領域を処
理対象領域として抽出し、そのＸ軸方向の最大，最小座
標値及びそれぞれのＹ座標値の２点、またはＹ軸方向の
最大，最小座標値及びそれぞれのＸ座標値の２点、もし
くは４点すべての座標値を求め、求められた２点または
４点の座標値を円形の外接正方形との直径上の２接点の
座標値または４接点の座標値としてそれらに前記円形モ
デルの対応する点の座標値を当てはめ、当てはめられた
円形モデルの座標内において予め位置決めされている点
を検査対象位置として設定することを特徴とする。
象位置設定方法は、予めその内部に検査対象位置となる
べき点が位置決めされた円形モデルを設定し、処理対象
試料全体の画像を撮像して得られた処理対象試料全体の
画像をＸ−Ｙ座標系上で２値化して一方の値の領域を処
理対象領域として抽出し、そのＸ軸方向の最大，最小座
標値及びそれぞれのＹ座標値の２点、またはＹ軸方向の
最大，最小座標値及びそれぞれのＸ座標値の２点、もし
くは４点すべての座標値を求め、求められた２点または
４点の座標値を円形の外接正方形との直径上の２接点の
座標値または４接点の座標値としてそれらに前記円形モ
デルの対応する点の座標値を当てはめ、当てはめられた
円形モデルの座標内において予め位置決めされている点
を検査対象位置として設定することを特徴とする。
【００１０】更に、本発明に係る画像処理における検査
対象位置設定方法は、予めその内部に検査対象位置とな
るべき点が位置決めされた方形モデルを設定し、処理対
象試料全体の画像を撮像し、撮像された処理対象試料全
体の画像をＸ−Ｙ座標系上で２値化して一方の値の領域
を処理対象領域として抽出し、抽出された処理対象領域
のＸ軸（またはＹ軸）方向の最大，最小座標値及びそれ
ぞれのＹ座標値（またはＸ座標値）の２点の座標値を求
め、求められた２点の座標値の中点の座標値を求め、中
点の座標を方形の中心として、求められた２点を方形の
対角線上の２頂点としてそれらに方形モデルを当ては
め、当てはめられた方形モデル内において予め位置決め
されている点を検査対象位置として設定することを特徴
とする。
対象位置設定方法は、予めその内部に検査対象位置とな
るべき点が位置決めされた方形モデルを設定し、処理対
象試料全体の画像を撮像し、撮像された処理対象試料全
体の画像をＸ−Ｙ座標系上で２値化して一方の値の領域
を処理対象領域として抽出し、抽出された処理対象領域
のＸ軸（またはＹ軸）方向の最大，最小座標値及びそれ
ぞれのＹ座標値（またはＸ座標値）の２点の座標値を求
め、求められた２点の座標値の中点の座標値を求め、中
点の座標を方形の中心として、求められた２点を方形の
対角線上の２頂点としてそれらに方形モデルを当ては
め、当てはめられた方形モデル内において予め位置決め
されている点を検査対象位置として設定することを特徴
とする。
【００１１】また更に本発明の画像処理における検査対
象位置設定方法は、予めその内部に検査対象位置となる
べき点が位置決めされた円形モデルを設定し、処理対象
試料全体の画像を撮像し、撮像された処理対象試料全体
の画像をＸ−Ｙ座標系上で２値化して一方の値の領域を
処理対象領域として抽出し、抽出された処理対象領域の
Ｘ軸（またはＹ軸）方向の最大，最小座標値及びそれぞ
れのＹ座標値（またはＸ座標値）の２点の座標値を求
め、求められた２点の中点の座標値及び２点間の距離を
求め、中点の座標値を円の中心の座標値として、求めら
れた２点間の距離を円の直径としてそれらに円形モデル
を当てはめ、当てはめられた円形モデル内において予め
位置決めされている点を検査対象位置として設定するこ
とを特徴とする。
象位置設定方法は、予めその内部に検査対象位置となる
べき点が位置決めされた円形モデルを設定し、処理対象
試料全体の画像を撮像し、撮像された処理対象試料全体
の画像をＸ−Ｙ座標系上で２値化して一方の値の領域を
処理対象領域として抽出し、抽出された処理対象領域の
Ｘ軸（またはＹ軸）方向の最大，最小座標値及びそれぞ
れのＹ座標値（またはＸ座標値）の２点の座標値を求
め、求められた２点の中点の座標値及び２点間の距離を
求め、中点の座標値を円の中心の座標値として、求めら
れた２点間の距離を円の直径としてそれらに円形モデル
を当てはめ、当てはめられた円形モデル内において予め
位置決めされている点を検査対象位置として設定するこ
とを特徴とする。
【００１２】
【作用】本発明に係る画像処理における検査対象位置設
定方法では、処理対象試料全体の画像がＸ−Ｙ座標系上
で２値化され、一方の値の領域が処理対象領域として抽
出され、そのＸ軸方向の最大，最小座標値及びそれぞれ
のＹ座標値と、Ｙ軸方向の最大，最小座標値及びそれぞ
れのＸ座標値との４点の内の３点または４点の座標値が
方形の４頂点の内の３頂点または４頂点として求められ
る。そして、これらの３頂点または４頂点に方形モデル
の座標が当てはめられて予め位置決めされている点が検
査対象位置として設定される。
定方法では、処理対象試料全体の画像がＸ−Ｙ座標系上
で２値化され、一方の値の領域が処理対象領域として抽
出され、そのＸ軸方向の最大，最小座標値及びそれぞれ
のＹ座標値と、Ｙ軸方向の最大，最小座標値及びそれぞ
れのＸ座標値との４点の内の３点または４点の座標値が
