JPH0610173A - 鋼製品の塩酸酸洗浴に含まれるシリコン化合物を分離する装置の洗浄方法および設備 - Google Patents
鋼製品の塩酸酸洗浴に含まれるシリコン化合物を分離する装置の洗浄方法および設備Info
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- JPH0610173A JPH0610173A JP5090818A JP9081893A JPH0610173A JP H0610173 A JPH0610173 A JP H0610173A JP 5090818 A JP5090818 A JP 5090818A JP 9081893 A JP9081893 A JP 9081893A JP H0610173 A JPH0610173 A JP H0610173A
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- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
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- C23G1/36—Regeneration of waste pickling liquors
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- B01D—SEPARATION
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 使用済み塩酸酸洗浴から水H2O を除去して濃
縮した後に鉄化合物FeOを回収して再循環する工程を含
む鋼製品の酸洗浴中に含まれるシリコン化合物を分離す
るための分離装置の洗浄方法であって、濃縮された酸洗
浴を固／液分離３して非イオン状態のシリコン化合物を
分離して酸洗浴の１つの分画７中でのシリコン化合物の
濃度を上げ、このシリコン化合物が濃縮された分画７の
少なくとも大部分を再循環10し濃縮して非イオン状態の
シリコン化合物の沈澱を促進するとともに、分離装置を
定期的に洗浄するために分離装置にフッ化水素酸溶液18
を循環させる洗浄操作を含む洗浄方法。 【構成】 洗浄操作の前にアルカリ金属水酸化物溶液19
を分離装置３内に循環させる。
縮した後に鉄化合物FeOを回収して再循環する工程を含
む鋼製品の酸洗浴中に含まれるシリコン化合物を分離す
るための分離装置の洗浄方法であって、濃縮された酸洗
浴を固／液分離３して非イオン状態のシリコン化合物を
分離して酸洗浴の１つの分画７中でのシリコン化合物の
濃度を上げ、このシリコン化合物が濃縮された分画７の
少なくとも大部分を再循環10し濃縮して非イオン状態の
シリコン化合物の沈澱を促進するとともに、分離装置を
定期的に洗浄するために分離装置にフッ化水素酸溶液18
を循環させる洗浄操作を含む洗浄方法。 【構成】 洗浄操作の前にアルカリ金属水酸化物溶液19
を分離装置３内に循環させる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、鋼板等の金属製品をコ
ーティング前に酸洗浄するのに用いられる塩酸酸洗浴中
に含まれるシリコン化合物の分離方法に関するものであ
る。
ーティング前に酸洗浄するのに用いられる塩酸酸洗浴中
に含まれるシリコン化合物の分離方法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】冷間圧延鋼板はコーティング前にその表
面を覆った酸化物、特に酸化鉄（スケール）を除去する
ための洗浄操作が行われる。この洗浄操作の基本は酸溶
液、例えば塩酸による酸洗である。この酸洗で用いられ
る酸洗装置は閉回路を構成し、塩酸浴は使用後に再生さ
れて酸洗回路へ戻される。浴の再生操作は酸化物が浴中
に溶解して生じた化合物、主に塩化鉄から元素を処理
し、抽出する操作である。この操作では、先ず使用済み
浴の水を部分的に蒸発させて濃縮した後、熱加水分解処
理する。この処理で塩化鉄は固体の酸化鉄に変って浴か
ら分離され、浄化された浴は酸洗装置へ再循環される。
この浄化操作でできた酸化鉄は塗料用顔料またはフェラ
イト製造で出発材料として使用することができる。
面を覆った酸化物、特に酸化鉄（スケール）を除去する
ための洗浄操作が行われる。この洗浄操作の基本は酸溶
液、例えば塩酸による酸洗である。この酸洗で用いられ
る酸洗装置は閉回路を構成し、塩酸浴は使用後に再生さ
れて酸洗回路へ戻される。浴の再生操作は酸化物が浴中
に溶解して生じた化合物、主に塩化鉄から元素を処理
し、抽出する操作である。この操作では、先ず使用済み
浴の水を部分的に蒸発させて濃縮した後、熱加水分解処
理する。この処理で塩化鉄は固体の酸化鉄に変って浴か
ら分離され、浄化された浴は酸洗装置へ再循環される。
この浄化操作でできた酸化鉄は塗料用顔料またはフェラ
