JPH06100574A - Amide group-containing polydiorganosiloxane and its production - Google Patents

Amide group-containing polydiorganosiloxane and its production

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JPH06100574A
JPH06100574A JP25284692A JP25284692A JPH06100574A JP H06100574 A JPH06100574 A JP H06100574A JP 25284692 A JP25284692 A JP 25284692A JP 25284692 A JP25284692 A JP 25284692A JP H06100574 A JPH06100574 A JP H06100574A
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JP
Japan
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group
formula
compound
polydiorganosiloxane
amide group
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Application number
JP25284692A
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Japanese (ja)
Inventor
Toshio Suzuki
俊夫 鈴木
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NIPPON DOW CORNING KK
Original Assignee
NIPPON DOW CORNING KK
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Abstract

PURPOSE:To provide a novel compound having a silicon atom-bonded amide group on only one side of the compound. CONSTITUTION:The compound of formula I (R<1>-R<5> are monovalent hydrocarbon; R<6> is H, alkyl, etc.; (n) is 3-1000; (a),(b) are 0-3 and a+b=3). The compound of formula I is obtained by reacting a compound of formula II (X is halogen, H) with a compound of formula III (M is H, alkali metal, trialkylsilyl) in a solvent or in the absence of the solvent preferably at -25 to 150 deg.C. The compound of formula I includes a tetrasiloxane of formula: Vi(Me2SiO)3SiMe2N(Me) COMe.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は片方の末端のみにケイ素
原子に結合したアミド基を含有するポリジオルガノシロ
キサンおよびその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polydiorganosiloxane containing an amide group bonded to a silicon atom only at one end and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、アミドシリル基を含有するポリオ
ルガノシロキサンについては多くの化合物および製造方
法が提案されている。例えば、特開平1−125388
号公報には、Si−H基を有する化合物と有機アミドと
を白金触媒存在化反応させ、アミドシランおよびアミド
シロキサンを合成する方法が開示されている。また、米
国特許第3,488,371号には、ジハロシリコン化
合物と有機アミドとを特殊な第三アミン存在下で反応さ
せることにより、ジアミドシランを合成できることが記
載されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, many compounds and methods for producing polyorganosiloxanes containing amidosilyl groups have been proposed. For example, JP-A-1-125388
The publication discloses a method of synthesizing an amidosilane and an amidosiloxane by reacting a compound having a Si-H group and an organic amide in the presence of a platinum catalyst. Further, US Pat. No. 3,488,371 describes that a diamidosilane can be synthesized by reacting a dihalosilicon compound with an organic amide in the presence of a special tertiary amine.

【0003】しかしながら、これまでに報告されている
ケイ素原子結合アミド基含有ポリシロキサンは、1分子
中少なくとも2個のアミド基を有するものである。この
ため、これらのポリシロキサンを、活性水酸基を2個以
上有する化合物や水と反応させた場合、ゲル化や粘度の
異常な増大が起きてしまうという欠点があった。この欠
点を克服するためには、分子の片方の末端のみにケイ素
原子に結合したアミド基を有するポリジオルガノシロキ
サンが必要であるが、このようなポリマーはこれまで知
られていない。
However, the silicon atom-bonded amide group-containing polysiloxanes reported so far have at least two amide groups in one molecule. Therefore, when these polysiloxanes are reacted with a compound having two or more active hydroxyl groups or water, there is a drawback that gelation or abnormal increase in viscosity occurs. To overcome this drawback, polydiorganosiloxanes having amide groups bonded to silicon atoms on only one end of the molecule are required, but such polymers have not been known to date.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、分子
の片方の末端のみにケイ素原子に結合したアミド基を有
するポリジオルガノシロキサン、およびその製造方法を
提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a polydiorganosiloxane having a silicon atom-bonded amide group at only one end of the molecule, and a method for producing the same.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決すべく検討を重ねた結果、一般式
Means for Solving the Problems As a result of repeated studies to solve the above problems, the present inventors have found that

【0006】[0006]

【化5】 [Chemical 5]

【0007】で示されるアミド基含有ポリジオルガノシ
ロキサンの合成に成功した。ここで、R1 〜R5 は同種
又は異種の一価の炭化水素基であり、R6 は水素原子、
アルキル基、アルケニル基、ハロゲン化炭化水素基より
選択される基であり、nは3〜1000の整数であり、
aおよびbは0以上3以下の整数であり、a+bは3で
ある。
The amide group-containing polydiorganosiloxane represented by the following formula was successfully synthesized. Here, R 1 to R 5 are the same or different monovalent hydrocarbon groups, R 6 is a hydrogen atom,
It is a group selected from an alkyl group, an alkenyl group and a halogenated hydrocarbon group, n is an integer of 3 to 1000,
a and b are integers of 0 or more and 3 or less, and a + b is 3.

