JPH06108249A - 放電装置 - Google Patents
放電装置Info
- Publication number
- JPH06108249A JPH06108249A JP25943092A JP25943092A JPH06108249A JP H06108249 A JPH06108249 A JP H06108249A JP 25943092 A JP25943092 A JP 25943092A JP 25943092 A JP25943092 A JP 25943092A JP H06108249 A JPH06108249 A JP H06108249A
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- Japan
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- discharge
- electrode
- electrodes
- discharge gas
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 複数の電極により均一な放電処理を行なう。
【構成】 真空容器（１）内に、複数の電極（５ａ〜５
ｅ）を設置し、これを共通電源（６）に並列接続する。
前記各電極への給電ラインに電流計（７ａ〜７ｅ）を設
けるとともに、各電極面に放電ガスを供給するノズル
（８ａ〜８ｅ）を設け、フィードバック制御する放電ガ
ス流量コントローラ（９ａ〜９ｅ）によって電流計の電
流値により前記ノズルからの放電ガス量を可変して電流
値を一定にする。
ｅ）を設置し、これを共通電源（６）に並列接続する。
前記各電極への給電ラインに電流計（７ａ〜７ｅ）を設
けるとともに、各電極面に放電ガスを供給するノズル
（８ａ〜８ｅ）を設け、フィードバック制御する放電ガ
ス流量コントローラ（９ａ〜９ｅ）によって電流計の電
流値により前記ノズルからの放電ガス量を可変して電流
値を一定にする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、マグネトロン電極を使
用したスパッタ装置等に適用される放電装置に関するも
のである。
用したスパッタ装置等に適用される放電装置に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、前記放電装置は、真空容器内
に、Ａｒ等の放電ガスを流入し、１０-1〜１０-4Ｔｏｒ
ｒ程度の圧力状態として放電を行なうものである。そし
て、大面積の処理材にスパッタリング等を行なう場合に
は、放電電極を複数設置して行なうものである。この場
合、各放電電極毎に独立した電源を設置して各電源をコ
ントロールし、放電ガスの流入、排気は一元的に制御し
ている。
に、Ａｒ等の放電ガスを流入し、１０-1〜１０-4Ｔｏｒ
ｒ程度の圧力状態として放電を行なうものである。そし
て、大面積の処理材にスパッタリング等を行なう場合に
は、放電電極を複数設置して行なうものである。この場
合、各放電電極毎に独立した電源を設置して各電源をコ
ントロールし、放電ガスの流入、排気は一元的に制御し
ている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】前記構成において、各
電源の電圧を同一に設定しても、リップル、位相差が生
じ、厳密には同一電圧とならず、電極間の異常放電、干
渉等が発生し、均一な放電処理を行なうことは困難であ
った。そのため、電源を共通化することも考えられる
が、この場合においても、真空容器内の圧力分布、電極
の特性差等により均一な放電処理ができない。
電源の電圧を同一に設定しても、リップル、位相差が生
じ、厳密には同一電圧とならず、電極間の異常放電、干
渉等が発生し、均一な放電処理を行なうことは困難であ
った。そのため、電源を共通化することも考えられる
が、この場合においても、真空容器内の圧力分布、電極
の特性差等により均一な放電処理ができない。
【０００４】本発明者らは、前記課題を解決するため種
々検討の結果、一般に、放電圧力レンジにおいては、放
電インピーダンスは、電極表面圧力が高いほど小さく、
電極電圧が一定であればインピーダンスが小さい程、電
極に流れる電流値は大きくなることを知見した。したが
って、本発明は、電源を共通化するとともに、電極表面
の圧力をコントロールすることにより、各電極の電流値
（電力値）を一定とし、均一な放電処理を行なうことの
できる放電装置を提供することを目的とする。
々検討の結果、一般に、放電圧力レンジにおいては、放
電インピーダンスは、電極表面圧力が高いほど小さく、
