JPH06124615A - エナメル線屑の処理方法 - Google Patents
エナメル線屑の処理方法Info
- Publication number
- JPH06124615A JPH06124615A JP13295493A JP13295493A JPH06124615A JP H06124615 A JPH06124615 A JP H06124615A JP 13295493 A JP13295493 A JP 13295493A JP 13295493 A JP13295493 A JP 13295493A JP H06124615 A JPH06124615 A JP H06124615A
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- JP
- Japan
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- enamel
- wire
- scrap
- cut
- coating film
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B07—SEPARATING SOLIDS FROM SOLIDS; SORTING
- B07B—SEPARATING SOLIDS FROM SOLIDS BY SIEVING, SCREENING, SIFTING OR BY USING GAS CURRENTS; SEPARATING BY OTHER DRY METHODS APPLICABLE TO BULK MATERIAL, e.g. LOOSE ARTICLES FIT TO BE HANDLED LIKE BULK MATERIAL
- B07B9/00—Combinations of apparatus for screening or sifting or for separating solids from solids using gas currents; General arrangement of plant, e.g. flow sheets
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B03—SEPARATION OF SOLID MATERIALS USING LIQUIDS OR USING PNEUMATIC TABLES OR JIGS; MAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
- B03B—SEPARATING SOLID MATERIALS USING LIQUIDS OR USING PNEUMATIC TABLES OR JIGS
- B03B9/00—General arrangement of separating plant, e.g. flow sheets
- B03B9/06—General arrangement of separating plant, e.g. flow sheets specially adapted for refuse
- B03B9/061—General arrangement of separating plant, e.g. flow sheets specially adapted for refuse the refuse being industrial
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02W—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
- Y02W30/00—Technologies for solid waste management
- Y02W30/50—Reuse, recycling or recovery technologies
- Y02W30/52—Mechanical processing of waste for the recovery of materials, e.g. crushing, shredding, separation or disassembly
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49751—Scrap recovering or utilizing
- Y10T29/49755—Separating one material from another
Landscapes
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- Processing Of Solid Wastes (AREA)
- Removal Of Insulation Or Armoring From Wires Or Cables (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 大気汚染や薬品公害を起こさないエナメル線