方形の４頂点の内の３頂点または４頂点として求められ
る。そして、これらの３頂点または４頂点に方形モデル
の座標が当てはめられて予め位置決めされている点が検
査対象位置として設定される。
【００１３】また本発明に係る画像処理における検査対
象位置設定方法では、処理対象試料全体の画像がＸ−Ｙ
座標系上で２値化され、一方の値の領域が処理対象領域
として抽出され、そのＸ軸方向の最大，最小座標値及び
それぞれのＹ座標値の２点、またはＹ軸方向の最大，最
小座標値及びそれぞれのＸ座標値の２点、もしくは４点
すべての座標値が円形の外接正方形との直径上の２接点
の座標値または４接点の座標値として求められる。そし
て、これらの２接点または４接点から円の中心及び半径
が求められて円形モデルの座標が当てはめられ、予め位
置決めされている点が検査対象位置として設定される。
象位置設定方法では、処理対象試料全体の画像がＸ−Ｙ
座標系上で２値化され、一方の値の領域が処理対象領域
として抽出され、そのＸ軸方向の最大，最小座標値及び
それぞれのＹ座標値の２点、またはＹ軸方向の最大，最
小座標値及びそれぞれのＸ座標値の２点、もしくは４点
すべての座標値が円形の外接正方形との直径上の２接点
の座標値または４接点の座標値として求められる。そし
て、これらの２接点または４接点から円の中心及び半径
が求められて円形モデルの座標が当てはめられ、予め位
置決めされている点が検査対象位置として設定される。
【００１４】更に本発明に係る画像処理における検査対
象位置設定方法では、処理対象試料全体の画像がＸ−Ｙ
座標系上で２値化され、一方の値の領域が処理対象領域
として抽出され、そのＸ軸（またはＹ軸）方向の最大，
最小座標値及びそれぞれのＹ座標値（またはＸ座標値）
の２点の座標値とこの２点の座標値の中点の座標値とが
方形の対角線上の２頂点と方形の中心としてそれぞれ求
められる。そして、これらのに方形モデルの対応する座
標が当てはめられて予め位置決めされている点が検査対
象位置として設定される。
象位置設定方法では、処理対象試料全体の画像がＸ−Ｙ
座標系上で２値化され、一方の値の領域が処理対象領域
として抽出され、そのＸ軸（またはＹ軸）方向の最大，
最小座標値及びそれぞれのＹ座標値（またはＸ座標値）
の２点の座標値とこの２点の座標値の中点の座標値とが
方形の対角線上の２頂点と方形の中心としてそれぞれ求
められる。そして、これらのに方形モデルの対応する座
標が当てはめられて予め位置決めされている点が検査対
象位置として設定される。
【００１５】また更に本発明に係る画像処理における検
査対象位置設定方法では、処理対象試料全体の画像がＸ
−Ｙ座標系上で２値化され、一方の値の領域が処理対象
領域として抽出され、そのＸ軸（またはＹ軸）方向の最
大，最小座標値及びそれぞれのＹ座標値（またはＸ座標
値）の２点の座標値を求め、これからその中点の座標値
及び２点間の距離が円の中心の座標値及び直径としてそ
れぞれ求められる。そして、これらに円形モデルの対応
する座標値及び直径が当てはめられ、予め位置決めされ
ている点が検査対象位置として設定される。
査対象位置設定方法では、処理対象試料全体の画像がＸ
−Ｙ座標系上で２値化され、一方の値の領域が処理対象
領域として抽出され、そのＸ軸（またはＹ軸）方向の最
大，最小座標値及びそれぞれのＹ座標値（またはＸ座標
値）の２点の座標値を求め、これからその中点の座標値
及び２点間の距離が円の中心の座標値及び直径としてそ
れぞれ求められる。そして、これらに円形モデルの対応
する座標値及び直径が当てはめられ、予め位置決めされ
ている点が検査対象位置として設定される。
【００１６】
【実施例】以下、本発明をその実施例を示す図面に基づ
いて詳述する。
いて詳述する。
【００１７】本発明方法の原理について以下に説明す
る。本発明方法では図１(a) の模式図に示されているよ
うに、試料台１上にたとえば方形の試料11が載置されて
いるような場合、または図１(b) の模式図に示されてい
るように、試料台１上にたとえば円形の試料12が載置さ
れているような場合をそれぞれ対象とする。なお、以下
の説明では方形という概念には正方形と長方形とを含む
こととする。
る。本発明方法では図１(a) の模式図に示されているよ
うに、試料台１上にたとえば方形の試料11が載置されて
いるような場合、または図１(b) の模式図に示されてい
るように、試料台１上にたとえば円形の試料12が載置さ
れているような場合をそれぞれ対象とする。なお、以下
の説明では方形という概念には正方形と長方形とを含む
こととする。
【００１８】まず予め試料のモデル化を行う。これはた
とえば、各検査対象点を検査する際の顕微鏡の視野サイ
ズをｌx ×ｌy 、試料上での検査対象点数をＮとした場
合に、方形の試料11に対しては図２に示されているよう
な方形モデルM1を、円形の試料12に対しては図３に示さ
れているような円形モデルM2をそれぞれ予め設定する。
とえば、各検査対象点を検査する際の顕微鏡の視野サイ
ズをｌx ×ｌy 、試料上での検査対象点数をＮとした場
合に、方形の試料11に対しては図２に示されているよう
な方形モデルM1を、円形の試料12に対しては図３に示さ
