JPH06100531A - アミドペルオキシ酸化合物、基質漂白方法、及び汚れ落とし組成物 - Google Patents

アミドペルオキシ酸化合物、基質漂白方法、及び汚れ落とし組成物

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JPH06100531A
JPH06100531A JP5074310A JP7431093A JPH06100531A JP H06100531 A JPH06100531 A JP H06100531A JP 5074310 A JP5074310 A JP 5074310A JP 7431093 A JP7431093 A JP 7431093A JP H06100531 A JPH06100531 A JP H06100531A
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JP5074310A
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Janet Lynn Coope
ジヤネツト・リン・クーペ
Robert William Riley Humphreys
ロバート・ウイリアム・ライリー・ハンフリーズ
Stephen A Madison
ステイーブン・アラン・マデイソン
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【構成】 式 〔Rはアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン
基及びこれらの組み合わせの中から選択され、R1及び
2はH、アルキル基、アリール基、並びにR3及び両窒
素と共に環を形成し得る基の中から互いに独立に選択さ
れ、R3はアルキレン基、シクロアルキレン基及びアリ
ーレン基の中から選択され、n及びn′;m及びm′は
互いの和が1となるように選択された整数であり、Mは
H、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム及
びアルカノールアンモニウムカチオン及び基並びにこれ
らの組み合わせの中から選択される〕を有するアミドペ
ルオキシ酸化合物。 【効果】 これらの化合物は、漂白活性と貯蔵安定性に
優れている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なアミドペルオキ
シカルボン酸とその漂白剤としての使用、特に繊維製品
の汚れ落としにおける漂白剤としての使用に係わる。
【0002】
【従来の技術】有機ペルオキシ酸が優れた漂白活性を有
することは以前から知られている。例えば米国特許第
4,642,198号(Humphreys等)には、
pH値の小さい水性液体中に懸濁させるべく企図された
様々な非水溶性有機ペルオキシ酸が開示されている。好
ましいペルオキシ物質は1,12−ジペルオキシドデカ
ンジオン酸(DPDA)である。この特許では、ペルオ
キシ酸粒子のための懸濁剤としてアニオン界面活性剤と
ノニオン界面活性剤との両方が用いられた。10%の界
面活性剤が配合された場合、過酸は貯蔵条件下に優れた
安定性を有した。組成物の界面活性剤レベルを、重質洗
濯洗剤で典型的なレベルである22%に上げると、DP
DAの半減期は甚だしく短くなった。例えば米国特許第
4,992,194号(Liberti等)は、温度4
0℃ではpH4〜4.5の重質洗濯洗剤液体中のDPD
Aの半減期は1〜2週間でしかなかったと報告してい
る。
【0003】別の有効な過酸に、ヨーロッパ特許第0
267 175号(Dyroff等)において優れた貯
蔵安定性を有すると報告されている4,4′−スルホニ
ルビスペルオキシ安息香酸(SBPB)が有る。米国特
許第4,822,510号(Madison等)には、
水性液状漂白組成物中でSBPBの安定性がDPDAの
安定性に優ることが明示されている。
【0004】米国特許第4,634,551号(Bur
ns等)及び同第4,686,063号(Burns)
には、疎水性の主鎖沿いに極性アミド結合を有するペル
オキシ酸が開示されている。この物質は、ホウ酸または
尿素である発熱調節剤で安定化されている。様々なn−
アシルアミノペルオキシ酸及びアルキルアミノオキソペ
ルオキシ酸が詳細に説明されている。ここに報告されて
いる物質はいずれも一過カルボン酸である。関連するヨ
ーロッパ特許第0 349 220号(P&G)は、ア
ミドペルオキシ酸の貯蔵安定性改善のためにリン酸塩緩
衝液を用い、かつpH値を約3.5〜6とすることを示
唆している。
【0005】ヨーロッパ特許第0 349 940号
(Hoechst AG)には、N−フタロイルアミノ
ペルオキシカプロン酸(PAP)を始めとする一連のイ
ミドペルオキシ酸が開示されている。イミドペルオキシ
カルボン酸の水性系中への懸濁は、ヨーロッパ特許第0
435 379号(Akzo N.V.)に報告され
ているようにアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウムの
使用によって実現される。ヨーロッパ特許第0 347
724号(Ausimont)に述べられている関連
技術は、N−アシル−ピペリジン過カルボン酸などの複
素環過酸を開示している。国際特許出願公開第90/1
4336号(Interox)には、6,6′−テレフ
タル−ジ(アミドペルオキシヘキサン)酸及び6,6′
−フマリルビス(アミドペルオキシヘキサン)酸が開示
されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】アミド及びイミドペル
オキシ酸の多くはきわめて著しい漂白活性を有するが、
それらの界面活性剤溶液中での安定性にはなお重大な問
題が存在する。明らかに、特に液状重質洗濯洗剤用に設
計された新規な過酸が必要とされている。そのような物
質には、熱及び衝撃に対する感受性の点で、また貯蔵安
定性の点で物理的に安定であることも求められる。
【0007】
【課題を解決するための手段】本願出願人は、水性媒質
中に懸濁した時有効な漂白活性と優れた貯蔵安定性とを
示す一群のペルオキシカルボン酸を見いだした。これら
のペルオキシカルボン酸は、完全配合済み重質洗剤組成
物中に容易に用いられ得る。
【0008】従って本発明は、式
【0009】
【化4】
【0010】〔式中RはC1〜C12アルキレン基、C5
12シクロアルキレン基、C6〜C12アリーレン基及び
これらの組み合わせの中から選択され、R1及びR2
H、C1〜C16アルキル基、C6〜C12アリール基、並び
にR3及び両窒素と共にC3〜C12環を形成し得る基の中
から互いに独立に選択され、R3はC1〜C12アルキレン
基、C5〜C12シクロアルキレン基及びC6〜C12アリー
レン基の中から選択され、その際R3がアリーレン基で
あり、かつn′及びm′がいずれも0である時はRはC
5アルキレン基以外であり、n及びn′は互いの和が1
となるように選択された整数であり、m及びm′は互い
の和が1となるように選択された整数であり、MはH、
アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム及びア
ルカノールアンモニウムカチオン及び基並びにこれらの
組み合わせの中から選択される〕を有するアミドペルオ
キシ酸化合物を提供する。
【0011】上記一般式(I)は、特に有利な2種の構
造サブカテゴリーを包含する。特に有利なサブ構造とは
次のような構造である。
【0012】
【化5】
【0013】〔上記式中のR1、R2及びR3は式(I)
の場合と同様に定義する〕。
【0014】サブ構造(II)を有する特に好ましい化
合物は次のものである。
【0015】
【化6】
【0016】サブ構造(III)を有する特に好ましい
化合物は次のものである。
【0017】
【化7】
【0018】本発明による化合物の合成は、二官能性ア
ミンと酸とを縮合させて、ジアミド部分によって結合さ
れた二酸またはジエステルを製造することで実施可能で
ある。上記のような化学的操作を用いて、様々なジアミ
ンを2当量のテレフタル酸及びアジピン酸の一酸塩化物
モノエステルと縮合させることによって幾つかの新規な
ジアミドジエステルを得た。同様に、4−アミノ安息香
酸を二酸塩化物と縮合させてジアミド二酸を得た。試み
た幾つかの組み合わせを表Iに示す。
【0019】
