JPH06109665A - Ｘ線分析装置 - Google Patents
Ｘ線分析装置Info
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- JPH06109665A JPH06109665A JP4259611A JP25961192A JPH06109665A JP H06109665 A JPH06109665 A JP H06109665A JP 4259611 A JP4259611 A JP 4259611A JP 25961192 A JP25961192 A JP 25961192A JP H06109665 A JPH06109665 A JP H06109665A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 Ｘ線分析装置の気密ケース内における試料の
設置状態が試料設置基準位置から位置ずれしているか否
かを、気密ケースを閉じた状態で確認可能にすること。 【構成】 測定雰囲気下では、Ｘ線回折測定の対象とな
る試料１の周囲が気密ケース８で覆われた状態となるＸ
線分析装置において、所定の測定雰囲気下での前記試料
１とＸ線回折測定のための試料設置基準位置Ｓとの実際
の位置関係を確認するために、前記気密ケース８内を所
定の測定雰囲気にした状態で前記気密ケース８内の試料
設置基準位置Ｓに向けて拡散Ｘ線を発射して前記気密ケ
ース８内の試料１の透過Ｘ線像を撮影する透過Ｘ線像撮
影手段１４を備える。
設置状態が試料設置基準位置から位置ずれしているか否
かを、気密ケースを閉じた状態で確認可能にすること。 【構成】 測定雰囲気下では、Ｘ線回折測定の対象とな
る試料１の周囲が気密ケース８で覆われた状態となるＸ
線分析装置において、所定の測定雰囲気下での前記試料
１とＸ線回折測定のための試料設置基準位置Ｓとの実際
の位置関係を確認するために、前記気密ケース８内を所
定の測定雰囲気にした状態で前記気密ケース８内の試料
設置基準位置Ｓに向けて拡散Ｘ線を発射して前記気密ケ
ース８内の試料１の透過Ｘ線像を撮影する透過Ｘ線像撮
影手段１４を備える。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば試料低温装置や
試料高温装置などのように、試料の周囲を気密ケースで
覆った状態で試料のＸ線回折測定を行うＸ線分析装置に
関するものである。
試料高温装置などのように、試料の周囲を気密ケースで
覆った状態で試料のＸ線回折測定を行うＸ線分析装置に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】試料を一定の低温に保ちながら、あるい
は一定の温度勾配で試料温度を低下させながら試料の回
折線を測定するＸ線分析装置として、試料低温装置が知
られている。
は一定の温度勾配で試料温度を低下させながら試料の回
折線を測定するＸ線分析装置として、試料低温装置が知
られている。
【０００３】この試料低温装置は、通常、Ｘ線回折測定
する試料を保持する試料ホルダーと、該試料ホルダーに
保持された試料を入射Ｘ線ビームの進路上となる試料設
置基準位置に位置決めするためのゴニオメータ等の試料
位置調整装置と、前記試料の周囲を所定の真空雰囲気に
保つために試料の周囲を覆う気密ケースと、気密ケース
に覆われた試料の周囲を真空雰囲気にするための真空引
き手段と、試料の温度を制御するための冷却手段と、こ
の気密ケースの一部に設けられたＸ線照射窓の外側から
気密ケース内の試料設置基準位置に入射Ｘ線ビームを当
てるＸ線発生装置と、前記入射Ｘ線ビームの照射によっ
て得られる試料のＸ線画像を検出するための２次元Ｘ線
検出器と、この２次元Ｘ線検出器の検出したＸ線画像を
読み取る画像読取装置とを備えた構成とされている。
する試料を保持する試料ホルダーと、該試料ホルダーに
保持された試料を入射Ｘ線ビームの進路上となる試料設
置基準位置に位置決めするためのゴニオメータ等の試料
位置調整装置と、前記試料の周囲を所定の真空雰囲気に
保つために試料の周囲を覆う気密ケースと、気密ケース
に覆われた試料の周囲を真空雰囲気にするための真空引
き手段と、試料の温度を制御するための冷却手段と、こ
の気密ケースの一部に設けられたＸ線照射窓の外側から
気密ケース内の試料設置基準位置に入射Ｘ線ビームを当
てるＸ線発生装置と、前記入射Ｘ線ビームの照射によっ
て得られる試料のＸ線画像を検出するための２次元Ｘ線
検出器と、この２次元Ｘ線検出器の検出したＸ線画像を
読み取る画像読取装置とを備えた構成とされている。
【０００４】なお、前記気密ケースは、前記試料位置調
整装置の試料ホルダー載置部を視認しながら試料を確実
に試料設置基準位置にセットし得るように、着脱可能
（または一部が開閉可能）な構成とされている。
整装置の試料ホルダー載置部を視認しながら試料を確実
に試料設置基準位置にセットし得るように、着脱可能
（または一部が開閉可能）な構成とされている。
【０００５】このような試料低温装置で測定を行う場合
には、まず、気密ケースを開いた状態で、試料を試料ホ
ルダーを介して試料位置調整装置の試料ホルダー載置部
にセットする。次いで、視認しながら、前記試料位置調
整装置によって試料位置を調整して、試料を入射Ｘ線ビ
ームの進路上となる試料設置基準位置に位置決めする。
には、まず、気密ケースを開いた状態で、試料を試料ホ
ルダーを介して試料位置調整装置の試料ホルダー載置部
にセットする。次いで、視認しながら、前記試料位置調
整装置によって試料位置を調整して、試料を入射Ｘ線ビ
ームの進路上となる試料設置基準位置に位置決めする。
【０００６】試料の位置決めが終了したら、気密ケース
を閉じた状態にして、試料の周囲を気密状態にする。次
いで、前記真空引き手段を作動させて気密ケース内を所
定の真空雰囲気に設定するとともに、前記冷却手段を作
動させて試料を測定温度まで冷却して、測定を開始す
る。
を閉じた状態にして、試料の周囲を気密状態にする。次
いで、前記真空引き手段を作動させて気密ケース内を所
定の真空雰囲気に設定するとともに、前記冷却手段を作
動させて試料を測定温度まで冷却して、測定を開始す
る。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところで、前記試料低
温装置の場合、予め試料を正確に試料設置基準位置に位
置決めしたとしても、その後の真空引き処理によって試