れているような円形モデルM2をそれぞれ予め設定する。
【００１９】ここで、方形モデルM1は視野上の左上の頂
点を基準点 (Ｘ0 , Ｙ0 ) とし、Ｘ軸方向の一辺の長さ
をＬx , Ｙ軸方向の一辺の長さをＬy とする。但し、前
述のように、Ｌx ＝Ｌy である場合には方形モデルM1は
正方形になる。なお、方形モデルM1上にはそれぞれの辺
からマージンをとった位置に検査対象点が設定される
が、図２において、 (ｌy /2) ＋Δy はＹ軸方向のマー
ジン、 (ｌx /2) ＋ΔｘはＸ軸方向のマージンをそれぞ
れ表している。そして、検査対象点数の最大値ＮMAX は
下記式(1) にて表される。
点を基準点 (Ｘ0 , Ｙ0 ) とし、Ｘ軸方向の一辺の長さ
をＬx , Ｙ軸方向の一辺の長さをＬy とする。但し、前
述のように、Ｌx ＝Ｌy である場合には方形モデルM1は
正方形になる。なお、方形モデルM1上にはそれぞれの辺
からマージンをとった位置に検査対象点が設定される
が、図２において、 (ｌy /2) ＋Δy はＹ軸方向のマー
ジン、 (ｌx /2) ＋ΔｘはＸ軸方向のマージンをそれぞ
れ表している。そして、検査対象点数の最大値ＮMAX は
下記式(1) にて表される。
【００２０】
【数１】
【００２１】また方形の試料11の２値画像110 上の各検
査対象点の座標値 (Ｘi , Ｙj ) は下記式(2) にて表さ
れる。 (Ｘi , Ｙj ) ＝ (Ｘ0 ＋Δx, Ｙ0 ＋Δy) ＋｛(lx ×(i−1), ｌy ×(j−1)｝ …(2) 但し、ｉ，ｊは下記不等式を満たすことを条件とする。 (i＋1)×ｌx ＋２×Δｘ＜Ｌx (i＋1)×ｌy ＋２×Δｙ＜Ｌy
査対象点の座標値 (Ｘi , Ｙj ) は下記式(2) にて表さ
れる。 (Ｘi , Ｙj ) ＝ (Ｘ0 ＋Δx, Ｙ0 ＋Δy) ＋｛(lx ×(i−1), ｌy ×(j−1)｝ …(2) 但し、ｉ，ｊは下記不等式を満たすことを条件とする。 (i＋1)×ｌx ＋２×Δｘ＜Ｌx (i＋1)×ｌy ＋２×Δｙ＜Ｌy
【００２２】ここで、円形モデルM2はその中心点を基準
点 (Ｘ0 , Ｙ0 ) とし、半径をＲとする。なお、円形モ
デルM2上にはその外周からマージンをとった位置に検査
対象点が設定されるが、図３において、Δr がマージン
を表している。そして、検査対象点数の最大値ＮMAX は
下記式(3) にて表される。
点 (Ｘ0 , Ｙ0 ) とし、半径をＲとする。なお、円形モ
デルM2上にはその外周からマージンをとった位置に検査
対象点が設定されるが、図３において、Δr がマージン
を表している。そして、検査対象点数の最大値ＮMAX は
下記式(3) にて表される。
【００２３】
【数２】
【００２４】なお、上記式(3) の第１項はｘ軸上の検査
対象点数を、第２項のΣの項は直線ｉ（ｙ＝ｉ×ｌy )
上の検査対象点数をそれぞれ表しており、これを２倍す
ることでｙ軸の上下双方の検査対象点数が求まる。ま
た、図３において、直線ＯＡｉ，直線ＯＢｉ及び直線Ｂ
ｉＣｉの長さはそれぞれ下記のようになる。 ＯＡｉ＝Ｒ ＯＢｉ＝Ｒ−Δｒ ＢｉＣｉ＝√｛（Ｒ−Δr)2 −((2i+1)/2)ｌy )2｝
対象点数を、第２項のΣの項は直線ｉ（ｙ＝ｉ×ｌy )
上の検査対象点数をそれぞれ表しており、これを２倍す
ることでｙ軸の上下双方の検査対象点数が求まる。ま
た、図３において、直線ＯＡｉ，直線ＯＢｉ及び直線Ｂ
ｉＣｉの長さはそれぞれ下記のようになる。 ＯＡｉ＝Ｒ ＯＢｉ＝Ｒ−Δｒ ＢｉＣｉ＝√｛（Ｒ−Δr)2 −((2i+1)/2)ｌy )2｝
【００２５】円形モデルM2の中心の座標を (Ｘ0 ,
Ｙ0), 半径をＲとすれば、円形モデルM2の各検査対象点
の座標値（Ｘi , Ｙj ) は下記式(4) の条件を満たす
(i, j)において下記式(5) にて求められる。
Ｙ0), 半径をＲとすれば、円形モデルM2の各検査対象点
の座標値（Ｘi , Ｙj ) は下記式(4) の条件を満たす
(i, j)において下記式(5) にて求められる。
【００２６】
【数３】
【００２７】 （Ｘi , Ｙj ) ＝｛（Ｘ0 ＋ｉ×ｌx ), (Ｙ0 ＋ｊ×ｌy ) ｝ …(5)
【００２８】次に方形の試料11の４頂点の座標値を決定
する。これは、方形の試料11の全体を撮像して２値化し
た場合、その一方の値で表される領域が方形の試料11の
２値画像110 である。この方形の試料11の２値画像110
を対象として、たとえばＸ軸方向を主走査方向として順
次的に走査することによりその４頂点の座標値が求めら
れる。たとえば図４の模式図に示されているように方形
の試料11の２値画像110 が得られているとし、その４頂
点をＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄとする。この場合、点ＢにおいてＸ
座標の最大値が、点Ｄにおいて同最小値が得られ、また
点ＡにおいてＹ座標の最大値が、点Ｃにおいて同最小値
が得られる。このような処理は公知であり、且つ容易で
ある。
する。これは、方形の試料11の全体を撮像して２値化し
た場合、その一方の値で表される領域が方形の試料11の
２値画像110 である。この方形の試料11の２値画像110