【表1】 表I ジアミドジエステル をもたらす縮合の組み合わせ 酸誘導体 アミン誘導体 4-カルボメトキシベンゾイルクロリド エチレンジアミン 同上 ブタンジアミン 同上 ピペラジン 同上 トランス-1,4-ジアミノシクロ ヘキサン 同上 1,4-フェニレンジアミン 同上 1,2-フェニレンジアミン カルボエトキシアジポイルクロリド 1,4-フェニレンジアミン 同上 エチレンジアミン 塩化スクシノイル 4-アミノ安息香酸 塩化テレフタロイル 同上 ジアミンと酸塩化物との縮合は、室温でジアミン及び過
剰量の炭酸カリウムの水溶液に酸塩化物のトルエン溶液
を滴下し加えることによって実現できる。得られるジア
ミドは二相の反応媒体から析出する。
【0020】本発明の目的からして、イミド構造は本発
明に含まれない。
【0021】水に対して特別の感受性を有する系のため
には第二の方法が用いられ得る。この方法では、アミン
及び酸塩化物をクロロホルムに溶解させて無水的に調製
する。塩化水素を除去する塩基としてピリジンまたはト
リエチルアミンが用いられ得る。この操作は、SDPC
A及び1,2−PCBPDなどの化合物の製造に特に有
用である。多くのアミドの製造に2種以上の方法を有利
に用いることができる。
【0022】ジアミドジエステルまたはジアミド二酸の
ジペルオキシ酸への変換は、Swern et a
l., Org. Synth. 43, pp. 9
3−96(1963)及び米国特許第3,180,88
6号に概説されている標準的な操作を用いて実現でき
る。普通はメタンスルホン酸に完全に溶解するジエステ
ルまたは二酸を室温で3〜5時間、6〜9モル当量の7
0%または90%過酸化水素で処理し得る。芳香族カル
ボン酸エステルから過酸への変換率は60〜80%以上
となり得る。脂肪族エステルの変換率は普通更に優れて
おり、90%以上という高率である。
【0023】本発明のアミドペルオキシ酸を汚れ落とし
組成物に含有させる場合、その濃度は約1〜約40重量
%、好ましくは約1.5〜約15重量%、最も好ましく
は約2〜約5重量%とする。
【0024】本発明によるペルオキシ酸漂白剤系を含有
する洗剤組成物は普通、界面活性剤及び洗浄力ビルダー
も含有する。組成物が液状である場合、界面活性剤は汚
れ落としに有用であるのみでなく、構造化系として非水
溶性のアミドペルオキシ酸を水または他の任意の溶剤キ
ャリヤ中に懸濁させるのに重要な機能を果たす。重質洗
濯用液体の場合、pH調整系、及び好ましくは解膠ポリ
マーを含有することも重要である。
【0025】界面活性剤物質は、アニオン、ノニオン、
両性、双性及びカチオン界面活性剤並びにこれらの混合
物の中から選択された、石鹸などの天然由来物質または
合成物質であり得る。多くの適当な界面活性剤が市販さ
れており、かつ例えばSchwartz, Perry
and Berch, “Surface Acti
ve Agents and Detergent
s”, Vols.I and IIなどの文献に詳細
に紹介されている。界面活性剤物質の合計のレベルは組
成物の50重量%以下であり得、好ましくは約1〜約4
0重量%、最も好ましくは4〜25重量%である。
【0026】合成アニオン界面活性剤は普通、炭素原子
約8〜約22個のアルキル基を有する有機硫酸及びスル
ホン酸の水溶性アルカリ金属塩であり、前記“アルキ
ル”という語は高級アリール基のアルキル部分をも包含
するものとして用いる。
【0027】適当なアニオン洗剤化合物の例には、アル
キル硫酸ナトリウム及びアンモニウム、特に獣脂やヤシ
油などから製造した高級(C8〜C18)アルコールの硫
酸化によって得られるもの;アルキル(C9〜C20)ベ
ンゼンスルホン酸ナトリウム及びアンモニウム、特に直
鎖第二級アルキル(C10〜C15)ベンゼンスルホン酸ナ
トリウム;アルキルグリセリルエーテル硫酸ナトリウ
ム、特にエーテルが獣脂やヤシ油に由来する高級アルコ
ール、及び石油に由来する合成アルコールのエーテルで
あるもの;ヤシ油脂肪酸モノグリセリド硫酸及びスルホ
ン酸ナトリウム;高級(C9〜C18)脂肪アルコール−
酸化アルキレンの硫酸エステルのナトリウム及びアンモ
ニウム塩、特に酸化エチレン反応生成物;ヤシ油脂肪酸
などの脂肪酸をイセチオン酸でエステル化し、かつ水酸
化ナトリウムで中和して得られる反応生成物;メチルタ
ウリンの脂肪酸アミドのナトリウム及びアンモニウム
塩;α−オレフィン(C8〜C20)を重亜硫酸ナトリウ
ムと反応させることによって、またパラフィンをSO2
及びCl2と反応させてから塩基で加水分解してランダ
ムスルホン酸塩を生成させることによって得られるよう
なアルカンモノスルホン酸塩;C7〜C12ジアルキルス
ルホ琥珀酸ナトリウム及びアンモニウム;及びオレフィ
ンスルホン酸塩が含まれる。“オレフィンスルホン酸
塩”という語は、オレフィン、特にC10〜C20α−オレ
フィンをSO3と反応させ、得られた反応生成物を中和
及び加水分解することによって製造される物質の意味で
用いる。好ましいアニオン性洗剤化合物は、(C11〜C
15)アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、(C16
18)アルキル硫酸ナトリウム及び(C16〜C18)アル
キルエーテル硫酸ナトリウムである。
【0028】アニオン界面活性剤化合物と共に好ましく
用いられ得る適当なノニオン界面活性剤化合物の例には
特に、普通エチレンオキシドであるアルキレンオキシド
とアルキル(C6〜C22)フェノールとの反応生成物で
通常2〜25EOであるもの、即ち1分子当たり2〜2
5単位のエチレンオキシドを有するもの;脂肪族(C8
〜C18)第一級または第二級直鎖または分枝鎖アルコー
ルとエチレンオキシドとの縮合物で通常2〜30EOで
あるもの;及びエチレンオキシドをプロピレンオキシド
とエチレンジアミンとの反応生成物と縮合させて得られ
る生成物が含まれる。その他のいわゆるノニオン界面活
性剤として、アルキルポリグリコシド、長鎖第三級アミ
ンオキシド、長鎖第三級ホスフィンオキシド並びにジア
ルキルスルホキシドなどが挙げられる。
【0029】本発明のアミドペルオキシ酸を含有する本
発明の組成物中には所与量の両性または双性界面活性剤
化合物も用いられ得るが、該化合物は比較的高価である
のでその使用は通常望ましくない。何等かの両性または
双性洗剤化合物が用いられる場合は通常、該化合物より
はるかに普通に用いられる合成アニオン及びノニオン界
面活性剤を主に含有する組成物中に少量用いられる。
【0030】本発明の洗剤組成物は通常、洗浄力ビルダ
ーも含有する。ビルダー物質は、(1)カルシウム金属
イオン封鎖物質、(2)沈澱化物質、(3)カルシウム
イオン交換物質、及び(4)これらの混合物の中から選
択され得る。
【0031】本発明の組成物は特に、トリポリリン酸ナ
トリウム及びカリウム、ピロリン酸ナトリウム及びカリ
ウム、オルトリン酸ナトリウム及びカリウム、炭酸ナト
リウム、ニトリロ三酢酸のナトリウム塩、クエン酸ナト
リウム、カルボキシメチルマロン酸ナトリウム、カルボ
キシメチルオキシ琥珀酸ナトリウム、酒石酸ナトリウ
ム、モノ及びジ琥珀酸ナトリウム、オキシジ琥珀酸ナト
リウム、結晶質及び非晶質アルミノケイ酸ナトリウム、
並びにこれらの混合物などの有機及び無機ビルダー物質
のうちのいずれか任意のものを含有し得る。
【0032】ポリカルボン酸ホモ及びコポリマーもビル
ダーとして添加され得、このポリマーは粉末構造化剤も
しくは加工助剤として機能する。特に好ましいのは、ポ
リアクリル酸[Rohm and Haas Comp
anyから入手可能なAcrysol(商標)]、並び
にアクリル酸−マレイン酸コポリマー[BASF Co
rporationから入手可能なSokalan(商
標)]及びそれらのアルカリ金属塩またはその他の塩で
ある。
【0033】カルシウムイオン交換ビルダー物質の例に
は様々な種類の非水溶性結晶質または非晶質アルミノケ
イ酸塩が含まれ、それらのうちで最も良く知られている
代表例がゼオライトで、例えばゼオライトA、(ゼオラ
イトPとしても知られている)ゼオライトB、ゼオライ
トC、ゼオライトX、ゼオライトY、またヨーロッパ特
許出願公開第0,384,070号に開示されたP型ゼ
オライトなどである。
【0034】これらのビルダー物質は、例えば1〜80
重量%、好ましくは10〜60重量%のレベルで存在し
得る。
【0035】洗浄水中への分散の際、ペルオキシ酸の初
期量は、水1l当たり約0.05〜約250ppmほ
ど、好ましくは約1〜50ppmの活性酸素をもたらす
量であるべきである。界面活性剤は洗浄水中に、約0.