料の位置がずれることがある。
温装置の場合、予め試料を正確に試料設置基準位置に位
置決めしたとしても、その後の真空引き処理によって試
料の位置がずれることがある。
【０００８】しかし、前記気密ケースは、Ｘ線照射窓の
部分にはＸ線の吸収係数が小さく高真空にも耐え得るＢ
ｅ板やＡｌ蒸着のマイラー箔などが使用され、それ以外
の部分にはＸ線の遮蔽効果の高い金属材料等が使用され
ており、気密ケースを被せた状態では、気密ケース内の
試料の設置状態は視認できず、また、従来の場合では、
確認する手段もない。
部分にはＸ線の吸収係数が小さく高真空にも耐え得るＢ
ｅ板やＡｌ蒸着のマイラー箔などが使用され、それ以外
の部分にはＸ線の遮蔽効果の高い金属材料等が使用され
ており、気密ケースを被せた状態では、気密ケース内の
試料の設置状態は視認できず、また、従来の場合では、
確認する手段もない。
【０００９】そのため、真空引き処理によって試料の位
置がずれても、それに気がつかずに測定処理を開始して
しまう虞があった。そして、このような不都合の発生
は、試料の周囲を気密ケースで覆った状態で測定を行う
点で共通する試料高温装置の場合でも報告されており、
今後の解決すべき課題とされていた。
置がずれても、それに気がつかずに測定処理を開始して
しまう虞があった。そして、このような不都合の発生
は、試料の周囲を気密ケースで覆った状態で測定を行う
点で共通する試料高温装置の場合でも報告されており、
今後の解決すべき課題とされていた。
【００１０】本発明は、前記事情に鑑みてなされたもの
で、試料の周囲が気密ケースによって覆われる試料低温
装置や試料高温装置等のＸ線分析装置であって、気密ケ
ース内における試料の設置状態が試料設置基準位置から
位置ずれしているか否かを、気密ケースを閉じた状態で
確認することができ、したがって、位置ずれが生じたま
まの状態で測定が開始されるといった不都合の発生を防
止して、能率よく測定処理を進行させることのできるＸ
線分析装置を提供することを目的とする。
で、試料の周囲が気密ケースによって覆われる試料低温
装置や試料高温装置等のＸ線分析装置であって、気密ケ
ース内における試料の設置状態が試料設置基準位置から
位置ずれしているか否かを、気密ケースを閉じた状態で
確認することができ、したがって、位置ずれが生じたま
まの状態で測定が開始されるといった不都合の発生を防
止して、能率よく測定処理を進行させることのできるＸ
線分析装置を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載のＸ線分
析装置は、試料を入射Ｘ線ビームの進路上となる試料設
置基準位置に位置決めするための試料位置調整装置と、
前記試料の周囲を所定の測定雰囲気に保つために試料の
周囲を覆う気密ケースと、この気密ケースの一部に設け
られたＸ線照射窓の外側から気密ケース内の試料設置基
準位置に入射Ｘ線ビームを当てるＸ線発生装置と、前記
入射Ｘ線ビームの照射によって得られる試料のＸ線画像
を検出するための２次元Ｘ線検出器と、この２次元Ｘ線
検出器の検出したＸ線画像を読み取る画像読取装置とを
備えて、前記試料の周囲を気密ケースで覆った状態でＸ
線回折測定等を行う。
析装置は、試料を入射Ｘ線ビームの進路上となる試料設
置基準位置に位置決めするための試料位置調整装置と、
前記試料の周囲を所定の測定雰囲気に保つために試料の
周囲を覆う気密ケースと、この気密ケースの一部に設け
られたＸ線照射窓の外側から気密ケース内の試料設置基
準位置に入射Ｘ線ビームを当てるＸ線発生装置と、前記
入射Ｘ線ビームの照射によって得られる試料のＸ線画像
を検出するための２次元Ｘ線検出器と、この２次元Ｘ線
検出器の検出したＸ線画像を読み取る画像読取装置とを
備えて、前記試料の周囲を気密ケースで覆った状態でＸ
線回折測定等を行う。
【００１２】ただし、課題解決の手段として、前記気密
ケース内を所定の測定雰囲気にした状態での試料と前記
試料設置基準位置との実際の位置関係を確認するため
に、前記気密ケース内を所定の測定雰囲気にした状態で
前記気密ケース内の試料設置基準位置に向けて拡散Ｘ線
を発射して前記気密ケース内の試料の透過Ｘ線像を撮影
する透過Ｘ線像撮影手段を備える。
ケース内を所定の測定雰囲気にした状態での試料と前記
試料設置基準位置との実際の位置関係を確認するため
に、前記気密ケース内を所定の測定雰囲気にした状態で
前記気密ケース内の試料設置基準位置に向けて拡散Ｘ線
を発射して前記気密ケース内の試料の透過Ｘ線像を撮影
する透過Ｘ線像撮影手段を備える。
【００１３】請求項２に記載のＸ線分析装置は、請求項
１に記載のＸ線分析装置を応用したもので、前記Ｘ線発
生装置が、拡散Ｘ線を発射するＸ線源と、このＸ線源か
ら発射された拡散Ｘ線を所定のビーム径の入射Ｘ線ビー
ムに成形するコリメート手段とを備えた構成である場合
のものである。
１に記載のＸ線分析装置を応用したもので、前記Ｘ線発
生装置が、拡散Ｘ線を発射するＸ線源と、このＸ線源か
ら発射された拡散Ｘ線を所定のビーム径の入射Ｘ線ビー
ムに成形するコリメート手段とを備えた構成である場合
のものである。
【００１４】前記透過Ｘ線像撮影手段が、前記Ｘ線発生
装置と前記試料設置基準位置との間において前記入射Ｘ
線ビームの進路に対して進退可能に装備されて、前記入
射Ｘ線ビームの進路上に介在することによって入射Ｘ線
ビームを透過Ｘ線像撮影用の拡散Ｘ線に変換するＸ線変
換薄膜を備えた構成であることを特徴としている。
装置と前記試料設置基準位置との間において前記入射Ｘ
線ビームの進路に対して進退可能に装備されて、前記入
射Ｘ線ビームの進路上に介在することによって入射Ｘ線
ビームを透過Ｘ線像撮影用の拡散Ｘ線に変換するＸ線変
換薄膜を備えた構成であることを特徴としている。
【００１５】請求項３に記載のＸ線分析装置は、請求項
１に記載のＸ線分析装置を応用したもので、前記Ｘ線発
生装置が、拡散Ｘ線を発射するＸ線源と、このＸ線源か
ら発射された拡散Ｘ線を所定のビーム径の入射Ｘ線ビー
ムに成形するコリメート手段とを備えた構成である場合
のものである。
１に記載のＸ線分析装置を応用したもので、前記Ｘ線発
生装置が、拡散Ｘ線を発射するＸ線源と、このＸ線源か
ら発射された拡散Ｘ線を所定のビーム径の入射Ｘ線ビー
ムに成形するコリメート手段とを備えた構成である場合
のものである。
【００１６】前記透過Ｘ線像撮影手段が、前記Ｘ線源か
らの拡散Ｘ線の進路から前記コリメート手段を退避させ