イト製造で出発材料として使用することができる。
【０００３】特に後者の用途では酸化鉄の売値がその純
度に密接に関係する。使用済み酸洗浄浴にはかなりの量
のシリコンが含まれている。このシリコンの酸化物は鋼
板の表面の酸化によって生じ、スケール中に含まれてい
る。一般に、浴中のシリコン含有量は30〜40mg／リット
ルであり、この値は鉄の含有量 120〜150 ｇ／リットル
に比較するとかなりの量であることがわかる。シリコン
の90％はイオン状態で存在するため濾過はできないの
で、除去操作を何もしないと、溶解シリコンのほとんど
が熱加水分解反応器に入り、この反応器中でシリカに変
換する。その結果酸化鉄にシリカが混入するが、シリカ
の混入は大部分の用途で好ましくない（シリカの許容含
有量：軟鋼フェライトで 200 ppm）。
度に密接に関係する。使用済み酸洗浄浴にはかなりの量
のシリコンが含まれている。このシリコンの酸化物は鋼
板の表面の酸化によって生じ、スケール中に含まれてい
る。一般に、浴中のシリコン含有量は30〜40mg／リット
ルであり、この値は鉄の含有量 120〜150 ｇ／リットル
に比較するとかなりの量であることがわかる。シリコン
の90％はイオン状態で存在するため濾過はできないの
で、除去操作を何もしないと、溶解シリコンのほとんど
が熱加水分解反応器に入り、この反応器中でシリカに変
換する。その結果酸化鉄にシリカが混入するが、シリカ
の混入は大部分の用途で好ましくない（シリカの許容含
有量：軟鋼フェライトで 200 ppm）。
【０００４】フランス国特許第ＦＲ 90 15621 号には酸
洗浴を熱加水分解する前に塩酸洗浄浴に含まれるシリコ
ン化合物を分離する方法が提供されている。この方法で
は、水を除去して浴を濃縮（この濃縮操作でイオン状態
のシリカ濃度は約30％まで低下する）し、固／液分離操
作を行って（非イオン性の）不溶性シリコン化合物を分
離する。この分離操作はタンジェント（接線）型の精密
濾過膜(microfiltrationmembrance)を用いて行うのが好
ましい。この膜を透過する量的には相対的に少量の溶液
（透過分、permiate）には不溶性シリコンは含まれず、
また可溶性化合物も少量しか含まれない。従って、膜を
透過しない大部分の溶液（非透過分、retenate) の不溶
性シリコンは濃縮されたことになる。非透過分の一部は
装置から抜出されるが、残りの大部分は精密濾過膜の上
流へ再循環される。
洗浴を熱加水分解する前に塩酸洗浄浴に含まれるシリコ
ン化合物を分離する方法が提供されている。この方法で
は、水を除去して浴を濃縮（この濃縮操作でイオン状態
のシリカ濃度は約30％まで低下する）し、固／液分離操
作を行って（非イオン性の）不溶性シリコン化合物を分
離する。この分離操作はタンジェント（接線）型の精密
濾過膜(microfiltrationmembrance)を用いて行うのが好
ましい。この膜を透過する量的には相対的に少量の溶液
（透過分、permiate）には不溶性シリコンは含まれず、
また可溶性化合物も少量しか含まれない。従って、膜を
透過しない大部分の溶液（非透過分、retenate) の不溶
性シリコンは濃縮されたことになる。非透過分の一部は
装置から抜出されるが、残りの大部分は精密濾過膜の上
流へ再循環される。
【０００５】別のタンジェント型の精密濾過装置では、
装置の分離効率と濾液品質とがバランスするように設定
した速度で非透過分を連続的に抜き出し、残りを酸洗浴
の濃縮装置から来る未精製の酸溶液と混合した後に膜へ
再循環させている。非透過分を混合前に処理 (攪拌また
は酸化) して、溶解状態にあるシリコン化合物の沈澱を
促進するのが好ましい。上記の濃縮および沈澱操作は、
溶解状態にあるシリコン化合物を沈澱状態へ最大限変換
して精密濾過膜で除去されるようにし、それによって透
過分に入るシリコン化合物の量をできる限り減少させる
ためのものであることは理解できよう。また、非透過分
の一部を抜き出す理由は膜から多量のシリコン化合物を
回収し、しかも膜が急速に汚染されないようにするとい
う互いに矛盾する要請を工業的運転でバランスさせるた
めである。膜の汚染は主として膜に送られた液体の量に
依存する。
装置の分離効率と濾液品質とがバランスするように設定
した速度で非透過分を連続的に抜き出し、残りを酸洗浴
の濃縮装置から来る未精製の酸溶液と混合した後に膜へ
再循環させている。非透過分を混合前に処理 (攪拌また
は酸化) して、溶解状態にあるシリコン化合物の沈澱を
促進するのが好ましい。上記の濃縮および沈澱操作は、
溶解状態にあるシリコン化合物を沈澱状態へ最大限変換
して精密濾過膜で除去されるようにし、それによって透
過分に入るシリコン化合物の量をできる限り減少させる
ためのものであることは理解できよう。また、非透過分
の一部を抜き出す理由は膜から多量のシリコン化合物を
回収し、しかも膜が急速に汚染されないようにするとい