05〜1.0g/l、好ましくは0.15〜0.20g
/lの量で存在するべきである。ビルダーが存在する場
合、その量は約0.1〜3.0g/lとなる。
【0036】液状重質洗濯洗剤の場合、pH“飛躍系”
として知られるpH調整系を用いることが有利である。
有機ペルオキシ酸漂白剤はpHが低い(3〜6)時最も
安定であるが、該漂白剤が漂白剤として最も有効である
のはpHが適度にアルカリ寄り(7〜9)の溶液中にお
いてであることは良く知られている。pH値を必要な範
囲内に留めるべくpH飛躍系が用いられ得、この系は製
品のpH値を、過酸が安定であるように低く維持する
が、洗浄水中では漂白及び洗浄が有効に行なわれるよう
に適度に高め得る。このような系の一つにホウ砂(10
2O)/ポリオールが有る。ホウ酸塩イオンと或る種
のシス−1,2−ポリオールとの錯体は濃縮時、pH値
の低下を惹起する。この錯体は稀釈時には解離して遊離
ホウ酸塩を放出し、pH値を上昇させる。ホウ酸塩との
このような錯形成機構を示すポリオールの例として、カ
テコール、ガラクチトール、フルクトース、ソルビトー
ル及びピナコールなどが挙げられる。経済的理由から、
好ましいポリオールはソルビトールである。6未満の望
ましい濃縮物pHが達成されるためには普通、ポリオー
ル対ホウ砂の比が約1:1より大きくなければならな
い。従って、ホウ砂を好ましい比率で用いることが普通
必要となる。好ましいポリオール対ホウ砂比は約1:1
から約10:1ほどであるべきである。ホウ酸、酸化ホ
ウ素、オルトまたはピロホウ酸ナトリウムを含むホウ砂
などのホウ酸塩化合物も、ホウ酸塩成分として適当であ
り得る。好ましくは、pH飛躍系は1〜40重量%の量
で存在する。
【0037】本発明の液状重質洗濯洗剤組成物の別の有
利な成分に、解膠ポリマーが有る。解膠剤は普通、親水
性モノマーと疎水性モノマーとのコポリマーを用いて製
造される。適当なポリマーは、無水マレイン酸、アクリ
ル酸、メタクリル酸、またはエチレンもしくはスチレン
スルホン酸塩等のようなその他の親水性モノマーと、疎
水基で官能化された類似モノマーとの共重合によって得
られる。上記疎水基には、脂肪アルコールのアミド、エ
ステル及びエーテルまたは脂肪アルコールエトキシル化
物が含まれる。脂肪アルコール及びエトキシル化物にく
わえて、オレフィンやアルキルアリール基といった他の
疎水基を用いることも可能である。重要であるのは、得
られるコポリマーが許容可能な酸化安定性を有するこ
と、及び該コポリマーがラメラ液滴と相互に作用する疎
水基と、構造化液体の親水基とを有して前記液滴の凝集
を防止し、それによって物理的不安定化及び製品分離を
防止することである。実用上、アクリル酸とメタクリル
酸ラウリルとのコポリマー(分子量3800)が0.5
〜1%のレベルで有効であることが判明した。これらの
物質については、本明細書に参考として含まれる米国特
許第4,992,194号(Liberati等)に、
より詳細な記述が有る。
【0038】既に言及した諸成分以外に、本発明の洗剤
組成物は任意の通常の添加物を、当該物質が洗剤組成物
中に通常用いられる量で含有し得る。そのような添加物
の例には、アルカノールアミド、特にパーム核脂肪酸及
びヤシ油脂肪酸由来のモノエタノールアミドなどの起泡
増進剤、アルキルホスフェート及びシリコーンなどの消
泡剤、ナトリウムカルボキシメチルセルロース及びアル
キルまたは置換アルキルセルロースエーテルなどの再付
着防止剤、エチレンジアミン四酢酸などのその他の安定
剤、繊維製品柔軟剤、硫酸ナトリウムなどの無機塩、並
びに普通非常に僅かな量で存在する蛍光増白剤、香料、
プロテアーゼ、セルラーゼ、リパーゼ、アミラーゼとい
った酵素、殺菌剤及び着色剤が含まれる。
【0039】本発明によるアミドペルオキシ酸は様々な
汚れ落とし製品において有用である。上記汚れ落とし製
品とは、洗濯洗剤、洗濯漂白剤、硬質面洗浄剤、便器洗
浄剤、自動食器洗浄用組成物、更には義歯洗浄剤などで
ある。本発明のペルオキシ酸は、シートその他の支持体
に支持された粉末を含めた様々な製品形態で、パウチに
入れたり、錠剤や、液状ノニオン性洗剤などの非水性液
体に添加したりされ得る。
【0040】
【実施例】以下の非限定的実施例によって、本発明を更
に詳述する。本明細書の本文及び特許請求の範囲各項に
おいて言及した部、パーセンテージ及び比率は総て、特
に断らないかぎり重量に基づく。
【0041】実施例1 モノメチルモノカリウムテレフタレート 870mlのメタノールに87.5% KOH(143
g, 2.24mol)を溶解させた溶液をトルエン2
420ml中の粉砕ジメチルテレフタレート(434
g, 2.24mol)に室温で45分掛けて添加し
た。反応混合物を、攪拌しつつ3時間65℃に加熱し、
その後室温まで冷却した。固体を濾別し、3500ml
の温トルエンで洗浄し、かつ乾燥して464.08g
(収率95%)の白色固体を得た。IR(ヌジョール
法) 1735, 1600, 1550, 141
0, 1290, 730cm-1
【0042】N,N′−ジ(4−カルボメトキシベンゾ
イル)ピペラジン モノメチルモノカリウムテレフタレート(175.8
g, 0.8056mol)を、オーバーヘッド攪拌
機、凝縮器及び添加用漏斗を具備した容量5lの三つ口
フラスコ内のトルエン(2000ml)中に懸濁させ
た。懸濁液を高速攪拌して塩化チオニル(58.76m
l, 0.8056mol)を滴下し加え、混合物を3
時間67℃に加熱した。室温で一晩攪拌後、反応物をブ
フナー漏斗上のセライトベッドに通して濾過し、4−カ
ルボメトキシベンゾイルクロリドを含有する濾液を残し
た。この時点で、等容量のジエチルエーテルを添加し、
塩化カリウム副産物を濾別し、かつ真空下に溶剤を除去
することにより、酸塩化物を単離し得る。ほとんどの操
作で、トルエン溶液は直接用いる。
【0043】容量5lのMortonフラスコ内で、炭
酸カリウム(266.2g, 1.61mol)及びピ
