JPH0611320U - Chip inductor - Google Patents

Chip inductor

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JPH0611320U
JPH0611320U JP10675891U JP10675891U JPH0611320U JP H0611320 U JPH0611320 U JP H0611320U JP 10675891 U JP10675891 U JP 10675891U JP 10675891 U JP10675891 U JP 10675891U JP H0611320 U JPH0611320 U JP H0611320U
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JP
Japan
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conductor pattern
pattern
magnetic material
inductance value
inductor
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Application number
JP10675891U
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Japanese (ja)
Inventor
豊 渡辺
巧 山崎
良平 木下
Original Assignee
東和エレクトロン株式会社
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 導体パターンまたは磁性体パターンをレーザ
トリミング等で切断することによりインダクタンス値を
調整可能とする。 【構成】 セラミック等の基板10上に、インダクタと
して形成された薄膜等の導体パターン11、または薄膜
等で形成の磁性体パターンが設けられ、該導体パターン
11、または磁性体パターンの一部をレーザートリミン
グの軌跡16によりカッティングを行なうことによりイ
ンダクタンス値の微調整を行なう。
(57) [Summary] (Modified) [Purpose] The inductance value can be adjusted by cutting the conductor pattern or magnetic material pattern by laser trimming or the like. A conductor pattern 11 such as a thin film formed as an inductor or a magnetic material pattern formed from a thin film is provided on a substrate 10 such as a ceramic, and the conductor pattern 11 or a part of the magnetic material pattern is a laser. The inductance value is finely adjusted by cutting along the trimming locus 16.

Description

【考案の詳細な説明】[Detailed description of the device]

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】[Industrial applications]

本考案は、トリミングが可能なチップインダクタに関し、更に詳しくは、自動 車電話機、携帯電話機、BS、CS等MHz〜CHz帯のVCO回路、フィルタ 回路、ブースタ等の高周波回路におけるインダクタンスを調整することにより所 定の特性を得る回路に用いられるチップインダクタに関するものである。 The present invention relates to a chip inductor that can be trimmed, and more specifically, by adjusting the inductance in a high frequency circuit such as a VCO circuit, a filter circuit, a booster, etc. in the MHz to CHz band of a mobile phone, a mobile phone, a BS, a CS, etc. The present invention relates to a chip inductor used in a circuit that obtains predetermined characteristics.

【0002】[0002]

【従来の技術】[Prior art]

従来この種インダクタとしては、図16および図17に示されているように、 厚膜の導体パターン1と磁性体パターン2が交互に重ねられて、導体パターン1 の両端が端子3、4に接続せられ、これにより特定のインダクタンス値が得られ る構造のものが一般的である。 Conventionally, in this type of inductor, as shown in FIGS. 16 and 17, thick film conductor patterns 1 and magnetic material patterns 2 are alternately stacked, and both ends of the conductor pattern 1 are connected to terminals 3 and 4. In general, the structure is such that a specific inductance value can be obtained.

【0003】[0003]

【考案が解決しようとする問題点】[Problems to be solved by the device]

ところで、前記従来のインダクタによれば、インダクタンス値は予め設計値に 合わせることにより所定の値を得るため、完成品の偏差値が大きく、また、イン ダクタンス値を決定する導体パターンは磁性体パターンの内部に入っており、し かも磁性体パターンは厚みがあり高温焼成で完成しているため、カッテイング等 による調整が不可能であるという問題点を有していた。 By the way, according to the conventional inductor described above, the inductance value is adjusted to the design value in advance to obtain a predetermined value, so that the deviation value of the finished product is large, and the conductor pattern that determines the inductance value is the magnetic material pattern. Since it is inside, and the magnetic material pattern is thick and completed by high-temperature firing, there was a problem that adjustment by cutting etc. was impossible.

【0004】 本考案は、このような従来の技術が有する問題点に鑑みなされたもので、その 目的とするところは、インダクタンス値の調整をレーザ等簡単に入手可能な機器 によって適宜になし得るチップインダクタを提供することにある。The present invention has been made in view of the above problems of the conventional technology, and an object thereof is to adjust the inductance value appropriately by a laser or other easily available device. It is to provide an inductor.

【0005】[0005]

【問題点を解決するための手段】[Means for solving problems]

この目的のため、本考案はセラミック等の基板上に、インダクタとして形成さ れた薄膜等の導体パターンまたは薄膜等で形成の磁性体パターンが設けられ、該 導体パターンまたは磁性体パターンをレーザートリミング等で切断することによ りインダクタンス値を適宜に調整可能とした構成を特徴とし、更らには前記導体 パターンが二層構造とされた構成を特徴とするものである。 For this purpose, the present invention provides a conductor pattern such as a thin film formed as an inductor or a magnetic material pattern formed of a thin film on a substrate such as a ceramic, and the conductor pattern or the magnetic material pattern is laser trimmed or the like. It is characterized in that the inductance value can be appropriately adjusted by cutting with, and is further characterized in that the conductor pattern has a two-layer structure.