う互いに矛盾する要請を工業的運転でバランスさせるた
めである。膜の汚染は主として膜に送られた液体の量に
依存する。
【０００６】精密濾過装置が使用できなくなる主たる理
由はシリコン化合物が堆積して膜が汚染されためであ
る。タンジェント型の精密濾過装置の分離原理は、ケー
キを形成して濾過する（正面濾過装置の場合）のではな
く、膜で互いに分離された２つの媒体の間の毛細管型の
物質移動を利用しているので、タンジェント型の精密濾
過装置では汚染現象は避けられない。膜の汚染によって
精密濾過装置から出る透過分の量が次第に減少してくる
ので、運転者は定期的に膜を洗浄して十分な生産性を維
持しなければならない。この洗浄操作ではシリカを溶解
するフッ化水素酸を0.5 〜10％に希釈して使用するのが
一般的である。しかし、試験の結果、この操作では膜の
透過性を最初の状態には回復できないということが分か
った。繰り返し使用しているうちに透過性はゼロに近づ
いていくので、性能が不十分な状態まで低下した時点で
膜を交換しなければならない。しかし、この操作は精密
濾過装置の生産性を低下させ、高価な膜を頻繁に交換す
ることになるため、酸洗浴の処理コストを大幅に上昇さ
せる。
由はシリコン化合物が堆積して膜が汚染されためであ
る。タンジェント型の精密濾過装置の分離原理は、ケー
キを形成して濾過する（正面濾過装置の場合）のではな
く、膜で互いに分離された２つの媒体の間の毛細管型の
物質移動を利用しているので、タンジェント型の精密濾
過装置では汚染現象は避けられない。膜の汚染によって
精密濾過装置から出る透過分の量が次第に減少してくる
ので、運転者は定期的に膜を洗浄して十分な生産性を維
持しなければならない。この洗浄操作ではシリカを溶解
するフッ化水素酸を0.5 〜10％に希釈して使用するのが
一般的である。しかし、試験の結果、この操作では膜の
透過性を最初の状態には回復できないということが分か
った。繰り返し使用しているうちに透過性はゼロに近づ
いていくので、性能が不十分な状態まで低下した時点で
膜を交換しなければならない。しかし、この操作は精密
濾過装置の生産性を低下させ、高価な膜を頻繁に交換す
ることになるため、酸洗浴の処理コストを大幅に上昇さ
せる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、膜性
能を迅速且つ完全に再生して、膜の交換頻度を少なくす
ることができる効率的な膜洗浄方法を提供することにあ
る。
能を迅速且つ完全に再生して、膜の交換頻度を少なくす
ることができる効率的な膜洗浄方法を提供することにあ
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は使用済み塩酸酸
洗浴から水を除去して濃縮した後に鉄化合物を回収して
再循環する工程を含む鋼製品の酸洗浴中に含まれるシリ
コン化合物を分離するための分離装置の洗浄方法であっ
て、濃縮された酸洗浴を固／液分離して非イオン状態の
シリコン化合物を分離して酸洗浴の１つの分画中でのシ
リコン化合物の濃度を上げ、このシリコン化合物が濃縮
された分画の少なくとも大部分を再循環し濃縮して非イ
オン状態のシリコン化合物の沈澱を促進するとともに、
分離装置を定期的に洗浄するために分離装置にフッ化水
素酸溶液を循環させる洗浄操作を含む洗浄方法におい
て、洗浄操作の前にアルカリ金属水酸化物溶液を分離装
置内に循環させることを特徴とする方法を提供する。フ
ッ化水素酸溶液は約 0.5〜10％まで希釈するのが好まし
く、アルカリ金属水酸化物溶液は 0.5〜10％まで希釈
し、固／液分離はタンジェント型の精密濾過で行うのが
好ましい。本発明の他の対象は上記方法を実施する装置
にある。
洗浴から水を除去して濃縮した後に鉄化合物を回収して
再循環する工程を含む鋼製品の酸洗浴中に含まれるシリ
コン化合物を分離するための分離装置の洗浄方法であっ
て、濃縮された酸洗浴を固／液分離して非イオン状態の
シリコン化合物を分離して酸洗浴の１つの分画中でのシ
リコン化合物の濃度を上げ、このシリコン化合物が濃縮
された分画の少なくとも大部分を再循環し濃縮して非イ
オン状態のシリコン化合物の沈澱を促進するとともに、
分離装置を定期的に洗浄するために分離装置にフッ化水
素酸溶液を循環させる洗浄操作を含む洗浄方法におい
て、洗浄操作の前にアルカリ金属水酸化物溶液を分離装
置内に循環させることを特徴とする方法を提供する。フ
ッ化水素酸溶液は約 0.5〜10％まで希釈するのが好まし
く、アルカリ金属水酸化物溶液は 0.5〜10％まで希釈
し、固／液分離はタンジェント型の精密濾過で行うのが
好ましい。本発明の他の対象は上記方法を実施する装置
にある。
【０００９】
【作用】本発明では２つの主要操作でシリカ濾過装置の
洗浄を行うということは理解できよう。すなわち、本発
明では、従来のフッ化水素酸洗浄操作の前に水酸化ナト
リウムまたは水酸化カリウム溶液を用いて洗浄を行う。