ペラジン(34.69g, 0.4027mol)を1
000mlの水に溶解させた。4−カルボメトキシベン
ゾイルクロリドのトルエン溶液を滴下し加え、その際内
部反応温度を25℃に維持した。混合物を一晩攪拌し、
濾過し、かつトルエン、水、1N HCl及び水で洗浄
して127g(77%)のN,N′−ジ(4−カルボメ
トキシベンゾイル)ピペラジンを白色固体として得た。
m.p. 234〜237℃; IR(ヌジョール法)
1730,1630, 1610, 1510, 1
290, 1260, 1010,730cm-1
【0044】1H NMR(200MHz, CDCl3
/CD3COCD3) δ 7.48〜8.11(8H,
m), 3.93(6H, s), 3.81(4
H, br s), 3.56(4H, br s);
13C NMR(CDCl3/CD3COCD3) δ
169.51, 166.05, 139.19, 1
31.50, 129.89, 126.98, 5
2.31, 43.80,41.10; IR(ヌジョ
ール法) 2920, 2840, 1720,162
0, 1605, 1455, 1430, 137
0, 1360,1275, 1260, 1100,
1000cm-1; low res.MS(CI,イ
ソブタン) 411(MH+)。
【0045】N,N′−ジ(4−ペルカルボキシベンゾ
イル)ピペラジン(PCBPIP) N,N′−ジ(4−カルボメトキシベンゾイル)ピペラ
ジン(4.07g,0.0099mol)をメタンスル
ホン酸(14ml)に溶解させ、かつ温度0℃で過酸化
水素(70%溶液3.37ml, 0.0891mo
l)で処理した。混合物を室温で5時間攪拌し、その後
氷水上に注いだ。固体をブフナー漏斗上に集め、pHが
5となるまで水で洗浄してから一晩自然乾燥させた。
3.91g(95%)の白色粉末を得た。m.p. 2
68℃[融解前に分解(dec)]。ヨウ素還元滴定は
65%過酸を示した。IR(ヌジョール法) 3100
(ヒドロキシル), 1760(過酸カルボニル)cm
-1
【0046】実施例2 N,N′−ジ(4−カルボメトキシベンゾイル)エチレ
ンジアミン 標記物質を、N,N′−ジ(4−カルボメトキシベンゾ
イル)ピペラジンの製造で説明した操作を用いて、ただ
しピペラジンの替わりにエチレンジアミン(26.9m
l, 0.4028mol)を用い、また水の用量を1
000mlでなく400mlとして製造した。収量8
8.6g(57%); m.p. 297〜299℃;
1H NMR(200MHz, DMSO−d6) δ
8.82(2H, br s), 8.06〜7.9
4(8H, m), 3.88(6H, s), 3.
47(4H, s); IR(ヌジョール法) 330
0,1730, 1640, 1550cm-1
【0047】N,N′−ジ(4−ペルカルボキシベンゾ
イル)エチレンジアミン(PCBED) N,N′−ジ(4−カルボメトキシベンゾイル)エチレ
ンジアミン(5.0g, 0.0129mol)を30
mlのメタンスルホン酸に溶解させ、かつ温度0℃で過
酸化水素(70%溶液4.4ml)で処理した。混合物
を室温に戻して5時間攪拌した。この混合物を氷及び飽
和硫酸アンモニウム溶液上に注ぎ、固体を濾別し、かつ
水で洗浄してpH5とした。ヨウ素還元滴定による活性
は78%であった。
【0048】実施例3 N,N′−ジ(4−カルボメトキシベンゾイル)−1,
4−フェニレンジアミン クロロホルム(95ml)中の4−カルボメトキシベン
ゾイルクロリド(9.32g, 0.046mol)を
トリエチルアミン(4.81ml, 0.035mo
l)及びクロロホルム(250ml)中の1,4−フェ
ニレンジアミン(2.59g, 0.023mol)に
温度4℃で添加した。反応物を一晩掛けて室温に戻し
た。クロロホルムを真空下に除去した。固体を冷たい5
% HCl上に注ぎ、濾別し、稀塩酸で洗浄した。DM
Fから再晶出させて、6.16g(62%)の淡黄色粉
末を得た。m.p. >345℃; 1H NMR(D
MSO−d6) δ 8.06(8H, s), 7.
74(4H, s), 3.88(6H, s); 13
C NMR(H2SO4/CD3COCD3) (酸に分
解) δ 205, 196, 169.77, 16
7.10, 132.56, 130.95, 12
8.16, 127.79, 127.03, 12
2.85, 119.82, 52.02; IR(ヌ
ジョール法) 3330, 2900, 2840,
1720, 1640, 1550, 1455, 1
410, 1375, 1280, 1190, 11
10cm-1; low res. MS(CI,イソブ
タン) 433(MH+), 271,257, 22
3。
【0049】N,N′−ジ(4−ペルカルボキシベンゾ
イル)フェニレンジアミン(1,4−PC BPD) N,N′−ジ(4−カルボメトキシベンゾイル)フェニ
レンジアミン(3.07g, 0.0071mol)を
メタンスルホン酸(40ml)に溶解させ、かつ室温で
過酸化水素(70%溶液2.42ml, 0.0639
mol)で処理した。室温で6時間攪拌後12時間、反
応混合物の温度を3℃に維持した。混合物を飽和硫酸ア
ンモニウム溶液及び氷上に注ぎ、その後先に述べたのと
同様にして単離を行なって1.35g(59%)の橙色
粉末を得た。m.p. >315℃。ヨウ素還元滴定は
60%過酸を示した。IR(ヌジョール法) 3230
(ヒドロキシル), 1755(過酸カルボニル)cm
-1
【0050】実施例4 N,N′−ジ(4−カルボメトキシベンゾイル)−1,
4−ジアミノシクロヘキサン 4−カルボメトキシベンゾイルクロリド(9.075
g, 0.0456mol)を、攪拌機及び添加用漏斗
を具備した容量500mlの三つ口フラスコ内のクロロ
ホルム(180ml)に溶解させた。得られた溶液にト
ランス−1,4−ジアミノシクロヘキサン(2.60
g, 0.0228mol)、トリエチルアミン(7.
