JPH06107614A

JPH06107614A - アリールスルホン酸アミド類またはアリールカルボン酸アミド類及びそれらの薬剤として許容される酸付加塩及びその製造法並びにそれを有効成分とする抗消化性潰瘍剤

Info

Publication number: JPH06107614A
Application number: JP28100192A
Authority: JP
Inventors: Shintaro Arakawa; 愼太郎荒川; Eitaro Arakawa; 永太郎荒川; Tetsuo Kato; 哲夫加藤; Tsukasa Takamura; 吏高村; Hitoshi Sato; 仁佐藤; Takashi Imai; 敬司今井
Original assignee: ARAKUSU KK; Arax Co Ltd
Current assignee: ARAKUSU KK; Arax Co Ltd
Priority date: 1992-09-26
Filing date: 1992-09-26
Publication date: 1994-04-19

Abstract

(57)【要約】【目的】攻撃因子抑制作用及び防御因子増強作用を併
せ持ち、安全性が高く優れた効果を発揮する抗消化性潰
瘍剤を提供する。【構成】下記化１〔但しＲ₁、Ｒ₂は水素、ハロゲン
原子、低級アルコキシ基、または酸素原子を有して環構
造を形成したメチレンジオキシ基若しくはエチレンジオ
キシ基；Ｒ₃は水素、低級アルキル基、ホルミル基、ま
たは−Ｃ（Ｓ）−ＮＨＲ₆（Ｒ₆は低級アルキル基）；
Ｒ₄は水素、２−ヒドロキシエチル基、またはカルボキ
シメチル基；Ｒ₅はｐ−クロロベンゼンスルホニル基、
２，４，６−トリイソプロピルベンゼンスルホニル基、
８−キノリンスルホニル基、１−ナフトイル基、または
２−ピリジンカルボニル基；Ａはフェニル基またはピリ
ジル基；ｋは１または２、ｍは１〜３、ｎは０または
１〕で表されるアリールスルホン酸アミド類またはアリ
ールカルボン酸アミド類及び酸付加塩。【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、抗消化性潰瘍作用を有
する、新規で有用なアリールスルホン酸アミド類または
アリールカルボン酸アミド類及びそれらの薬剤として許
容され得る酸付加塩及びその製造法並びにそれを有効成
分とする抗消化性潰瘍剤に関するものである。

【０００２】

【背景技術】従来より、抗消化性潰瘍剤は、攻撃因子抑
制型または防御因子増強型に大別されて、各種タイプの
薬剤が知られている。そして、その中の攻撃因子抑制型
において、シメチジンに代表されるＨ₂受容体拮抗剤
は、著効を示すが、リバウンドにより潰瘍の再発を起こ
しやすく、従って長期の連用が必要となる欠点があり、
またオメプラゾールに代表されるベンズイミダゾール誘
導体の多くは、非可逆的にＨ⁺，Ｋ⁺−ＡＴＰａｓｅ
（プロトンポンプ）を阻害するため、その作用期間は長
いが、長期の胃内無酸状態が原因となる胃内バクテリア
の増殖、Ｎ−ニトロソ化合物の産生増大、または高ガス
トリン血症等、臨床上好ましくない現象の発生の可能性
が示唆されている。

【０００３】一方、防御因子増強型の薬剤の多くは遅効
性であり、用量に比較して、その効果が必ずしも満足の
いくものではないものであった。

【０００４】

【解決課題】従って、攻撃因子抑制作用及び防御因子増
強作用を併せ持ち、安全性が高く、優れた効果を発揮す
る抗消化性潰瘍剤が望まれている。

【０００５】本発明者等は、アリールスルホン酸アミド
類及びアリールカルボン酸アミド類の合成とその薬理活
性について鋭意研究を行なった結果、本発明化合物が攻
撃因子抑制作用と防御因子増強作用を併せ持つ優れた抗
消化性潰瘍剤となることを見い出し、本発明を完成する
に至った。

【０００６】

【解決手段】従って、本発明は、下記化１７：

【化１７】［但し、Ｒ₁、Ｒ₂は、同一若しくは異なって、水素、
ハロゲン原子、低級アルコキシ基、または酸素原子を有
して環構造を形成したメチレンジオキシ基若しくはエチ
レンジオキシ基を表し、Ｒ₃は、水素、低級アルキル
基、ホルミル基、または−Ｃ（Ｓ）−ＮＨＲ₆（但し、
Ｒ₆は低級アルキル基を表す）を表し、Ｒ₄は、水素、
２−ヒドロキシエチル基、またはカルボキシメチル基を
表し、Ｒ₅は、ｐ−クロロベンゼンスルホニル基、２，
４，６−トリイソプロピルベンゼンスルホニル基、８−
キノリンスルホニル基、１−ナフトイル基、または２−
ピリジンカルボニル基を表し、Ａは、フェニル基または
ピリジル基を表し、ｋは１または２、ｍは１〜３、ｎは
０または１の整数を表す。［（但し、Ｒ₃が水素または
低級アルキル基、Ａがフェニル基、ｋが１、ｍが２で表
される側鎖に対して、Ｒ₄が水素または２−ヒドロキシ
エチル基、Ｒ₅が８−キノリンスルホニル基、ｎが０で
表される側鎖が隣接した場合、Ｒ₁、Ｒ₂は同時に水素
ではない）。］で表されるアリールスルホン酸アミド類
またはアリールカルボン酸アミド類またはそれらの薬剤
としての許容され得る酸付加塩を、その要旨とするもの
であり、またそのような化合物を、以下に詳述せる如き
手法にて有利に製造する方法、更にはそのような化合物
を有効成分とする抗消化性潰瘍剤を、その特徴とするも
のである。

【０００７】

【具体的構成】ところで、前記化１７にて表される化合
物としては、具体的には、例えば、次のものを挙げるこ
とが出来る。

【０００８】（１）Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ
−［２−（Ｎ−メチル−２−フェノキシエチルアミノメ
チル）フェニル］−４−クロロベンゼンスルホンアミド（２）８−［Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−３−（Ｎ
−メチル−２−フェノキシエチルアミノ）メチルフェニ
ルアミノ］スルホニルキノリン（３）８−［Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−４−（Ｎ
−メチル−２−フェノキシエチルアミノ）メチルフェニ
ルアミノ］スルホニルキノリン（４）８−［Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−（Ｎ
−メチル−２−フェノキシエチルアミノ）メチル−４，
５−ジメトキシフェニルアミノ］スルホニルキノリン（５）８−｛Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−［２
−（Ｎ−メチル−２−フェノキシエチルアミノ）エチ
ル］フェニルアミノ｝スルホニルキノリン（６）８−｛Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−［２
−（Ｎ−エチル−２−フェノキシエチルアミノ）エチ
ル］フェニルアミノ｝スルホニルキノリン（７）８−｛Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−［２
−（Ｎ−プロピル−２−フェノキシエチルアミノ）エチ
ル］フェニルアミノ｝スルホニルキノリン（８）８−［Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−（Ｎ
−メチル−２−フェノキシエチルアミノ）メチルフェニ
ルメチルアミノ］スルホニルキノリン（９）８−［Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−（Ｎ
−メチル−２−フェノキシエチルアミノ）メチル−５−
フルオロフェニルアミノ］スルホニルキノリン（１０）８−［Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−
（Ｎ−メチル−２−フェノキシエチルアミノ）メチル−
４，５−メチレンジオキシフェニルアミノ］スルホニル
キノリン（１１）８−［Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−
（Ｎ−メチル−３−フェノキシプロピルアミノ）メチル
フェニルアミノ］スルホニルキノリン（１２）８−［Ｎ−カルボキシメチル−２−（Ｎ−メチ
ル−２−フェノキシエチルアミノ）メチルフェニルアミ
ノ］スルホニルキノリン（１３）Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−［２−
（Ｎ−メチル−２−フェノキシエチルアミノメチル）−
４，５−メチレンジオキシフェニル］−１−ナフタレン
カルボキサミド（１４）８−［Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−
（Ｎ−エチル−２−フェノキシエチルアミノ）メチル−
４，５−メチレンジオキシフェニルアミノ］スルホニル
キノリン（１５）８−［Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−
（Ｎ−プロピル−２−フェノキシエチルアミノ）メチル
−４，５−メチレンジオキシフェニルアミノ］スルホニ
ルキノリン（１６）８−［Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−
（Ｎ−エチルチオカルバモイル−２−フェノキシエチル
アミノ）メチル−４，５−メチレンジオキシフェニルア
ミノ］スルホニルキノリン（１７）８−［Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−
（Ｎ−ブチル−２−フェノキシエチルアミノ）メチル−
４，５−メチレンジオキシフェニルアミノ］スルホニル
キノリン（１８）Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−［２−
（Ｎ−メチル−２−フェノキシエチルアミノ）メチル−
４，５−メチレンジオキシフェニル］−２−ピリジンカ
ルボキサミド（１９）８−［Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−
（Ｎ−メチルチオカルバモイル−２−フェノキシエチル
アミノ）メチル−４，５−メチレンジオキシフェニルア
ミノ］スルホニルキノリン（２０）８−｛Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−
［Ｎ−メチル−２−（２−ピリジルオキシエチルアミ
ノ）］メチル−４，５−メチレンジオキシフェニルアミ
ノ｝スルホニルキノリン（２１）８−［Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−
（Ｎ−ホルミル−２−フェノキシエチルアミノ）メチル
−４，５−メチレンジオキシフェニルアミノ］スルホニ
ルキノリン（２２）８−｛Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−
［Ｎ−メチル−［３−（２−ピリジルオキシ）プロピル
アミノ］メチル］−４，５−メチレンジオキシフェニル
アミノ｝スルホニルキノリン（２３）Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−［２−
（Ｎ−メチル−２−フェノキシエチルアミノメチル）−
４，５−メチレンジオキシフェニル］−２，４，６−ト
リイソプロピルベンゼンスルホンアミド

【０００９】また、上記例示の化合物を含む前記化１７
にて表される化合物の薬学的に許容し得る酸付加塩を与
える酸としては、例えば塩酸、臭化水素酸、燐酸、硫酸
等の無機酸類、及び酢酸、クエン酸、コハク酸、酒石
酸、フマル酸、マレイン酸、メタンスルホン酸、ｐ−ト
ルエンスルホン酸等の有機酸を挙げることが出来る。

【００１０】ここにおいて、本発明に従う前記化１７に
て表される化合物のうち、ｋ＝１で、ｎ＝０の化合物
は、例えば次の化１８で示される合成法（Ａ法）に従っ
て合成することができる。なお、かかる化１８における
Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ａ、ｍは、何れも前記
と同じ意味を表すものである。

【００１１】

【化１８】

【００１２】すなわち、かかる化１８において、〔II〕
で示される化合物を〔III 〕で示される化合物と縮合さ
せて、〔IV〕で示される化合物と為し、そしてそれを還
元して得られる〔XV〕で示されるアミノ体に、〔Ｖ〕で
示される芳香族酸塩化物を反応させることで、〔Ｉ〕
（Ｒ₄＝Ｈ）で示される化合物とすることができるので
ある。