【0008】本発明によるポリジオルガノシロキサン
は、式(1)で示される構造を有する直鎖状ポリマーで
ある。ここにおいて、R1 CON(R2 )−で示される
アミド基が分子の片方の末端のみに結合していることが
特徴となる。この構造のために、活性水酸基を2個以上
有する化合物や水と反応した際に、ゲル化や粘度の異常
な増大を起こすことがない。
The polydiorganosiloxane according to the present invention is a linear polymer having a structure represented by the formula (1). Here, it is characterized in that the amide group represented by R 1 CON (R 2 ) — is bonded to only one end of the molecule. Due to this structure, when reacted with a compound having two or more active hydroxyl groups or water, gelation or abnormal increase in viscosity does not occur.

【0009】この式中、R1 〜R5 は同種又は異種の一
価炭化水素基であるが、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基などのアルキル
基;フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基な
どのアリール基;ビニル基、アリル基、プロペニル基、
ブテニル基などのアルケニル基;から選ばれる基などで
あるが、経済性の観点からはメチル基またはフェニル基
であることが好ましく、分子構造の制御の容易さの観点
からはこれらの基の大部分がメチル基であることが好ま
しい。
In this formula, R 1 to R 5 are the same or different monovalent hydrocarbon groups, but are alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group and hexyl group; phenyl group , Aryl groups such as tolyl group, xylyl group and mesityl group; vinyl group, allyl group, propenyl group,
A group selected from an alkenyl group such as butenyl group; and the like, a methyl group or a phenyl group is preferable from the economical viewpoint, and most of these groups are preferable from the viewpoint of easy control of the molecular structure. Is preferably a methyl group.

【0010】R6 は水素原子、アルキル基、アルケニル
基、ハロゲン化炭化水素基より選択される基であるが、
アルキル基とアルケニル基には上記の基が例示される。
ハロゲン化炭化水素基としては、クロロメチル基、クロ
ロプロピル基、トリフロロプロピル基が例示される。原
料となるポリシロキサンの合成の容易さの観点からは、
6 が水素分子、アルキル基またはアルケニル基である
ことが好ましい。
R 6 is a group selected from a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group and a halogenated hydrocarbon group,
The above groups are exemplified as the alkyl group and the alkenyl group.
Examples of the halogenated hydrocarbon group include a chloromethyl group, a chloropropyl group and a trifluoropropyl group. From the viewpoint of easiness of synthesis of polysiloxane as a raw material,
R 6 is preferably a hydrogen molecule, an alkyl group or an alkenyl group.

【0011】式(1)で示される化合物の重合度を示す
nは3以上1000以下の数であるが、これはnが2以
下であると沸点が低すぎて揮発性であり環境を汚染する
可能性があるからであり、1000以上であると分子量
が大きくなり過ぎて粘度が高くなり過ぎ、取り扱いが困
難になるからである。nは好ましくは3以上500以下
であり、さらに好ましくは3以上200以下である。
[0011] n, which indicates the degree of polymerization of the compound represented by the formula (1), is a number of 3 or more and 1000 or less, but when n is 2 or less, the boiling point is too low to be volatile and pollute the environment. This is because there is a possibility that the molecular weight will be too large and the viscosity will be too high, and handling will be difficult if the value is 1000 or more. n is preferably 3 or more and 500 or less, and more preferably 3 or more and 200 or less.

【0012】また、本発明によれば式(1)で示される
アミド基含有ポリジオルガノシロキサンの製造方法が提
供され、この方法では、一般式
Further, according to the present invention, there is provided a method for producing the amide group-containing polydiorganosiloxane represented by the formula (1), which comprises the general formula

【化6】 [Chemical 6]

【0013】で示されるポリジオルガノシロキサンと、
A polydiorganosiloxane represented by:
formula

【0014】[0014]

【化7】 [Chemical 7]

【0015】で示される化合物とを反応させる。The compound represented by is reacted.