5ml, 0.0535mol)及びクロロホルム(8
0ml)を、温度0℃で30分掛けて添加した。反応物
を2.5時間攪拌し、生成固体をクロロホルムから濾別
した。未乾燥の上記固体を10% HCl及び飽和Na
Cl水溶液で洗浄した。この生成物を温度0℃で濃硫酸
に溶解させ、その後氷水から析出させて、白色粉末を収
率約80%で得た。m.p. >350℃; 1H N
MR(200MHz, D2SO4) δ 8.30〜
7.94(8H, m),4.27〜4.37(8H,
m), 2.34〜1.80(8H, brm);
13C NMR(200MHz, H2SO4/CD3CO
CD3) δ 170.92, 132.32, 12
9.92, 129.25, 127.61, 55.
04, 51.83, 24.07; IR(ヌジョー
ル法) 3295, 2920, 2850, 172
0, 1630, 1530, 1460, 137
5, 1285cm-1
【0051】N,N′−ジ(4−ペルカルボキシベンゾ
イル)−1,4−ジアミノシクロヘキサン (PCBHE
X) N,N′−ジ(4−カルボメトキシベンゾイル)−1,
4−ジアミノシクロヘキサン(1.63g, 0.00
37mol)をメタンスルホン酸(10ml)に溶解さ
せ、かつ室温で過酸化水素(70%溶液1.26ml,
0.0333mol)で処理した。7時間後、反応物
を氷水上に注いで析出固体を生じさせ、これを真空オー
ブン内で25℃で乾燥して1.57g(95%)の白色
粉末を得た。m.p. >310℃。ヨウ素還元滴定は
79%過酸を示した。1H NMR(200MHz,
DMSO−d6) δ 8.47〜8.44(m,エス
テル), 8.03〜7.91(m,過酸及びエステ
ル), 3.88(s,エステル), 3.79(br
s,エステル及び過酸), 1.94〜1.91
(m,エステル及び過酸), 1.52〜1.43
(m,エステル及び過酸);IR(ヌジョール法) 3
295(広域、ヒドロキシル), 1730(過酸カル
ボニル)cm-1
【0052】実施例5 カルボエトキシアジポイルクロリド 凝縮器を具備した丸底フラスコにアジピン酸モノエチル
エステル(25.63g, 0.147mol)を塩化
チオニル(34.98g, 0.293mol)と共に
入れ、37℃で3時間加熱した。凝縮器を改良蒸留ヘッ
ドに取り替え、過剰な塩化チオニルを5mmHgで除去
した。生成物(26.84g, 95%)を蒸留して透
明な液体を得た(59℃;約0.1mmHg)。IR
3550, 3420, 2950, 2910, 2
840, 1785, 1715, 1455, 13
60, 1230, 1170, 1140, 108
0, 1010, 940cm-1
【0053】N,N′−ジ(カルボエトキシアジポイ
ル)−1,4−フェニレンジアミン クロロホルム(40ml)中のカルボエトキシアジポイ
ルクロリド(13.74g, 0.071mol)をク
ロロホルム(330ml)及びトリエチルアミン(7.
53ml, 0.054mol)中の1,4−フェニレ
ンジアミン(3.89g, 0.036mol)に温度
4℃で添加した。反応物を5時間掛けて室温に戻した。
酢酸エチルから再晶出させて、6.30g(42%)の
綿毛状(fluffy)白色固体を得た。m.p. 1
56〜160℃; 1H NMR(DMSO−d6) δ
9.81(2H, s, NH), 7.49(4
H, s), 4.04(4H, q), 1.57
(8H, m), 2.34(8H, m), 1.1
8(6H, t); 13C NMR δ 173.6
5, 171.25, 134.38, 120.7
4, 60.39, 36.90, 33.98, 2
5.01, 24.42, 14.23; IR(ヌジ
ョール法) 3290, 2920, 2840, 1
720, 1645, 1540, 1455, 13
70, 1290, 1255, 1170cm-1
low res. MS(CI,イソブタン) 421
(MH+)。
【0054】N,N′−ジ(ペルカルボキシアジポイ
ル)フェニレンジアミン(DPAPD) N,N′−ジ(カルボエトキシアジポイル)−1,4−
フェニレンジアミン(6.00g, 0.0143mo
l)をメタンスルホン酸(21ml)に溶解させ、かつ
室温で過酸化水素(70%溶液4.87ml, 0.1
287mol)で処理した。2時間後、生成物を氷水か
ら単離して4.97g(88%)の淡い橙色の粉末を得
た。m.p. 210〜212℃(dec)。ヨウ素還
元滴定は87%過酸を示した。1H NMR(200M
Hz, DMSO−d6) δ 11.97(2H,
br, s), 9.83(2H, s), 7.49
(4H, m), 4.10(痕跡量,q,エステ
ル), 2.49〜2.00(8H, m), 1.5
7(8H, br, s), 1.17(痕跡量,t,
エステル); IR(ヌジョール法) 3100(ヒド
ロキシル), 1750(過酸カルボニル)cm-1
【0055】実施例6 N,N′−ジ(4−カルボメトキシベンゾイル)−1,
4−ブタンジアミン 4−カルボメトキシベンゾイルクロリド(19.07
g, 0.096mol)を、攪拌機、温度計及び添加
用漏斗を具備した容量1000mlの三つ口丸底フラス
コ内のトルエン(380ml)に溶解させた。得られた
溶液に1,4−ブタンジアミン水溶液(80ml)を4
0分掛けて滴下し加え、その際反応混合物の温度を水浴
によって25℃に維持した。白色固体が直ちに生成し、
反応混合物を更に2時間攪拌した。固体をフリット上に
集め、トルエン、水、5% HCl及び水で洗浄した。
DMFからの再晶出によって白色結晶を得、これを真空
オーブン内で温度60℃で乾燥した。収量17.91g
(90%); m.p. 260〜261℃; 1
NMR(200MHz, DMSO−d6) δ 8.
70(2H, m), 8.05〜7.93(8H,
m), 3.88(6H, s), 3.34(4H,
s), 1.58(4H, s); IR(ヌジョー
ル法) 3300, 1720, 1625, 153
0, 1275,1105, 860, 730c
-1; low res. MS(CI,イソブタン)
413(MH+); 13C NMR(75MHz,
DMSO−d6) δ 166.9, 165.7,
165.4, 165.2, 138.7, 131.
6, 129.0, 127.5, 127.2, 6
2.3,26.5。
【0056】N,N′−ジ(4−ペルカルボキシベンゾ
イル)−1,4−ブタンジアミン(PCB BD) メタンスルホン酸(25ml)に溶解させたN,N′−
ジ(4−カルボメトキシベンゾイル)−1,4−ブタン
ジアミン(3.00g, 0.007mol)を、先に
述べた方法に従い過酸化水素(70%溶液2.50m
l, 0.066mol)で処理した。室温で5時間、
及び3℃で16時間経過後、反応物を氷水上に注いで過
酸を析出させ、これを水で洗浄し、かつ乾燥して1.8
g(60%)の白色粉末を得た。m.p. 180℃
(分解)。ヨウ素還元滴定は74%過酸、5.7%
a.o.を示した(理論上は7.7% a.o.)。I
R(ヌジョール法) 3320〜3100(ヒドロキシ
ル), 1745(過酸カルボニル)cm-11
NMR(200MHz, DMSO−d6) δ 8.