一般には、フッ化水素酸は、分離装置の濾過媒体（例え
ば、カットオフ閾値が0.2 μｍである炭素繊維／炭素複
合材料のタンジェント型の精密濾過膜）上に堆積したシ
リコン化合物を室温以上の温度で問題なく溶解させるこ
とができるが、既に述べたように、この溶解特性だけで
は説明できない問題があることが分かっている。すなわ
ち、膜上にはシリコン化合物だけでなくその溶解反応を
阻害する他の化合物が堆積物を形成している考えられ
る。堆積物内に存在し、シリコン化合物粒子の表面や濾
過膜内側で保護膜を形成するような阻害化合物には油脂
物質や鋼板圧延で用いたオイルなどが含まれている可能
性がある。これらのオイルは酸洗浄前の脱脂操作で表面
から原則として除去されるが、油を完全に除去すること
は不可能で、鋼板表面に残った油の一部は酸洗浄浴中に
入り、シリコン化合物とともに酸洗浴再処理装置内に入
ると思われる。この油はシリコン化合物と同様に時間と
ともに濃縮され、最終的には膜上に堆積したシリカが溶
解するのを阻害する濃度になる。従って、本発明者らは
シリコン化合物を溶解させる前にこの脂肪性物質を溶解
することを考え、種々行った試験結果はこの仮説を裏付
けるものであった。本発明者は、約 0.5〜10％に希釈し
た水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウム溶液がこの用
途に適しているということ、そして、膜に過剰な影響を
与えずに膜性能を再生させることができるということを
発見した。以下、本発明の洗浄方法を含む鋼製品の塩酸
酸洗浴に含まれるシリコン化合物を分離する装置の一例
を図１の概念図を用いて詳細に説明する。
洗浄を行うということは理解できよう。すなわち、本発
明では、従来のフッ化水素酸洗浄操作の前に水酸化ナト
リウムまたは水酸化カリウム溶液を用いて洗浄を行う。
一般には、フッ化水素酸は、分離装置の濾過媒体（例え
ば、カットオフ閾値が0.2 μｍである炭素繊維／炭素複
合材料のタンジェント型の精密濾過膜）上に堆積したシ
リコン化合物を室温以上の温度で問題なく溶解させるこ
とができるが、既に述べたように、この溶解特性だけで
は説明できない問題があることが分かっている。すなわ
ち、膜上にはシリコン化合物だけでなくその溶解反応を
阻害する他の化合物が堆積物を形成している考えられ
る。堆積物内に存在し、シリコン化合物粒子の表面や濾
過膜内側で保護膜を形成するような阻害化合物には油脂
物質や鋼板圧延で用いたオイルなどが含まれている可能
性がある。これらのオイルは酸洗浄前の脱脂操作で表面
から原則として除去されるが、油を完全に除去すること
は不可能で、鋼板表面に残った油の一部は酸洗浄浴中に
入り、シリコン化合物とともに酸洗浴再処理装置内に入
ると思われる。この油はシリコン化合物と同様に時間と
ともに濃縮され、最終的には膜上に堆積したシリカが溶
解するのを阻害する濃度になる。従って、本発明者らは
シリコン化合物を溶解させる前にこの脂肪性物質を溶解
することを考え、種々行った試験結果はこの仮説を裏付
けるものであった。本発明者は、約 0.5〜10％に希釈し
た水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウム溶液がこの用
途に適しているということ、そして、膜に過剰な影響を
与えずに膜性能を再生させることができるということを
発見した。以下、本発明の洗浄方法を含む鋼製品の塩酸
酸洗浴に含まれるシリコン化合物を分離する装置の一例
を図１の概念図を用いて詳細に説明する。
【００１０】
【実施例】公知のように、この分離装置は濃縮槽１を有
し、この濃縮槽１は酸洗装置からの使用済み浴を受け、
水の約35％を蒸発させて濃縮する。濃縮された使用済み
浴はポンプ２によってタンジェント型の精密濾過装置３
へ導かれる。この精密濾過装置３はその内部を２つの室
に分離するカットオフ閾値が 0.2μｍの炭素／炭素複合
ファンバーで作られた一連の膜 (メンブレン) ４で構成
されている。すなわち、下側の室５に回収される透過分
(permeate)は非イオン状態のシリコンを含まず、また、
イオン状シリコンの量もごくわずかである。この透過分
は熱加水分解装置６へ送られて公知のルテナー(RUTHNE
R) 法またはランギ(LUNGI) 法で熱加水分解されて、固
体状の酸化鉄FeＯx と再生塩酸ＨClとが回収され、塩酸
は酸洗装置へ再循環される。
し、この濃縮槽１は酸洗装置からの使用済み浴を受け、
水の約35％を蒸発させて濃縮する。濃縮された使用済み
浴はポンプ２によってタンジェント型の精密濾過装置３
へ導かれる。この精密濾過装置３はその内部を２つの室
に分離するカットオフ閾値が 0.2μｍの炭素／炭素複合
ファンバーで作られた一連の膜 (メンブレン) ４で構成
されている。すなわち、下側の室５に回収される透過分
(permeate)は非イオン状態のシリコンを含まず、また、