【００１３】なお、前記〔III 〕で示される化合物とし
ては、例えば２−，３−，４−ニトロベンズアルデヒ
ド、２−クロロ−６−ニトロベンズアルデヒド、４−ク
ロロ−３−ニトロベンズアルデヒド、５−クロロ−２−
ニトロベンズアルデヒド、６−ニトロピペロナール、６
−ニトロベラトルアルデヒドなどを挙げることができ
る。また、前記〔II〕で示される化合物としては、例え
ば２−フェノキシエチルアミン、３−フェノキシプロピ
ルアミン及びそれらのＮ−モノアルキル体、Ｎ−モノチ
オカルバモイル体、Ｎ−モノホルミル体などが挙げら
れ、更に２−（２−，３−，４−ピリジルオキシ）エチ
ルアミン、３−（２−，３−，４−ピリジルオキシ）プ
ロピルアミン及びそれらのアミン部分のモノアルキル
体、モノチオカルバモイル体、モノホルミル体などが挙
げられる。そして、〔IV〕で示される化合物を得る反応
においては、溶媒として、エタノール等のアルカノール
類、ベンゼン等の芳香族類、テトラヒドロフラン等のエ
ーテル類及び水などが挙げられるが、無溶媒で行なうこ
ともできる。また、使用する還元剤としては、水素化リ
チウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウム、シアン
化水素化ホウ素ナトリウム等の複合水素化物、ボラン、
ラネーニッケル、パラジウムなどが挙げられ、上記反応
溶媒と適宜組み合わせて使用されることとなる。反応温
度は−３０〜１５０℃であり、好ましくは０〜８０℃で
ある。〔III 〕で示される化合物に対する〔II〕で示さ
れる化合物の使用量は、１〜４倍モルである。還元剤の
使用量は、〔III 〕で示される化合物に対して０．００
０１〜１０倍モルである。

【００１４】また、〔IV〕で示される化合物より〔XV〕
で示される化合物を得る還元反応では、０．０００１〜
１倍モルのパラジウムの存在下、１〜１０倍モルの水素
化ホウ素ナトリウムを用い、この場合、溶媒としてはメ
タノール、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシドなどが使用される。なお、反応は、
通常、−３０〜１００℃の温度で行なわれ、特に−２０
〜７０℃の範囲で好適に実施される。また、この反応で
は、上記の水素化ホウ素ナトリウムに代えて、直接水素
を用いて触媒還元を行なってもよく、そのとき通常１〜
１０気圧程度の水素圧で行なわれ、反応温度としては０
〜６０℃が好ましく採用される。更に別の還元法として
は、〔IV〕で示される化合物に対して３〜１０倍モルの
塩化第一スズを用いて、６〜５００倍モルの濃塩酸中で
行なってもよく、この場合、反応温度は０〜１００℃で
あるのが好ましい。反応溶媒としては、メタノール、エ
タノールのようなアルカノール類；テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンのようなエーテル類；アセトニトリル、
酢酸エチル等を使用することができる。

【００１５】さらに、アミノ体〔XV〕は、〔Ｖ〕で示さ
れる芳香族酸塩化物と反応して、〔Ｉ〕（Ｒ₄＝Ｈ）で
示される化合物とすることができる。この反応で使用さ
れる〔Ｖ〕で示される化合物としては、ｐ−クロロベン
ゼンスルホニルクロリド、２，４，６−トリイソプロピ
ルベンゼンスルホニルクロリド、８−キノリンスルホニ
ルクロリド、１−ナフトイルクロリド、２−ピリジンカ
ルボニルクロリドなどを挙げることができる。この反応
においては、酸受容体が存在していてもよい。この酸受
容体としては、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、ナトリウムメチラー
トのようなアルカリ金属化合物、ピリジン、トリメチル
アミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミ
ン、４−ジメチルアミノピリジンのような有機第３級ア
ミン等が挙げられる。反応溶媒としては、メタノール、
エタノールのようなアルカノール類；ジクロロメタン、
クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、ピリジンのような芳香族類；テトラヒド
ロフラン、ジオキサンのようなエーテル類；アセトニト
リル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等
が使用される。なお、アミノ体〔XV〕に対する化合物
〔Ｖ〕の使用量は、１〜１０倍モルが好ましく、更に好
ましくは１〜３倍モルである。酸受容体を用いる場合、
その使用量は、化合物〔XV〕に対して、１〜１０倍モル
が好ましく、更に好ましくは１〜６倍モルである。反応
温度としては、通常−３０〜１５０℃が採用されるが、
好ましくは０〜１２０℃であり、更に好ましくは０〜８
０℃である。

【００１６】また、〔Ｉ〕で示される化合物のうち、Ｒ
₄がヒドロキシエチルまたはカルボキシメチルである化
合物は、化合物〔Ｉ〕（Ｒ₄＝Ｈ）を更にブロモ酢酸エ
チルまたはクロロ酢酸エチルでアルキル化して化合物
〔XVI 〕とした後、水素化ホウ素ナトリウム、水素化リ
チウムアルミニウム、または水素化アルミニウム等で還
元するか、若しくは加水分解することによって、得られ
る。なお、アルキル化反応における溶媒としては、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、メタノール、エタノー
ル、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド等が使用され、酸受容体を存在させる場合
には、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナ
トリウム、トリエチルアミン等が用いられ、その使用量
は、化合物〔Ｉ〕（Ｒ₄＝Ｈ）に対して１〜３倍モルが
好ましい。

【００１７】さらに、〔XVI 〕で示される化合物は、
〔XV〕で示される化合物を先ずアルキル化した後、
〔Ｖ〕で示される化合物と反応させても、得られる。こ
の場合の反応条件は、上記と同じであるが、ブロモ酢酸
エチルまたはクロロ酢酸エチルの使用量は、化合物〔X
V〕に対して２倍モル以下が好ましい。

【００１８】更にまた、前記〔XVI 〕で示される化合物
のうち、Ｒ₃がホルミル基である化合物は、脱ホルミル
化することにより、〔XVII〕で示す化合物とすることが
出来、このものは、次いでハロゲン化アルキル類、また
はイソチオシアネート類と反応することで、〔XVIII 〕
で示される化合物とすることができる。この脱ホルミル
化の反応には、一般に採用される条件が用いられるが、
メタノール−塩酸を使用した場合、エステル交換によ
り、エトキシカルボニルメチル基はメトキシカルボニル
メチル基となる。

【００１９】なお、前記化合物〔XV〕のアルキル化に
は、１〜１０倍モルのハロゲン化アルキルが用いられ、
またその際に酸受容体を存在させる場合には、例えば炭
酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム、
トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等が用
いられ、溶媒としてはテトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、ハロゲン化炭化水素類が用いられ、反応
温度は０〜８０℃が好ましい。

【００２０】また、化合物〔XVII〕のイソチオシアネー
ト類との反応では、溶媒としては、ハロゲン化炭化水素
類、エーテル類、ベンゼン、トルエン等が用いられ、反
応温度は通常０〜５０℃であり、化合物〔XVII〕に対す
るイソチオシアネート類の使用量は１〜２倍モルが好ま
しい。

【００２１】さらに、〔XVI 〕または〔XVIII 〕で示さ
れる化合物の還元反応は、上記のような複合水素化合物
を化合物〔XVI 〕または〔XVIII 〕に対して０．５〜２
０倍モルの割合で用いて行なうことが出来、その際、溶
媒としてはエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、メタノール、エタノール等を用いることができる。
そして、反応温度は−３０〜８０℃とするのが好まし
い。

【００２２】そして、〔Ｉ〕の化合物を得るための〔XV
I 〕または〔XVIII 〕で示される化合物の加水分解で
は、メタノール中、水酸化カリウムを用いて行なう操作
のような、一般的加水分解条件が用いられる。

【００２３】なお、前記〔II〕で示される化合物は、例
えば、以下の化１９に示されるような標準方法ｉ）、i
i）によって製造することができる。かかる化１９中に
おけるｍは、前記と同様の意味を有する。

【００２４】

【化１９】

【００２５】一方、前記〔Ｉ〕で示される化合物のう
ち、ｎ＝０の化合物は、以下の化２０に示される合成法
（Ｂ法）に従って、合成することができる（但し、Ｒ₄
＝Ｈは除く）。なお、この化２０において、Ｒ₁、
Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ａ、ｋ、ｍは、それぞれ前記
と同様のものを示し、またＲ₇は水素、ハロゲン原子、
または水酸基を示す。

【００２６】

【化２０】

【００２７】すなわち、かかる化２０に示される〔XIX
〕の化合物において、Ｒ₇がハロゲン原子の場合（例
えば、そのような化合物としては、２−メチル−３−ニ
トロベンジルクロリド、４−メチル−３−ニトロベンジ
ルクロリド、５−メチル−２−ニトロベンジルクロリ
ド、４−クロロ−２−ニトロベンジルクロリドなどが挙
げられる）、前記〔II〕で示される化合物と反応して、
〔XX〕で示される化合物となり、次いで、そのニトロ基
を、前記化合物〔IV〕より化合物〔XV〕を得る反応と同
様に処理して、〔XXI 〕で示される化合物とすることが
出来る。以下、前記Ａ法と同様にして、〔Ｉ〕で示され
る化合物を得ることができる。

【００２８】また、化２０の〔XIX 〕にて示される化合
物において、Ｒ₇は水素または水酸基であるが、例えば
Ｒ₇が水素の場合、そのような化合物としては、２−フ
ルオロ−４−ニトロトルエン、２−フルオロ−５−ニト
ロトルエン、２−フルオロ−６−ニトロトルエン、３−
フルオロ−４−ニトロトルエン、４−フルオロ−２−ニ
トロトルエン、２−クロロ−６−ニトロトルエン、４−
クロロ−２−ニトロトルエン、４−クロロ−３−ニトロ
トルエン、２−ブロモ−６−ニトロトルエン、２−ブロ
モ−５−ニトロトルエン、２−ブロモ−４−ニトロトル
エン等が挙げられ、一方Ｒ₇が水酸基の場合、２−メチ
ル−３−ニトロベンジルアルコール、３−メチル−２−
ニトロベンジルアルコール、３−メチル−４−ニトロベ
ンジルアルコール、４−メチル−３−ニトロベンジルア
ルコール、５−メチル−２−ニトロベンジルアルコー
ル、２−ニトロ−フェネチルアルコール等が挙げられ
る。そして、Ｒ₇が水酸基である化合物〔XIX 〕は、１
〜１０００倍モルの水素化ナトリウム、ピリジン、また
はトリエチルアミン等の酸受容体の存在下、ジクロロメ
タン、クロロホルム、エーテル、テトラヒドロフラン、
ジメチルホルムアミド、ピリジン等の溶媒中、−３０〜
１００℃で１〜１０倍モルのｐ−トルエンスルホニルク
ロリドと反応せしめてトシレート〔XXVI〕とした後、１
〜２倍モルの〔II〕で示される化合物と、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、アセトニトリル、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド等の溶媒中、０〜１５０
℃で反応させることにより、〔XX〕で示される化合物と
することができる。

【００２９】さらに、Ｒ₇が水素または水酸基である両
者とも、化合物〔XX〕より化合物〔XXI 〕を得る反応と
同様に還元せしめられることにより、〔XXIII 〕で示さ
れる化合物とされ、次いで化合物〔XXI 〕より化合物
〔XXII〕を得る反応と同様に処理して、化合物〔XXIV〕
で示される化合物とすることができる。

【００３０】前記〔XXIV〕で示される化合物において、
Ｒ₇が水素の場合、触媒量の過酸化ベンゾイルの存在
下、１〜１０倍モルのＮ−ブロモスクシンイミド（ＮＢ
Ｓ）またはＮ−クロロスクシンイミド（ＮＣＳ）と、ベ
ンゼンまたは四塩化炭素中、０℃〜還流温度で反応させ
て、化合物〔XXV 〕（Ｘ＝ＢｒまたはＣｌ）とした後、
化合物〔XIX 〕と化合物〔II〕より化合物〔XX〕を得る
反応と同様に処理することで化合物〔XXII〕を得ること
ができる。

【００３１】また、Ｒ₇が水酸基の場合、化合物〔XXV
I〕を得る反応と同様にして、トシレートとした後、化
合物〔XXVI〕より化合物〔XX〕を得る反応と同様にして
化合物〔XXII〕へ導くか、一般的な水酸基のハロゲン化
法を用いてハロゲン化し、化合物〔XIX 〕と化合物〔I
I〕より化合物〔XX〕を得る反応と同様にして、化合物
〔XXII〕を得ることもできる。