屑の処理方法を提供する。 【構成】 エナメル線屑9を所定の長さ以下に切断し、
切断したエナメル線屑9を攪拌してエナメル皮膜を剥離
し、この剥離したエナメル皮膜片11を金属線材から分離
するので、大気汚染や薬品公害等を起こさずにメタル回
収がなされる。
屑の処理方法を提供する。 【構成】 エナメル線屑9を所定の長さ以下に切断し、
切断したエナメル線屑9を攪拌してエナメル皮膜を剥離
し、この剥離したエナメル皮膜片11を金属線材から分離
するので、大気汚染や薬品公害等を起こさずにメタル回
収がなされる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は大気汚染や薬品公害を起
こさないエナメル線屑の処理方法に関する。
こさないエナメル線屑の処理方法に関する。
【0002】
【従来の技術】エナメル線は、銅やアルミ線の表面に加
熱乾燥性の塗料を繰返し焼き付けた一種の絶縁電線であ
る。そしてこのエナメル線の屑は適当な大きさに圧縮成
形して、そのまま溶解炉に入れ溶解しメタル分を回収し
ていた。
熱乾燥性の塗料を繰返し焼き付けた一種の絶縁電線であ
る。そしてこのエナメル線の屑は適当な大きさに圧縮成
形して、そのまま溶解炉に入れ溶解しメタル分を回収し
ていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述の
ようにそのまま溶解すると、溶解する際にエナメル皮膜
が発煙して大気汚染を引き起こす問題があった。又溶解
炉に入れる前にエナメル皮膜だけを比較的低温で焼却す
るようにしても発煙量は変わらず、従って溶解炉や焼却
炉には高価な集塵機が必要となり、コスト的に不利であ
った。又エナメル皮膜を薬品に溶かして除去する方法で
は、薬品による公害が生じる上、処理能力が低く、又薬
品は高価な為コスト的にも不利であった。
ようにそのまま溶解すると、溶解する際にエナメル皮膜
が発煙して大気汚染を引き起こす問題があった。又溶解
炉に入れる前にエナメル皮膜だけを比較的低温で焼却す
るようにしても発煙量は変わらず、従って溶解炉や焼却
炉には高価な集塵機が必要となり、コスト的に不利であ
った。又エナメル皮膜を薬品に溶かして除去する方法で
は、薬品による公害が生じる上、処理能力が低く、又薬
品は高価な為コスト的にも不利であった。
【0004】
【課題を解決する為の手段】本発明はこのような状況に
鑑み鋭意研究を行った結果なされたもので、その目的と
するところは、エナメル皮膜を無公害で且つ低コストで
除去する方法を提供することにある。即ち、本発明は、
金属線材にエナメル皮膜を焼付けたエナメル線の屑に下
記工程を順次施すことを特徴とするエナメル線屑の処理
方法である。(イ)エナメル線屑を切断する工程。
(ロ)切断したエナメル線屑を攪拌する工程。(ハ)上
記(イ)と(ロ)の工程をエナメル線屑が所定の寸法以
下に切断されるまで繰返してエナメル皮膜を剥離する工
程。(ニ)所定の寸法以下に切断された金属線材を選別
する工程。(ホ)剥離したエナメル皮膜を上記選別され
た金属線材から分離する工程。
鑑み鋭意研究を行った結果なされたもので、その目的と
するところは、エナメル皮膜を無公害で且つ低コストで
除去する方法を提供することにある。即ち、本発明は、
金属線材にエナメル皮膜を焼付けたエナメル線の屑に下
記工程を順次施すことを特徴とするエナメル線屑の処理
方法である。(イ)エナメル線屑を切断する工程。
(ロ)切断したエナメル線屑を攪拌する工程。(ハ)上
記(イ)と(ロ)の工程をエナメル線屑が所定の寸法以
下に切断されるまで繰返してエナメル皮膜を剥離する工
程。(ニ)所定の寸法以下に切断された金属線材を選別
する工程。(ホ)剥離したエナメル皮膜を上記選別され
た金属線材から分離する工程。
【0005】本発明方法において、エナメル線屑の切断
と攪拌とは、例えばカッターを取り付けた軸を回転させ
て、切断と切断片の撹拌を行う通常の粉砕機が適用でき
る。このような粉砕機では、エナメル線は、切断ととも
にエナメル皮膜に切り傷が付き、この切り傷の付いた切
断片が撹拌されて相互に衝突して、エナメル皮膜が剥離
する。切断と攪拌の工程はバッチ式に行っても又連続的
に行っても差し支えない。前者のバッチ式においては、
往復動式の切断機を用いることもできる。
と攪拌とは、例えばカッターを取り付けた軸を回転させ
て、切断と切断片の撹拌を行う通常の粉砕機が適用でき
る。このような粉砕機では、エナメル線は、切断ととも
にエナメル皮膜に切り傷が付き、この切り傷の付いた切
断片が撹拌されて相互に衝突して、エナメル皮膜が剥離
する。切断と攪拌の工程はバッチ式に行っても又連続的
に行っても差し支えない。前者のバッチ式においては、
往復動式の切断機を用いることもできる。
【0006】エナメル線屑から剥離したエナメル皮膜を
金属線材から分離するには、液中分離法、吸引法、遠心
分離法等の比重差分離法の他、コスト的に不利だが静電
分離法等も適用できる。比重差分離法のうち、吸引法と
は、空気等の気体を吸引してエナメル皮膜を吸引する方