イオン状シリコンの量もごくわずかである。この透過分
は熱加水分解装置６へ送られて公知のルテナー(RUTHNE
R) 法またはランギ(LUNGI) 法で熱加水分解されて、固
体状の酸化鉄FeＯx と再生塩酸ＨClとが回収され、塩酸
は酸洗装置へ再循環される。
【００１１】精密濾過装置３の上側の室７を通過した酸
洗浴の一部すなわち非透過分は濾過装置の上側の室７か
ら回路10を通ってポンプ８、９によって精密濾過装置３
の上流側へ循環される。この非透過分の一部はリーク回
路11を介して分離装置外へ抜き出し、それ以上の処理を
行わないのが好ましい。リーク回路11の流量はバルブ12
で調節する。このリーク回路を設けることによって分離
装置の効率を最適化することができる。すなわち、リー
ク量をゼロまたはごく僅かにすれば多量の酸洗浴を処理
することができるが、リーク量を多くした場合に比べて
膜６の汚染速度が速くなり、膜の洗浄と膜の交換のため
に分離装置の運転を停止する頻度が増える。再循環回路
10にも攪拌装置14を備えた槽13を設置し、この槽13の中
で非溶解性シリコン化合物のミセルを成長させるが好ま
しい。また、シリコン化合物の沈澱を促進させるため
に、この槽13に浴の酸性度を上げる手段を設けることも
できる。上記分離装置は塩酸酸洗浴からシリコン化合物
を分離する公知方法を行う上でも必須のものであるが、
以下では、上記濾過分離装置を効率よく洗浄するための
本発明装置について説明する。
洗浴の一部すなわち非透過分は濾過装置の上側の室７か
ら回路10を通ってポンプ８、９によって精密濾過装置３
の上流側へ循環される。この非透過分の一部はリーク回
路11を介して分離装置外へ抜き出し、それ以上の処理を
行わないのが好ましい。リーク回路11の流量はバルブ12
で調節する。このリーク回路を設けることによって分離
装置の効率を最適化することができる。すなわち、リー
ク量をゼロまたはごく僅かにすれば多量の酸洗浴を処理
することができるが、リーク量を多くした場合に比べて
膜６の汚染速度が速くなり、膜の洗浄と膜の交換のため
に分離装置の運転を停止する頻度が増える。再循環回路
10にも攪拌装置14を備えた槽13を設置し、この槽13の中
で非溶解性シリコン化合物のミセルを成長させるが好ま
しい。また、シリコン化合物の沈澱を促進させるため
に、この槽13に浴の酸性度を上げる手段を設けることも
できる。上記分離装置は塩酸酸洗浴からシリコン化合物
を分離する公知方法を行う上でも必須のものであるが、
以下では、上記濾過分離装置を効率よく洗浄するための
本発明装置について説明する。
【００１２】濃縮器１から来る濃縮された使用済み浴の
流入量はバルブ15で調節する。バイパス回路10への非透
過分の流入量は精密濾過装置３の上側の室７の出口に設
置したバルブ16で調節する。熱加水分解装置６への透過
分の流入量は精密濾過装置の下側の室５の出口に設置さ
れたバルブ17で調節する。この分離装置はそれぞれ約２
％のフッ化水素酸溶液、約２％の水酸化ナトリウム溶液
および洗浄水を収容した３つの槽18，19，20をさらに備
えている。これらの溶液の分離装置への流入量は各バル
ブ21，22，23で調節されており、各溶液はバルブ15とポ
ンプ２との間から供給される。精密濾過装置３の上側の
室７の出口でバルブ16の上流側からは分岐ライン24が出
ている。この分岐ライン24には非透過分の流入量を調節
するバルブ25が設けられており、槽18，19，20への流入
量を調節するバルブ26，27，28の開閉状況に応じて槽1
8，19，20に入る非透過分の量が調節される。精密濾過
装置３の下側の室５の出口でバルブ17の上流からはもう
一つの分岐ライン29が出ている。この分岐ラインは透過
分の流入量を調節するバルブ30を備え、上記の分岐ライ
ン24と合流して透過分を槽18，19，20のいずれかへ戻す
ようになっている。精密濾過装置３の下側の室５の出口
の所に設置された流量計31が膜４を通過した液体の流量
を測定し、それによって膜の閉塞状態を知ることができ
る。
流入量はバルブ15で調節する。バイパス回路10への非透
過分の流入量は精密濾過装置３の上側の室７の出口に設
置したバルブ16で調節する。熱加水分解装置６への透過
分の流入量は精密濾過装置の下側の室５の出口に設置さ
れたバルブ17で調節する。この分離装置はそれぞれ約２
％のフッ化水素酸溶液、約２％の水酸化ナトリウム溶液
および洗浄水を収容した３つの槽18，19，20をさらに備
えている。これらの溶液の分離装置への流入量は各バル
ブ21，22，23で調節されており、各溶液はバルブ15とポ
ンプ２との間から供給される。精密濾過装置３の上側の
室７の出口でバルブ16の上流側からは分岐ライン24が出
ている。この分岐ライン24には非透過分の流入量を調節
するバルブ25が設けられており、槽18，19，20への流入
量を調節するバルブ26，27，28の開閉状況に応じて槽1
8，19，20に入る非透過分の量が調節される。精密濾過