【００３２】なお、化合物〔XIX 〕より化合物〔XX〕を
得る反応においては、酸受容体が存在していてもよく、
そしてその酸受容体としては、炭酸水素ナトリウム、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、ナトリウムメチラートのようなアルカリ金
属化合物；ピリジン、トリメチルアミン、トリエチルア
ミン、ジイソプロピルエチルアミンのような有機第３級
アミンが挙げられる。また、反応溶媒としては、メタノ
ール、エタノールのようなアルカノール類、ジクロロメ
タン、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類；ピ
リジン、ベンゼンのような芳香族類；テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンのようなエーテル類；アセトニトリル、
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等が使用
される。さらに、アミノ体〔II〕に対する化合物〔XIX
〕（Ｒ₇＝ハロゲン）の使用量は、１〜１０倍モルが
好ましく、更に好ましくは１〜３倍モルであり、酸受容
体が存在しない場合、２〜１０倍モルの範囲が好まし
い。反応温度としては、通常−３０〜１５０℃が採用さ
れ、中でも０〜１２０℃の範囲が好ましく、０〜８０℃
が特に好ましい。

【００３３】さらに、前記〔Ｉ〕で示される化合物のう
ち、ｋ＝１、ｎ＝１の化合物は、以下の化２１に示され
る合成法（Ｃ法）に従って、合成することができる（但
し、Ｒ₄＝Ｈは除く）。なお、かかる化２１に示される
合成法において用いられる化合物におけるＲ₃、Ｒ₄、
Ｒ₅、ｍ、及びＡは、何れも、前記と同様のものを示
す。

【００３４】

【化２１】

【００３５】すなわち、かかる化２１において、〔XII
〕で示されるメチルベンジルアミンを〔Ｖ〕で示され
る化合物と反応せしめた後、ブロモ酢酸エチルまたはク
ロロ酢酸エチルを用いてアルキル化するか、若しくは先
ずアルキル化の後に〔Ｖ〕で示される化合物と反応させ
て、〔XXVIII〕で示される化合物と為し、次いで前述し
たＢ法における化合物〔XXIV〕のハロゲン化と同様にし
て、〔XXIX〕で示される化合物を得る。さらに、これを
〔II〕で示される化合物と反応させた後、還元若しくは
加水分解することで、〔Ｉ〕で示される化合物を得るこ
とができる。反応は、各々、全て前記Ａ法またはＢ法と
同様な条件下にて、進行する。

【００３６】ところで、本発明に従う前記化１７にて示
される化合物、換言すれば化１８、化２０、化２１にお
ける化合物〔Ｉ〕およびそれらの薬剤として許容される
塩付加塩を有効成分とする本発明に係る抗消化性潰瘍剤
には、該有効成分の他に、通常の医薬用製剤に用いられ
る成分として、結合剤、賦形剤、滑沢剤、乳化剤、崩壊
剤、湿潤剤、防腐剤、着色剤等を配合することができ
る。また、剤形としては、錠剤、散剤、顆粒剤、カプセ
ル剤、液剤、及び注射剤等が挙げられるが、経口用の剤
形が望ましい。結合剤としては、アラビアゴム、ポリビ
ニルピロリドン、ソルビット、トラガンド、ゼラチン等
が挙げられ、賦形剤としては、乳糖、砂糖、ソルビッ
ト、とうもろこし澱粉、燐酸カルシウム、グリシン等が
挙げられ、滑沢剤としてはステアリン酸マグネシウム、
タルク、ポリエチレングリコール、シリカ等が挙げら
れ、乳化剤としては、レシチン、アラビアゴム、モノオ
レイン酸ソルビタン等が挙げられ、崩壊剤としては、カ
ルボキシメチルセルロースカルシウム、馬鈴薯澱粉等が
挙げられ、湿潤剤としては、メチルセルロース、ステア
リン酸アルミニウムゲル、カルボキシメチルセルロー
ス、ゼラチン、ヒドロキシエチルセルロース、水素化食
用油脂、ソルビットシロップ等が挙げられ、防腐剤とし
ては、ソルビン酸、ｐ−ヒドロキシ安息香酸プロピル等
が挙げられる。また、本発明化合物化１７、即ち前記化
合物〔Ｉ〕の抗消化性潰瘍剤としての投与量は、患者の
年令、体重、疾患の程度により異なるが、経口投与の場
合、通常、成人では、有効成分として１日当たり１０〜
１０００ｍｇである。

【００３７】

【実施例】以下に、本発明の幾つかの実施例を示し、本
発明を更に具体的に説明するが、本発明が、これらの実
施例の記載により何等の制約をも受けるものではないこ
とは、言うまでもないところである。

【００３８】実施例１８−［Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−（Ｎ−メチ
ル−２−フェノキシエチルアミノ）メチル−４，５−ジ
メトキシフェニルアミノ］スルホニルキノリンの合成（イ）Ｎ−メチル−２−フェノキシエチルアミン：１
ｇをメタノール：２０ｍｌに溶解し、濃塩酸を加えて、
ｐＨ６〜７とした溶液に、６−ニトロベラトルアルデヒ
ド：１ｇとシアン化水素化ホウ素ナトリウム：３２０ｍ
ｇを加え、室温にて５時間攪拌した。反応溶媒を減圧に
て留去し、その残渣にクロロホルム：５０ｍｌを加え、
水：５０ｍｌで、２回洗浄した。クロロホルム層を硫酸
マグネシウムで脱水し、濃縮乾固した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー〔展開溶媒：クロロホル
ム〕に付し、シロップ状のＮ−メチル−Ｎ−（２−フェ
ノキシエチル）−４，５−ジメトキシ−６−ニトロベン
ジルアミンを得た（収量：８８０ｍｇ、収率：５３．６
％）。

【００３９】（ロ）上記の（イ）で得たニトロベンジ
ルアミン誘導体：２ｇをメタノール：５０ｍｌに溶解
し、１０％パラジウム炭素：０．２ｇを加え、攪拌下、
更に水素化ホウ素ナトリウムを、少量ずつ、薄層クロマ
トグラフィー（ＴＬＣ）にて反応が終了するまで加え
た。反応終了後、不溶物を濾去し、溶媒を減圧下で留去
した。残渣をクロロホルム：１００ｍｌに溶解し、水：
５０ｍｌで２回洗浄した。クロロホルム層を脱水（Ｍｇ
ＳＯ₄）した後、濃縮乾固した。残渣をエーテル−石油
エーテルより結晶化して、アミノ体を得た（収量：１．
５２ｇ、収率：８３．２％、融点：８３〜８５℃）。

【００４０】（ハ）上記（ロ）で得たアミノ体：１．
５ｇをジクロロメタン：２０ｍｌに溶解し、トリエチル
アミン：２ｇと８−キノリンスルホニルクロリド：１．
４５ｇを加え、４時間攪拌した。反応液を、水、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液、水で順次洗浄し、更に脱水
（ＭｇＳＯ₄）し、その後濃縮乾固して、粗製のアミド
体を無晶体として得た（収量：２．１ｇ、収率：８７．
３％）。

【００４１】（ニ）上記（ハ）で得たアミド体：２ｇ
をジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）：２０ｍｌに溶解
し、約６０％の水素化ナトリウムを含む鉱油：２００ｍ
ｇを加え、しばらく攪拌した後、ブロモ酢酸エチル：
０．７ｇを加え、３時間反応させた。その後、溶媒を減
圧下で留去し、残渣を酢酸エチル：１００ｍｌに溶解
し、水、飽和食塩水で洗浄し、その後脱水（ＭｇＳ
Ｏ₄）、濃縮乾固した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー［展開溶媒：ＣＨＣｌ₃］に付して精製
し、Ｎ−エトキシカルボニルメチル体を無晶体として得
た（収量：１．９５ｇ、収率：８３．４％）。

【００４２】（ホ）上記（ニ）で得たＮ−エトキシカ
ルボニルメチル体：１．５ｇをメタノール：５０ｍｌに
溶解し、攪拌後、水素化ホウ素ナトリウムを少量ずつ加
えた。ＴＣＬにて反応の終了を確認した後、溶媒を減圧
下で留去した。残渣にクロロホルム：１００ｍｌを加
え、水にて洗浄後、脱水（ＭｇＳＯ₄）、濃縮乾固し
た。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［展開
溶媒：ＣＨＣｌ₃−ＭｅＯＨ、２０：１（体積比）］に
付して精製し、目的物を無晶体として得た（収量：１．
１ｇ、収率：７８．９％）。

【００４３】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，δ，ｐｐｍ，
ＴＭＳ）２．３３（３Ｈ，ｓ，−Ｎ−ＣＨ ₃），２．７４−３．
９３（６Ｈ，ｍ，φ−ＣＨ ₂−Ｎ−ＣＨ ₂ＣＨ₂−Ｏ−
φ ａｎｄ −ＣＨ ₂ＣＨ₂−ＯＨ），２．９８，３．
８２（６Ｈ，ｅａｃｈｓ，−ＯＣＨ ₃ｘ２），４．２
１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．２Ｈｚ，−Ｎ−ＣＨ₂ＣＨ ₂−
Ｏ−φ），４．７２−５．１５（２Ｈ，ｍ，−ＣＨ₂Ｃ
Ｈ ₂−ＯＨ），６．７３−９．２３（１３Ｈ，ｍ，Ａ
ｒ）

【００４４】（ヘ）目的化合物：１ｇをメタノール：
２０ｍｌに溶解し、氷冷攪拌下、塩化水素飽和メタノー
ル：２ｍｌを加えて、３０分間攪拌した。溶媒を減圧下
で留去し、エタノールより結晶化して、目的物の二塩酸
塩を黄色針状晶として得た（融点：１２５．５〜１２
８．５℃）。

【００４５】実施例２８−［Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−（Ｎ−メチ
ル−２−フェノキシエチルアミノ）メチル−４，５−メ
チレンジオキシフェニルアミノ］スルホニルキノリンの
合成 ──Ａ法── 実施例１における６−ニトロベラトルアルデヒドの代わ
りに、６−ニトロピペロナールを用いて、目的化合物を
無晶体として得た。

【００４６】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，δ，ｐｐｍ，
ＴＭＳ）２．３０（３Ｈ，ｓ，−ＣＨ ₃），２．５８−３．９７
（６Ｈ，ｍ，φ−ＣＨ ₂−Ｎ−ＣＨ ₂ＣＨ₂−Ｏ− ａ
ｎｄ −ＣＨ ₂ＣＨ₂ＯＨ），４．２３（２Ｈ，ｔ，Ｊ
＝６．２Ｈｚ，−Ｎ−ＣＨ₂ＣＨ ₂−Ｏ−φ），４．６
２−５．０８（２Ｈ，ｍ，−ＣＨ₂ＣＨ ₂ＯＨ），５．
８４（２Ｈ，ｓ，−Ｏ−ＣＨ ₂−Ｏ−），５．９６（１
Ｈ，ｓ，−ＯＨ），６．８０−９．２０（１３Ｈ，ｍ，
Ａｒ）

【００４７】──Ｂ法── （イ）６−ニトロピペロナール：１００ｇと２−フェ
ノキシエチルアミン：９８ｇをエタノール：５００ｍｌ
に加え、一夜加熱還流させて、反応せしめた。反応後、
溶媒を減圧下で留去し、残渣にメタノール：３００ｍｌ
を加えて、攪拌下、水素化ホウ素ナトリウムを少量ずつ
加えた。ＴＬＣで反応の終了を確認した後、溶媒を減圧
下で留去し、そして残渣にクロロホルム：３００ｍｌを
加え、水：３００ｍｌにて２回洗浄した。有機層を脱水
（ＭｇＳＯ₄）した後、濃縮乾固し、残渣をエーテルよ
り結晶化して、縮合体を針状晶として得た（収量：９５
ｇ、収率：５８．６％、融点：８７〜８８℃）。