【0016】上記式(2)、(3)中、R1 〜R6 は上
に詳述したとうりである。式(2)におけるXは水素原
子または塩素、臭素、ヨウ素、フッ素などのハロゲン原
子である。式(3)におけるMは水素原子またはリチウ
ム、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属、または
トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ジメチルエ
チルシリル基などのトリアルキルシリル基である。ここ
で、Xが水素原子の場合は、Mが水素原子またはトリア
ルキルシリル基であることが好ましく、Xがハロゲン原
子の場合はMは上に例示したいずれでもよい。
In the above formulas (2) and (3), R 1 to R 6 are as described in detail above. X in the formula (2) is a hydrogen atom or a halogen atom such as chlorine, bromine, iodine or fluorine. M in the formula (3) is a hydrogen atom or an alkali metal such as lithium, sodium or potassium, or a trialkylsilyl group such as a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group or a dimethylethylsilyl group. Here, when X is a hydrogen atom, M is preferably a hydrogen atom or a trialkylsilyl group, and when X is a halogen atom, M may be any of those exemplified above.

【0017】式(2)で示されるポリジオルガノシロキ
サンの製造方法に特に限定はない。例えば、分子の片方
の末端のみに硅素原子に結合した塩素原子を有する低分
子量ポリジオルガノシロキサンの製造方法は、Poly
mer第30巻333頁(1989年)に記載されてい
る。また、分子の片方の末端のみにSi−Hを有するポ
リジオルガノシロキサンの製造方法は、Polymer
J.第19巻1091頁(1987年)に記載されて
いる。
The method for producing the polydiorganosiloxane represented by the formula (2) is not particularly limited. For example, a method for producing a low molecular weight polydiorganosiloxane having a chlorine atom bonded to a silicon atom only at one end of the molecule is described in Poly.
mer, vol. 30, p. 333 (1989). Further, a method for producing a polydiorganosiloxane having Si-H only on one end of the molecule is described in Polymer.
J. Vol. 19, p. 1091 (1987).

【0018】式(2)で示されるポリジオルガノシロキ
サンと、式(3)で示される化合物との反応の際、適当
な触媒を用いることはしばしば良好な収率をもたらす。
例えば、式(2)におけるXが水素原子、式(3)にお
けるMも水素原子の場合、白金やロジウム等の遷移金属
触媒を用いるとよい。また、Xがハロゲン原子、Mが水
素原子の場合、副生するハロゲン化水素をトラップする
ための3級アミン等を添加することが推奨さる。Mがト
リアルキルシリル基の場合、特にトリメチルシリル基の
場合、副生するトリメチルシラン(Xが水素原子)やト
リメチルクロロシラン(Xが塩素原子)は低沸点の化合
物なので、蒸留により簡単に除去できる。
In the reaction of the polydiorganosiloxane of formula (2) with the compound of formula (3), using a suitable catalyst often results in good yields.
For example, when X in the formula (2) is a hydrogen atom and M in the formula (3) is also a hydrogen atom, a transition metal catalyst such as platinum or rhodium may be used. Further, when X is a halogen atom and M is a hydrogen atom, it is recommended to add a tertiary amine or the like for trapping a hydrogen halide produced as a by-product. When M is a trialkylsilyl group, particularly when it is a trimethylsilyl group, trimethylsilane (X is a hydrogen atom) and trimethylchlorosilane (X is a chlorine atom), which are by-products, have a low boiling point and can be easily removed by distillation.

【0019】これらの反応の際の反応温度は、室温、冷
却下、加温下のいずれでもよく、反応圧力も常圧、減
圧、加圧下のいずれで行なってもよい。反応温度に関し
ては、通常は−80℃から200℃の範囲で反応が行な
われ、好ましくは−25℃から150℃の範囲である。
特に副生する化合物を除去しながら反応させる場合に
は、副生する化合物の沸点以上で反応させるのが好まし
い。
The reaction temperature for these reactions may be room temperature, cooling or heating, and the reaction pressure may be normal pressure, reduced pressure or increased pressure. Regarding the reaction temperature, the reaction is usually performed in the range of -80 ° C to 200 ° C, and preferably in the range of -25 ° C to 150 ° C.
In particular, when the reaction is carried out while removing the by-product compound, it is preferable to carry out the reaction at the boiling point of the by-product compound or higher.