装置３の下側の室５の出口でバルブ17の上流からはもう
一つの分岐ライン29が出ている。この分岐ラインは透過
分の流入量を調節するバルブ30を備え、上記の分岐ライ
ン24と合流して透過分を槽18，19，20のいずれかへ戻す
ようになっている。精密濾過装置３の下側の室５の出口
の所に設置された流量計31が膜４を通過した液体の流量
を測定し、それによって膜の閉塞状態を知ることができ
る。
【００１３】本発明の分離装置の洗浄方法は以下の操作
サイクルに従って運転される。なお、数値は例として挙
げたものである。 (1) 通常の分離操作 (濃縮器１を出た濃縮された使用済
み酸洗浴を連続的に浄化して透過分を熱加水分解反応器
６へ移送する) 開放バルブ：15，16，17 (必要に応じて12) 閉鎖バルブ：21，22，23，25，30 濃縮された使用済み浴の温度：約90℃ 流量計31で測定される新しい膜４を通過する液体の流
速：操作開始時で膜１平方メートル当たり935 リットル
／時 操作終了時で膜１平方メートル当たり57リットル／時 (2) 浄化を中断して精密濾過装置３を空にする。 (3) 水で装置をリンスする。 開放バルブ：23，25，28，30 閉鎖バルブ：15，16，17，21，22，26，27 時間：15分間 (4) 室温または室温よりもわずかに高い温度（例えば40
℃）で２％の水酸化ナトリウム溶液を用いて分離装置を
洗浄する。 開放バルブ：22，25，27，30 閉鎖バルブ：15，16，17，21，23，26，28 時間：30分間 流量計31で測定される液体流速：操作終了時で 280リッ
トル／時・ｍ2 (5) 水で装置をリンスする（３と同じ）。 (6) 室温またはわずかに室温よりも高い温度（例えば40
℃）で２％のフッ化水素酸溶液を用いて分離装置を洗浄
する。 開放バルブ：21，25，26，30 閉鎖バルブ：15，16，17，22，23，27，28 時間：30分間 操作終了時に流量計31で測定される液体流速： 780リッ
トル／時・ｍ2 (7) 水で装置をリンスする（３に同じ）。 (8) 分離装置を通常の運転状態へ戻す（１と同じ）。
サイクルに従って運転される。なお、数値は例として挙
げたものである。 (1) 通常の分離操作 (濃縮器１を出た濃縮された使用済
み酸洗浴を連続的に浄化して透過分を熱加水分解反応器
６へ移送する) 開放バルブ：15，16，17 (必要に応じて12) 閉鎖バルブ：21，22，23，25，30 濃縮された使用済み浴の温度：約90℃ 流量計31で測定される新しい膜４を通過する液体の流
速：操作開始時で膜１平方メートル当たり935 リットル
／時 操作終了時で膜１平方メートル当たり57リットル／時 (2) 浄化を中断して精密濾過装置３を空にする。 (3) 水で装置をリンスする。 開放バルブ：23，25，28，30 閉鎖バルブ：15，16，17，21，22，26，27 時間：15分間 (4) 室温または室温よりもわずかに高い温度（例えば40
℃）で２％の水酸化ナトリウム溶液を用いて分離装置を
洗浄する。 開放バルブ：22，25，27，30 閉鎖バルブ：15，16，17，21，23，26，28 時間：30分間 流量計31で測定される液体流速：操作終了時で 280リッ
トル／時・ｍ2 (5) 水で装置をリンスする（３と同じ）。 (6) 室温またはわずかに室温よりも高い温度（例えば40
℃）で２％のフッ化水素酸溶液を用いて分離装置を洗浄
する。 開放バルブ：21，25，26，30 閉鎖バルブ：15，16，17，22，23，27，28 時間：30分間 操作終了時に流量計31で測定される液体流速： 780リッ
トル／時・ｍ2 (7) 水で装置をリンスする（３に同じ）。 (8) 分離装置を通常の運転状態へ戻す（１と同じ）。
【００１４】上記の洗浄方法によって膜４の透過性をぼ
ぼ回復する（初期流量935 リットル／時・ｍ2 に対して
780リットル／時・ｍ2 まで回復する）ことができる。
処理条件を最適化することによってさらに良い結果を得
ることもできる。特に、フッ化水素酸溶液による洗浄温
度を上げる（60〜80℃) こともできる。フッ化水素酸を
用いた単純な洗浄操作では、一般に、最初の１回目のサ
イクル後に流量は 400〜500 リットル／時・ｍ2 にしか
ならない。この値は膜を使用するにつれて大幅に低下す
る。従って、本発明方法すなわちフッ化水素で洗浄する
前に水酸化ナトリウムによる洗浄操作を加える方法は問
題の解決に大きく貢献する。
ぼ回復する（初期流量935 リットル／時・ｍ2 に対して
780リットル／時・ｍ2 まで回復する）ことができる。
処理条件を最適化することによってさらに良い結果を得
ることもできる。特に、フッ化水素酸溶液による洗浄温
度を上げる（60〜80℃) こともできる。フッ化水素酸を
用いた単純な洗浄操作では、一般に、最初の１回目のサ
イクル後に流量は 400〜500 リットル／時・ｍ2 にしか