【００４８】（ロ）上記（イ）で得られた縮合体：８
ｇとトリエチルアミン：９ｇをジクロロメタン：５０ｍ
ｌに加え、攪拌下、ヨウ化メチル：５ｍｌを加えて、２
時間攪拌し、反応させた。反応液を水：５０ｍｌにて２
回洗浄した後、脱水（ＭｇＳＯ₄）し、そして濃縮乾固
して、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［展
開溶媒ＣＨＣｌ₃］に付して精製し、メチル化物をシロ
ップとして得た（収量：６．５４ｇ、収率：７８．２
％）。

【００４９】（ハ）上記（ロ）で得られたメチル化
物：５ｇを、メタノール：１００ｍｌ中、１０％パラジ
ウム炭素：５００ｍｇと水素化ホウ素ナトリウムで、実
施例１の場合と同様に処理してアミノ体とし、次いで８
−キノリンスルホニルクロリド：４ｇ及びトリエチルア
ミン：７ｇで処理してアミド体とし、さらにＤＭＦ：５
０ｍｌ中、ブロモ酢酸エチル：２．７ｇ，６０％Ｎａ
Ｈ：５００ｍｇでアルキル化した後、メタノール：１０
０ｍｌ中で水素化ホウ素ナトリウムで処理して、目的物
を無晶体として得た（収量：３．５ｇ）。

【００５０】実施例３Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−［２−（Ｎ−メチ
ル−２−フェノキシエチルアミノ）メチル−４，５−メ
チレンジオキシフェニル］−１−ナフタレンカルボキサ
ミドの合成（イ）実施例２のＢ法の（ハ）で得られたアミノ体：
２ｇをジクロロメタン：５０ｍｌに加え、トリエチルア
ミン：２ｇと１−ナフトイルクロリド：１．５ｇを用い
て、実施例１における（ハ）と同様に処理して、アミド
体を無晶体として得た（収量：２．６ｇ、収率：８５．
９％）。

【００５１】（ロ）上記（イ）で得られたアミド体
を、前記実施例１における（ニ）、（ホ）と同様にして
処理し、目的化合物を無晶体として得た。

【００５２】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，δ，ｐｐｍ，
ＴＭＳ）２．０４−２．５３（３Ｈ，ｍ，−ＣＨ ₃），２．５７
−４．５４（１０Ｈ，ｍ，φ−ＣＨ ₂−Ｎ−ＣＨ ₂ＣＨ
₂−Ｏ− ａｎｄ −ＣＨ ₂ＣＨ ₂ＯＨ），５．９８
（２Ｈ，ｂｒ．ｓ，−Ｏ−ＣＨ ₂−Ｏ−），６．５９−
８．５０（１３Ｈ，ｍ，Ａｒ）

【００５３】実施例４８−［Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−（Ｎ−プロ
ピル−２−フェノキシエチルアミノ）メチル−４，５−
メチレンジオキシフェニルアミノ］スルホニルキノリン
の合成実施例２のＢ法の（ロ）において、ヨウ化メチルの代わ
りにヨウ化プロピルを用い、更にトリエチルアミンの代
わりにジイソプロピルエチルアミンを用いて、加熱還流
させて反応せしめ、前記実施例２のＢ法と同様の操作を
施して、目的化合物を無晶体として得た。

【００５４】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，δ，ｐｐｍ，
ＴＭＳ）０．９０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ，−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ
₃），１．２３−２．００（２Ｈ，ｍ，−ＣＨ₂ＣＨ ₂
ＣＨ₃），２．２５−４．３３（１０Ｈ，ｍ，−ＣＨ ₂
ＣＨ₂ＣＨ₃，φ−ＣＨ ₂−Ｎ−ＣＨ ₂ＣＨ ₂−Ｏ−
ａｎｄ −ＣＨ ₂ＣＨ₂ＯＨ），４．４７−５．００
（２Ｈ，ｍ，−ＣＨ₂ＣＨ ₂ＯＨ），５．８５（２Ｈ，
ｓ，−Ｏ−ＣＨ ₂−Ｏ−），６．００（１Ｈ，ｓ，−Ｏ
Ｈ），６．７７−９．２３（１３Ｈ，ｍ，Ａｒ）

【００５５】実施例５８−｛Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−［２−（Ｎ
−エチル−２−フェノキシエチルアミノ）エチル］フェ
ニルアミノ｝スルホニルキノリンの合成（イ）２−ニトロフェネチルアルコール：２０ｇをク
ロロホルム：３００ｍｌに溶解せしめ、これに、トリエ
チルアミン：９０ｇ、ｐ−トルエンスルホニルクロリ
ド：３１ｇを加えて、室温にて一夜攪拌して、反応せし
めた。得られた反応溶液を水：３００ｍｌにて２回洗浄
し、脱水（ＭｇＳＯ₄）した後、濃縮乾固した。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー［展開溶媒：ｎ−
ヘキサン→ｎ−ヘキサン：ジクロロメタン＝１：１（体
積比）］にて精製し、トシル体をシロップとして得た
（収量：３７．３ｇ、収率：９７％）。

【００５６】（ロ）上記（イ）で得たトシル体：１５
ｇと、Ｎ−エチル−２−フェノキシエチルアミン：１０
ｇを、ＤＭＦ：１００ｍｌに加え、８０〜９０℃で、３
時間加熱攪拌した。冷後、溶媒を減圧下で留去し、その
残渣に酢酸エチル：１００ｍｌを加え、飽和食塩水：１
００ｍｌにて２回洗浄した。得られた有機層を脱水（Ｍ
ｇＳＯ₄）し、濃縮乾固した。残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー［展開溶媒ＣＨＣｌ₃］にて精製し
て、縮合体をシロップとして得た（収量：７．５ｇ、収
率：５１．１％）。

【００５７】（ハ）上記（ロ）で得た縮合体：５．１
ｇを、メタノール中、１０％パラジウム炭素：５００ｍ
ｇと水素化ホウ素ナトリウムを用いて、実施例１におけ
る（ロ）と同様に処理して、アミノ体をシロップとして
得た（収量：４．２ｇ、収率：９１％）。これを、ジク
ロロメタン中、８−キノリンスルホニルクロリド：４
ｇ、トリエチルアミン：９ｇを用いて、実施例１におけ
る（ハ）の場合と同様に処理し、結晶性のアミド体を得
た（収量：６．５ｇ、収率：９２．５％、融点：〜１３
２℃）。

【００５８】（ニ）上記（ハ）で得たアミド体：５ｇ
を、ＤＭＦ：５０ｍｌ中、６０％ＮａＨ：５００ｍｇと
ブロモ酢酸エチル：１．６ｍｌを用いて、実施例１にお
ける（ニ）と同様に処理して得られるＮ−エトキシカル
ボニル体：５．２ｇを、メタノール：１００ｍｌ中、実
施例１における（ホ）と同様に処理して、目的化合物を
無晶体として得た（収量：４．２ｇ、収率：８７．３
％）。

【００５９】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，δ，ｐｐｍ，
ＴＭＳ）１．０７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ，−Ｎ−ＣＨ₂Ｃ
Ｈ ₃），２．３７−３．２７（８Ｈ，ｍ，−Ｎ−ＣＨ ₂
ＣＨ₃ ａｎｄ φ−ＣＨ ₂ＣＨ ₂−Ｎ−ＣＨ ₂ＣＨ₂
−Ｏ−），３．５５−４．７５（７Ｈ，ｍ，−Ｎ−ＣＨ
₂−ＣＨ ₂−Ｏ−φａｎｄ −ＣＨ ₂ＣＨ ₂−ＯＨ），
６．４８−９．２８（１５Ｈ，ｍ，Ａｒ）

【００６０】実施例６８−｛Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−［２−（Ｎ
−メチル−２−フェノキシエチルアミノ）エチル］フェ
ニルアミノ｝スルホニルキノリンの合成実施例５の（ロ）におけるＮ−エチル−２−フェノキシ
エチルアミンの代わりにＮ−メチル−２−フェノキシエ
チルアミンを用いて、目的化合物を無晶体として得た。

【００６１】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，δ，ｐｐｍ，
ＴＭＳ）２．２５（３Ｈ，ｓ，−ＣＨ ₃），２．４２−３．１８
（６Ｈ，ｍ，φ−ＣＨ ₂ＣＨ ₂−Ｎ−ＣＨ ₂ＣＨ₂−Ｏ
−），３．４０−４．７８（７Ｈ，ｍ，−Ｎ−ＣＨ₂Ｃ
Ｈ ₂−Ｏ−φ ａｎｄ −ＣＨ ₂ＣＨ ₂−ＯＨ），６．
３５−９．１７（１５Ｈ，ｍ，Ａｒ）

【００６２】実施例７８−｛Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−［２−（Ｎ
−プロピル−２−フェノキシエチルアミノ）エチル］フ
ェニルアミノ｝スルホニルキノリンの合成実施例５の（ロ）におけるＮ−エチル−２−フェノキシ
エチルアミンの代わりにＮ−プロピル−２−フェノキシ
エチルアミンを用いて、目的化合物を無晶体として得
た。

【００６３】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，δ，ｐｐｍ，
ＴＭＳ）０．９０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ，−Ｎ−ＣＨ₂ＣＨ₂
ＣＨ ₃），１．２０−４．５３（１４Ｈ，ｍ，−Ｎ−Ｃ
Ｈ ₂ＣＨ ₂ＣＨ₃，φ−ＣＨ ₂ＣＨ ₂−Ｎ−ＣＨ ₂ＣＨ
₂−Ｏ− ａｎｄ −ＣＨ ₂ＣＨ₂ＯＨ），４．６７−
５．１３（２Ｈ，ｍ，−ＣＨ₂ＣＨ ₂ＯＨ），６．２０
−９．１０（１５Ｈ，ｍ，Ａｒ）

【００６４】実施例８８−［Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−（Ｎ−メチ
ル−２−フェノキシエチルアミノ）メチル−５−フルオ
ロフェニルアミノ］スルホニルキノリンの合成（イ）２−ニトロ−４−フルオロトルエン：１５ｇ、
Ｎ−ブロモスクシンイミド：１０ｇ、及び触媒量の過酸
化ベンゾイルを四塩化炭素：２００ｍｌに加え、一夜加
熱還流した。冷後、クロロホルム：２００ｍｌを加え、
そして水：２００ｍｌにて２回洗浄した後、有機層を脱
水（ＭｇＳＯ₄）し、濃縮乾固した。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー［展開溶媒：ｎ−ヘキサン］
にて精製し、ブロム体をオイルとして得た（収量：１
５．９ｇ、収率：７０．２％）。

【００６５】（ロ）上記（イ）で得たブロム体：９．
２ｇ、Ｎ−メチル−２−フェノキシエチルアミン：５
ｇ、トリエチルアミン：５．５ｇをトルエン：２００ｍ
ｌに加え、２時間加熱還流した。冷後、反応液を水：２
００ｍｌにて２回洗浄した後、脱水（ＭｇＳＯ₄）し、
濃縮乾固した。残渣に１０％パラジウム炭素：１ｇ、メ
タノール：１００ｍｌを加え、攪拌下、水素化ホウ素ナ
トリウムを少量ずつ加えた。反応の終了をＴＬＣで確認
した後、不溶物を濾去し、濃縮乾固した。残渣にクロロ
ホルム：１００ｍｌを加え、水：１００ｍｌで２回洗浄
した。有機層を脱水（ＭｇＳＯ₄）し、濃縮乾固した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー［展開溶媒
ＣＨＣｌ₃］に付して精製し、アミノ体をシロップとし
て得た（収量：７．７ｇ、収率：７１．４％）。