【0020】これらの合成反応は適当な溶媒中、あるい
無溶媒で行うことができる。溶媒としては原料化合物と
生成ポリマーを良好に溶解し、反応に悪影響を与えない
溶媒であればなんら制限はない。溶媒としては次のもの
が例示される。ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタ
ンなどの脂肪族炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレ
ンなどの芳香族炭化水素;ジエチルエーテル、ジブチル
エーテル、ジフェニルエーテル、ジオキサン、テトラヒ
ドロフランなどのエーテル系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブ
チルなどのエステル系溶媒;アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルブチルケトンなどのケトン系溶媒;四塩化
炭素、クロロフォルム、トリクロロエタン、トリクロロ
エチレン、テトラクロロエチレンなどのハロゲン化溶
媒;ジメチルフォルムアミド;ジメチルスルフォキシ
ド;燐酸ヘキサメチルトリアミド。
These synthetic reactions can be carried out in a suitable solvent or without solvent. The solvent is not particularly limited as long as it can dissolve the raw material compound and the produced polymer well and does not adversely affect the reaction. Examples of the solvent include the following. Aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane, heptane, octane; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene; Ether solvents such as diethyl ether, dibutyl ether, diphenyl ether, dioxane, tetrahydrofuran; Ethyl acetate, butyl acetate, etc. Ester-based solvents; ketone-based solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl butyl ketone; halogenated solvents such as carbon tetrachloride, chloroform, trichloroethane, trichloroethylene, and tetrachloroethylene; dimethylformamide; dimethyl sulfoxide; hexamethyltriamide phosphate.

【0021】[0021]

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明する。例
中、平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフ
ィー(GPC)により、標準ポリジメチルシロキサンを
用いて得られた値を示す。 1HNMRとあるのは、プロ
トン核磁気共鳴分光法のことであり、29SiNMRとあ
るのは、シリコン29核磁気共鳴分光法のことである
(双方ともテトラメチルシランを標準とし、0ppm とす
る)。Meとあるのはメチル基、Viとあるのはビニル
基、Buとあるのはブチル基のことである。
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples. In the examples, the average molecular weight is a value obtained by gel permeation chromatography (GPC) using standard polydimethylsiloxane. 1 HNMR means proton nuclear magnetic resonance spectroscopy, 29 SiNMR means silicon 29 nuclear magnetic resonance spectroscopy (both have tetramethylsilane as standard and 0 ppm) . Me is a methyl group, Vi is a vinyl group, and Bu is a butyl group.

【0022】実施例1 フラスコに式Vi(Me2 SiO)3SiMe2 Clで示
されるテトラシロキサン42g(0.12モル)、N−
トリメチルシリル−N−メチルアセトアミド22g
(0.15モル)を投入し、室温で攪拌した。穏やかな
発熱反応がおさまった後、反応混合物を60℃で1時間
加熱攪拌した。減圧蒸留により副生するトリメチルクロ
ロシランおよび未反応のアミドを除去すると、透明な液
体が得られた。
Example 1 42 g (0.12 mol) of tetrasiloxane of the formula Vi (Me 2 SiO) 3 SiMe 2 Cl, N-
Trimethylsilyl-N-methylacetamide 22 g
(0.15 mol) was added and the mixture was stirred at room temperature. After the mild exothermic reaction subsided, the reaction mixture was heated with stirring at 60 ° C. for 1 hour. Removal of trimethylchlorosilane by-product and unreacted amide by distillation under reduced pressure gave a transparent liquid.

【0023】1HNMR分析によれば、得られた化合物
はビニル基(6.1〜5.8ppm )、N−メチルアセト
アミド基(2.7ppm と2.0ppm )およびケイ素に結
合したメチル基(0.2〜0.0ppm )を有し、29Si
NMR分析によれば、ジメチルビニルシリル基(−3.
8ppm )、ジメチルシロキサン単位(−20.8pp
m)、N−メチルアセトアミドジメチルシリル基(−
7.2ppm )を有することが判明した。さらにガスクロ
マトグラフィーや質量分析の結果から、得られた化合物
は式Vi(Me2 SiO)3SiMe2 N(Me)COM
eで示される、片方の末端にアミド基を有するテトラシ
ロキサンであることが判明した。
According to 1 HNMR analysis, the obtained compound was found to have a vinyl group (6.1 to 5.8 ppm), an N-methylacetamide group (2.7 ppm and 2.0 ppm) and a silicon-bonded methyl group (0 .2 to 0.0 ppm), and 29 Si
According to NMR analysis, a dimethylvinylsilyl group (-3.
8ppm), dimethylsiloxane unit (-20.8pp
m), N-methylacetamide dimethylsilyl group (-
It was found to have 7.2 ppm). Further, from the results of gas chromatography and mass spectrometry, the obtained compound was represented by the formula Vi (Me 2 SiO) 3 SiMe 2 N (Me) COM.
It was found to be a tetrasiloxane represented by e and having an amide group at one end.