て前記Ｘ線源の発生する拡散Ｘ線を透過Ｘ線像撮影用の
拡散Ｘ線に変換するＸ線変換手段を備えた構成であるこ
とを特徴としている。
らの拡散Ｘ線の進路から前記コリメート手段を退避させ
て前記Ｘ線源の発生する拡散Ｘ線を透過Ｘ線像撮影用の
拡散Ｘ線に変換するＸ線変換手段を備えた構成であるこ
とを特徴としている。
【００１７】請求項４に記載のＸ線分析装置は、前述の
請求項１乃至請求項３のいずれかに記載のＸ線分析装置
をさらに応用したもので、前記試料に透過Ｘ線像撮影用
の拡散Ｘ線が照射される場合に、試料の透過Ｘ線像を前
記２次元Ｘ線検出器によって検出することを特徴として
いる。
請求項１乃至請求項３のいずれかに記載のＸ線分析装置
をさらに応用したもので、前記試料に透過Ｘ線像撮影用
の拡散Ｘ線が照射される場合に、試料の透過Ｘ線像を前
記２次元Ｘ線検出器によって検出することを特徴として
いる。
【００１８】請求項５に記載のＸ線分析装置は、前記請
求項１乃至請求項４のいずれかに記載のＸ線分析装置を
さらに応用したもので、前記透過Ｘ線像撮影手段によっ
て撮影された試料の透過Ｘ線像を前記試料設置基準位置
と対比させて表示する画像表示手段が装備されたことを
特徴としている。
求項１乃至請求項４のいずれかに記載のＸ線分析装置を
さらに応用したもので、前記透過Ｘ線像撮影手段によっ
て撮影された試料の透過Ｘ線像を前記試料設置基準位置
と対比させて表示する画像表示手段が装備されたことを
特徴としている。
【００１９】
【作用】請求項１に記載のＸ線分析装置では、気密ケー
ス内における試料の設置状態が試料設置基準位置から位
置ずれしているか否かを、透過Ｘ線像撮影手段によって
試料の透過Ｘ線像を撮影することによって、試料の周囲
を気密ケースで覆った状態のままで確認することができ
る。
ス内における試料の設置状態が試料設置基準位置から位
置ずれしているか否かを、透過Ｘ線像撮影手段によって
試料の透過Ｘ線像を撮影することによって、試料の周囲
を気密ケースで覆った状態のままで確認することができ
る。
【００２０】したがって、位置ずれが生じたままの状態
で測定が開始されるといった不都合の発生を防止して、
能率よく測定処理を進行させることができる。
で測定が開始されるといった不都合の発生を防止して、
能率よく測定処理を進行させることができる。
【００２１】また、請求項２および請求項３に記載のＸ
線分析装置では、回折測定用に装備されているＸ線源１
１ａが透過Ｘ線像の撮影にも利用されるため、透過Ｘ線
像撮影手段として新規に装備しなくてはならない部品が
少なくて済み、透過Ｘ線像撮影手段の装備による装置コ
ストの増加を抑えることもできる。
線分析装置では、回折測定用に装備されているＸ線源１
１ａが透過Ｘ線像の撮影にも利用されるため、透過Ｘ線
像撮影手段として新規に装備しなくてはならない部品が
少なくて済み、透過Ｘ線像撮影手段の装備による装置コ
ストの増加を抑えることもできる。
【００２２】さらに、請求項４に記載のＸ線発生装置
は、回折測定用に装備されている２次元Ｘ線検出器１２
が透過Ｘ線像の撮影にも利用されるため、請求項２ある
いは請求項３との組み合わせによって、透過Ｘ線像撮影
手段の装備による装置コスト増加を抑制する効果を一段
と高めることが可能になる。
は、回折測定用に装備されている２次元Ｘ線検出器１２
が透過Ｘ線像の撮影にも利用されるため、請求項２ある
いは請求項３との組み合わせによって、透過Ｘ線像撮影
手段の装備による装置コスト増加を抑制する効果を一段
と高めることが可能になる。
【００２３】また、請求項５に記載のＸ線分析装置によ
れば、試料の位置ずれの確認が非常に容易になる。
れば、試料の位置ずれの確認が非常に容易になる。
【００２４】
【実施例】図１は、本発明に係るＸ線分析装置の一実施
例としての試料低温装置を示したものである。
例としての試料低温装置を示したものである。
【００２５】この試料低温装置は、単結晶の試料１を低
温環境化でＸ線回折するためのもので、前記試料１を保
持する試料ホルダー２と、この試料ホルダー２に保持さ
れた試料１を入射Ｘ線ビーム３の進路上となる試料設置
基準位置（図中の黒点の位置）Ｓに位置決めするための
試料位置調整装置４と、前記試料１の温度を所定の温度
（低温）に制御するための冷却手段５と、前記試料ホル
ダー２の周囲を囲って冷却効果を高めるラジエーション
シールド６と、このラジエーションシールド６の周囲を
囲う内部ケース７と、前記試料１の周囲を所定の真空雰
囲気に保つために前記内部ケース７の周囲を覆った気密
ケース８と、この気密ケース８内の試料１の周囲を真空
雰囲気にするための真空引き手段９と、前記気密ケース
８の一部に設けられたＸ線照射窓１０の外側から気密ケ
ース８内の前記試料設置基準位置Ｓに入射Ｘ線ビーム３
を当てるＸ線発生装置１１と、前記入射Ｘ線ビーム３の
照射によって得られる試料１のＸ線画像（回折像）を検
出するための２次元Ｘ線検出器１２と、この２次元Ｘ線
検出器１２の検出したＸ線画像を読み取る画像読取装置
１３と、前記気密ケース８内の試料１の透過Ｘ線像を撮
影する透過Ｘ線像撮影手段１４と、前記画像読取装置１
３の読み取ったＸ線画像を表示する画像表示手段１５と
を備えた構成とされている。
温環境化でＸ線回折するためのもので、前記試料１を保
持する試料ホルダー２と、この試料ホルダー２に保持さ
れた試料１を入射Ｘ線ビーム３の進路上となる試料設置
基準位置（図中の黒点の位置）Ｓに位置決めするための
試料位置調整装置４と、前記試料１の温度を所定の温度
（低温）に制御するための冷却手段５と、前記試料ホル
ダー２の周囲を囲って冷却効果を高めるラジエーション
シールド６と、このラジエーションシールド６の周囲を
囲う内部ケース７と、前記試料１の周囲を所定の真空雰
囲気に保つために前記内部ケース７の周囲を覆った気密
ケース８と、この気密ケース８内の試料１の周囲を真空
雰囲気にするための真空引き手段９と、前記気密ケース
８の一部に設けられたＸ線照射窓１０の外側から気密ケ
ース８内の前記試料設置基準位置Ｓに入射Ｘ線ビーム３
を当てるＸ線発生装置１１と、前記入射Ｘ線ビーム３の
照射によって得られる試料１のＸ線画像（回折像）を検
出するための２次元Ｘ線検出器１２と、この２次元Ｘ線
検出器１２の検出したＸ線画像を読み取る画像読取装置
１３と、前記気密ケース８内の試料１の透過Ｘ線像を撮
影する透過Ｘ線像撮影手段１４と、前記画像読取装置１
３の読み取ったＸ線画像を表示する画像表示手段１５と