【００６６】（ハ）上記（ロ）で得たアミノ体を、前
記実施例１の場合と同様に処理して、目的化合物を無晶
体として得た。

【００６７】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，δ，ｐｐｍ，
ＴＭＳ）２．３２（３Ｈ，ｓ，−ＣＨ ₃），２．７７−４．１０
（６Ｈ，ｍ，φ−ＣＨ ₂−Ｎ−ＣＨ ₂ＣＨ₂−Ｏ− ａ
ｎｄ −ＣＨ ₂ＣＨ₂ＯＨ），４．２２（２Ｈ，ｔ，Ｊ
＝６．２Ｈｚ，−Ｎ−ＣＨ₂ＣＨ ₂−Ｏ−φ）４．６２
−５．２２（２Ｈ，ｍ，−ＣＨ₂ＣＨ ₂ＯＨ），６．０
７−９．２３（１４Ｈ，ｍ，Ａｒ）

【００６８】実施例９Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−［２−（Ｎ−メチ
ル−２−フェノキシエチルアミノメチル）フェニル］−
４−クロロベンゼンスルホンアミドの合成実施例８における２−ニトロ−４−フルオロトルエンの
代わりに、２−ニトロトルエンを用い、更に８−キノリ
ンスルホニルクロリドの代わりに、ｐ−クロロベンゼン
スルホニルクロリドを用いて、目的化合物を針状晶とし
て得た（融点：１３９．５〜１４２℃）。

【００６９】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，δ，ｐｐｍ，
ＴＭＳ）２．３３（３Ｈ，ｓ，−ＣＨ ₃），２．８３−４．４７
（８Ｈ，ｍ，φ−ＣＨ ₂−Ｎ−ＣＨ ₂ＣＨ₂−Ｏ− ａ
ｎｄ −ＣＨ ₂ＣＨ ₂−ＯＨ），４．２５（２Ｈ，ｔ，
Ｊ＝６．４Ｈｚ，−Ｎ−ＣＨ₂ＣＨ ₂−Ｏ−φ），６．
３３−７．７３（１３Ｈ，ｍ，Ａｒ）

【００７０】実施例１０８−［Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−（Ｎ−メチ
ル−３−フェノキシプロピルアミノ）メチルフェニルア
ミノ］スルホニルキノリンの合成実施例８における（イ）で得られる２−ニトロ−４−フ
ルオロベンジルブロミドの代わりに、２−ニトロベンジ
ルクロリドを用い、更にＮ−メチル−３−フェノキシエ
チルアミンの代わりに、Ｎ−メチル−フェノキシプロピ
ルアミンを用いて、目的化合物を無晶体として得た。

【００７１】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，δ，ｐｐｍ，
ＴＭＳ）１．８３−４．２０（８Ｈ，ｍ，φ−ＣＨ ₂−Ｎ−ＣＨ
₂ＣＨ ₂ＣＨ₂−Ｏ−ａｎｄ −ＣＨ ₂ＣＨ₂ＯＨ），
２．２３（３Ｈ，ｓ，−ＣＨ ₃），４．０２（２Ｈ，
ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ，−ＣＨ ₂−Ｏ−φ），４．８２−５．
３０（２Ｈ，ｍ，−ＣＨ₂ＣＨ ₂ＯＨ），６．２７−
９．２３（１５Ｈ，ｍ，Ａｒ）

【００７２】実施例１１８−［Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−（Ｎ−メチ
ル−２−フェノキシエチルアミノ）メチルフェニルメチ
ルアミノ］スルホニルキノリンの合成（イ）２−メチルベンジルアミン：５ｇをジクロロメ
タン：５０ｍｌに加え、更にトリエチルアミン：２２ｇ
と８−キノリンスルホニルクロリド：１０ｇを加えて、
２時間反応せしめた。その後、実施例１における（ハ）
と同様に処理して、結晶性のアミド体を得た（収量：１
１ｇ、収率：８５．３％、融点：１４２〜１４４℃）。

【００７３】（ロ）上記（イ）で得たアミド体：４．
８ｇをＤＭＦ：３０ｍｌに加え、６０％ＮａＨ：０．７
ｇとブロモ酢酸エチル：２．２ｍｌを用い、実施例１に
おける（ニ）と同様に処理して、結晶性のエトキシカル
ボニルメチル体を得た（収量：５．６ｇ、収率：９１．
４％、融点：１２１．５〜１２２．５℃）。

【００７４】（ハ）上記（ロ）で得られたエトキシカ
ルボニルメチル体を用い、前記実施例８の場合と同様の
処理を行ない、目的化合物を無晶体として得た。

【００７５】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，δ，ｐｐｍ，
ＴＭＳ）２．１６（３Ｈ，ｓ，−ＣＨ ₃），２．７７（２Ｈ，
ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，−Ｎ−ＣＨ ₂ＣＨ₂−Ｏ−φ），
３．２０−３．８３（６Ｈ，ｍ，φ−ＣＨ ₂−Ｎ（ＣＨ
₃）− ａｎｄ −Ｎ−ＣＨ ₂ＣＨ ₂ＯＨ），３．９５
（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，−Ｎ−ＣＨ₂ＣＨ ₂−Ｏ
−φ），４．８３（２Ｈ，ｓ，φ−ＣＨ ₂−Ｎ−ＳＯ₂
−），６．６０−９．１７（１５Ｈ，ｍ，Ａｒ）

【００７６】実施例１２８−［Ｎ−カルボキシメチル−２−（Ｎ−メチル−２−
フェノキシエチルアミノ）メチルフェニルアミノ］スル
ホニルキノリンの合成実施例１０におけるＮ−メチル−フェノキシプロピルア
ミンの代わりに、Ｎ−メチル−２−フェノキエチルアミ
ンを用いて得られる中間体：８−［Ｎ−エトキシカルボ
ニルメチル−２−（Ｎ−メチル−２−フェノキシエチル
アミノ）メチルフェニルアミノ］スルホニルキノリン：
２ｇを、１ＮＫＯＨ−ＭｅＯＨ：３０ｍｌに加え、〜
４０℃で、３時間攪拌した。反応後、塩酸を加えて、ｐ
Ｈ４〜５とした。得られた反応液にクロロホルム：１０
０ｍｌを加え、水：５０ｍｌにて、２回洗浄した。有機
層を脱水（ＭｇＳＯ₄）し、濃縮乾固した。残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー［展開溶媒ＣＨＣｌ
₃：ＭｅＯＨ＝５：１（体積比）］にて精製して、目的
化合物を無晶体として得た（収量：１．４ｇ、収率：６
６．１％）。

【００７７】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，δ，ｐｐｍ，
ＴＭＳ）２．７５（３Ｈ，ｓ，−ＣＨ ₃），３．４８（２Ｈ，
ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ，−Ｎ−ＣＨ ₂ＣＨ₂−Ｏ−φ），
３．７３−４．３２（２Ｈ，ｍ，φ−ＣＨ ₂−Ｎ−），
４．４５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ，−Ｎ−ＣＨ₂Ｃ
Ｈ ₂−Ｏ−φ），５．１３−５．９２（２Ｈ，ｍ，−Ｃ
Ｈ ₂ＣＯＯＨ），６．３２−９．１７（１５Ｈ，ｍ，
Ａｒ）

【００７８】実施例１３Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−［２−（Ｎ−メチ
ル−２−フェノキシエチルアミノ）メチル−４，５−メ
チレンジオキシフェニル］−２−ピリジンカルボキサミ
ドの合成（イ）実施例２のＢ法における（ハ）で得られたアミ
ノ体：６．５ｇをＤＭＦ５０ｍｌに溶解し、そして６０
％ＮａＨ：１ｇおよびブロモ酢酸エチル：４ｍｌを加え
た後、前記実施例１における（ニ）と同様に処理して、
シリカゲルカラムクロマトグラフィー［展開溶媒ＣＨＣ
ｌ₃］にて精製し、モノエトキシカルボニルメチル体を
シロップとして得た（収量：３．７ｇ、収率：４４
％）。

【００７９】（ロ）上記（イ）で得たモノエトキシカ
ルボニルメチル体：３．６ｇをクロロホルム：５０ｍｌ
に加え、トリエチルアミン：３ｇと２−ピリジンカルボ
ニルクロリド塩酸塩：２ｇを用いて実施例１における
（ハ）と同様に処理し、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィー［展開溶媒ＣＨＣｌ₃：ＭｅＯＨ＝１００：１
（体積比）］にて精製し、アミド体をシロップとして得
た（収量：２．８ｇ，収率：６１．１％）。

【００８０】（ハ）上記（ロ）で得たアミド体：１．
８ｇをメタノール：５０ｍｌに加え、水素化ホウ素ナト
リウムを用いて、実施例１における（ホ）と同様に処理
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー［展開溶媒Ｃ
ＨＣｌ₃：ＭｅＯＨ＝５０：１（体積比）］にて精製
し、目的化合物を無晶体として得た（収量：１ｇ、収
率：６０．８％）。

【００８１】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，δ，ｐｐｍ，
ＴＭＳ）２．０３−２．４７（３Ｈ，ｓ−ｌｉｋｅ，−Ｃ
Ｈ ₃），２．６７−４．３０（８Ｈ，ｍ，φ−ＣＨ ₂−
Ｎ−ＣＨ ₂ＣＨ₂−Ｏ− ａｎｄ −ＣＨ ₂ＣＨ ₂Ｏ
Ｈ），４．１２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，−ＣＨ₂
ＣＨ ₂−Ｏ−φ），５．９４（２Ｈ，ｓ，−Ｏ−ＣＨ ₂
−Ｏ−），６．４８−８．７３（１２Ｈ，ｍ，Ａｒ
ａｎｄ−ＯＨ）

【００８２】実施例１４８−〔Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−（Ｎ−ホル
ミル−２−フェノキシエチルアミノ）メチル−４，５−
メチレンジオキシフェニルアミノ〕スルホニルキノリン
の合成（イ）実施例２のＢ法の（イ）で得られたＮ−（２−
フェノキシエチル）−３，４−メチレンジオキシ−６−
ニトロベンジルアミン：３０ｇを９８％蟻酸：１５０ｍ
ｌに溶解した後、攪拌下、無水酢酸：６０ｍｌを少量ず
つ加え、３時間攪拌を続けた。反応後、減圧下で濃縮乾
固し、酢酸エチルより結晶化して、ホルミル体を針状晶
として得た（収量：３０．５ｇ、収率：９３．４％、融
点：〜１５４℃）。

【００８３】（ロ）上記（イ）で得たホルミル体：１
０ｇをメタノール：３００ｍｌに加え、１０％パラジウ
ム炭素：１ｇと水素化ホウ素ナトリウムで、実施例１の
場合と同様に処理し、結晶性のアミノ体を得た（収量：
９．２ｇ、収率：８４％、融点：８１．５〜８３．５
℃）。

【００８４】（ハ）上記（ロ）で得たアミノ体：２．
５ｇを、ジクロロメタン：５０ｍｌ中、トリエチルアミ
ン：６ｇと８−キノリンスルホニルクロリド：２．５ｇ
を用い、実施例１と同様に処理して、アミド体：３．６
ｇを得た。

【００８５】（ニ）上記（ハ）で得たアミド体：３．
６ｇを、ＤＭＦ：３０ｍｌ中、６０％ＮａＨ：４００ｍ
ｇ、ブロモ酢酸エチル：１．２ｍｌにてエトキシカルボ
ニルメチル化し、次いでメタノール：１００ｍｌ中、水
素化ホウ素ナトリウムで還元して、目的化合物を無晶体
として得た（収量：２．５ｇ）。