【0024】実施例2 フラスコにヘキサメチルシクロトリシロキサン52g
(0.23モル)とテトラヒドロフラン52gを投入
し、室温で攪拌した。この溶液にブチルリチウムのヘキ
サン溶液(2.6M)を8.6ml(0.022モル)を
投入し、室温で反応させた。1時間40分経過した時点
でヘキサメチルシクロトリシロキサンの転化率が86%
になったので、この反応溶液をジメチルジクロロシラン
13g(0.1モル)とテトラヒドロフラン10gの入
ったフラスコに攪拌しながら5分間かけて投入した。減
圧蒸留により溶媒および未反応物を除去し、塩化リチウ
ムを濾過により除去すると、透明な液体が得られた。G
PCおよび29SiNMR分析により、得られたポリマー
は平均式Bu(Me2 SiO)27 SiMe2 Clで示さ
れるポリジメチルシロキサンであることが判明した。
Example 2 52 g of hexamethylcyclotrisiloxane in a flask
(0.23 mol) and 52 g of tetrahydrofuran were added, and the mixture was stirred at room temperature. 8.6 ml (0.022 mol) of a hexane solution of butyl lithium (2.6 M) was added to this solution, and the mixture was reacted at room temperature. After 1 hour and 40 minutes, the conversion rate of hexamethylcyclotrisiloxane was 86%.
Therefore, the reaction solution was put into a flask containing 13 g (0.1 mol) of dimethyldichlorosilane and 10 g of tetrahydrofuran over 5 minutes while stirring. The solvent and unreacted materials were removed by vacuum distillation, and lithium chloride was removed by filtration to obtain a transparent liquid. G
PC and 29 Si NMR analysis revealed that the polymer obtained was a polydimethylsiloxane of the average formula Bu (Me 2 SiO) 27 SiMe 2 Cl.

【0025】このポリジメチルシロキサン30g(0.
014モル)、N−トリメチルシリル−N−メチルアセ
トアミド4.6g(0.03モル)を投入し、50℃で
2時間加熱攪拌した。減圧蒸留により副生するトリメチ
ルクロロシランおよび未反応アミドを除去すると、透明
な液体が得られた。
30 g of this polydimethylsiloxane (0.
014 mol) and N-trimethylsilyl-N-methylacetamide (4.6 g, 0.03 mol) were added, and the mixture was heated with stirring at 50 ° C. for 2 hours. Removal of trimethylchlorosilane and unreacted amide by-produced by vacuum distillation gave a transparent liquid.

【0026】1HNMR分析によれば、得られた化合物
はブチル基(1.3〜0.5ppm )、N−メチルアセト
アミド基(2.8ppm と2.0ppm )およびケイ素に結
合したメチル基(0.3〜0.0ppm )を有し、29Si
NMR分析によれば、ジメチルブチルシリル基(7.6
ppm )、ジメチルシロキサン単位(−21.1ppm )、
N−メチルアセトアミドジメチルシリル基(−7.2pp
m )を有することが判明した。さらにGPC分析の結果
(Mn:2100、Mw:2600)から、得られたポ
リマーは式Bu(Me2 SiO)27SiMe2 N(M
e)COMeで示されるポリジメチルシロキサンである
ことが判明した。
According to 1 HNMR analysis, the obtained compound had a butyl group (1.3 to 0.5 ppm), an N-methylacetamide group (2.8 ppm and 2.0 ppm) and a silicon-bonded methyl group (0 .3 to 0.0 ppm), and 29 Si
According to NMR analysis, a dimethylbutylsilyl group (7.6
ppm), dimethylsiloxane unit (-21.1 ppm),
N-methylacetamide dimethylsilyl group (-7.2pp
m). Furthermore, from the result of GPC analysis (Mn: 2100, Mw: 2600), the obtained polymer was found to have the formula Bu (Me 2 SiO) 27 SiMe 2 N (M
e) It was found to be a polydimethylsiloxane represented by COMe.