法であるが、気体を吹き付けてエナメル皮膜を吹き飛ば
す方法も適用される。
金属線材から分離するには、液中分離法、吸引法、遠心
分離法等の比重差分離法の他、コスト的に不利だが静電
分離法等も適用できる。比重差分離法のうち、吸引法と
は、空気等の気体を吸引してエナメル皮膜を吸引する方
法であるが、気体を吹き付けてエナメル皮膜を吹き飛ば
す方法も適用される。
【0007】請求項2の発明は、エナメル線屑を粉砕機
に入れてエナメル線の直径の10倍以下の長さに切断され
るまで、切断と攪拌を繰返したのち、剥離したエナメル
皮膜片を比重差分離法により分離することを特徴とする
ものであるが、ここで粉砕後のエナメル線屑の長さを、
エナメル線径の10倍以下に限定した理由は、10倍以下の
長さになるまで切断と攪拌を繰返さないと、エナメル皮
膜が十分に剥離されない為である。又剥離したエナメル
皮膜を比重差分離法により分離する理由は、比重差分離
法は、大気や水質汚染等の公害問題を回避でき、又コス
ト的にも廉価な為である。
に入れてエナメル線の直径の10倍以下の長さに切断され
るまで、切断と攪拌を繰返したのち、剥離したエナメル
皮膜片を比重差分離法により分離することを特徴とする
ものであるが、ここで粉砕後のエナメル線屑の長さを、
エナメル線径の10倍以下に限定した理由は、10倍以下の
長さになるまで切断と攪拌を繰返さないと、エナメル皮
膜が十分に剥離されない為である。又剥離したエナメル
皮膜を比重差分離法により分離する理由は、比重差分離
法は、大気や水質汚染等の公害問題を回避でき、又コス
ト的にも廉価な為である。
【0008】本発明において、粉砕機に剪断式切断機を
配置し、前記切断機の刃の間隔を、処理するエナメル線
の直径の20〜50%に設定すると、エナメル線表面に
切り傷が付き易い。又前記切断機に処理するエナメル線
を所定寸法以下に切断されるまで繰返し通過させると、
切り傷が多数形成されて、エナメル皮膜が剥離し易くな
る。又所定寸法以下に切断された金属線を選別する為に
は、例えば前記切断機の下方に所定の穴径を有するスク
リーンを配置すれば良く、その際前記スクリーンの穴径
(楕円形等真円でない場合は最大径、矩形等の場合は相
対する頂点間距離)を処理するエナメル線の直径の10倍
以下にすると、エナメル皮膜が剥離した金属線の回収率
が高まる。
配置し、前記切断機の刃の間隔を、処理するエナメル線
の直径の20〜50%に設定すると、エナメル線表面に
切り傷が付き易い。又前記切断機に処理するエナメル線
を所定寸法以下に切断されるまで繰返し通過させると、
切り傷が多数形成されて、エナメル皮膜が剥離し易くな
る。又所定寸法以下に切断された金属線を選別する為に
は、例えば前記切断機の下方に所定の穴径を有するスク
リーンを配置すれば良く、その際前記スクリーンの穴径
(楕円形等真円でない場合は最大径、矩形等の場合は相
対する頂点間距離)を処理するエナメル線の直径の10倍
以下にすると、エナメル皮膜が剥離した金属線の回収率
が高まる。
【0009】
【作用】本発明方法では、エナメル線屑に、該エナメル
線屑が所定の長さに切断されるまで、切断と攪拌を繰返
し施してエナメル皮膜を剥離し、この剥離したエナメル
皮膜を金属線材から分離するので、大気汚染や薬品公害
を起こさずにメタル回収がなされる。
線屑が所定の長さに切断されるまで、切断と攪拌を繰返
し施してエナメル皮膜を剥離し、この剥離したエナメル
皮膜を金属線材から分離するので、大気汚染や薬品公害
を起こさずにメタル回収がなされる。
【0010】
【実施例】以下に本発明を実施例により詳細に説明す
る。 実施例1 図1に示したエナメル線屑連続処理装置を用いて0.5 mm
φと1.0 mmφの銅エナメル線屑のエナメル皮膜を除去し
た。前記エナメル線屑連続処理装置は下方に回転刃1を
設けた縦型粉砕機2、所定の寸法以下に切断された粉砕
片を選別して分離する為のスクリーン3、スクリーン3
を出た粉砕片から剥離したエナメル皮膜片11を除去する
吸引パイプ4付き案内筒5、粉砕片を移送するコンベア
6、コンベア6上の粉砕片からエナメル皮膜片11を吸引
分離するドラフト7、コンベア6上に残った金属片を溜
める容器8から構成されている。
る。 実施例1 図1に示したエナメル線屑連続処理装置を用いて0.5 mm
φと1.0 mmφの銅エナメル線屑のエナメル皮膜を除去し
た。前記エナメル線屑連続処理装置は下方に回転刃1を
設けた縦型粉砕機2、所定の寸法以下に切断された粉砕
片を選別して分離する為のスクリーン3、スクリーン3
を出た粉砕片から剥離したエナメル皮膜片11を除去する
吸引パイプ4付き案内筒5、粉砕片を移送するコンベア
6、コンベア6上の粉砕片からエナメル皮膜片11を吸引
分離するドラフト7、コンベア6上に残った金属片を溜
める容器8から構成されている。
【0011】前記の銅エナメル線屑9は、前記エナメル
線屑連続処理装置の縦型粉砕機2の上方から連続的に投
入した。スクリーン3を通過した粉砕片は案内筒5内を
落下し、コンベア6上を移動して容器8内に集積した。
集積した粉砕片10は所定形状に圧縮した。この間粉砕片