【0006】[0006]

【実施例】【Example】

実施例について図面を参照して説明すると、図1と図2は本考案に係るチップ インダクタの一例での平面図とA−A線に沿った断面図で、本例は、セラミック 等の基板10上に、インダクタとして薄膜または厚膜の導体パターン11が形成 され、該導体パターン11の両端部12、13が両側端子14、15に接続され て、該導体パターン11の一部をレーザートリミングの軌跡16によりカッティ ングを行うことによってインダクタンス値を上げ、微調整ができるようにしたも のである。 An embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 1 and FIG. 2 are a plan view and a cross-sectional view taken along line AA of an example of a chip inductor according to the present invention. A thin-film or thick-film conductor pattern 11 is formed as an inductor thereon, and both ends 12 and 13 of the conductor pattern 11 are connected to terminals 14 and 15 on both sides, and a part of the conductor pattern 11 is subjected to laser trimming locus. By cutting with 16, the inductance value was raised and fine adjustment was made possible.

【0007】 本考案に係るチップインダクタの変形は可能であり、図3から図15に他の変 形態様が示されている。図3から図10に示されている実施例は、インダクタン ス値の大きいものを得るため導体パターンを二層構造としたものである。更に説 明すると、図3および図4において、セラミック等の基板10上に、インダクタ としての薄膜または厚膜の第一層導体パターン17が同心四角形状に設けられて その一端部18は端子14と接続され、更に、該第一層導体パターン17上には 絶縁体19を介し、かつその一端接続部21を第一層導体パターン17における それぞれの接続部23において接続し、他端部22を端子15に接続して第二層 導体パターン20がそれぞれ設けられ、該第二層導体パターン20の一部をレー ザートリミングの軌跡16によりカッティングを行うことによってインダクタン ス値を調整するようにしたものである。Modifications of the chip inductor according to the present invention are possible, and other modifications are shown in FIGS. 3 to 15. In the embodiment shown in FIGS. 3 to 10, the conductor pattern has a two-layer structure in order to obtain a large inductance value. To further explain, referring to FIGS. 3 and 4, a thin-film or thick-film first-layer conductor pattern 17 as an inductor is provided in a concentric square shape on a substrate 10 such as a ceramic. Further, the first layer conductor pattern 17 is connected to the first layer conductor pattern 17 via an insulator 19, and one end connection portion 21 is connected to each connection portion 23 in the first layer conductor pattern 17 and the other end portion 22 is a terminal. A second layer conductor pattern 20 is provided so as to be connected to 15 and a part of the second layer conductor pattern 20 is cut by a laser trimming locus 16 to adjust the inductance value. Is.

【0008】 図5から図7に示されている導体パターンの二層構造は、セラミック等の基板 10上に、インダクタとしての薄膜または厚膜の第一層導体パターン24と絶縁 体25を介しての第二層導体パターン26がそれぞれややずらし、かつコ字形パ ターンをジグザグ状に連続したパターンをもって設けられると共に、第二層導体 パターン26の一端部27は端子14と接続され、他端接続部28は第一層導体 パターン24における一端接続部29において接続され、更に第二層導体パター ン26の他端部30および複数の分岐端部31は端子15と接続されて、第二層 導体パターン26の部分30、31の一部をレーザートリミングの軌跡16によ りカッティングを行うことによってインダクタンス値を調整するようにしたもの である。The two-layer structure of the conductor patterns shown in FIGS. 5 to 7 is obtained by interposing a thin-layer or thick-film first-layer conductor pattern 24 as an inductor and an insulator 25 on a substrate 10 made of ceramic or the like. The second-layer conductor patterns 26 are provided in a zigzag pattern in which the second-layer conductor patterns 26 are slightly displaced from each other, and one end 27 of the second-layer conductor pattern 26 is connected to the terminal 14 and the other end is connected. 28 is connected at one end connection portion 29 in the first layer conductor pattern 24, and the other end portion 30 of the second layer conductor pattern 26 and the plurality of branch end portions 31 are connected to the terminal 15. The inductance value is adjusted by cutting a part of the portions 26 and 30 of the reference numeral 26 along the locus 16 of laser trimming. is there.