を備えた構成とされている。
【００２６】前記試料ホルダー２，冷却手段５，ラジエ
ーションシールド６，内部ケース７，気密ケース８など
は、いずれも、水平な中心軸線１６に対して同心円状に
組み付けられている。
ーションシールド６，内部ケース７，気密ケース８など
は、いずれも、水平な中心軸線１６に対して同心円状に
組み付けられている。
【００２７】前記試料ホルダー２は、前記中心軸線１６
上に試料１を保持するためのもので、前記冷却手段５の
先端（図においては、右端）に螺着された金属製の伝熱
棒部２ａと、この伝熱棒部２ａの先端に固設されたガラ
ス製の支持棒部２ｂとからなる。前記伝熱棒部２ａおよ
び支持棒部２ｂは、いずれも前記中心軸線１６上に延在
し、支持棒部２ｂの先端に前記試料１が装着されてい
る。
上に試料１を保持するためのもので、前記冷却手段５の
先端（図においては、右端）に螺着された金属製の伝熱
棒部２ａと、この伝熱棒部２ａの先端に固設されたガラ
ス製の支持棒部２ｂとからなる。前記伝熱棒部２ａおよ
び支持棒部２ｂは、いずれも前記中心軸線１６上に延在
し、支持棒部２ｂの先端に前記試料１が装着されてい
る。
【００２８】前記試料設置基準位置Ｓは、前記中心軸線
１６上における入射Ｘ線ビーム３の通過位置である。こ
の試料設置基準位置Ｓは、中心軸線１６の位置およびＸ
線発生装置１１のセッティングによって決定する定位置
である。
１６上における入射Ｘ線ビーム３の通過位置である。こ
の試料設置基準位置Ｓは、中心軸線１６の位置およびＸ
線発生装置１１のセッティングによって決定する定位置
である。
【００２９】前記試料位置調整装置４は、この一実施例
の場合は、前記冷却手段５を介して試料ホルダー２を支
持しており、また、気密ケース８の支持も兼ねている。
この試料位置調整装置４は、図中に矢印（イ）で示すよ
うに前記中心軸線１６を回転軸として前記冷却手段５お
よび気密ケース８を回転させる回転機能と、矢印（ロ）
で示すように中心軸線１６に沿って冷却手段５および気
密ケース８を進退移動させる進退機能とを具備したもの
で、これらの回転機能と進退機能とによる移動操作を組
み合わせることによって、試料ホルダー２の先端に位置
している試料１を試料設置基準位置Ｓに位置決めする。
の場合は、前記冷却手段５を介して試料ホルダー２を支
持しており、また、気密ケース８の支持も兼ねている。
この試料位置調整装置４は、図中に矢印（イ）で示すよ
うに前記中心軸線１６を回転軸として前記冷却手段５お
よび気密ケース８を回転させる回転機能と、矢印（ロ）
で示すように中心軸線１６に沿って冷却手段５および気
密ケース８を進退移動させる進退機能とを具備したもの
で、これらの回転機能と進退機能とによる移動操作を組
み合わせることによって、試料ホルダー２の先端に位置
している試料１を試料設置基準位置Ｓに位置決めする。
【００３０】前記冷却手段５は、クライオポンプを流用
した冷却機５ａと、この冷却機５ａに連なる冷熱伝導部
材５ｂとから構成されている。前記冷却機５ａおよび冷
熱伝導部材５ｂはいずれも前記中心軸線１６上に延在し
ており、冷却機５ａは前記試料位置調整装置４に固定さ
れ、冷熱伝導部材５ｂの先端部に前記試料ホルダー２が
螺着されている。前記冷熱伝導部材５ｂは、熱伝導性の
よい金属材料で形成されたもので、前記冷却機５ａの発
生した冷熱を伝導して試料ホルダー２を冷却する。
した冷却機５ａと、この冷却機５ａに連なる冷熱伝導部
材５ｂとから構成されている。前記冷却機５ａおよび冷
熱伝導部材５ｂはいずれも前記中心軸線１６上に延在し
ており、冷却機５ａは前記試料位置調整装置４に固定さ
れ、冷熱伝導部材５ｂの先端部に前記試料ホルダー２が
螺着されている。前記冷熱伝導部材５ｂは、熱伝導性の
よい金属材料で形成されたもので、前記冷却機５ａの発
生した冷熱を伝導して試料ホルダー２を冷却する。
【００３１】なお、この冷熱伝導部材５ｂには、図示は
していないが、冷却温度をコントロールするためのヒー
タが装着されている。
していないが、冷却温度をコントロールするためのヒー
タが装着されている。
【００３２】前記ラジエーションシールド６は、冷熱の
逃げを防止するためのもので、基端部が前記冷熱伝導部
材５ｂの先端部に着脱可能に取り付けられた円筒状の第
１のシールド本体６ａと、このシールド本体６ａの先端
に連なる円筒状の窓部材６ｂと、この窓部材６ｂの先端
の開口部を覆う有底円筒状の第２のシールド本体６ｃと
で構成されたもので、全体としては、前記中心軸線１６
を中心軸とする一つの有底円筒状を呈している。前述の
第１および第２のシールド本体６ａ，６ｃ間の間隔は、
Ｘ線を通過させるための開口部６ｄを提供している。ま
た、前記窓部材６ｂは、前記開口部６ｄを覆うもので、
Ｘ線の透過性に優れたカプトン等の材料で形成されてい
る。また、前記第１のシールド本体６ａには、ラジエー
ションシールド６の内外を連通させる小径の開口６ｅが
設けられている。
逃げを防止するためのもので、基端部が前記冷熱伝導部
材５ｂの先端部に着脱可能に取り付けられた円筒状の第
１のシールド本体６ａと、このシールド本体６ａの先端
に連なる円筒状の窓部材６ｂと、この窓部材６ｂの先端
の開口部を覆う有底円筒状の第２のシールド本体６ｃと
で構成されたもので、全体としては、前記中心軸線１６
を中心軸とする一つの有底円筒状を呈している。前述の
第１および第２のシールド本体６ａ，６ｃ間の間隔は、
Ｘ線を通過させるための開口部６ｄを提供している。ま
た、前記窓部材６ｂは、前記開口部６ｄを覆うもので、
Ｘ線の透過性に優れたカプトン等の材料で形成されてい
る。また、前記第１のシールド本体６ａには、ラジエー
ションシールド６の内外を連通させる小径の開口６ｅが
設けられている。
【００３３】前記内部ケース７は、冷熱の拡散防止を補
助するもので、前記ラジエーションシールド６および冷
熱伝導部材５ｂの周囲を覆う有底円筒状を呈しており、
前記冷却機５ａの端部に着脱可能に取り付けられてい
る。この内部ケース７は、その円筒の中心軸を前記中心
軸線１６に一致させており、また、周壁には、Ｘ線を通
過させるための開口部７ａが設けてある。
助するもので、前記ラジエーションシールド６および冷
熱伝導部材５ｂの周囲を覆う有底円筒状を呈しており、
前記冷却機５ａの端部に着脱可能に取り付けられてい
る。この内部ケース７は、その円筒の中心軸を前記中心
軸線１６に一致させており、また、周壁には、Ｘ線を通
過させるための開口部７ａが設けてある。