を対象として、たとえばＸ軸方向を主走査方向として順
次的に走査することによりその４頂点の座標値が求めら
れる。たとえば図４の模式図に示されているように方形
の試料11の２値画像110 が得られているとし、その４頂
点をＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄとする。この場合、点ＢにおいてＸ
座標の最大値が、点Ｄにおいて同最小値が得られ、また
点ＡにおいてＹ座標の最大値が、点Ｃにおいて同最小値
が得られる。このような処理は公知であり、且つ容易で
ある。
【００２９】ここで、上述のようにして求められた方形
の試料11の２値画像110 の４頂点Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの座標
値を便宜上ａ，ｂ，ｃ，ｄとすると、方形の試料11の２
値画像110 の中心点の座標値CP、長辺（ＡＢ，ＣＤ）及
び短辺（ＡＤ，ＢＣ）の長さを求めることは容易であ
る。このようにして求められた各値に従って、点Ａを方
形モデルM1の基準点 (Ｘ0 , Ｙ0 ) とし、長辺（ＡＢ，
ＣＤ）の長さをＬx , 短辺（ＡＤ，ＢＣ）の長さをＬy
とすれば、方形の試料11の２値画像110 上の各検査対象
点の座標値 (Ｘi , Ｙj ) が前述の式(2) により求めら
れる。
の試料11の２値画像110 の４頂点Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの座標
値を便宜上ａ，ｂ，ｃ，ｄとすると、方形の試料11の２
値画像110 の中心点の座標値CP、長辺（ＡＢ，ＣＤ）及
び短辺（ＡＤ，ＢＣ）の長さを求めることは容易であ
る。このようにして求められた各値に従って、点Ａを方
形モデルM1の基準点 (Ｘ0 , Ｙ0 ) とし、長辺（ＡＢ，
ＣＤ）の長さをＬx , 短辺（ＡＤ，ＢＣ）の長さをＬy
とすれば、方形の試料11の２値画像110 上の各検査対象
点の座標値 (Ｘi , Ｙj ) が前述の式(2) により求めら
れる。
【００３０】また、円形の試料12の場合にも同様に図５
に示されているように、たとえばＸ軸方向を主走査方向
として順次的に走査することにより、点ＢにおいてＸ座
標の最大値が、点Ｄにおいて同最小値が得られ、また点
ＡにおいてＹ座標の最大値が、点Ｃにおいて同最小値が
得られる。これらの４点Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄは円形の試料12
の２値画像120 の外接正方形との接点になっている。
に示されているように、たとえばＸ軸方向を主走査方向
として順次的に走査することにより、点ＢにおいてＸ座
標の最大値が、点Ｄにおいて同最小値が得られ、また点
ＡにおいてＹ座標の最大値が、点Ｃにおいて同最小値が
得られる。これらの４点Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄは円形の試料12
の２値画像120 の外接正方形との接点になっている。
【００３１】このようにして求められた円形の試料12の
２値画像120 の外接正方形との４接点Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの
座標値を便宜上ａ，ｂ，ｃ，ｄとすると、円形の試料12
の２値画像120 の中心点の座標値CP及び半径Ｒを求める
ことは容易である。このようにして求められた各値に従
って、各検査対象点の座標値 (Ｘi , Ｙj ) が前述の式
(4) により求められる。
２値画像120 の外接正方形との４接点Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの
座標値を便宜上ａ，ｂ，ｃ，ｄとすると、円形の試料12
の２値画像120 の中心点の座標値CP及び半径Ｒを求める
ことは容易である。このようにして求められた各値に従
って、各検査対象点の座標値 (Ｘi , Ｙj ) が前述の式
(4) により求められる。
【００３２】なお以上の説明では、方形の試料11及び円
形の試料12のいずれにおいてもそれらの２値画像110, 1
20上の４点を、方形の試料11の場合にはその４頂点の座
標値として、円形の試料12の場合はその外接正方形との
４接点の座標値としてそれぞれ特定して方形モデルM1，
円形モデルM2の当てはめを行っている。しかし、方形の
試料11の場合には３点の座標値をその３頂点の座標値と
して特定すれば方形モデルM1の当てはめが行える。ま
た、円形の試料12の場合にはＸ軸方向の最大，最小座標
値及びそれぞれのＹ座標値の２点、またはＹ軸方向の最
大，最小座標値及びそれぞれのＸ座標値の２点を特定す
ればそれを直径として円形モデルM2の当てはめが可能で
ある。
形の試料12のいずれにおいてもそれらの２値画像110, 1
20上の４点を、方形の試料11の場合にはその４頂点の座
標値として、円形の試料12の場合はその外接正方形との
４接点の座標値としてそれぞれ特定して方形モデルM1，
円形モデルM2の当てはめを行っている。しかし、方形の
試料11の場合には３点の座標値をその３頂点の座標値と
して特定すれば方形モデルM1の当てはめが行える。ま