ならない。この値は膜を使用するにつれて大幅に低下す
る。従って、本発明方法すなわちフッ化水素で洗浄する
前に水酸化ナトリウムによる洗浄操作を加える方法は問
題の解決に大きく貢献する。
【００１５】使用によって洗浄溶液およびリンス水の効
率が大幅に低下した場合には新しいものと交換するか、
中性にするか、浄化設備へ送る。なお、使用後にこれら
の溶液を槽18，19，20へ戻さないで、新しい溶液を使用
することもできる。水のリンス操作を省くこともできる
が、水酸化ナトリウム溶液およびフッ化水素酸の消費量
が増えるので好ましくない。
率が大幅に低下した場合には新しいものと交換するか、
中性にするか、浄化設備へ送る。なお、使用後にこれら
の溶液を槽18，19，20へ戻さないで、新しい溶液を使用
することもできる。水のリンス操作を省くこともできる
が、水酸化ナトリウム溶液およびフッ化水素酸の消費量
が増えるので好ましくない。
【００１６】水酸化ナトリウムはその他のアルカリ金属
水酸化物、例えば水酸化カリウムで置き換えることがで
きる。一般に、本発明の用途ではフッ化水素酸溶液とア
ルカリ金属水酸化物溶液の濃度は 0.5〜10％が適当であ
る。
水酸化物、例えば水酸化カリウムで置き換えることがで
きる。一般に、本発明の用途ではフッ化水素酸溶液とア
ルカリ金属水酸化物溶液の濃度は 0.5〜10％が適当であ
る。
【００１７】以上の方法および装置は、濃縮された使用
済み酸洗浴の固／液分離とシリコン化合物の分離を行う
タンジェント型の精密濾過に特に適している。しかし、
フィルター内に残るシリカをフッ化水素で溶解させて浄
化する際に脂肪性物質がこれを阻害して洗浄が困難なそ
の他の濾過装置においても使用可能であることは明らか
であろう。
済み酸洗浴の固／液分離とシリコン化合物の分離を行う
タンジェント型の精密濾過に特に適している。しかし、
フィルター内に残るシリカをフッ化水素で溶解させて浄
化する際に脂肪性物質がこれを阻害して洗浄が困難なそ
の他の濾過装置においても使用可能であることは明らか
であろう。
【図１】 本発明の洗浄方法を実施するための装置を備
えた鋼製品の塩酸酸洗浴中のシリコン化合物を分離する
装置の概念図。
えた鋼製品の塩酸酸洗浴中のシリコン化合物を分離する
装置の概念図。
１ 濃縮槽 ３ タンジェント型精
密濾過装置 ４ 濾過膜 ５ 下側の室 ６ 熱加水分解装置 ７ 上側の室 10 バイパス回路 11 リーク回路 18 フッ化水素溶液槽 19 水酸化ナトリウム
溶液槽 20 洗浄水槽
密濾過装置 ４ 濾過膜 ５ 下側の室 ６ 熱加水分解装置 ７ 上側の室 10 バイパス回路 11 リーク回路 18 フッ化水素溶液槽 19 水酸化ナトリウム
溶液槽 20 洗浄水槽
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 リシャール パツデジ フランス国 57210 メズィエール−レ− メッツリュ パストゥール 22 (72)発明者 レミー ニコル フランス国 78370 プレイシール リュ デ グラン ジャルダン 24
Claims (8)
- 【請求項１】 使用済み塩酸酸洗浴から水を除去して濃
縮した後に鉄化合物を回収して再循環する工程を含む鋼
製品の酸洗浴中に含まれるシリコン化合物を分離するた
めの分離装置の洗浄方法であって、濃縮された酸洗浴を
固／液分離して非イオン状態のシリコン化合物を分離し
て酸洗浴の１つの分画中でのシリコン化合物の濃度を上
げ、このシリコン化合物が濃縮された分画の少なくとも
大部分を再循環し濃縮して非イオン状態のシリコン化合
物の沈澱を促進するとともに、分離装置を定期的に洗浄
するために分離装置にフッ化水素酸溶液を循環させる洗
浄操作を含む洗浄方法において、 洗浄操作の前にアルカリ金属水酸化物溶液を分離装置内
に循環させることを特徴とする方法。 - 【請求項２】 アルカリ金属水酸化物溶液を濃度約0.5
〜10％の希釈液にする請求項１に記載の方法。 - 【請求項３】 フッ化水素溶液を濃度約0.5 〜10％の希
釈液にする請求項１または２に記載の方法。 - 【請求項４】 各洗浄操作の前後および洗浄操作の各段
階の間で分離装置を水でリンスする請求項１〜３のいず
れか一項に記載の方法。 - 【請求項５】 固／液分離操作をタンジェント型の精密
濾過装置で行う請求項〜４のいずれか一項に記載の方
法。 - 【請求項６】 固／液分離装置(3) を備えた塩酸酸洗浴
中のシリコン化合物を分離する分離装置において、フッ
化水素酸溶液とアルカリ金属水酸化物溶液を固／液分離
装置(3) に交互に循環させる手段（15，16，17，18，1
9，21，22，24，25，26，27，29，30）を備えているこ
とを特徴とする装置。 - 【請求項７】 フッ化水素溶液およびアルカリ金属水酸
化物溶液とリンス水とを交互に循環させる手段（20，2
3，28）を備えた請求項６に記載の装置。 - 【請求項８】 固／液分離装置(3) が少なくとも１つの