65(2H, m), 8.03〜7.90(8H,
m), 3.87(開始物質,7%), 3.29(4
H, s), 1.58(4H, s)。
【0057】実施例7 N,N′−ジ(4−カルボメトキシベンゾイル)−1,
2−フェニレンジアミン 4−カルボメトキシベンゾイルクロリド(18.5g,
0.093mol)を窒素雰囲気下にクロロホルム
(100ml)に溶解させ、得られた溶液を0℃に冷却
した。この溶液に、1,2−フェニレンジアミン(5.
00g, 0.046mol)及びトリエチルアミン
(12.8ml, 0.092mol)をクロロホルム
(350ml)に加えた溶液を滴下し加えた。室温で1
6時間経過後、トリエチルアンモニウムクロリドを濾紙
付きフリットでの濾過によって除去した。有機層を冷た
い5% HCl(200ml×3)及び飽和NaCl溶
液(150ml×2)で洗浄し、かつ硫酸マグネシウム
で乾燥した。生成物を減圧下でのクロロホルム除去によ
って単離した。エタノールから再晶出させて、12.1
9g(61%)の白色粉末を得た。m.p. 211〜
216℃; 1H NMR(200MHz, DMSO
−d6) δ 10.24(2H, s), 8.09
〜8.07(8H, 2s), 7.69(2H,
s), 7.33(2H, s), 3.90〜3.8
8(6H, 2s); 13C NMR(50MHz,
DMSO−d6) δ 165.29, 164.3
7, 138.13, 131.81, 130.9
4, 128.94, 127.69,125.79,
125.42, 52.08; IR(ヌジョール
法) 3380, 3280, 1720, 164
5, 1540, 1290, 1275, 1100
cm-1; low res. MS(CI,イソブタ
ン) 433(MH+), 271, 165。
【0058】N,N′−ジ(4−ペルカルボキシベンゾ
イル)−1,2−フェニレンジアミン(1 ,2−PCB
PD) N,N′−ジ(4−カルボメトキシベンゾイル)−1,
2−フェニレンジアミン(2.75g, 0.0064
mol)をメタンスルホン酸(25ml)に溶解させ、
得られた溶液を0℃に冷却した。この溶液に過酸化水素
(90%溶液1.57ml, 0.058mol)を滴
下し加えた。室温で16時間経過後、反応物を先に述べ
たように処理した。ヨウ素還元滴定は70%過酸、5.
2% a.o.を示した(理論上は7.3% a.
o.)。IR(ヌジョール法) 3160(ヒドロキシ
ル), 1740(過酸カルボニル)cm-11
NMR(200MHz, DMSO−d6) δ 1
0.20(2H, s), 8.09〜8.07(8
H, 2s), 7.73〜7.52(2H, m),
7.39〜7.22(2H, m), 3.89(エ
ステル,約7%); 13CNMR(50MHz, DM
SO−d6) δ 166.58, 164.76,
137.95, 133.37, 131.19, 1
29.30, 127.76, 126.01。
【0059】実施例8 N,N′−スクシノイル−ジ(4−カルボメトキシ)ア
ニリン 塩化スクシニルを、使用前に減圧下に蒸留した。窒素雰
囲気下で容量1000mlの丸底フラスコに、メチル−
4−アミノベンゾエート(20g, 0.132mo
l)、ピリジン(10.7ml, 0.133mol)
及びクロロホルム(250ml)を一緒に入れ、0℃に
冷却した。これに、塩化スクシノイルのクロロホルム溶
液(7.5ml, 0.068mol)を滴下し加え
た。この添加に際して藤色の沈澱物が観察された。室温
で2時間経過後、生成物をフリットで濾別し、5% H
Cl(400ml×2)、次いで水(600ml)で洗
浄してからフリット上で自然乾燥させた。この生成物を
DMFから再晶出させ、かつ真空オーブン内で温度60
℃で乾燥して16.09g(62%)の白色結晶を得
た。m.p. 284〜285℃; 1H NMR(2
00MHz, DMSO−d6) δ 10.42(2
H, s), 7.96〜7.74(8H, s),
3.85(6H, s), 2.75(4H, s);
IR(ヌジョール法) 3340, 3320, 1
710, 1690, 1675, 1610, 15
95, 1530, 1295, 1270, 117
5, 1160 , 1105, 770cm-1; l
ow res. MS(CI,イソブタン) 385
(MH+), 234, 152; 13C NMR(7
5MHz, DMSO−d6) δ 170.9, 1
65.7, 143.6, 130.2, 123.
6, 118.2, 51.7, 31.0。
【0060】N,N′−スクシノイル−ジ(4−ペルカ
ルボキシ)アニリン(SDPCA) N,N′−スクシノイル−ジ(4−カルボメトキシ)ア
ニリン(5.02g,0.013mol)をメタンスル
ホン酸(30ml)に溶解させ、得られた溶液を0℃に
冷却した。この溶液に過酸化水素(70%溶液4.43
ml, 0.117mol)を滴下し加えた。室温で6
時間経過後、生成物を先に述べたのと同様に処理して淡
黄褐色粉末を得た。m.p. 201℃。ヨウ素還元滴
定は72%過酸、6.0% a.o.を示した(理論上
は8.2% a.o.)。IR(ヌジョール法) 32
00(ヒドロキシル), 1750(過酸カルボニル)
cm-11H NMR(200MHz, DMSO−
6) δ 10.37,10.34[2H(それぞ
れ), s: 一方は過酸−OHに関し、他方はアミド
−NHに関する], 7.92〜7.68(8H,
m), 3.81(s,エステル), 2.72(4
H, s,エステル及び過酸)。
【0061】実施例9 N,N′−ジ(カルボエトキシアジポイル)エチレンジ
アミン 水(5ml)に加えたエチレンジアミン(1.17g,
0.0195mol)を、カルボエトキシアジポイル
クロリド(2.5g, 0.013mol)をトルエン
(36ml)に溶解させた溶液に室温で滴下し加えた。
その後2.5時間攪拌してから、生成した白色固体を濾
別し、トルエン、水、0.1N HCl及び水で洗浄
し、かつ真空オーブン内で温度63℃で乾燥した。所定
のIRスペクトル(3080cm-1)においてその存在
が明らかとなる不純物を排除するべく、得られた物質を
トルエンに加えて不溶物を濾過により除去し、その後ト
ルエンを真空下に除去して白色粉末(0.31g, 1
3%)を得た。m.p. 117〜120℃(大部分の
粉末融解後に白色の残留物が存在); 1H NMR
(200MHz, DMSO−d6) δ 7.83
(2H, br s),4.05(4H, q),
3.37(H2O), 3.07(5H, brs),
2.28〜2.02(10H, br s), 1.