【００８６】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，δ，ｐｐｍ，
ＴＭＳ）３．５０−５．０３（１０Ｈ，ｍ，φ−ＣＨ ₂−Ｎ−Ｃ
Ｈ ₂ＣＨ ₂−Ｏ− ａｎｄ −ＣＨ ₂ＣＨ ₂ＯＨ），
５．６８−６．６３（３Ｈ，ｍ，−Ｏ−ＣＨ₂−Ｏ−
ａｎｄ −ＯＨ），６．６２−９．２０（１４Ｈ，ｍ，
−ＣＨＯａｎｄＡｒ）

【００８７】実施例１５８−〔Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−３−（Ｎ−メチ
ル−２−フェノキシエチルアミノ）メチルフェニルアミ
ノ〕スルホニルキノリンの合成（イ）Ｎ−メチル−２−フェノキシエチルアミノ：
７．５ｇをトルエン：５０ｍｌに加え、更にトリエチル
アミン：５．５ｇと３−ニトロベンジルクロリド：８．
４ｇを加えて、８０〜９０℃にて、３時間加熱攪拌し
た。冷後、反応液を、水：１００ｍｌにて、２回洗浄し
た。得られた有機層を脱水（ＭｇＳＯ₂）し、減圧下に
溶媒を留去した。次いで、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー〔展開溶媒ＣＨＣｌ₃〕にて精製し
た。そして、生成物を含む分画を濃縮乾固して得られる
シロップ状残渣をメタノール：５０ｍｌ：に溶解し、１
０％パラジウム炭素と水素化ホウ素ナトリウムを用い
て、実施例１における（ロ）と同様に処理して、アミノ
体をシロップとして得た（収量：１１ｇ、収率：８７．
７％）。

【００８８】（ロ）上記（イ）で得られたアミノ体：
５ｇをジクロロメタン：１００ｍｌに溶解し、トリエチ
ルアミン：８ｇと８−キノリンスルホニルクロリド：
５．５ｇを用いて、実施例１における（ハ）と同様に処
理して、結晶性のアミド体（収量：６．６ｇ）とし、更
にそれをＤＭＦ：１００ｍｌに溶解し、６０％ＮａＨ：
６５０ｍｇとブロモ酢酸エチル：３ｇを用いて、実施例
１における（ニ）と同様に処理して、Ｎ−エトキシカル
ボニルメチル体をシロップとして得た（収量：６．７
ｇ、収率：６４．４％）。

【００８９】（ハ）上記（ロ）で得られたＮ−２−エ
トキシカルボニルメチル体：４．８ｇをメタノール：１
００ｍｌに溶解し、水素化ホウ素ナトリウムを用いて、
実施例１における（ホ）と同様に処理して、目的化合物
をシロップとして得た（収量：３．４ｇ、収率：７６．
９％）。

【００９０】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，δ，ｐｐｍ，
ＴＭＳ）２．０１（３Ｈ，ｓ，−ＣＨ ₃），２．６２（２Ｈ，
ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ，−Ｎ−ＣＨ ₂ＣＨ₂−Ｏ−φ），３．
３８（２Ｈ，ｓ，φ−ＣＨ ₂−Ｎ−），３．６０−４．
５７（６Ｈ，ｍ，−Ｎ−ＣＨ₂ＣＨ ₂−Ｏ−φ ａｎｄ
−ＣＨ ₂ＣＨ ₂ＯＨ），６．７５−９．２８（１５
Ｈ，ｍ，Ａｒ）

【００９１】実施例１６８−〔Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−４−（Ｎ−メチ
ル−２−フェノキシエチルアミノ）メチルフェニルアミ
ノ〕スルホニルキノリンの合成実施例１５における３−ニトロベンジルクロリドの代わ
りに、４−ニトロベンジルクロリドを用いて、目的化合
物を無晶体とした得た。

【００９２】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，δ，ｐｐｍ，
ＴＭＳ）２．２５（３Ｈ，ｓ，−ＣＨ ₃），２．７８（２Ｈ，
ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ，−Ｎ−ＣＨ ₂ＣＨ₂−Ｏ−φ），３．
５２（２Ｈ，ｓ，φ−ＣＨ ₂−Ｎ−），３．７９（２
Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ，−ＣＨ ₂ＣＨ₂ＯＨ），４．
０２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ，−Ｎ−ＣＨ₂ＣＨ ₂−Ｏ
−φ），４．３１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ，−ＣＨ
₂ＣＨ ₂ＯＨ），６．７８−９．３０（１５Ｈ，ｍ，Ａ
ｒ）

【００９３】実施例１７８−〔Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−（Ｎ−エチ
ルチオカルバモイル−２−フェノキシエチルアミノ）メ
チル−４，５−メチレンジオキシフェニルアミノ〕スル
ホニルキノリンの合成実施例１４における（ニ）で得られた８−〔Ｎ−エトキ
シカルボニルメチル−２−（Ｎ−ホルミル−２−フェノ
キシエチルアミノ）メチル−４，５−メチレンジオキシ
フェニルアミノ〕スルホニルキノリン：５ｇを塩化水素
飽和メタノール：１００ｍｌに加え、３０〜４０℃にお
いて、一夜攪拌した。そして、溶媒を減圧下で留去した
後、残渣にクロロホルム：１００ｍｌを加え、水、飽和
炭酸水素ナトリウム溶液、水にて順次洗浄した。次い
で、有機層を脱水（ＭｇＳＯ₄）、濃縮乾固して、脱ホ
ルミル体（エトキシカルボニルメチル基はメトキシカル
ボニルメチル基になる）を無晶体として得た。得られた
残渣をベンゼン：１００ｍｌに加え、攪拌下、エチルイ
ソチオシアネート：１．２ｇを加え、室温にて、６時間
反応させた。その後、溶媒を減圧下で留去し、得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー〔展開溶媒
ＣＨＣｌ₃〕にて精製して、チオカルバモイル体を無
晶体として得た。次いで、このものにメタノール：１０
０ｍｌを加え、水素化ホウ素ナトリウムを用いて、実施
例１の（ホ）と同様に処理し、メタノール−エーテルよ
り結晶化して、目的物を針状晶として得た（収量：３．
５ｇ、収率：６８％、融点：１７４〜１７６℃）。

【００９４】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，δ，ｐｐｍ，
ＴＭＳ）１．１５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ，−ＣＨ₂ＣＨ ₃），
２．６８−３．１０（１Ｈ，ｍ，−ＮＨ），３．４２−
４．８７（１０Ｈ，ｍ，φ−ＣＨ ₂−Ｎ−ＣＨ ₂ＣＨ ₂
−Ｏ−，−ＣＨ ₂ＣＨ₃ ａｎｄ −ＣＨ ₂ＣＨ₂Ｏ
Ｈ），５．２６−５．６３（２Ｈ，ｍ，−ＣＨ₂ＣＨ ₂
ＯＨ），５．８３（２Ｈ，ｓ，−Ｏ−ＣＨ ₂−Ｏ−），
５．９３（１Ｈ，ｓ，−ＯＨ），７．７５−９．２０
（１３Ｈ，ｍ，Ａｒ）

【００９５】さらに、塩化水素飽和メタノールを用い
て、かかる目的化合物から淡黄色針状晶の塩酸塩を得た
（融点：１１３〜１１６℃）。

【００９６】実施例１８８−〔Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−（Ｎ−メチ
ルチオカルバモイル−２−フェノキシエチルアミノ）メ
チル−４，５−メチレンジオキシフェニルアミノ〕スル
ホニルキノリンの合成実施例１７におけるエチルイソチオシアネートの代わり
に、メチルイソチオシアネートを用いて、目的化合物を
無晶体として得た。

【００９７】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，δ，ｐｐｍ，
ＴＭＳ）３．０５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．２Ｈｚ，−ＮＨＣ
Ｈ ₃），２．２３−５．０５（９Ｈ，ｍ，φ−ＣＨ ₂−
Ｎ−ＣＨ ₂ＣＨ ₂−Ｏ−，−ＮＨＣＨ₃ ａｎｄ −Ｃ
Ｈ ₂ＣＨ₂ＯＨ），５．１８−５．５５（２Ｈ，ｍ，−
ＣＨ₂ＣＨ ₂ＯＨ），５．８３（２Ｈ，ｓ，−Ｏ−Ｃ
Ｈ ₂−Ｏ），５．９６（１Ｈ，ｓ，−ＯＨ），６．５８
−９．１８（１３Ｈ，ｍ，Ａｒ）

【００９８】実施例１９Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−〔２−（Ｎ−メチ
ル−２−フェノキシエチルアミノ）メチル−４，５−メ
チレンジオキシフェニル〕−２，４，６−トリイソプロ
ピルベンゼンスルホンアミドの合成（イ）実施例１４における（ハ）において、８−キノ
リンスルホニルクロリドの代わりに２，４，６−トリイ
ソプロピルベンゼンスルホニルクロリドを用いて得られ
るアミド体：３．５ｇを、実施例１７と同様に処理し
て、脱ホルミル化し、Ｎ−（２−メトキシカルボニルメ
チル）−Ｎ−〔２−（２−フェノキシエチルアミノ）メ
チル−４，５−メチレンジオキシフェニル〕−２，４，
６−トリイソプロピルベンゼンスルホンアミドを、無晶
体として得た（収量：２．８ｇ、収率：８５．４％）。

【００９９】（ロ）上記（イ）で得られた脱ホルミル
体：２．５ｇを実施例２におけるＢ法の（ロ）と同様に
処理してメチル化し、更に実施例１における（ホ）と同
様に還元処理して、目的化合物を無晶体として得た（収
量：１．５ｇ、収率：６１．４％）。

【０１００】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，δ，ｐｐｍ，
ＴＭＳ）１．０４−１．４０（１８Ｈ，ｍ，−ＣＨ ₃ｘ６，トリ
イソプロピルベンゼン中），２．３３（３Ｈ，ｓ，−Ｎ
−ＣＨ ₃），２．６２−４．４７（１１Ｈ，ｍ，φ−Ｃ
Ｈ ₂−Ｎ−ＣＨ ₂ＣＨ ₂−Ｏ−，−ＣＨ ₂ＣＨ₂ＯＨ
ａｎｄ −ＣＨｘ３トリイソプロピルベンゼン中），
４．６４−４．９８（２Ｈ，ｍ，−ＣＨ₂ＣＨ ₂Ｏ
Ｈ），５．９７（２Ｈ，ｓ，−Ｏ−ＣＨ ₂−Ｏ−），
６．３０（１Ｈ，ｓ，−ＯＨ），６．７７−７．４８
（９Ｈ，ｍ，Ａｒ）

【０１０１】実施例２０８−〔Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−（Ｎ−ブチ
ル−２−フェノキシエチルアミノ）メチル−４，５−メ
チレンジオキシフェニルアミノ〕スルホニルキノリンの
合成 ──Ａ法── 実施例２のＢ法における（ロ）において、ヨウ化メチル
の代わりにヨウ化ブチルを用い、更にトリエチルアミン
の代わりにジイソプロピルエチルアミンを用いて、加熱
還流し、以下同様の操作をして、目的化合物を無晶体と
して得た。

【０１０２】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，δ，ｐｐｍ，
ＴＭＳ）０．６０−１．７３（７Ｈ，ｍ，−Ｎ−ＣＨ₂ＣＨ ₂Ｃ
Ｈ ₂ＣＨ ₃）、２．３０−４．３８（１０Ｈ，ｍ，−Ｎ
−ＣＨ ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₃，φ−ＣＨ ₂−Ｎ−ＣＨ ₂
ＣＨ ₂−Ｏ− ａｎｄ −ＣＨ ₂ＣＨ₂ＯＨ），４．４
７−５．０１（２Ｈ，ｍ，−ＣＨ₂ＣＨ ₂ＯＨ），５．
８５（２Ｈ，ｓ，−Ｏ−ＣＨ ₂−Ｏ−），６．００（１
Ｈ，ｓ，−ＯＨ），６．３５−９．２２（１３Ｈ，ｍ，
Ａｒ）