【００３４】前記気密ケース８は、Ｘ線が照射させる試
料１の周囲を数ｍｍＨｇ以下の高真空状態に維持するた
めのもので、基端が前記試料位置調整装置４に固定され
た円筒状の支持枠８ａと、この支持枠８ａの先端にねじ
によって着脱可能に取り付けられた円筒状の第１筒部８
ｂと、この第１筒部８ｂの先端に連なる円筒状の窓部材
８ｃと、この窓部材８ｃの先端に連なる有底円筒状の第
２筒部８ｄとで構成されたもので、全体としては、中心
軸線１６を中心軸とする有底円筒状を呈している。
料１の周囲を数ｍｍＨｇ以下の高真空状態に維持するた
めのもので、基端が前記試料位置調整装置４に固定され
た円筒状の支持枠８ａと、この支持枠８ａの先端にねじ
によって着脱可能に取り付けられた円筒状の第１筒部８
ｂと、この第１筒部８ｂの先端に連なる円筒状の窓部材
８ｃと、この窓部材８ｃの先端に連なる有底円筒状の第
２筒部８ｄとで構成されたもので、全体としては、中心
軸線１６を中心軸とする有底円筒状を呈している。
【００３５】前記支持枠８ａは、前記真空引き手段９の
取り付け部ともなっている。また、前記第１筒部８ｂと
第２筒部８ｄとの間の間隔は、前記試料１にＸ線を照射
するための開口部であるＸ線照射窓８ｅを提供してい
る。また、前記窓部材８ｃは、前記Ｘ線照射窓８ｅとし
ての開口部を気密に覆うもので、Ｘ線の吸収が小さいＢ
ｅ板等の材料で形成されている。
取り付け部ともなっている。また、前記第１筒部８ｂと
第２筒部８ｄとの間の間隔は、前記試料１にＸ線を照射
するための開口部であるＸ線照射窓８ｅを提供してい
る。また、前記窓部材８ｃは、前記Ｘ線照射窓８ｅとし
ての開口部を気密に覆うもので、Ｘ線の吸収が小さいＢ
ｅ板等の材料で形成されている。
【００３６】前記Ｘ線発生装置１１は、回折測定用に高
エネルギーの拡散Ｘ線１７を発射するＸ線源１１ａと、
このＸ線源１１ａから発射された拡散Ｘ線１７を所定の
ビーム径の入射Ｘ線ビーム３に成形するコリメート手段
１１ｂとを備えた構成とされている。
エネルギーの拡散Ｘ線１７を発射するＸ線源１１ａと、
このＸ線源１１ａから発射された拡散Ｘ線１７を所定の
ビーム径の入射Ｘ線ビーム３に成形するコリメート手段
１１ｂとを備えた構成とされている。
【００３７】前記２次元Ｘ線検出器１２は、この一実施
例の場合は、いわゆるイメージングプレートと呼ばれて
いるもので、放射線を吸収・蓄積するとともにその後に
励起光が照射されると蓄積した前記放射線の強弱に応じ
て輝尽発光する蛍光体層を有して前記蛍光体層によって
放射線画像を二次元状（面状）に記録する放射線画像記
録板である。この一実施例の場合は、２次元Ｘ線検出器
１２は、前記中心軸線１６を中心軸に持つ円筒面に形成
されている。また、後述する透過Ｘ線像撮影手段１４に
よる透過Ｘ線像の撮影にも利用ができるように、大きさ
等が設定されている。
例の場合は、いわゆるイメージングプレートと呼ばれて
いるもので、放射線を吸収・蓄積するとともにその後に
励起光が照射されると蓄積した前記放射線の強弱に応じ
て輝尽発光する蛍光体層を有して前記蛍光体層によって
放射線画像を二次元状（面状）に記録する放射線画像記
録板である。この一実施例の場合は、２次元Ｘ線検出器
１２は、前記中心軸線１６を中心軸に持つ円筒面に形成
されている。また、後述する透過Ｘ線像撮影手段１４に
よる透過Ｘ線像の撮影にも利用ができるように、大きさ
等が設定されている。
【００３８】前記画像読取装置１３は、図示はしていな
いが、前記２次元Ｘ線検出器１２の画像記録面（蛍光体
層）に照射する励起光（例えば、半導体レーザなど）を
発生するレーザ光源、励起光の照射による発光を検出す
る発光検出器、励起光の照射位置を移動させるための機
構等を備えたもので、前記２次元Ｘ線検出器１２の画像
記録面を励起光で走査して、この励起光の照射位置に生
ずる発光を検出して、発光強度に応じた電気信号に変換
して出力する。この画像読取装置１３の出力する信号
は、画像情報として制御処理部１８で所定の処理がなさ
れて、前記２次元Ｘ線検出器１２に記録された２次元画
像として画像表示手段１５に表示され、また、必要に応
じて、外部記憶装置１９に保存される。
いが、前記２次元Ｘ線検出器１２の画像記録面（蛍光体
層）に照射する励起光（例えば、半導体レーザなど）を
発生するレーザ光源、励起光の照射による発光を検出す
る発光検出器、励起光の照射位置を移動させるための機
構等を備えたもので、前記２次元Ｘ線検出器１２の画像
記録面を励起光で走査して、この励起光の照射位置に生
ずる発光を検出して、発光強度に応じた電気信号に変換
して出力する。この画像読取装置１３の出力する信号
は、画像情報として制御処理部１８で所定の処理がなさ
れて、前記２次元Ｘ線検出器１２に記録された２次元画
像として画像表示手段１５に表示され、また、必要に応
じて、外部記憶装置１９に保存される。
【００３９】前記画像表示手段１５は、ＣＲＴを使った
ディスプレイである。前記画像読取装置１３、制御処理
部１８は、前記透過Ｘ線像撮影手段１４によって撮影し
た透過Ｘ線像の読み出し・表示も行う。
ディスプレイである。前記画像読取装置１３、制御処理
部１８は、前記透過Ｘ線像撮影手段１４によって撮影し
た透過Ｘ線像の読み出し・表示も行う。
【００４０】前記透過Ｘ線像撮影手段１４は、前記気密
ケース７内を所定の測定雰囲気（低温で、高真空の雰囲
気）にした状態での試料１と前記試料設置基準位置Ｓと
の実際の位置関係を確認するために、前記気密ケース７
内を所定の測定雰囲気にした状態で前記気密ケース７内
の試料設置基準位置Ｓに向けて低エネルギーの拡散Ｘ線
を発射して、前記気密ケース７内の試料１の透過Ｘ線像
を撮影するものである。
ケース７内を所定の測定雰囲気（低温で、高真空の雰囲
気）にした状態での試料１と前記試料設置基準位置Ｓと
の実際の位置関係を確認するために、前記気密ケース７
内を所定の測定雰囲気にした状態で前記気密ケース７内
の試料設置基準位置Ｓに向けて低エネルギーの拡散Ｘ線
を発射して、前記気密ケース７内の試料１の透過Ｘ線像
を撮影するものである。
【００４１】具体的には、この一実施例の場合は、透過
Ｘ線像撮影手段１４は、Ｘ線変換薄膜２０と、前記２次
元Ｘ線検出器１２と、前記画像読取装置１３と、制御処
理部１８と、画像表示手段１５などから構成される。
Ｘ線像撮影手段１４は、Ｘ線変換薄膜２０と、前記２次
元Ｘ線検出器１２と、前記画像読取装置１３と、制御処
理部１８と、画像表示手段１５などから構成される。