49(9H, br s), 1.18(6H,
t)。エトキシプロトンに関して、3.07及び1.4
9における統合ピークはそれぞれ1プロトンだけ高く、
また2.28〜2.02では2プロトンだけ高い。
【0062】IR(ヌジョール法) 3300, 30
80, 2920, 2850, 1725, 164
0, 1550, 1460, 1375, 127
0, 1245, 1180, 730cm-1
【0063】トルエン精製では未確認の不純物が排除さ
れないので、N,N′−ジ(4−カルボメトキシベンゾ
イル)ピペラジンの製造に関して述べた方法を用いた。
クロロホルム(12ml)に加えたカルボエトキシアジ
ポイルクロリド(1.0g,0.0052mol)をエ
チレンジアミン(0.16g, 0.0026mol)
と、トリエチルアミン(0.54ml, 0.0039
mol)と、クロロホルム(5ml)とから成る溶液
に、窒素雰囲気下に温度4℃で滴下し加えた。得られた
混合物を5.5時間攪拌し、かつ先に述べたのと同様に
処理して0.60g(62%)の固体を得た。この生成
物をトルエンから再晶出させて0.20g(21%)の
白色粉末を得たが、この粉末はIR及びNMRによって
示されるように不純物をなお含有した。m.p. 12
0〜122℃。前記不純物は酢酸エチルからの再晶出に
よっても排除されなかった。13C NMR(200MH
z, CDCl3/CD3COCD3) δ 207.4
4, 173.87, 60.38, 40.07,
36.08, 33.90, 25.12, 24.3
9, 14.33, 14.25; low res.
MS(CI,イソブタン) 373(MH+)。
【0064】N,N′−ジ(ペルカルボキシアジポイ
ル)エチレンジアミン N,N′−ジ(カルボエトキシアジポイル)エチレンジ
アミン(0.203g, 0.00055mol)をメ
タンスルホン酸(1.4ml)に溶解させ、室温で過酸
化水素(70%溶液0.19ml, 0.00495m
ol)で処理し、かつ18時間攪拌した。氷水から単離
しにくかった生成物は薄片状物質(0.0088g,
46%)であった。この物質は220℃より低温で黒変
したが、温度が350℃に達しないうちは融解しなかっ
た。ヨウ素還元滴定は55%過酸を示した。1H NM
R(200MHz, DMSO−d6) δ 7.81
(br s,エステル及び過酸), 4.10(q,エ
ステル), 3.06(H2O), 2.22及び2.
19(m,エステル及び過酸), 1.48(m,エス
テル及び過酸), 1.19(t,エステル); IR
(ヌジョール法) 3200(ヒドロキシル), 17
55(過酸カルボニル)cm-1
【0065】実施例10 N,N′−ジ(4−カルボキシアニリン)テレフタレー
4−アミノ安息香酸(2.1当量, 14.11g,
0.103mol)及び炭酸ナトリウム(5当量, 2
5.92g, 0.245mol)を4000mlの水
に加え、高速で攪拌した。粉砕した塩化テレフタロイル
を室温で少量ずつ添加した。72時間攪拌後、溶液を1
0% HCl上に注いだ。固体を濾別して集め、かつ水
で洗浄して16.6g(収率83%)の白色粉末を得
た。この生成物中の不純物は、単付加物であるN−(4
−カルボキシベンゾイル)4−アミノ安息香酸である
(3%未満)。1H NMR(200MHz, DMS
O−d6) δ 10.74(2H, s), 8.1
5〜7.90(12H, m),3.4(2H, br
s); IR(ヌジョール法) 3360, 169
0, 1660, 1610cm-1
【0066】N,N′−ジ(4−ペルカルボキシアニリ
ン)テレフタレート(DPCAT) N,N′−ジ(4−カルボキシアニリン)テレフタレー
ト(4.98g, 0.012mol)を60mlのメ
タンスルホン酸中に懸濁させ、過酸化水素(70%溶液
4.09ml, 0.108mol)で処理した。混合
物を4.5時間30℃に加熱し、その後先に述べたのと
同様にして単離を行なった。活性91%, 6.7%
a.o.(理論上は7.3% a.o.); IR(ヌ
ジョール法) 3380, 3200, 1740,
1660, 1600cm-1
【0067】実施例11 紅茶(BC−1)及びインクなどの通常の染みに対する
過酸の漂白力を評価した。典型的には、木綿試験片
(3″×4″)に適当な染みを付け、この試験片をTe
rg−o−tometerにおいて40℃で15分間、
500mlの水性洗浄液中で洗浄した。過酸は活性酸素
量が10ppmとなる量で用いた。
【0068】染みの漂白度を、Colorgard S
ystem/05 Reflectometerを用い
て反射測定法で測定した。漂白度は反射率の上昇によっ
て示され、ΔΔRとして報告された。通常、1単位のΔ
ΔRは対比較において認知され得、2単位のΔΔRは単
独で認知され得る。反射率変化の報告では、通常の洗浄
力によって惹起される反射率変化が勘案された。即ち、
ΔΔRは実際のところ、 ΔΔR=過酸及び洗剤によるΔR−洗剤によるΔR 〔式中ΔRは染みで汚れた布地の洗浄前の反射率と洗浄
後の反射率との差である〕と表わされ得る。
【0069】BC−1に関する実験は2回繰り返した。
後出の表IIに示した値は平均値である。固体が可能な
かぎり微細に分散することを確実にするために、普通各
1対のBC−1実験の一方で過酸を1mlのDMFに予
め溶解させた。この実験で得られた値が微細に粉砕した
過酸を用いる実験で得られた値と1単位未満しか異なら
ない時、これらの値の平均値を求めた。1,2−PCB
PDの場合上記値の相違が甚だしかったので、表IIに
は過酸をDMFに溶解させた時の値を括弧に入れて示し
てある。
【0070】インクの染みの漂白度はΔBとして測定し
た。量ΔBは、ハンターカラースケールのB軸における
変化である。インクの染みは最初青色で、漂白と共に褪
色し、それによってΔBの値が増大する。記録されたΔ
ΔBは、ΔBの値を洗剤対照による汚れ落ちに関して補
正した値である。
【0071】
【表2】 表II 40℃、10ppm A.O.、P-Surfベース*での漂白結果(1.5g/l) 過酸 BC -1 ΔΔR インク Δ ΔB pH8 pH9 pH10 pH9 PCBBD 9.5 9.4 6.0 28.9 1,2-PCBPD 4.4(8.1) 4.1(6.5) 3.9 24.9 SDPCA 2.7 3.3 5.0 16.8 PCBED 10.6 9.0 5.9 19.1 DPAPD 7.1 6.7 4.0 8.0 PCBPIP 3.0 2.9 3.1 9.7 PCBHEX 0.9 2.1 3.1 4.2 DPCAT 1.6 1.5 2.3 3.1 *; P-Surfベースの組成: トリポリリン酸ナトリウム 33% 硫酸ナトリウム 28% 直鎖アルキルベンゼンスルホネート 16% 炭酸ナトリウム 15% 微量成分 0.9% 水 残量。
【0072】実施例12 示差走査熱量測定(DSC) 新規な過酸の熱感受性を良好に示すものは、急速加熱に
対する該過酸の応答である。表IIIに、DSC解析か
ら得られたデータを示す。用いた装置は、2910セル
ベース及び2100サーマルアナリストを具備したDu
pont DSCであった。約1mgの試料を正確に計
量して、コーティングされたアルミニウムパンに入れ、
このパンを気密に封止した。30℃に平衡化後、試料を
速度5℃/分で加熱した。
【0073】