以外のエナメル皮膜片11は案内筒5の吸引パイプ4及び
コンベア6上方のドラフト7により吸引除去された。又
スクリーン3の網目は、エナメル線屑9の線径の10倍以
下の長さのものが落下するように選定した。回転刃の刃
間距離はエナメル線屑の40%に設定した。
線屑連続処理装置の縦型粉砕機2の上方から連続的に投
入した。スクリーン3を通過した粉砕片は案内筒5内を
落下し、コンベア6上を移動して容器8内に集積した。
集積した粉砕片10は所定形状に圧縮した。この間粉砕片
以外のエナメル皮膜片11は案内筒5の吸引パイプ4及び
コンベア6上方のドラフト7により吸引除去された。又
スクリーン3の網目は、エナメル線屑9の線径の10倍以
下の長さのものが落下するように選定した。回転刃の刃
間距離はエナメル線屑の40%に設定した。
【0012】比較例1 実施例1において、スクリーンの網目を、粉砕片が、エ
ナメル線屑の直径の14倍以下の長さで通過する大きさに
変えた他は、実施例1と同じ方法により粉砕片を集積
し、これを所定形状に圧縮した。
ナメル線屑の直径の14倍以下の長さで通過する大きさに
変えた他は、実施例1と同じ方法により粉砕片を集積
し、これを所定形状に圧縮した。
【0013】比較例2 実施例1で用いたのと同じ銅エナメル線屑をそのまま所
定形状の圧縮体に成形した。
定形状の圧縮体に成形した。
【0014】このようにして作製した各々の圧縮体から
サンプルを取り出してエナメル皮膜量を測定した。又こ
の圧縮体を溶融銅の中に投入して溶解し、この時の発煙
量を観察した。又廃ガス中のダスト量を測定した。結果
を表1に示した。
サンプルを取り出してエナメル皮膜量を測定した。又こ
の圧縮体を溶融銅の中に投入して溶解し、この時の発煙
量を観察した。又廃ガス中のダスト量を測定した。結果
を表1に示した。
【0015】
【表1】
【0016】表1より明らかなように、本発明方法品
(No1〜4)は、いずれも、エナメル皮膜量が少なく、
従って溶解時の発煙量も排ガス中のダストも僅かで、規
制値の0.2 g/Nm3を下回った。又短時間で大量の屑が処
理できた。これに対し、比較例品のNo5,6は、エナメ
ル線屑の切断長さが長かった為、エナメル皮膜が十分剥
離されず、又No7,8はエナメル線屑をそのまま溶解し
た為、いずれも、エナメル皮膜量が多く、その結果溶解
時に激しく発煙し、又廃ガス中に大量のダストが含有さ
れた。
(No1〜4)は、いずれも、エナメル皮膜量が少なく、
従って溶解時の発煙量も排ガス中のダストも僅かで、規
制値の0.2 g/Nm3を下回った。又短時間で大量の屑が処
理できた。これに対し、比較例品のNo5,6は、エナメ
ル線屑の切断長さが長かった為、エナメル皮膜が十分剥
離されず、又No7,8はエナメル線屑をそのまま溶解し
た為、いずれも、エナメル皮膜量が多く、その結果溶解
時に激しく発煙し、又廃ガス中に大量のダストが含有さ
れた。
【0017】実施例2 実施例1において、スクリーンの穴径を種々に変えてエ
ナメル皮膜の除去率を調査した。エナメル線屑には1.0
mmφの銅エナメル線屑を用いた。用いたスクリーンの穴
形状を、図3に平面図と縦断面図を以て示した。このス
クリーンは厚さ8mmのSUS製板に、真円の穴を約30
%の占積率にて形成したものである。この穴は出側で拡
径されており、銅線の詰まりが防止されている。結果を
図2に示した。
ナメル皮膜の除去率を調査した。エナメル線屑には1.0
mmφの銅エナメル線屑を用いた。用いたスクリーンの穴
形状を、図3に平面図と縦断面図を以て示した。このス
クリーンは厚さ8mmのSUS製板に、真円の穴を約30
%の占積率にて形成したものである。この穴は出側で拡
径されており、銅線の詰まりが防止されている。結果を
図2に示した。
【0018】図2より明らかなように、スクリーンの穴
径がエナメル線径の10倍を上回ると、エナメル皮膜の
除去率が急激に低下した。
径がエナメル線径の10倍を上回ると、エナメル皮膜の
除去率が急激に低下した。
【0019】
【効果】以上述べたように、本発明方法によれば、エナ
メル線屑を大気汚染や、薬品公害等を起こさずに、低コ
ストで大量に処理することができ、工業上顕著な効果を
奏する。
メル線屑を大気汚染や、薬品公害等を起こさずに、低コ
ストで大量に処理することができ、工業上顕著な効果を
奏する。
【図1】本発明にて用いるエナメル線屑連続処理装置の
態様例を示す説明図である。
態様例を示す説明図である。
【図2】本発明にて用いるエナメル線屑連続処理装置の
スクリーンの穴径がエナメル皮膜除去率に及ぼす影響を
示す図である。
スクリーンの穴径がエナメル皮膜除去率に及ぼす影響を
示す図である。
【図3】本発明にて用いるエナメル線屑連続処理装置の
スクリーンの態様例を示す平面図及び縦断面図である。
スクリーンの態様例を示す平面図及び縦断面図である。
1 回転刃 2 縦型粉砕機 3 スクリーン 4 吸引パイプ 5 案内筒 6 コンベア 7 ドラフト 8 容器 9 エナメル線屑 10 粉砕片 11 エナメル皮膜片
Claims (5)