【0009】 図8から図10に示されている導体パターンの二層構造は、セラミック等の基 板10上に、インダクタとしての薄膜または厚膜の第一層導体パターン32と、 該第一層導体パターン32上に絶縁体25を介して第二層導体パターン33が設 けられたもので、更に説明すると、両導体パターン32、33は略コ字形であっ て相互にややずらして配列されると共に、第一層導体パターン32の一端部34 は端子14と接続され、接続部35は第二層導体パターン33における接続端部 36とそれぞれ接続されて、両導体パターン32、33は互いにすこしずれた略 コ字形パターンをもって規則的に連設されると共に、端子15に一番近接の第一 層導体パターン32の接続部35と第二層導体パターン33の接続部36とから 延設の第二層導体パターン延設部37と、端子15に一番近接の第二層導体パタ ーン33の端部38および複数の分岐端部39は端子15と接続され、第二層導 体パターン33の部分37、38、39の一部をレーザートリミングの軌跡16 によりカッティングを行なうことによってインダタンス値を調整するようにした ものである。The two-layer structure of conductor patterns shown in FIGS. 8 to 10 is a thin-film or thick-film first-layer conductor pattern 32 as an inductor and a first-layer conductor pattern 32 on a substrate 10 made of ceramic or the like. The second-layer conductor pattern 33 is provided on the conductor pattern 32 via the insulator 25. To further explain, both conductor patterns 32 and 33 are arranged in a substantially U shape and slightly offset from each other. At the same time, one end portion 34 of the first-layer conductor pattern 32 is connected to the terminal 14, the connection portion 35 is connected to the connection end portion 36 of the second-layer conductor pattern 33, and both conductor patterns 32 and 33 are slightly displaced from each other. And the connection portions 35 of the first-layer conductor pattern 32 and the connection portion 36 of the second-layer conductor pattern 33 that are closest to the terminal 15 are extended. The second layer conductor pattern extending portion 37, the end portion 38 and the plurality of branch ends 39 of the second layer conductor pattern 33 closest to the terminal 15 are connected to the terminal 15, and the second layer conductor pattern The inductance value is adjusted by cutting a part of the parts 37, 38, 39 of the body pattern 33 with a locus 16 of laser trimming.

【0010】 図11から図15に示されている実施例は、導体パターンをトリミングして調 整するのではなく、薄膜等で形成の磁性体パターンをトリミングして調整するも のである。更に説明すると、図11と図12に示されている実施例は、セラミッ ク等の基板10上に、薄膜または厚膜で形成された磁性体パターン40が設けら れると共に、該磁性体パターン40上には導体パターン41が設けられてそれの 一端部42は端子14に、他端部43は端子15にそれぞれ接続され、磁性体パ ターン40の膜をレーザートリミングの軌跡16によりカッティングを行うこと によってインダクタンス値の調整を行うようにしたものである。In the embodiment shown in FIGS. 11 to 15, the conductor pattern is not trimmed and adjusted, but the magnetic material pattern formed of a thin film or the like is trimmed and adjusted. To further explain, in the embodiment shown in FIGS. 11 and 12, a magnetic material pattern 40 formed of a thin film or a thick film is provided on a substrate 10 such as a ceramic, and the magnetic material pattern 40 is provided. A conductor pattern 41 is provided on one side, one end 42 thereof is connected to the terminal 14 and the other end 43 thereof is connected to the terminal 15, respectively, and the film of the magnetic material pattern 40 is cut by the locus 16 of laser trimming. The inductance value is adjusted by.

【0011】 また、図13から図15に示されている実施例は、セラミック等の基板10上 にして、かつその中間よりやや上部に薄膜または厚膜で形成された磁性体パター ン44が帯状に設けられると共に、該磁性体パターン44上には、その一部分を 位置させて導体パターン45が設けられてそれの一端部46は端子14に、他端 部47は端子15にそれぞれ接続され、更に導体パターン45における残余部分 上には磁性体パターン44と同等の磁性体パターン48が設けられ、該磁性体パ ターン44、48の膜をレーザートリミングの軌跡16によりカッティングを行 うことによってインダクタンス値の調整を行うようにしたものである。Further, in the embodiment shown in FIGS. 13 to 15, the magnetic material pattern 44 formed on the substrate 10 made of ceramic or the like and formed as a thin film or a thick film slightly above the middle thereof is in a strip shape. And a conductor pattern 45 is provided on the magnetic material pattern 44 with a part thereof positioned so that one end 46 thereof is connected to the terminal 14 and the other end 47 thereof is connected to the terminal 15, respectively. A magnetic material pattern 48 equivalent to the magnetic material pattern 44 is provided on the remaining portion of the conductor pattern 45, and the film of the magnetic material patterns 44 and 48 is cut by the laser trimming locus 16 to reduce the inductance value. The adjustment is made.