【0027】実施例3 フラスコに実施例2における中間体である平均式Bu
(Me2 SiO)27Me 2 SiClで示されるポリジメ
チルシロキサンを30g(0.014モル)、テトラヒ
ドロフラン50g、N−メチルアセトアミドのナトリウ
ム塩1.4g(0.014モル)を投入し、24時間リ
フラックスさせた。蒸留により溶媒を除去、濾過により
塩化ナトリウムを除去すると、透明な液体が得られた。
1H、29SiNMRおよびGPC分析によれば、得られ
たポリマーは実施例2で得られたものと全く同一である
ことが判明した。
Example 3 The average formula Bu which is the intermediate in Example 2 was added to the flask.
(Me2SiO)27Me 2Polydimethl represented by SiCl
30 g (0.014 mol) of tyl siloxane
50 g of drofuran, N-methylacetamide of sodium
Add 1.4 g (0.014 mol) of salt for 24 hours.
Fluxed. Remove solvent by distillation and filter
Removal of sodium chloride gave a clear liquid.
1H,29According to SiNMR and GPC analysis,
The polymer obtained is exactly the same as that obtained in Example 2.
It has been found.

【0028】[0028]

【発明の効果】以上説明したように、式(1)で示され
るポリジオルガノシロキサンは新規な化合物であり、末
端のアミドシリル基の活性水酸基に対する反応性を利用
した、反応性ポリマー、例えば親水性化合物の疎水化
剤、ポリオール化合物へのポリシロキサンのグラフト剤
として非常に有用なものである。また、本発明の製造方
法により、式(1)に示される新規なポリジオルガノシ
ロキサンが合成される。
As described above, the polydiorganosiloxane represented by the formula (1) is a novel compound, and a reactive polymer such as a hydrophilic compound utilizing the reactivity of the terminal amidosilyl group with the active hydroxyl group. It is very useful as a hydrophobizing agent and a grafting agent of polysiloxane onto a polyol compound. Moreover, the novel polydiorganosiloxane represented by the formula (1) is synthesized by the production method of the present invention.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一般式: 【化1】 (式中、R1 ,R2 ,R3 ,R4 ,R5 は同種又は異種
の一価の炭化水素基であり、R6 は水素原子、アルキル
基、アルケニル基、ハロゲン化炭化水素基より選択され
る基であり、nは3〜1000の整数であり、aおよび
bは0以上3以下の整数であり、a+bは3である。)
で示されるアミド基含有ポリジオルガノシロキサン。
1. A general formula: (In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , and R 5 are the same or different monovalent hydrocarbon groups, and R 6 is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, or a halogenated hydrocarbon group. It is a group selected, n is an integer of 3 to 1000, a and b are integers of 0 or more and 3 or less, and a + b is 3.)
An amide group-containing polydiorganosiloxane represented by:
【請求項2】R1 〜R5 がメチル基であり、R6 がビニ
ル基またはブチル基であることを特徴とする、請求項1
に記載のアミド基含有ポリジオルガノシロキサン。
2. R 1 to R 5 are methyl groups, and R 6 is a vinyl group or a butyl group.
An amide group-containing polydiorganosiloxane according to item 1.
【請求項3】一般式 【化2】 (式中、R3 〜R6 ,n,a,bは前記と同じ意味であ
り、Xはハロゲン原子または水素原子である。)で示さ
れるポリジオルガノシロキサンと、式 【化3】 (式中、R1 ,R2 は前記と同じ意味であり、Mは水素
原子、アルカリ金属またはトリアルキルシリル基であ
る。)で示される化合物とを反応させることを特徴とす
る、一般式 【化4】 (式中、R1 〜R6 ,n,a,bは前記と同じ意味であ
る。)で示されるアミド基含有ポリジオルガノシロキサ
ンの製造方法。
3. A general formula: (Wherein R 3 to R 6 , n, a, and b have the same meanings as described above, and X is a halogen atom or a hydrogen atom), and a polydiorganosiloxane represented by the formula: (Wherein R 1 and R 2 have the same meanings as described above, and M is a hydrogen atom, an alkali metal or a trialkylsilyl group.) And the compound represented by the general formula: Chemical 4] (In the formula, R 1 to R 6 , n, a, and b have the same meanings as described above.) A method for producing an amide group-containing polydiorganosiloxane.
【請求項4】Xが塩素原子、Mがトリメチルシリル基ま
たはナトリウムであることを特徴とする、請求項3に記
載のアミド基含有ポリジオルガノシロキサンの製造方
法。
4. The method for producing an amide group-containing polydiorganosiloxane according to claim 3, wherein X is a chlorine atom and M is a trimethylsilyl group or sodium.
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