【００４２】前記Ｘ線変換薄膜２０は、前記Ｘ線発生装
置１１と前記試料設置基準位置Ｓとの間において前記入
射Ｘ線ビーム３の進路に対して進退可能に装備されて、
前記入射Ｘ線ビーム３の進路上に介在することによって
入射Ｘ線ビームを透過Ｘ線像撮影用の拡散Ｘ線に変換す
る。
置１１と前記試料設置基準位置Ｓとの間において前記入
射Ｘ線ビーム３の進路に対して進退可能に装備されて、
前記入射Ｘ線ビーム３の進路上に介在することによって
入射Ｘ線ビームを透過Ｘ線像撮影用の拡散Ｘ線に変換す
る。
【００４３】この一実施例の場合、Ｘ線変換薄膜２０
は、鉄箔あるいはアクリル板を用いたもので、Ｘ線発生
装置１１の出力した高エネルギーの入射Ｘ線ビーム３
を、拡散する低エネルギーの蛍光Ｘ線に変換する。ま
た、Ｘ線変換薄膜２０は、図示のように、窓部材８ｃの
外面に接近した位置に回動可能に装備されており、回動
によって、入射Ｘ線ビーム３の進路に対する進退を実現
している。
は、鉄箔あるいはアクリル板を用いたもので、Ｘ線発生
装置１１の出力した高エネルギーの入射Ｘ線ビーム３
を、拡散する低エネルギーの蛍光Ｘ線に変換する。ま
た、Ｘ線変換薄膜２０は、図示のように、窓部材８ｃの
外面に接近した位置に回動可能に装備されており、回動
によって、入射Ｘ線ビーム３の進路に対する進退を実現
している。
【００４４】図２は、前記Ｘ線変換薄膜２０が入射Ｘ線
ビーム３の進路に進出した状態の時に、前記Ｘ線変換薄
膜２０によって形成される低エネルギーの拡散Ｘ線２１
によって透過Ｘ線像ができる様子を示している。
ビーム３の進路に進出した状態の時に、前記Ｘ線変換薄
膜２０によって形成される低エネルギーの拡散Ｘ線２１
によって透過Ｘ線像ができる様子を示している。
【００４５】前記２次元Ｘ線検出器１２は、この一実施
例では、通常の入射Ｘ線ビーム３による回折Ｘ線の測定
と前記拡散Ｘ線２１による透過Ｘ線の測定とに兼用でき
るように、予め寸法等を設定したものである。しかし、
Ｘ線回折像の記録位置と、透過Ｘ線像の記録位置とが大
きくことなる場合には、適宜移動機構によって、それぞ
れの測定に応じて２次元Ｘ線検出器１２を移動させるこ
とも考えられる。
例では、通常の入射Ｘ線ビーム３による回折Ｘ線の測定
と前記拡散Ｘ線２１による透過Ｘ線の測定とに兼用でき
るように、予め寸法等を設定したものである。しかし、
Ｘ線回折像の記録位置と、透過Ｘ線像の記録位置とが大
きくことなる場合には、適宜移動機構によって、それぞ
れの測定に応じて２次元Ｘ線検出器１２を移動させるこ
とも考えられる。
【００４６】前記画像読取装置１３は、Ｘ線回折像の読
み出し時と同様に、透過Ｘ線像の読み出しも行う。
み出し時と同様に、透過Ｘ線像の読み出しも行う。
【００４７】入射Ｘ線ビーム３の入射方向が決まってい
るため、透過Ｘ線像の撮影時における試料設置基準位置
Ｓの２次元Ｘ線検出器１２上への投影位置は、一意に定
まる。前記制御処理部１８には、この試料設置基準位置
Ｓの２次元Ｘ線検出器１２上への投影位置の情報が予め
入力されており、前記透過Ｘ線像の読み出し時には、前
記画像読取装置１３の読み出した画像情報とともに試料
設置基準位置Ｓの投影位置を示すデータが制御処理部１
８から画像表示手段１５に送られる。
るため、透過Ｘ線像の撮影時における試料設置基準位置
Ｓの２次元Ｘ線検出器１２上への投影位置は、一意に定
まる。前記制御処理部１８には、この試料設置基準位置
Ｓの２次元Ｘ線検出器１２上への投影位置の情報が予め
入力されており、前記透過Ｘ線像の読み出し時には、前
記画像読取装置１３の読み出した画像情報とともに試料
設置基準位置Ｓの投影位置を示すデータが制御処理部１
８から画像表示手段１５に送られる。
【００４８】前記画像表示手段１５は、制御処理部１８
からの情報に基づいて、試料の透過Ｘ線像を前記試料設
置基準位置Ｓと対比させて表示する。
からの情報に基づいて、試料の透過Ｘ線像を前記試料設
置基準位置Ｓと対比させて表示する。
【００４９】以上のＸ線分析装置で測定を行う場合に
は、まず、気密ケース８、内部ケース７、ラジエーショ
ンシールド６を取り外して、前記試料ホルダー２を露呈
した状態にして、試料ホルダー２に試料１をセットす
る。そして、オペレータが視認しながら前記試料位置調
整装置４を操作して、試料１を試料設置基準位置Ｓに位
置決めする。
は、まず、気密ケース８、内部ケース７、ラジエーショ
ンシールド６を取り外して、前記試料ホルダー２を露呈
した状態にして、試料ホルダー２に試料１をセットす
る。そして、オペレータが視認しながら前記試料位置調
整装置４を操作して、試料１を試料設置基準位置Ｓに位
置決めする。
【００５０】そして、試料の位置決めが終了したら、ラ
ジエーションシールド６，内部ケース７，気密ケース８
を取り付けた状態に戻し、試料１の周囲を気密状態にす
る。次いで、前記真空引き手段を作動させて気密ケース
内を高真空状態に設定するとともに、前記冷却手段を作
動させて試料を測定温度まで冷却して、所定の測定雰囲
気に保つ。
ジエーションシールド６，内部ケース７，気密ケース８
を取り付けた状態に戻し、試料１の周囲を気密状態にす
る。次いで、前記真空引き手段を作動させて気密ケース
内を高真空状態に設定するとともに、前記冷却手段を作
動させて試料を測定温度まで冷却して、所定の測定雰囲
気に保つ。
【００５１】そして、測定を開始する前には、前記透過
Ｘ線像撮影手段１４を動作させて、気密ケース８，内部
ケース７，ラジエーションシールド６等で覆われている
試料１の透過Ｘ線像を撮影し、撮影した透過Ｘ線像を画
像読取装置１３によって読み出して画像表示手段１５で
確認する。
Ｘ線像撮影手段１４を動作させて、気密ケース８，内部
ケース７，ラジエーションシールド６等で覆われている
試料１の透過Ｘ線像を撮影し、撮影した透過Ｘ線像を画
像読取装置１３によって読み出して画像表示手段１５で
確認する。
【００５２】前述の真空引き手段９による真空引き処理
等で、試料１が試料設置基準位置Ｓから位置ずれした場
合には、画像表示手段１５による透過Ｘ線像の表示で、
それを検知することができる。
等で、試料１が試料設置基準位置Ｓから位置ずれした場
合には、画像表示手段１５による透過Ｘ線像の表示で、
それを検知することができる。
【００５３】試料１の位置が試料設置基準位置Ｓからず
れていることが確認された場合には、気密ケース８等は
取り付けた状態のままで、前記試料位置調整装置４を再
度操作して、試料１の位置の修正を行う。透過Ｘ線像の