タンジェント型濾過膜を有する請求項６または７に記載
の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9203783A FR2689144B1 (fr) | 1992-03-25 | 1992-03-25 | Procede de nettoyage d'une installation de separation des composes de silicium contenus dans un bain de decapage chlorhydrique de produits en acier et dispositif pour sa mise en óoeuvre. |
| FR9203783 | 1992-03-25 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0610173A true JPH0610173A (ja) | 1994-01-18 |
Family
ID=9428208
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5090818A Withdrawn JPH0610173A (ja) | 1992-03-25 | 1993-03-25 | 鋼製品の塩酸酸洗浴に含まれるシリコン化合物を分離する装置の洗浄方法および設備 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0566514A1 (ja) |
| JP (1) | JPH0610173A (ja) |
| KR (1) | KR930019865A (ja) |
| AU (1) | AU3388493A (ja) |
| CA (1) | CA2092368A1 (ja) |
| FR (1) | FR2689144B1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6003008A (en) * | 1998-03-20 | 1999-12-14 | Skyteller L.L.C. | Point of sale device |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH585270A5 (en) * | 1974-01-23 | 1977-02-28 | Mueller Hans Maennedorf | Cleaning filters used with ammoniacal copper soln. - by treatment with dil. acid and then with alkali |
| DD126899A1 (ja) * | 1976-04-06 | 1977-08-17 | ||
| SU1583189A1 (ru) * | 1987-07-24 | 1990-08-07 | Предприятие П/Я М-5593 | Способ очистки сетчатого фильтра |
-
1992
- 1992-03-25 FR FR9203783A patent/FR2689144B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-03-01 EP EP93470007A patent/EP0566514A1/fr not_active Withdrawn
- 1993-03-02 AU AU33884/93A patent/AU3388493A/en not_active Abandoned
- 1993-03-24 CA CA002092368A patent/CA2092368A1/fr not_active Abandoned
- 1993-03-25 JP JP5090818A patent/JPH0610173A/ja not_active Withdrawn
- 1993-03-25 KR KR1019930004744A patent/KR930019865A/ko not_active Application Discontinuation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR930019865A (ko) | 1993-10-19 |
| AU3388493A (en) | 1993-09-30 |
| CA2092368A1 (fr) | 1993-09-26 |
| EP0566514A1 (fr) | 1993-10-20 |
| FR2689144B1 (fr) | 1994-05-06 |
| FR2689144A1 (fr) | 1993-10-01 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000530 |