電極電圧が一定であればインピーダンスが小さい程、電
極に流れる電流値は大きくなることを知見した。したが
って、本発明は、電源を共通化するとともに、電極表面
の圧力をコントロールすることにより、各電極の電流値
（電力値）を一定とし、均一な放電処理を行なうことの
できる放電装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明に係る放電装置は、真空容器内に、共通電源
に並列接続した複数の電極を設置して放電を行なう放電
装置において、前記各電極への給電ラインに電流計と、
各電極面に放電ガスを供給する独立した放電ガス供給手
段と、前記各電流計の電流値により各放電ガス量を可変
し、電流値を一定となるようにフィードバック制御する
放電ガス流量コントローラと、を設けてなる。
に、本発明に係る放電装置は、真空容器内に、共通電源
に並列接続した複数の電極を設置して放電を行なう放電
装置において、前記各電極への給電ラインに電流計と、
各電極面に放電ガスを供給する独立した放電ガス供給手
段と、前記各電流計の電流値により各放電ガス量を可変
し、電流値を一定となるようにフィードバック制御する
放電ガス流量コントローラと、を設けてなる。
【０００６】
【実施例】つぎに、本発明の一実施例を図面にしたがっ
て説明する。図において、１は真空容器で、該真空容器
１内は図示しない真空ポンプに接続され、真空ゲージ２
による真空度コントローラ３からの信号により制御弁４
が開閉し、真空容器１内の圧力を一定に保持するように
なっている。
て説明する。図において、１は真空容器で、該真空容器
１内は図示しない真空ポンプに接続され、真空ゲージ２
による真空度コントローラ３からの信号により制御弁４
が開閉し、真空容器１内の圧力を一定に保持するように
なっている。
【０００７】５ａ，５ｂ，〜５ｅは電極、たとえばマグ
ネトロン電極で、各電極５ａ〜５ｅは、共通電源６に、
各々電流計７ａ〜７ｅを介して接続されている。また、
前記各電極５ａ〜５ｅには、その表面に向かってＡｒガ
ス等の放電ガスを噴出するガス放出ノズル８ａ〜８ｅが
設けられ、これら各ノズル８ａ〜８ｅはそれぞれ放電ガ
ス源に連通するとともに、各連通路にガス流量コントロ
ーラ９ａ〜９ｅが設けられている。なお、真空容器１内
にも所定量の放電ガスが供給されるようになっている。
ネトロン電極で、各電極５ａ〜５ｅは、共通電源６に、
各々電流計７ａ〜７ｅを介して接続されている。また、
前記各電極５ａ〜５ｅには、その表面に向かってＡｒガ
ス等の放電ガスを噴出するガス放出ノズル８ａ〜８ｅが
設けられ、これら各ノズル８ａ〜８ｅはそれぞれ放電ガ
ス源に連通するとともに、各連通路にガス流量コントロ
ーラ９ａ〜９ｅが設けられている。なお、真空容器１内
にも所定量の放電ガスが供給されるようになっている。
【０００８】そして、前記各ガス流量コントローラ９ａ
〜９ｅは、それぞれ電流計７ａ〜７ｅと接続し、電流計
を流れる電流が設定値より少ないと、流量コントローラ
を開として当該電極表面圧力を高め、各電極５ａ〜５ｅ
への電流値が一定になるようになっている。
〜９ｅは、それぞれ電流計７ａ〜７ｅと接続し、電流計
を流れる電流が設定値より少ないと、流量コントローラ
を開として当該電極表面圧力を高め、各電極５ａ〜５ｅ
への電流値が一定になるようになっている。
【０００９】したがって、いま、真空容器１内に基板Ｗ
を位置させ、真空容器１内に供給口１ａからＡｒガスを
供給しつつ、各ノズル８ａ〜８ｅからもＡｒガスを当該
電極の表面に吹き付けながら、各電極に同一電圧を印加
すると、前述のように、各電極での電流値にバラツキが
生じる。このバラツキは各電流計７ａ〜７ｅが検出し
て、基準値より小さい（大きい）と、当該流量コントロ
ーラを開（閉）とし、当該電極の表面圧力を高める（低
下させる）ことにより電流値を増加（減少）させ、各電
極は安定放電を行ない、基板Ｗ表面の均一なスパッタ処
理を行なうものである。
を位置させ、真空容器１内に供給口１ａからＡｒガスを
供給しつつ、各ノズル８ａ〜８ｅからもＡｒガスを当該
電極の表面に吹き付けながら、各電極に同一電圧を印加
すると、前述のように、各電極での電流値にバラツキが
生じる。このバラツキは各電流計７ａ〜７ｅが検出し
て、基準値より小さい（大きい）と、当該流量コントロ
ーラを開（閉）とし、当該電極の表面圧力を高める（低
下させる）ことにより電流値を増加（減少）させ、各電
極は安定放電を行ない、基板Ｗ表面の均一なスパッタ処
理を行なうものである。
【００１０】なお、前記各電極に流れる電流はその電極
面の圧力に影響されるため、前記制御弁４で真空容器１
内の全体の圧力を一定とし、その下において、各電極面
での圧力を変化させるようになっている。