た、円形の試料12の場合にはＸ軸方向の最大，最小座標
値及びそれぞれのＹ座標値の２点、またはＹ軸方向の最
大，最小座標値及びそれぞれのＸ座標値の２点を特定す
ればそれを直径として円形モデルM2の当てはめが可能で
ある。
【００３３】もちろん、このように方形の試料11の３頂
点に方形モデルM1を当てはめる場合及び円形の試料12の
２点に円形のモデルM2を当てはめる場合には、上述の方
形の試料11及び円形の試料12のいずれにも４点を求めて
当てはめを行う場合に比して若干精度が低下する可能性
はあるが、実用上の問題はない。
点に方形モデルM1を当てはめる場合及び円形の試料12の
２点に円形のモデルM2を当てはめる場合には、上述の方
形の試料11及び円形の試料12のいずれにも４点を求めて
当てはめを行う場合に比して若干精度が低下する可能性
はあるが、実用上の問題はない。
【００３４】更に以上の説明では方形の試料11及び円形
の試料12のいずれにおいてもそれらの２値画像110, 120
上の４点を、方形の試料11の場合にはその４頂点の座標
値として、円形の試料12の場合はその外接正方形との４
接点の座標値としてそれぞれ特定して方形モデルM1，円
形モデルM2の当てはめを行っている。しかし、方形の試
料11の場合にはその対角線上の２点を特定して中心の座
標値を求め、また円形の試料12の場合にはその直径上の
２点を特定して中心の座標値を求めれば、方形モデルM
1，円形モデルM2の当てはめが可能である。
の試料12のいずれにおいてもそれらの２値画像110, 120
上の４点を、方形の試料11の場合にはその４頂点の座標
値として、円形の試料12の場合はその外接正方形との４
接点の座標値としてそれぞれ特定して方形モデルM1，円
形モデルM2の当てはめを行っている。しかし、方形の試
料11の場合にはその対角線上の２点を特定して中心の座
標値を求め、また円形の試料12の場合にはその直径上の
２点を特定して中心の座標値を求めれば、方形モデルM
1，円形モデルM2の当てはめが可能である。
【００３５】図６は方形モデルM1において上述の２点の
座標値を示す模式図である。方形モデルM1の場合には、
図６に示されているように、基準点（Ｘ0 ，Ｙ0 ）が位
置する対角線上のもう一方の頂点の座標値は（Ｘ0 ＋Ｌ
x ，Ｙ0 ＋Ｌy ）であり、その対角線の中点、即ち方形
モデルM1の中心の座標値は（Ｘ0 ＋Ｌx /2，Ｙ0 ＋Ｌy
/2) である。従って、図４の模式図において、点Ａ及び
Ｃの座標値が求まれば、方形モデルM1の当てはめが可能
になる。
座標値を示す模式図である。方形モデルM1の場合には、
図６に示されているように、基準点（Ｘ0 ，Ｙ0 ）が位
置する対角線上のもう一方の頂点の座標値は（Ｘ0 ＋Ｌ
x ，Ｙ0 ＋Ｌy ）であり、その対角線の中点、即ち方形
モデルM1の中心の座標値は（Ｘ0 ＋Ｌx /2，Ｙ0 ＋Ｌy
/2) である。従って、図４の模式図において、点Ａ及び
Ｃの座標値が求まれば、方形モデルM1の当てはめが可能
になる。
【００３６】また、円形モデルM2の場合には、図３に示
されているように、その中心を基準点とし、また半径Ｒ
は既知であるので、図５の模式図において、点Ｂ及びＤ
の座標値が求まれば、円形モデルM2の当てはめが可能に
なる。
されているように、その中心を基準点とし、また半径Ｒ
は既知であるので、図５の模式図において、点Ｂ及びＤ
の座標値が求まれば、円形モデルM2の当てはめが可能に
なる。
【００３７】以下、本発明の具体的実施例について説明
する。図７は本発明方法の実施に用いられる画像処理シ
ステムの構成例を示すブロック図である。
する。図７は本発明方法の実施に用いられる画像処理シ
ステムの構成例を示すブロック図である。
【００３８】図７において、参照符号51はマクロスタン
ドであり、前述の方形の試料11または円形の試料12を載
置した試料台１の全体像をTVカメラ52によりマクロ撮像
するために使用される。このTVカメラ52により撮像され
た試料台１の全体の画像はイメージプロセッサ60に送ら
れる。なお、イメージプロセッサ60には高精細度モニタ
62が接続されている。
ドであり、前述の方形の試料11または円形の試料12を載
置した試料台１の全体像をTVカメラ52によりマクロ撮像
するために使用される。このTVカメラ52により撮像され
た試料台１の全体の画像はイメージプロセッサ60に送ら
れる。なお、イメージプロセッサ60には高精細度モニタ
62が接続されている。
【００３９】参照符号53は防振台であり、この上に X-Y
ステージ54が載置される。この X-Yステージ54は方形の
試料11または円形の試料12のミクロ撮像のために使用さ
れる。 X-Yステージ54上には試料台１が載置され、その
方形の試料11または円形の試料12上の検査対象位置を光
学顕微鏡56を介してTVカメラ58により撮像する。なお、
X-Yステージ54は X-Yステージコントローラ55によりＸ
−Ｙ方向に移動制御され、光学顕微鏡56はオートフォー
カスコントローラ56により合焦制御され、TVカメラ58は
カメラコントローラ59により制御される。また、この光
学顕微鏡56を介してTVカメラ58により撮像される視野サ