【0012】[0012]

【考案の効果】[Effect of device]

しかして、本考案によれば、インダクタンス値の調整はレーザートリミングの 軌跡により行われるものであるから、高周波回路において、空心コイル等で機械 的に出力特性を監視しながら長時間を要して調整していた従来に比し、きわめて 短時間でインダクタンス値の調整ができ、またどんな値にも調整ができるため、 特に高周波回路におけるカットアンドトライ的な調整が不要となる。 Therefore, according to the present invention, since the inductance value is adjusted by the locus of laser trimming, it takes a long time while mechanically monitoring the output characteristics with an air-core coil in a high frequency circuit. Compared to the conventional method, the inductance value can be adjusted in an extremely short time and can be adjusted to any value, eliminating the need for cut-and-try adjustment especially in high-frequency circuits.

【0013】 また、インダクタンス値の系列を作る場合に、従来においては多くの原画(パ ターン図)を必要としたが、本考案によれば、数少ないパターンで完成している から、レーザー等による調整のみで広範なインダクタンス値を実現できる。Further, in the past, when creating a series of inductance values, many original images (pattern diagrams) were required, but according to the present invention, since it is completed with a few patterns, adjustment by a laser or the like is required. A wide range of inductance values can be realized only by using.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本考案に係るチップインダクタの一例での平面
図である。
FIG. 1 is a plan view showing an example of a chip inductor according to the present invention.

【図2】図1のA−A線に沿った断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along the line AA of FIG.

【図3】本考案の他例を示す平面図である。FIG. 3 is a plan view showing another example of the present invention.

【図4】図3のB−B線に沿った断面図である。FIG. 4 is a sectional view taken along line BB of FIG.

【図5】本考案の他例を示す平面図である。FIG. 5 is a plan view showing another example of the present invention.

【図6】図5のC−C線に沿った断面図である。6 is a cross-sectional view taken along the line CC of FIG.

【図7】図5のD−D線に沿った断面図である。7 is a cross-sectional view taken along the line DD of FIG.

【図8】本考案の他例を示す平面図である。FIG. 8 is a plan view showing another example of the present invention.

【図9】図8のE−E線に沿った断面図である。9 is a sectional view taken along the line EE of FIG.

【図10】図8のF−F線に沿った断面図である。10 is a cross-sectional view taken along the line FF of FIG.

【図11】本考案の更らなる他例を示す平面図である。FIG. 11 is a plan view showing still another example of the present invention.

【図12】図11のG−G線に沿った断面図である。12 is a cross-sectional view taken along the line GG of FIG.

【図13】本考案の更らなる他例を示す平面図である。FIG. 13 is a plan view showing still another example of the present invention.

【図14】図13のH−H線に沿った断面図である。14 is a cross-sectional view taken along the line HH of FIG.

【図15】図13のI−I線に沿った断面図である。FIG. 15 is a cross-sectional view taken along the line I-I of FIG.

【図16】従来例を示す平面図である。FIG. 16 is a plan view showing a conventional example.

【図17】図16のJ−J線に沿った断面図である。17 is a sectional view taken along the line JJ of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 基板 11、41、45 導体パターン 16 レーザートリミング等のカッティング軌跡 17、24、32 第一層導体パターン 19、25 絶縁体 20、26、33 第二層導体パターン 40 磁性体パターン 10 substrate 11, 41, 45 conductor pattern 16 cutting locus such as laser trimming 17, 24, 32 first layer conductor pattern 19, 25 insulator 20, 26, 33 second layer conductor pattern 40 magnetic material pattern

Claims (2)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 【請求項1】 セラミック等の基板上に、インダクタと
して形成された薄膜等の導体パターンまたは薄膜等で形
成の磁性体パターンが設けられ、該導体パターンまたは
磁性体パターンをレーザートリミング等で切断すること
によりインダクタンス値を適宜に調整可能とした構成を
特徴とするチップインダクタ。
1. A conductor pattern such as a thin film formed as an inductor or a magnetic material pattern formed of a thin film is provided on a substrate such as a ceramic, and the conductor pattern or the magnetic material pattern is cut by laser trimming or the like. A chip inductor characterized by a structure in which the inductance value can be adjusted appropriately.
【請求項2】 前記導体パターンが二層構造とされた請
求項1のチップインダクタ。
2. The chip inductor according to claim 1, wherein the conductor pattern has a two-layer structure.
JP10675891U 1991-11-29 1991-11-29 Chip inductor Pending JPH0611320U (en)

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