観察に基づいて気密ケース８内部の試料１の位置を修正
した場合には、修正処理後に再度透過Ｘ線像撮影手段１
４による透過Ｘ線像の撮影を繰り返して、試料１の位置
が試料設置基準位置Ｓ上に修正されたことを確認する。
れていることが確認された場合には、気密ケース８等は
取り付けた状態のままで、前記試料位置調整装置４を再
度操作して、試料１の位置の修正を行う。透過Ｘ線像の
観察に基づいて気密ケース８内部の試料１の位置を修正
した場合には、修正処理後に再度透過Ｘ線像撮影手段１
４による透過Ｘ線像の撮影を繰り返して、試料１の位置
が試料設置基準位置Ｓ上に修正されたことを確認する。
【００５４】そして、試料１が試料設置基準位置Ｓ上に
位置していることを確認したら、回折線の測定を開始す
る。
位置していることを確認したら、回折線の測定を開始す
る。
【００５５】以上に説明したように、一実施例のＸ線分
析装置では、気密ケース８内における試料１の設置状態
が試料設置基準位置Ｓから位置ずれしているか否かを、
透過Ｘ線像撮影手段１４によって試料１の透過Ｘ線像を
撮影することによって、気密ケース８を閉じた状態のま
まで確認することができる。
析装置では、気密ケース８内における試料１の設置状態
が試料設置基準位置Ｓから位置ずれしているか否かを、
透過Ｘ線像撮影手段１４によって試料１の透過Ｘ線像を
撮影することによって、気密ケース８を閉じた状態のま
まで確認することができる。
【００５６】したがって、位置ずれが生じたままの状態
で測定が開始されるといった不都合の発生を防止して、
能率よく測定処理を進行させることができる。
で測定が開始されるといった不都合の発生を防止して、
能率よく測定処理を進行させることができる。
【００５７】また、一実施例の場合は、回折測定用に装
備されているＸ線源１１ａや２次元Ｘ線検出器１２や画
像読取装置１３を、透過Ｘ線像の撮影にも利用する構成
としたため、透過Ｘ線像撮影手段１４として新規に装備
しなくてはならない部品が少なくて済み、透過Ｘ線像撮
影手段１４の装備による装置コストの増加を抑えること
もできる。
備されているＸ線源１１ａや２次元Ｘ線検出器１２や画
像読取装置１３を、透過Ｘ線像の撮影にも利用する構成
としたため、透過Ｘ線像撮影手段１４として新規に装備
しなくてはならない部品が少なくて済み、透過Ｘ線像撮
影手段１４の装備による装置コストの増加を抑えること
もできる。
【００５８】なお、前記一実施例では、透過Ｘ線像を撮
影するための低エネルギーの拡散Ｘ線を、Ｘ線変換薄膜
２０によって得ることとした。しかし、Ｘ線変換薄膜２
０を使用せずに、例えば、前記Ｘ線発生装置１１におけ
るコリメート手段１１ｂをＸ線源１１ａの出力する拡散
Ｘ線１７の進路から退避可能に構成しておいて、前記Ｘ
線源１１ａからの拡散Ｘ線の進路から前記コリメート手
段１１ｂを退避させるとともに、前記Ｘ線源１１ａに印
加する電圧を下げることによって低エネルギーの拡散Ｘ
線を得ることも考えられる。
影するための低エネルギーの拡散Ｘ線を、Ｘ線変換薄膜
２０によって得ることとした。しかし、Ｘ線変換薄膜２
０を使用せずに、例えば、前記Ｘ線発生装置１１におけ
るコリメート手段１１ｂをＸ線源１１ａの出力する拡散
Ｘ線１７の進路から退避可能に構成しておいて、前記Ｘ
線源１１ａからの拡散Ｘ線の進路から前記コリメート手
段１１ｂを退避させるとともに、前記Ｘ線源１１ａに印
加する電圧を下げることによって低エネルギーの拡散Ｘ
線を得ることも考えられる。
【００５９】また、前記一実施例では、Ｘ線源１１ａや
２次元Ｘ線検出器１２や画像読取装置１３等はいずれ
も、回折測定用に用意されているものを利用することと
している。しかし、これらを、透過Ｘ線像用に別個に用
意しておくようにしてもよい。
２次元Ｘ線検出器１２や画像読取装置１３等はいずれ
も、回折測定用に用意されているものを利用することと
している。しかし、これらを、透過Ｘ線像用に別個に用
意しておくようにしてもよい。
【００６０】また、前記一実施例では、２次元Ｘ線検出
器１２として、イメージングプレートを利用した。しか
し、２次元Ｘ線検出器１２としては、２次元ＰＳＰＣ
（position sensitive proportional counter）を利用
することとしてもよい。
器１２として、イメージングプレートを利用した。しか
し、２次元Ｘ線検出器１２としては、２次元ＰＳＰＣ
（position sensitive proportional counter）を利用
することとしてもよい。
【００６１】また、前記一実施例は、Ｘ線分析装置とし
て、試料低温装置を示したが、本発明は、試料低温装置
に限らず、試料高温装置等でも利用することができる。
て、試料低温装置を示したが、本発明は、試料低温装置
に限らず、試料高温装置等でも利用することができる。
【００６２】
【発明の効果】請求項１に記載のＸ線分析装置では、気
密ケース内における試料の設置状態が試料設置基準位置
から位置ずれしているか否かを、透過Ｘ線像撮影手段に
よって試料の透過Ｘ線像を撮影することによって、試料
の周囲を気密ケースで覆った状態のままで確認すること
ができる。
密ケース内における試料の設置状態が試料設置基準位置
から位置ずれしているか否かを、透過Ｘ線像撮影手段に
よって試料の透過Ｘ線像を撮影することによって、試料
の周囲を気密ケースで覆った状態のままで確認すること
ができる。
【００６３】したがって、位置ずれが生じたままの状態
で測定が開始されるといった不都合の発生を防止して、
能率よく測定処理を進行させることができる。
で測定が開始されるといった不都合の発生を防止して、
能率よく測定処理を進行させることができる。
【００６４】また、請求項２および請求項３に記載のＸ
線分析装置では、回折測定用に装備されているＸ線源１
１ａが透過Ｘ線像の撮影にも利用されるため、透過Ｘ線
像撮影手段として新規に装備しなくてはならない部品が
少なくて済み、透過Ｘ線像撮影手段の装備による装置コ
ストの増加を抑えることもできる。
線分析装置では、回折測定用に装備されているＸ線源１
１ａが透過Ｘ線像の撮影にも利用されるため、透過Ｘ線
像撮影手段として新規に装備しなくてはならない部品が
少なくて済み、透過Ｘ線像撮影手段の装備による装置コ
ストの増加を抑えることもできる。
【００６５】さらに、請求項４に記載のＸ線発生装置
は、回折測定用に装備されている２次元Ｘ線検出器１２
が透過Ｘ線像の撮影にも利用されるため、請求項２ある