イズがｌx ×ｌy である。
ステージ54が載置される。この X-Yステージ54は方形の
試料11または円形の試料12のミクロ撮像のために使用さ
れる。 X-Yステージ54上には試料台１が載置され、その
方形の試料11または円形の試料12上の検査対象位置を光
学顕微鏡56を介してTVカメラ58により撮像する。なお、
X-Yステージ54は X-Yステージコントローラ55によりＸ
−Ｙ方向に移動制御され、光学顕微鏡56はオートフォー
カスコントローラ56により合焦制御され、TVカメラ58は
カメラコントローラ59により制御される。また、この光
学顕微鏡56を介してTVカメラ58により撮像される視野サ
イズがｌx ×ｌy である。
【００４０】TVカメラ58により撮像された画像はイメー
ジプロセッサ60に送られる。
ジプロセッサ60に送られる。
【００４１】上述の X-Yステージコントローラ55, オー
トフォーカスコントローラ57及びイメージプロセッサ60
はホストコンピュータ61により制御される。なお、ホス
トコンピュータ61には、 CRTディスプレイ63, キーボー
ド64及びマウス65等の入出力用の周辺装置が接続されて
いる。
トフォーカスコントローラ57及びイメージプロセッサ60
はホストコンピュータ61により制御される。なお、ホス
トコンピュータ61には、 CRTディスプレイ63, キーボー
ド64及びマウス65等の入出力用の周辺装置が接続されて
いる。
【００４２】まず、図２に示されているような方形モデ
ルM1または図３に示されているような円形モデルM2を設
定してホストコンピュータ61に記憶させる。この方形モ
デルM1または円形モデルM2の設定はたとえば、 CRTディ
スプレイ63上にグラフィック表示された画像をキーボー
ド64及びマウス65を使用して操作することによりオペレ
ータが手動入力することも、また方形モデルM1の各辺の
長さ, 円形モデルM2の半径及び検査対象点の数, あるい
は配置間隔等の諸元を入力することにより自動的に生成
するようにプログラミングしておくことも可能である。
ルM1または図３に示されているような円形モデルM2を設
定してホストコンピュータ61に記憶させる。この方形モ
デルM1または円形モデルM2の設定はたとえば、 CRTディ
スプレイ63上にグラフィック表示された画像をキーボー
ド64及びマウス65を使用して操作することによりオペレ
ータが手動入力することも、また方形モデルM1の各辺の
長さ, 円形モデルM2の半径及び検査対象点の数, あるい
は配置間隔等の諸元を入力することにより自動的に生成
するようにプログラミングしておくことも可能である。
【００４３】次に、図１(a) に示されているような方形
の試料11が載置された試料台１または図１(b) に示され
ているような円形の試料12が載置された試料台１がマク
ロスタンド51上にセットされてTVカメラ52によりその全
体の画像が撮像される。
の試料11が載置された試料台１または図１(b) に示され
ているような円形の試料12が載置された試料台１がマク
ロスタンド51上にセットされてTVカメラ52によりその全
体の画像が撮像される。
【００４４】この画像はイメージプロセッサ60に送られ
て２値化処理され、高精細度モニタ62に表示される。ホ
ストコンピュータ61はイメージプロセッサ60により処理
された方形の試料11または円形の試料12の全体が撮像さ
れている２値画像を走査して、図４の模式図に示されて
いるような方形の試料11の２値画像110 の４頂点を特定
する処理または図５の模式図に示されているような円形
の試料12の２値画像120 の外接正方形との４接点を特定
する処理を行う。
て２値化処理され、高精細度モニタ62に表示される。ホ
ストコンピュータ61はイメージプロセッサ60により処理
された方形の試料11または円形の試料12の全体が撮像さ
れている２値画像を走査して、図４の模式図に示されて
いるような方形の試料11の２値画像110 の４頂点を特定
する処理または図５の模式図に示されているような円形
の試料12の２値画像120 の外接正方形との４接点を特定
する処理を行う。
【００４５】そして、ホストコンピュータ61は求められ
た方形の試料11の２値画像110 の４頂点Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ
の座標値に方形モデルM1を当てはめ、または円形の試料
12の２値画像120 の外接正方形との４接点Ａ，Ｂ，Ｃ，
Ｄの座標値に円形モデルM2を当てはめ、方形の試料11の
２値画像110 上の各検査対象点の座標値 (Ｘi , Ｙj)
を前述の式(2) により、 または円形の試料12の２値画
像120 上の各検査対象点の座標値 (Ｘi , Ｙj ) を前述
の式(4) に従って算出し、内部メモリに記憶する。
た方形の試料11の２値画像110 の４頂点Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ
の座標値に方形モデルM1を当てはめ、または円形の試料
12の２値画像120 の外接正方形との４接点Ａ，Ｂ，Ｃ，
Ｄの座標値に円形モデルM2を当てはめ、方形の試料11の