【０１０３】──Ｂ法── 実施例１７で得られた中間体である８−〔Ｎ−メトキシ
カルボニルメチル−２−（２−フェノキシエチルアミ
ノ）メチル−３，４−メチレンジオキシフェニルアミ
ノ〕スルホニルキノリンを用い、そしてヨウ化ブチルと
ジイソプロピルエチルアミンを用いて、以下Ａ法と同様
に処理して、目的化合物を得た。

【０１０４】実施例２１８−〔Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−〔Ｎ−メチ
ル−２−（２−ピリジルオキシ）エチルアミノメチル〕
−４，５−メチレンジオキシフェニルアミノ〕スルホニ
ルキノリンの合成実施例２のＢ法における（イ）において、２−フェノキ
シエチルアミンの代わりに２−（２−ピリジルオキシ）
エチルアミンを用いて、以下同様の操作を行い、目的化
合物を無晶体として得た。

【０１０５】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，δ，ｐｐｍ，
ＴＭＳ）２．３０（３Ｈ，ｓ，−ＣＨ ₃），２．６７−４．２３
（６Ｈ，ｍ，φ−ＣＨ ₂−Ｎ−ＣＨ ₂ＣＨ₂−Ｏ−ａｎ
ｄ −ＣＨ ₂ＣＨ₂ＯＨ），４．３０−５．０７（４
Ｈ，ｍ，−ＣＨ₂ＣＨ ₂−Ｏ−Ｐｙａｎｄ −ＣＨ₂
ＣＨ ₂ＯＨ），５．８５（２Ｈ，ｓ，−Ｏ−ＣＨ ₂−Ｏ
−），５．９９（１Ｈ，ｓ，−ＯＨ），６．２４−９．
２２（１２Ｈ，ｍ，Ａｒ）

【０１０６】実施例２２８−〔Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−〔Ｎ−メチ
ル−〔３−（２−ピリジルオキシ）プロピルアミノ〕メ
チル〕−４，５−メチレンジオキシフェニルアミノ〕ス
ルホニルキノリンの合成実施例２１における２−（２−ピリジルオキシ）エチル
アミンの代わりに、３−（２−ピリジルオキシ）プロピ
ルアミンを用いて、目的化合物を無晶体として得た。

【０１０７】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，δ，ｐｐｍ，
ＴＭＳ）１．８０−３．０８（４Ｈ，ｍ，−Ｎ−ＣＨ ₂ＣＨ ₂Ｃ
Ｈ₂−Ｏ−），２．２５（３Ｈ，ｓ，−ＣＨ ₃），３．
２５−４．００（４Ｈ，ｍ，φ−ＣＨ ₂−Ｎ−ａｎｄ
−ＣＨ ₂ＣＨ₂ＯＨ），４．３５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．
０Ｈｚ，−Ｎ−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ ₂−Ｏ−Ｐｙ），４．
６２−５．１７（２Ｈ，ｍ，−ＣＨ₂ＣＨ ₂ＯＨ），
５．８７（２Ｈ，ｓ，−Ｏ−ＣＨ ₂−Ｏ），５．９６
（１Ｈ，ｓ，−ＯＨ），６．６２−９．２５（１２Ｈ，
ｍ，Ａｒ）

【０１０８】実施例２３８−〔Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−（Ｎ−エチ
ル−２−フェノキシエチルアミノ）メチル−４，５−メ
チレンジオキシフェニルアミノ〕スルホニルキノリンの
合成実施例２のＢ法における（ロ）において、ヨウ化メチル
の代わりにヨウ化エチルを用いて、以下同様に操作し
て、目的化合物を無晶体として得た。

【０１０９】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，δ，ｐｐｍ，
ＴＭＳ）１．１８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ，−ＣＨ₂ＣＨ ₃），
２．２２−４．５２（１０Ｈ，ｍ，−ＣＨ ₂ＣＨ₃，φ
−ＣＨ ₂−Ｎ−ＣＨ ₂ＣＨ ₂−Ｏ− ａｎｄ−ＣＨ ₂Ｃ
Ｈ₂ＯＨ），４．６０−５．４２（２Ｈ，ｍ，−ＣＨ₂
ＣＨ ₂ＯＨ），５．８５（２Ｈ，ｓ，−Ｏ−ＣＨ ₂−Ｏ
−），５．９５（１Ｈ，ｓ，−ＯＨ），６．７５−９．
２３（１３Ｈ，ｍ，Ａｒ）

【０１１０】上記の実施例において合成された各種化合
物のうち、その代表的なものの有効性を判断する為の試
験方法及びその結果は、次の如くであった。

【０１１１】［幽門結紮ラットにおける胃酸分泌抑制作
用］７週令の雄性ＳＤ系ラットを２４時間絶食させ、更
に実験当日の早朝から、絶水した。体重が各群で平均化
するように群分けし、１群５匹とし、Ｓｈａｙらの方法
（Ｓｈａｙ，Ｈ．ら；ガストロエンテロロジー、第５
巻、第４３頁、１９４５年）に準じて、目的とするテス
トを行なった。すなわち、ラットをエーテル軽麻酔後、
腹部の毛を刈り、剣状突起の約１cm下部で正中線に沿っ
て約１．５cm切開した。そして、胃を体外へ引き出し、
幽門と十二指腸の結合部を縫合糸で結紮した。結紮直
後、被験薬物を０．２ｍｌ／１００ｇ体重の割合で十二
指腸内へ投与し、そして腹筋・腹部の皮膚を縫合した
後、ラットをケージに戻し、絶食・絶水下で、４時間放
置した。かかる４時間の後、ラットをエーテルで致死せ
しめ、胃を摘出した後、本胃部に小孔をあけ、胃液を試
験管に採取した。胃液は、直ちに、３０００ｒｐｍで１
０分間遠心分離し、固形物を除去し、その上清につい
て、以下の項目を測定した。（１）胃液量（２）総酸度（胃液を０．０１Ｎ水酸化ナトリウム溶液
にて中和滴定し、１ｍｌ当たりの酸度に４時間で分泌さ
れた胃液量を積算した。）

【０１１２】

【表１】

【０１１３】かかる表１の結果より明らかなように、本
発明の化合物の適用により、優れた胃酸分泌抑制作用を
有していることが示された。

【０１１４】［水浸拘束ストレス潰瘍における抗潰瘍作
用］７週令の雄性ＳＤ系ラットを２４時間絶食させ、更
に実験当日の早朝から、絶水した。体重が各群で平均化
するように群分けし、１群５匹とした。ストレス負荷１
０分前に被験薬物を経口投与した後、ラットを東大式ス
トレスケージに入れ、２３±１℃の水槽内に剣状突起の
高さまで浸して、ストレス負荷した。その７時間後、エ
ーテルで致死せしめ、２％ホルマリンで半固定した後、
胃粘膜の損傷部位の長径を測定し、１匹当たりの損傷部
位の長さの合計を潰瘍係数として算出し、その結果を下
記表２に併わせ示した。

【０１１５】

【表２】

【０１１６】かかる表２の結果より明らかなように、本
発明の化合物の適用により、対照薬物シメチジンより低
用量において、優れた抗潰瘍作用を有していることが示
された。

【０１１７】［単回投与毒性試験］室温２３±１℃、湿
度５５±５％の恒温恒湿飼育室を使用し、雄性ｄｄＹ系
マウス（体重２２〜２８ｇ）を１群１０匹に分けて、被
験動物とし、本発明による代表的化合物の内の数種を被
験化合物として、これを２％ポリソルベート８０溶液に
懸濁させ、上記被験動物に経口投与し、その後１週間観
察して、その死亡率から急性毒性値（ＬＤ₅₀）を求め、
その結果を下記表３に示した。

【０１１８】

【表３】

【０１１９】かかる表３より明らかなように、本発明の
化合物の単回投与毒性値は、薬理効果発現用量より２０
〜１００倍以上と高く、これにより低毒性で、安全性が
高いことが確認された。

【０１２０】

【発明の効果】以上の説明より明らかなように、本発明
に係る前記化１７にて示される化合物（化合物〔Ｉ〕）
は、新規物質であって、攻撃因子抑制作用と防御因子増
強作用を併せ持つ、優れた抗潰瘍作用を示し、しかも毒
性の低い化合物であるところから、抗消化性潰瘍剤の如
き医薬品として極めて有用である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ａ６１Ｋ 31/44 9360−4Ｃ 31/47 9360−4ＣＣ０７Ｃ 311/16 7419−4Ｈ 335/12 7106−4ＨＣ０７Ｄ 213/63 213/74 215/36 (72)発明者高村吏愛知県豊田市上郷町４丁目10番地６ (72)発明者佐藤仁愛知県海部郡弥富町平島新田西新田95番地２ (72)発明者今井敬司愛知県葉栗郡木曽川町黒田東針口45番地２