- 【請求項1】 金属線材にエナメル皮膜を焼付けたエナ
メル線の屑に下記工程を順次施すことを特徴とするエナ
メル線屑の処理方法。 (イ)エナメル線屑を切断する工程。 (ロ)切断したエナメル線屑を攪拌する工程。 (ハ)上記(イ)と(ロ)の工程をエナメル線屑が所定
の寸法以下に切断されるまで繰返してエナメル皮膜を剥
離する工程。 (ニ)所定の寸法以下に切断された金属線材を選別する
工程。 (ホ)剥離したエナメル皮膜を上記選別された金属線材
から分離する工程。 - 【請求項2】 エナメル線を粉砕機に入れてエナメル線
の直径の10倍以下の長さに切断したのち、剥離したエナ
メル皮膜片を比重差分離法により分離することを特徴と
する請求項1記載のエナメル線屑の処理方法。 - 【請求項3】 粉砕機に剪断式切断機を配置し、前記切
断機に、処理するエナメル線を、所定の寸法以下に切断
されるまで繰返し通過させることを特徴とする請求項2
記載のエナメル線屑の処理方法。 - 【請求項4】 粉砕機に配置した剪断式切断機の刃の間
隔を、処理するエナメル線の直径の20〜50%に設定
したことを特徴とする請求項3記載のエナメル線屑の処
理方法。 - 【請求項5】 粉砕機に配置した剪断式切断機の下方に
スクリーンを配置し、前記スクリーンの穴径を、処理す
るエナメル線屑の直径の10倍以下にしたことを特徴とす
る請求項3又は請求項4記載のエナメル線屑の処理方
法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13295493A JPH06124615A (ja) | 1992-08-31 | 1993-05-11 | エナメル線屑の処理方法 |
MYPI93001711A MY111252A (en) | 1992-08-31 | 1993-08-25 | Method for disposing of enameled wire scraps |
US08/114,667 US5411214A (en) | 1992-08-31 | 1993-08-31 | Method for disposing of enameled wire scraps |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4-257480 | 1992-08-31 | ||
JP25748092 | 1992-08-31 | ||
JP13295493A JPH06124615A (ja) | 1992-08-31 | 1993-05-11 | エナメル線屑の処理方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06124615A true JPH06124615A (ja) | 1994-05-06 |
Family
ID=26467408
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13295493A Pending JPH06124615A (ja) | 1992-08-31 | 1993-05-11 | エナメル線屑の処理方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5411214A (ja) |
JP (1) | JPH06124615A (ja) |
MY (1) | MY111252A (ja) |
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---|---|---|---|---|
KR20000012171A (ko) * | 1999-03-22 | 2000-03-06 | 한철 | 에스엠디오실레이터 |
US7774935B2 (en) | 2003-07-01 | 2010-08-17 | Thales | Method of manufacturing an electrically conductive element |
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JP2017176995A (ja) * | 2016-03-30 | 2017-10-05 | Dowaエコシステム株式会社 | 金属電線からの金属回収方法および金属分回収システム |
Families Citing this family (2)
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---|---|---|---|---|
JP5046540B2 (ja) * | 2006-03-27 | 2012-10-10 | 富士フイルム株式会社 | 分別方法 |
CN112474342A (zh) * | 2020-11-10 | 2021-03-12 | 西湖兄弟粮油加工厂 | 一种粮油加工用材料筛选设备 |
Family Cites Families (10)
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