２値画像110 上の各検査対象点の座標値 (Ｘi , Ｙj)
を前述の式(2) により、 または円形の試料12の２値画
像120 上の各検査対象点の座標値 (Ｘi , Ｙj ) を前述
の式(4) に従って算出し、内部メモリに記憶する。
【００４６】次に、試料11または12が位置合わせして X
-Yステージ54に載置され、ホストコンピュータ61はその
内部メモリに記憶されている各検査対象点の座標値 (Ｘ
i ,Ｙj ) が順次光学顕微鏡56の視野の中央に合致する
ように X-Yステージコントローラ55に指示を与えて X-Y
ステージ54を移動させる。これと同時にホストコンピュ
ータ61はオートフォーカスコントローラ57にも指示を与
えて光学顕微鏡56の合焦制御を行いつつイメージプロセ
ッサ60にも指示を与えて各検査対象点の撮像を行う。
-Yステージ54に載置され、ホストコンピュータ61はその
内部メモリに記憶されている各検査対象点の座標値 (Ｘ
i ,Ｙj ) が順次光学顕微鏡56の視野の中央に合致する
ように X-Yステージコントローラ55に指示を与えて X-Y
ステージ54を移動させる。これと同時にホストコンピュ
ータ61はオートフォーカスコントローラ57にも指示を与
えて光学顕微鏡56の合焦制御を行いつつイメージプロセ
ッサ60にも指示を与えて各検査対象点の撮像を行う。
【００４７】一方、上述の方形の試料11の２値画像110
の２頂点Ａ及びＣのみを求めて方形モデルM1を当てはめ
ることも前述の如く可能であり、方形モデルM1の当ては
めが行われた後は上述同様の処理を行えばよい。また更
に、上述の円形の試料12の２値画像120 の直径上の２点
Ｂ及びＤのみを求めて円形モデルM2を当てはめることも
前述の如く可能であり、円形モデルM2の当てはめが行わ
れた後は上述同様の処理を行えばよい。
の２頂点Ａ及びＣのみを求めて方形モデルM1を当てはめ
ることも前述の如く可能であり、方形モデルM1の当ては
めが行われた後は上述同様の処理を行えばよい。また更
に、上述の円形の試料12の２値画像120 の直径上の２点
Ｂ及びＤのみを求めて円形モデルM2を当てはめることも
前述の如く可能であり、円形モデルM2の当てはめが行わ
れた後は上述同様の処理を行えばよい。
【００４８】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、検査対象
である方形の試料の２値画像の少なくとも３頂点（また
は対角線上の２頂点）を、円形の試料の２値画像の外接
正方形との少なくとも一方の座標軸方向の直径上の２接
点（または直径上の２点）を画像処理的に特定し、この
結果に予め設定されている方形モデルまたは円形モデル
を当てはめ、更に方形モデルまたは円形モデル中に予め
位置決めされている点を検査対象点の座標値 (Ｘi , Ｙ
j ) として設定するので、試料の輪郭を認識するという
画像処理的に極めて複雑な処理を必要とせずに、試料上
の微細な検査対象領域を容易且つ迅速に設定することが
可能になる。
である方形の試料の２値画像の少なくとも３頂点（また
は対角線上の２頂点）を、円形の試料の２値画像の外接
正方形との少なくとも一方の座標軸方向の直径上の２接
点（または直径上の２点）を画像処理的に特定し、この
結果に予め設定されている方形モデルまたは円形モデル
を当てはめ、更に方形モデルまたは円形モデル中に予め
位置決めされている点を検査対象点の座標値 (Ｘi , Ｙ
j ) として設定するので、試料の輪郭を認識するという
画像処理的に極めて複雑な処理を必要とせずに、試料上
の微細な検査対象領域を容易且つ迅速に設定することが
可能になる。
【図１】試料台上に載置されている試料の状態を示す模
式図である。
式図である。
【図２】方形モデルの例を示す模式図である。
【図３】円形モデルの例を示す模式図である。
【図４】方形の試料の４頂点を特定する処理を示す模式
図である。
図である。
【図５】円形の試料の外接正方形との４接点を特定する
処理を示す模式図である。
処理を示す模式図である。
【図６】方形モデルにおいて対角線上の２点の座標値を
示す模式図である。
示す模式図である。
【図７】本発明方法の実施に用いられる画像処理システ
ムの構成例を示すブロック図である。
ムの構成例を示すブロック図である。
M1 方形モデル M2 円形モデル １ 試料台 11 方形の試料 12 円形の試料 110 方形の試料の２値画像 120 円形の試料の２値画像
Claims (4)
- 【請求項１】 方形の試料上の所定の位置を画像処理に
より検査する際の検査対象位置設定方法において、 予めその内部に検査対象位置となるべき点が位置決めさ
れた方形モデルを設定し、 処理対象試料全体の画像を撮像し、 撮像された処理対象試料全体の画像をＸ−Ｙ座標系上で
２値化して一方の値の領域を処理対象領域として抽出
し、 抽出された処理対象領域のＸ軸方向の最大，最小座標値
及びそれぞれのＹ座標値と、Ｙ軸方向の最大，最小座標
値及びそれぞれのＸ座標値との４点の座標値の内の３点
または４点の座標値を求め、 求められた３点または４点の座標値を方形の４頂点の内
の対応する３頂点または４頂点の座標値としてそれらに