面の圧力に影響されるため、前記制御弁４で真空容器１
内の全体の圧力を一定とし、その下において、各電極面
での圧力を変化させるようになっている。
【００１１】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば、電源が１つであるため、安価であるとともに、
各電極にかかる電位差が等しいため各電極間での異常放
電はない。しかも、各電極への電流は、実際の電流値に
もとづいて電極表面への放電ガス量を制御して圧力を変
動させ、インピーダンス制御することにより、各電極と
もに均一となり、大面積の処理材であっても均一な放電
加工を行なうことができる。
よれば、電源が１つであるため、安価であるとともに、
各電極にかかる電位差が等しいため各電極間での異常放
電はない。しかも、各電極への電流は、実際の電流値に
もとづいて電極表面への放電ガス量を制御して圧力を変
動させ、インピーダンス制御することにより、各電極と
もに均一となり、大面積の処理材であっても均一な放電
加工を行なうことができる。
【図１】 本発明にかかる放電装置の概略図。
１…真空容器、４…制御弁、５ａ〜５ｅ…電極、６…電
源、７ａ〜７ｅ…電流計、８ａ〜８ｅ…ノズル、９ａ〜
９ｅ…ガス流量コントローラ。
源、７ａ〜７ｅ…電流計、８ａ〜８ｅ…ノズル、９ａ〜
９ｅ…ガス流量コントローラ。
Claims (1)
- 【請求項１】 真空容器内に、共通電源に並列接続した
複数の電極を設置して放電を行なう放電装置において、
前記各電極への給電ラインに電流計と、各電極面に放電
ガスを供給する独立した放電ガス供給手段と、前記各電
流計の電流値により各放電ガス量を可変し、電流値を一
定となるようにフィードバック制御する放電ガス流量コ
ントローラと、を設けてなる放電装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25943092A JPH06108249A (ja) | 1992-09-29 | 1992-09-29 | 放電装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25943092A JPH06108249A (ja) | 1992-09-29 | 1992-09-29 | 放電装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06108249A true JPH06108249A (ja) | 1994-04-19 |
Family
ID=17333984
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25943092A Pending JPH06108249A (ja) | 1992-09-29 | 1992-09-29 | 放電装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06108249A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6639172B1 (en) * | 2000-06-28 | 2003-10-28 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method of and apparatus for wire electric discharge machining capable of machining the machining subject coarsely in a dielectric fluid and finely in a gaseous environment |
-
1992
- 1992-09-29 JP JP25943092A patent/JPH06108249A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6639172B1 (en) * | 2000-06-28 | 2003-10-28 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method of and apparatus for wire electric discharge machining capable of machining the machining subject coarsely in a dielectric fluid and finely in a gaseous environment |
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