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記化１：【化１】［但し、Ｒ₁、Ｒ₂は、同一若しくは異なって、水素、
ハロゲン原子、低級アルコキシ基、または酸素原子を有
して環構造を形成したメチレンジオキシ基若しくはエチ
レンジオキシ基を表し、Ｒ₃は、水素、低級アルキル
基、ホルミル基、または−Ｃ（Ｓ）−ＮＨＲ₆（但し、
Ｒ₆は低級アルキル基を表す）を表し、Ｒ₄は、水素、
２−ヒドロキシエチル基、またはカルボキシメチル基を
表し、Ｒ₅は、ｐ−クロロベンゼンスルホニル基、２，
４，６−トリイソプロピルベンゼンスルホニル基、８−
キノリンスルホニル基、１−ナフトイル基、または２−
ピリジンカルボニル基を表し、Ａは、フェニル基または
ピリジル基を表し、更にｋは１または２、ｍは１〜３、
ｎは０または１の整数を表す（但し、Ｒ₃が水素または
低級アルキル基、ｋが１、ｍが２、Ａがフェニル基であ
る側鎖に対して、Ｒ₄が水素または２−ヒドロキシエチ
ル基、Ｒ₅が８−キノリンスルホニル基、ｎが０で表さ
れる側鎖が隣接した場合、Ｒ₁、Ｒ₂は同時に水素では
ない）。］で表されるアリールスルホン酸アミド類また
はアリールカルボン酸アミド類及びそれらの薬剤として
許容される酸付加塩。
【請求項２】前記化１において、Ｒ₃は炭素数１〜４の
アルキル基、Ｒ₄は２−ヒドロキシエチル基、Ｒ₅は８
−キノリンスルホニル基、Ａはフェニル基またはピリジ
ル基、ｋは１または２、ｍは１〜３、ｎは０であり、ま
た前記化１にて示される構造中の−（ＣＨ₂）_k−Ｎ
（Ｒ₃）−（ＣＨ₂）_m−Ｏ−Ａと−（ＣＨ₂）_n−Ｎ
（Ｒ₄）−Ｒ₅とは隣接し、更にＲ₁、Ｒ₂は、それぞ
れ、酸素を有して環構造を形成したメチレンジオキシ基
であって、前記−（ＣＨ₂）_k−Ｎ（Ｒ₃）−（Ｃ
Ｈ₂）_m−Ｏ−Ａ及び前記−（ＣＨ₂）_n−Ｎ（Ｒ₄）
−Ｒ₅の両者とは隣接しない請求項１記載の化合物。
【請求項３】下記化２：【化２】［但し、Ｒ₃は、水素、低級アルキル基、ホルミル基、
または−Ｃ（Ｓ）−ＮＨＲ₆（但し、Ｒ₆は低級アルキ
ル基を示す）を表し、Ａはフェニル基またはピリジル基
を表し、ｍは１〜３の整数を表す］で表されるアミン
を、下記化３：【化３】［但し、Ｒ₁、Ｒ₂は、同一若しくは異なって、水素、
ハロゲン原子、低級アルコキシ基、または酸素原子を有
して環構造を形成したメチレンジオキシ基若しくはエチ
レンジオキシ基を表す］で表されるニトロベンズアルデ
ヒド体と還元的に縮合して、下記化４：【化４】［但し、Ｒ₁、Ｒ₂は、同一若しくは異なって、水素、
ハロゲン原子、低級アルコキシ基、または酸素原子を有
して環構造を形成したメチレンジオキシ基若しくはエチ
レンジオキシ基を表し、Ｒ₃は水素、低級アルキル基、
ホルミル基、または−Ｃ（Ｓ）−ＮＨＲ₆（但し、Ｒ₆
は低級アルキル基を表す）を表し、Ａはフェニル基また
はピリジル基を表し、ｍは１〜３の整数を表す（但し、
Ｒ₃が水素の場合、前記化３にて示される化合物と縮合
させた後、還元し、次いで他のＲ₃基を導入することが
できる）］にて示される化合物とし、さらに還元した
後、次式：Ｒ₅−Ｃｌ［但し、Ｒ₅は、ｐ−クロロベン
ゼンスルホニル基、２，４，６−トリイソプロピルベン
ゼンスルホニル基、８−キノリンスルホニル基、１−ナ
フトイル基、または２−ピリジンカルボニル基を表す］
にて示される化合物と反応せしめ、要すれば更にアルキ
ル化の後、還元または脱保護を行なうか、若しくはまず
アルキル化の後に、前記Ｒ₅−Ｃｌにて示される化合物
と反応させ、そして還元または脱保護を行なって、その
後に塩となすことを特徴とする、下記化５：【化５】［但し、Ｒ₁、Ｒ₂は、同一若しくは異なって、水素、
ハロゲン原子、低級アルコキシ基、または酸素原子を有
して環構造を形成したメチレンジオキシ基若しくはエチ
レンジオキシ基を表し、Ｒ₃は、水素、低級アルキル
基、ホルミル基、または−Ｃ（Ｓ）−ＮＨＲ₆（但し、
Ｒ₆は低級アルキル基を表す）を表し、Ｒ₄は、水素、
２−ヒドロキシエチル基、またはカルボキシメチル基を
表し、Ｒ₅は、ｐ−クロロベンゼンスルホニル基、２，
４，６−トリイソプロピルベンゼンスルホニル基、８−
キノリンスルホニル基、１−ナフトイル基、または２−
ピリジンカルボニル基を表し、Ａは、フェニル基または
ピリジル基を表し、ｍは１〜３の整数を表す］で表され
るアリールスルホン酸アミド類またはアリールカルボン
酸アミド類、及びそれらの無毒性塩の製造法。
【請求項４】下記化６：【化６】［但し、Ｒ₁、Ｒ₂は、同一若しくは異なって、水素、
ハロゲン原子、低級アルコキシ基、または酸素原子を有
して環構造を形成したメチレンジオキシ基若しくはエチ
レンジオキシ基を表し、Ｒ₇は、水素またはヒドロキシ
基を表し、ｋは１または２の整数を表す］で表される化
合物を用い、そのＲ₇をハロゲンまたはトルエンスルホ
ニルオキシ基とした後、前記請求項３において化２で表
される化合物と反応せしめて、下記化７：【化７】［但し、Ｒ₁、Ｒ₂は、同一若しくは異なって、水素、
ハロゲン原子、低級アルコキシ基、または酸素原子を有
して環構造を形成したメチレンジオキシ基若しくはエチ
レンジオキシ基を表し、Ｒ₃は、水素、低級アルキル
基、ホルミル基、または−Ｃ（Ｓ）−ＮＨＲ₆（但し、
Ｒ₆は低級アルキル基を表す）を表し、ｋは１または
２、ｍは１〜３の整数、Ａはフェニル基またはピリジル
基を表す］で表される化合物とした後、前記請求項３に
おいて化５で示される化合物を得る方法と同様に操作す
ることを特徴とする、下記化８：【化８】［但し、Ｒ₁、Ｒ₂は、同一若しくは異なって、水素、
ハロゲン原子、低級アルコキシ基、または酸素原子を有
して環構造を形成したメチレンジオキシ基若しくはエチ
レンジオキシ基を表し、Ｒ₃は、水素、低級アルキル
基、ホルミル基、または−Ｃ（Ｓ）−ＮＨＲ₆（但し、
Ｒ₆は低級アルキル基を表す）を表し、Ｒ₄は、水素、
２−ヒドロキシエチル基、またはカルボキシメチル基を
表し、Ｒ₅は、ｐ−クロロベンゼンスルホニル基、２，
４，６−トリイソプロピルベンゼンスルホニル基、８−
キノリンスルホニル基、１−ナフトイル基、または２−
ピリジンカルボニル基を表し、Ａは、フェニル基または
ピリジル基を表し、ｋは１または２、ｍは１〜３の整数
を表す］で表されるアリールスルホン酸アミド類または
アリールカルボン酸アミド類およびそれらの無毒性塩の
製造方法。
【請求項５】下記化９：【化９】［但し、Ｒ₁、Ｒ₂は、同一若しくは異なって、水素、
ハロゲン原子、低級アルコキシ基、または酸素原子を有
して環構造を形成したメチレンジオキシ基若しくはエチ
レンジオキシ基を表し、Ｒ₇は、水素またはヒドロキシ
基を表し、ｋは１または２の整数を表す］で表される化
合物を還元した後、前記請求項３における式：Ｒ₅−Ｃ
ｌで表される化合物と反応せしめ、次いでアルキル化す
るか、若しくはアルキル化の後に、該Ｒ₅−Ｃｌで表さ
れる化合物と反応させて、下記化１０：【化１０】［但し、Ｒ₁、Ｒ₂は、同一若しくは異なって、水素、
ハロゲン原子、低級アルコキシ基、または酸素原子を有
して環構造を形成したメチレンジオキシ基若しくはエチ
レンジオキシ基、Ｒ₅は、ｐ−クロロベンゼンスルホニ
ル基、２，４，６−トリイソプロピルベンゼンスルホニ
ル基、８−キノリンスルホニル基、１−ナフトイル基、
または２−ピリジンカルボニル基を表し、Ｒ₇は、水素
またはヒドロキシ基を表し、Ｒ₈は、エトキシカルボニ
ルメチル基を表し、ｋは１または２の整数を表す］にて
表される化合物とした後、その構造中のＲ₇をハロゲン
またはトルエンスルホニルオキシ基に変換し、次いで請
求項３における化２で表される化合物と反応せしめて、
下記化１１：【化１１】［但し、Ｒ₁、Ｒ₂は、同一若しくは異なって、水素、
ハロゲン原子、低級アルコキシ基、または酸素原子を有
して環構造を形成したメチレンジオキシ基若しくはエチ
レンジオキシ基を表し、Ｒ₃は、水素、低級アルキル
基、ホルミル基、または−Ｃ（Ｓ）−ＮＨＲ₆（Ｒ₆は
低級アルキル基を表す）を表し、Ｒ₅は、ｐ−クロロベ
ンゼンスルホニル基、２，４，６−トリイソプロピルベ
ンゼンスルホニル基、８−キノリンスルホニル基、１−
ナフトイル基、または２−ピリジンカルボニル基、Ｒ₈
はエトキシカルボニルメチル基、Ａはフェニル基または
ピリジル基を表し、ｋは１または２、ｍは１〜３の整数
を表す］にて表される化合物と為し、更に還元または脱
保護を行い、その後に必要に応じて塩と為すことを特徴
とする、下記化１２：【化１２】［但し、Ｒ₁、Ｒ₂は、同一若しくは異なって、水素、
ハロゲン原子、低級アルコキシ基、または酸素原子を有
して環構造を形成したメチレンジオキシ基若しくはエチ
レンジオキシ基を表し、Ｒ₃は、水素、低級アルキル
基、ホルミル基、または−Ｃ（Ｓ）−ＮＨＲ₆（但し、
Ｒ₆は低級アルキル基を表す）を表し、Ｒ₄は、水素、
２−ヒドロキシエチル基、またはカルボキシメチル基を
表し、Ｒ₅は、ｐ−クロロベンゼンスルホニル基、２，
４，６−トリイソプロピルベンゼンスルホニル基、８−
キノリンスルホニル基、１−ナフトイル基、または２−
ピリジンカルボニル基を表し、Ａは、フェニル基または
ピリジル基を表し、ｋは１たは２、ｍは１〜３の整数を
表す］で表される化合物またはその無毒性塩の製造法。
【請求項６】下記化１３：【化１３】で表されるメチルベンジルアミンを、前記請求項３にお
ける式：Ｒ₅−Ｃｌにて表される化合物と反応させた
後、アルキル化するか、若しくはアルキル化の後に、該
Ｒ₅−Ｃｌにて表される化合物と反応させ、次いでメチ
ル基のハロゲン化の後に、前記請求項３における化２の
化合物と反応せしめて、下記化１４：【化１４】［但し、Ｒ₃は、水素、低級アルキル基、ホルミル基、
または−Ｃ（Ｓ）−ＮＨＲ₆（但し、Ｒ₆は低級アルキ
ル基を示す）を表し、Ｒ₅は、ｐ−クロロベンゼンスル
ホニル基、２，４，６−トリイソプロピルベンゼンスル
ホニル基、８−キノリンスルホニル基、１−ナフトイル
基、または２−ピリジンカルボニル基を表し、Ｒ₉は、
エトキシカルボニルメチル基を表し、Ａは、フェニル基
またはピリジル基を表し、ｍは１〜３の整数を示す］で
表される化合物と為し、更に還元または脱保護を行なっ
て、その後に必要に応じて塩と為すことを特徴とする、
下記化１５：【化１５】［但し、Ｒ₃は、水素、低級アルキル基、ホルミル基、
または−Ｃ（Ｓ）−ＮＨＲ₆（但し、Ｒ₆は低級アルキ
ル基を表す）を表し、Ｒ₄は、２−ヒドロキシエチル基
またはカルボキシメチル基を表し、Ｒ₅は、ｐ−クロロ
ベンゼンスルホニル基、２，４，６−トリイソプロピル
ベンゼンスルホニル基、８−キノリンスルホニル基、１
−ナフトイル基、または２−ピリジンカルボニル基を表
し、Ａは、フェニル基またはピリジル基を表し、ｍは１
〜３の整数を表す］で表される化合物またはその無毒性
塩の製造法。
【請求項７】下記化１６：【化１６】［但し、Ｒ₁、Ｒ₂は、同一若しくは異なって、水素、
ハロゲン原子、低級アルコキシ基、または酸素原子を有
して環構造を形成したメチレンジオキシ基若しくはエチ
レンジオキシ基を表し、Ｒ₃は、水素、低級アルキル
基、ホルミル基、または−Ｃ（Ｓ）−ＮＨＲ₆（但し、
Ｒ₆は低級アルキル基を表す）を表し、Ｒ₄は、水素、
２−ヒドロキシエチル基、またはカルボキシメチル基を
表し、Ｒ₅は、ｐ−クロロベンゼンスルホニル基、２，
４，６−トリイソプロピルベンゼンスルホニル基、８−
キノリンスルホニル基、１−ナフトイル基、または２−
ピリジンカルボニル基を表し、Ａは、フェニル基または
ピリジル基を表し、更にｋは１または２、ｍは１〜３、
ｎは０または１の整数を表す（但し、Ｒ₃が水素または
低級アルキル基、ｋが１、ｍが２、Ａがフェニール基で
表される側鎖に対して、Ｒ₄が水素または２−ヒドロキ
シエチル基、Ｒ₅が８−キノリンスルホニル基、ｎが０
で表される側鎖が隣接した場合、Ｒ₁、Ｒ₂は同時に水
素ではない）］にて表される化合物を有効成分とする抗
消化性潰瘍剤。