前記方形モデルの対応する点の座標値を当てはめ、 当てはめられた方形モデル内において予め位置決めされ
ている点を検査対象位置として設定することを特徴とす
る画像処理における処理対象領域設定方法。 - 【請求項２】 円形の試料上の所定の位置を画像処理に
より検査する際の検査対象位置設定方法において、 予めその内部に検査対象位置となるべき点が位置決めさ
れた円形モデルを設定し、 処理対象試料全体の画像を撮像し、 撮像された処理対象試料全体の画像をＸ−Ｙ座標系上で
２値化して一方の値の領域を処理対象領域として抽出
し、 抽出された処理対象領域のＸ軸方向の最大，最小座標値
及びそれぞれのＹ座標値の２点、またはＹ軸方向の最
大，最小座標値及びそれぞれのＸ座標値の２点、もしく
は４点すべての座標値を求め、 求められた２点または４点の座標値を円形の外接正方形
との直径上の２接点の座標値または４接点の座標値とし
てそれらに前記円形モデルの対応する点の座標値を当て
はめ、 当てはめられた円形モデル内において予め位置決めされ
ている点を検査対象位置として設定することを特徴とす
る画像処理における処理対象領域設定方法。 - 【請求項３】 方形の試料上の所定の位置を画像処理に
より検査する際の検査対象位置設定方法において、 予めその内部に検査対象位置となるべき点が位置決めさ
れた方形モデルを設定し、 処理対象試料全体の画像を撮像し、 撮像された処理対象試料全体の画像をＸ−Ｙ座標系上で
２値化して一方の値の領域を処理対象領域として抽出
し、 抽出された処理対象領域のＸ軸（またはＹ軸）方向の最
大，最小座標値及びそれぞれのＹ座標値（またはＸ座標
値）の２点の座標値を求め、 求められた２点の座標値の中点の座標値を求め、 前記中点の座標を方形の中心として、前記２点を方形の
対角線上の２頂点としてそれらに前記方形モデルの対応
する点の座標値を当てはめ、 当てはめられた方形モデル内において予め位置決めされ
ている点を検査対象位置として設定することを特徴とす
る画像処理における処理対象領域設定方法。 - 【請求項４】 円形の試料上の所定の位置を画像処理に
より検査する際の検査対象位置設定方法において、 予めその内部に検査対象位置となるべき点が位置決めさ
れた円形モデルを設定し、 処理対象試料全体の画像を撮像し、 撮像された処理対象試料全体の画像をＸ−Ｙ座標系上で
２値化して一方の値の領域を処理対象領域として抽出
し、 抽出された処理対象領域のＸ軸（またはＹ軸）方向の最
大，最小座標値及びそれぞれのＹ座標値（またはＸ座標
値）の２点の座標値を求め、 求められた２点の中点の座標値及び２点間の距離を求
め、 前記中点の座標値を円の中心の座標値として、前記２点
間の距離を円の直径としてそれらに前記円形モデルの対
応する座標値及び直径を当てはめ、 当てはめられた円形モデル内において予め位置決めされ
ている点を検査対象位置として設定することを特徴とす
る画像処理における処理対象領域設定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4233071A JPH0612491A (ja) | 1992-04-29 | 1992-08-07 | 画像処理における検査対象位置設定方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13792492 | 1992-04-29 | ||
| JP4-137924 | 1992-04-29 | ||
| JP4233071A JPH0612491A (ja) | 1992-04-29 | 1992-08-07 | 画像処理における検査対象位置設定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0612491A true JPH0612491A (ja) | 1994-01-21 |
Family
ID=26471085
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4233071A Pending JPH0612491A (ja) | 1992-04-29 | 1992-08-07 | 画像処理における検査対象位置設定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0612491A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017538960A (ja) * | 2014-10-29 | 2017-12-28 | ルーメンコア インコーポレイテッド | 統合型蛍光スキャニングシステム |
-
1992
- 1992-08-07 JP JP4233071A patent/JPH0612491A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017538960A (ja) * | 2014-10-29 | 2017-12-28 | ルーメンコア インコーポレイテッド | 統合型蛍光スキャニングシステム |
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