【表3】 表III DSC結果 自己加熱開始 放出エネルギー* 融点 試料 (℃) (C al/g) (Kcal/mol) (℃) PAP 87 118 33 92 DPDA 96 366 96 96〜99 1,2-PCBPD 130 238 104 DPAPD 137 291 115 210(分解) DPCAT 140 277 121 SDPCA 150 317 123 PCBPIP 160 326 135 268(分解) PCBHEX 175 246 109 >310 PCBED 174 294 114 178(分解) SBPB 178 354 120 >290 *; 過酸含量100%に補正。誤差5%以下。
【0074】新規な過酸の自己加熱開始温度はいずれも
130℃を越える。このように高い自己加熱開始温度は
優れた熱安定性を示し、本発明の目的に照らして望まし
い。本発明の目的からして、過酸の自己加熱開始温度は
100℃以上、好ましくは約100〜400℃、更に好
ましくは120〜250℃、最も好ましくは約120〜
200℃であることが有利である。
【0075】実施例13 重質液体中の過酸の安定性 この試験に用いた組成物には35%の界面活性剤を含有
させ、また該組成物のpH値はホウ砂/ソルビトールp
H飛躍系によって4.5とした。過酸の用量は、洗浄液
中に5ppm a.o.を存在させる量(組成物中に約
2重量%)とした。組成物を温度40℃で貯蔵し、定期
的にアリコートを取り出して残留過酸のパーセンテージ
に関して滴定した。
【0076】
【表4】 重質液体中で、新規な過酸はいずれもDPDA及びPA
Pより安定であった。それらの過酸のうちの5種は30
日を越える半減期を有した。PCBPIPは、40℃に
おいて79日という優れた半減期を有した。
【0077】本発明の目的からして、過酸化物の安定性
即ち温度40℃での半減期が10日以上、好ましくは1
5日以上で、更に好ましくは30日以上であり、最も好
ましくは50日を越えることが有利である。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成5年5月26日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0043
【補正方法】変更
【補正内容】
【0043】容量5lのMortonフラスコ内で、炭
酸カリウム(266.2g, 1.61mol)及びピ
ペラジン(34.69g, 0.4027mol)を1
000mlの水に溶解させた。4−カルボメトキシベン
ゾイルクロリドのトルエン溶液を滴下し加え、その際内
部反応温度を25℃に維持した。混合物を一晩攪拌し、
濾過し、かつトルエン、水、1N HCl及び水で洗浄
して127g(77%)のN,N′−ジ(4−カルボメ
トキシベンゾイル)ピペラジンを白色固体として得た。
m.p. 234〜237℃。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ロバート・ウイリアム・ライリー・ハンフ リーズ アメリカ合衆国、ニユー・ジヤージー・ 07649、オーラデル、エルム・ストリー ト・351 (72)発明者 ステイーブン・アラン・マデイソン アメリカ合衆国、ニユー・ヨーク・10956、 カウンテイ・オブ・ロツクランド、ニユ ー・シテイ、オーリオウル・ロード・24

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式 【化1】 〔式中RはC1〜C12アルキレン基、C5〜C12シクロア
    ルキレン基、C6〜C12アリーレン基及びこれらの組み
    合わせの中から選択され、R1及びR2はH、C1〜C16
    アルキル基、C6〜C12アリール基、並びにR3及び両窒
    素と共にC3〜C12環を形成し得る基の中から互いに独
    立に選択され、R3はC1〜C12アルキレン基、C5〜C
    12シクロアルキレン基及びC6〜C12アリーレン基の中
    から選択され、その際R3がアリーレン基であり、かつ
    n′及びm′がいずれも0である時はRはC5アルキレ
    ン基以外であり、n及びn′は互いの和が1となるよう
    に選択された整数であり、m及びm′は互いの和が1と
    なるように選択された整数であり、MはH、アルカリ金
    属、アルカリ土類金属、アンモニウム及びアルカノール
    アンモニウムカチオン及び基並びにこれらの組み合わせ
    の中から選択される〕を有するアミドペルオキシ酸化合
    物。
  2. 【請求項2】 2種の構造 【化2】 のいずれか一方を有することを特徴とする請求項1に記
    載の化合物。
  3. 【請求項3】 N,N′−ジ(4−ペルカルボキシベン
    ゾイル)−1,4−ブタンジアミン、N,N′−ジ(4
    −ペルカルボキシベンゾイル)−1,2−フェニレンジ
    アミン、N,N′−スクシノイル−ジ(4−ペルカルボ
    キシ)アニリン、N,N′−ジ(4−ペルカルボキシベ
    ンゾイル)エチレンジアミン、N,N′−ジ(4−ペル
    カルボキシベンゾイル)ピペラジン、N,N′−ジ(4
    −ペルカルボキシベンゾイル)−1,4−ジアミノシク
    ロヘキサン、N,N′−ジ(4−ペルカルボキシベンゾ
    イル)−1,4−フェニレンジアミン、N,N′−ジ
    (ペルカルボキシアジポイル)フェニレンジアミン、
    N,N′−ジ(ペルカルボキシアジポイル)エチレンジ
    アミン、またはN,N′−ジ(4−ペルカルボキシアニ
    リン)テレフタレートであることを特徴とする請求項1
    に記載の化合物。
  4. 【請求項4】 40℃における過酸化物半減期が10日
    以上であることを特徴とする請求項1に記載の化合物。
  5. 【請求項5】 40℃における過酸化物半減期が30日
    以上であることを特徴とする請求項4に記載の化合物。
  6. 【請求項6】 自己加熱開始温度が100℃以上である
    ことを特徴とする請求項1に記載の化合物。
  7. 【請求項7】 自己加熱開始温度が約120〜200℃
    であることを特徴とする請求項6に記載の化合物。
  8. 【請求項8】 基質を漂白する方法であって、構造 【化3】 〔式中RはC1〜C12アルキレン基、C5〜C12シクロア
    ルキレン基、C6〜C12アリーレン基及びこれらの組み
    合わせの中から選択され、R1及びR2はH、C1〜C16
    アルキル基、C6〜C12アリール基、並びにR3及び両窒
    素と共にC3〜C12環を形成し得る基の中から互いに独
    立に選択され、R3はC1〜C12アルキレン基、C5〜C
    12シクロアルキレン基及びC6〜C12アリーレン基の中
    から選択され、その際R3がアリーレン基であり、かつ
    n′及びm′がいずれも0である時はRはC5アルキレ
    ン基以外であり、n及びn′は互いの和が1となるよう
    に選択された整数であり、m及びm′は互いの和が1と
    なるように選択された整数であり、MはH、アルカリ金
    属、アルカリ土類金属、アンモニウム及びアルカノール
    アンモニウムカチオン及び基並びにこれらの組み合わせ
    の中から選択される〕を有するアミドペルオキシ酸を基
    質に、汚れの除去に有効な量で適用することを含む方
    法。
  9. 【請求項9】 i)約1〜40重量%の量で存在する、
    請求項1に記載のアミドペルオキシ酸化合物と、 ii)約1〜50重量%の量で存在する界面活性剤と、 iii)約1〜40重量%の量で存在するpH飛躍系と
    を含有する汚れ落とし組成物。
JP5074310A 1992-03-31 1993-03-31 アミドペルオキシ酸化合物、基質漂白方法、及び汚れ落とし組成物 Pending JPH06100531A (ja)

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