いは請求項３との組み合わせによって、透過Ｘ線像撮影
手段の装備による装置コスト増加を抑制する効果を一段
と高めることが可能になる。
は、回折測定用に装備されている２次元Ｘ線検出器１２
が透過Ｘ線像の撮影にも利用されるため、請求項２ある
いは請求項３との組み合わせによって、透過Ｘ線像撮影
手段の装備による装置コスト増加を抑制する効果を一段
と高めることが可能になる。
【００６６】また、請求項５に記載のＸ線分析装置によ
れば、試料の位置ずれの確認が非常に容易になる。
れば、試料の位置ずれの確認が非常に容易になる。
【図１】本発明の一実施例の構成図である。
【図２】本発明の一実施例の作用説明図である。
１ 試料 ２ 試料ホルダー ３ 入射Ｘ線ビーム ４ 試料位置調整装置 ８ 気密ケース ９ 真空引き手段 １０ Ｘ線照射窓 １１ Ｘ線発生装置 １１ａ Ｘ線源 １１ｂ コリメート手段 １２ ２次元Ｘ線検出器 １３ 画像読取装置 １４ 透過Ｘ線像撮影手段 １５ 画像表示手段 １６ 中心軸線 １７ 拡散Ｘ線 １８ 制御処理部 ２０ Ｘ線変換薄膜 ２１ 拡散Ｘ線
Claims (5)
- 【請求項１】 試料を入射Ｘ線ビームの進路上となる試
料設置基準位置に位置決めするための試料位置調整装置
と、前記試料の周囲を所定の測定雰囲気に保つために試
料の周囲を覆う気密ケースと、この気密ケースの一部に
設けられたＸ線照射窓の外側から気密ケース内の試料設
置基準位置に入射Ｘ線ビームを当てるＸ線発生装置と、
前記入射Ｘ線ビームの照射によって得られる試料のＸ線
画像を検出するための２次元Ｘ線検出器と、この２次元
Ｘ線検出器の検出したＸ線画像を読み取る画像読取装置
とを備えて、前記試料の周囲を気密ケースで覆った状態
でＸ線回折測定等を行うＸ線分析装置であって、 前記気密ケース内を所定の測定雰囲気にした状態での試
料と前記試料設置基準位置との実際の位置関係を確認す
るために、前記気密ケース内を所定の測定雰囲気にした
状態で前記気密ケース内の試料設置基準位置に向けて拡
散Ｘ線を発射して前記気密ケース内の試料の透過Ｘ線像
を撮影する透過Ｘ線像撮影手段を備えたことを特徴とす
るＸ線分析装置。 - 【請求項２】 前記Ｘ線発生装置が、拡散Ｘ線を発射す
るＸ線源と、このＸ線源から発射された拡散Ｘ線を所定
のビーム径の入射Ｘ線ビームに成形するコリメート手段
とを備えた構成である場合に、 前記透過Ｘ線像撮影手段は、 前記Ｘ線発生装置と前記試料設置基準位置との間におい
て前記入射Ｘ線ビームの進路に対して進退可能に装備さ
れて、前記入射Ｘ線ビームの進路上に介在することによ
って入射Ｘ線ビームを透過Ｘ線像撮影用の拡散Ｘ線に変
換するＸ線変換薄膜を備えた構成であることを特徴とし
た請求項１に記載のＸ線分析装置。 - 【請求項３】 前記Ｘ線発生装置が、拡散Ｘ線を発射す
るＸ線源と、このＸ線源から発射された拡散Ｘ線を所定
のビーム径の入射Ｘ線ビームに成形するコリメート手段
とを備えた構成である場合に、 前記透過Ｘ線像撮影手段は、 前記Ｘ線源からの拡散Ｘ線の進路から前記コリメート手
段を退避させて前記Ｘ線源の発生する拡散Ｘ線を透過Ｘ
線像撮影用の拡散Ｘ線に変換するＸ線変換手段を備えた
構成であることを特徴とする請求項１に記載のＸ線分析
装置。 - 【請求項４】 前記試料に透過Ｘ線像撮影用の拡散Ｘ線
が照射される場合に、試料の透過Ｘ線像を前記２次元Ｘ
線検出器によって検出することを特徴とする請求項１乃
至請求項３のいずれかに記載のＸ線分析装置。 - 【請求項５】 前記透過Ｘ線像撮影手段によって撮影さ
れた試料の透過Ｘ線像を前記試料設置基準位置と対比さ
せて表示する画像表示手段が装備されたことを特徴とす
る請求項１乃至請求項４のいずれかに記載のＸ線分析装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25961192A JP3222572B2 (ja) | 1992-09-29 | 1992-09-29 | Ｘ線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25961192A JP3222572B2 (ja) | 1992-09-29 | 1992-09-29 | Ｘ線分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06109665A true JPH06109665A (ja) | 1994-04-22 |
| JP3222572B2 JP3222572B2 (ja) | 2001-10-29 |
Family
ID=17336494
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25961192A Expired - Fee Related JP3222572B2 (ja) | 1992-09-29 | 1992-09-29 | Ｘ線分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3222572B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09166528A (ja) * | 1995-12-15 | 1997-06-24 | Rigaku Corp | Ｘ線装置の試料格納容器 |
| CN113302483A (zh) * | 2018-11-23 | 2021-08-24 | 株式会社理学 | 单晶x射线构造解析用试样的吸藏装置和吸藏方法 |
-
1992
- 1992-09-29 JP JP25961192A patent/JP3222572B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09166528A (ja) * | 1995-12-15 | 1997-06-24 | Rigaku Corp | Ｘ線装置の試料格納容器 |
| CN113302483A (zh) * | 2018-11-23 | 2021-08-24 | 株式会社理学 | 单晶x射线构造解析用试样的吸藏装置和吸藏方法 |
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|---|---|
| JP3222572B2 (ja) | 2001-10-29 |
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