JPH0582413A

JPH0582413A - 露光装置及び露光方法

Info

Publication number: JPH0582413A
Application number: JP3240022A
Authority: JP
Inventors: Masaaki Higashiya; 政昭東谷; Yoshinori Obata; 義則小畑
Original assignee: Fujitsu Ltd
Current assignee: Fujitsu Ltd
Priority date: 1991-09-19
Filing date: 1991-09-19
Publication date: 1993-04-02

Abstract

(57)【要約】【目的】本発明は、凹凸を有する被露光体を露光する露
光装置及び露光方法に関し、凹凸を有する被露光体を露
光する際にフォーカスマージンの増大及び解像力の向上
を同時に図ることができる露光装置を提供することを目
的とする。【構成】被露光体１２を載置する載置台１１と、載置台
１１を光軸方向に上下移動させる移動手段１３と、被露
光体１２の位置検出手段１５〜１７と、被露光体１２に
照射される露光光発生手段２１と、被露光体１２の位置
に露光光を集中させる投影レンズ２２とを有する露光装
置であって、載置台１１の移動及び停止を制御する信号
を載置台１１の移動手段１３に送り、かつ位置検出動作
を制御する信号を前記位置検出手段１７に送り、かつ位
置検出手段１６からの位置情報に基づいて露光光の照射
の開始と終了を制御する信号を露光光発生手段２１に送
る制御手段１９を含み構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】（目次）・産業上の利用分野・従来の技術（図６）・発明が解決しようとする課題・課題を解決するための手段・作用・実施例（１）第１の実施例（図１）（２）第２の実施例（図２，図３）（３）第３の実施例（図４）（４）第４の実施例（図５）・発明の効果

【０００２】

【産業上の利用分野】本発明は、露光装置及び露光方法
に関し、更に詳しく言えば、凹凸を有する被露光体を露
光する露光装置及び露光方法に関する。

【０００３】半導体装置においては、高密度化のために
素子形成層や配線層の多層化が行われており、製造工程
途中の半導体基板の表面での段差は拡大する傾向にあ
る。このような半導体基板上に、微細なパターンを形成
するためには、焦点深度の増大と解像力の向上とを同時
に図ることが必要である。

【０００４】

【従来の技術】図６は、従来例の露光方法に用いられる
露光装置について説明する構成図である。

【０００５】図６において、１は被露光体としてのウエ
ハ２を載置するステージ、そして、ベストフォーカス位
置を検出するための検出手段はレーザ発生装置４とディ
テクタ５とスリット６からなる。そして、スリット６は
ベストフォーカス位置でディテクタ５に検出されるレー
ザ光の強度が最大になるように、予め傾斜角度θが設定
されている。従って、ステージ１を上下させてベストフ
ォーカス位置にウエハ２が固定される。また、ウエハ２
の厚さの違い等によるベストフォーカス位置のズレの微
調は、ステップモータ４によりステージ１を上下するこ
とにより行われる。

【０００６】更に、７は光学系で、例えばｉ線を発生す
る露光光発生手段８及び投影レンズ９からなる。このよ
うな露光装置を用いて、まず、露光マスク１０を光学系
とウエハ２との間に設置し、更に、ステージ１上にレジ
スト膜の形成されたウエハ２を載置する。続いて、レー
ザ光を照射し、スリット６を通過してディテクタ５に検
出されるレーザ光の強度が最大になるように、ステージ
１を上下させてベストフォーカス位置にステージ１を固
定する。

【０００７】続いて、ウエハ２の平面移動によりウエハ
２上の既形成パターンと露光マスク１０上のパターンと
を位置合わせする。次いで、露光マスク１０を介してウ
エハ２上のレジスト膜に例えばｉ線からなる露光光を照
射し、露光マスク１０上のパターンを転写する。

【０００８】このとき、解像力（Ｒ）及び焦点深度
（Ｄ）は、理論上次のように表される。即ち、Ｒ＝ｋ₁λ／ＮＡＤ＝ｋ₂λ／（ＮＡ）² 但し、ｋ₁…定数、ｋ₂…定数、λ…露光光の波長、Ｎ
Ａ…レンズの開口数。

【０００９】上記のＲ，Ｄの表現式によれば、通常、ｉ
線で、Ｒ＝０．５μｍ程度でよい場合、対応するλ，Ｎ
Ａで決まる焦点深度は、Ｄ＝２μｍ程度となり、現実の
段差を十分にカバーできる。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】ところが、パターンの
微細化により、Ｒ＝０．３μｍ以上の解像力が要求され
る場合、対応するλ，ＮＡで決まる焦点深度は、Ｄ＝１
μｍ以下となり、段差のカバーが不十分になり，パター
ン切れが悪くなるという問題がある。つまり、露光光の
波長（λ）や開口数（ＮＡ）を変化させて解像力と焦点
深度とを調整したのでは、一方の向上は図れるが、他方
は悪化するため、同時に両方を向上させることは難しい
という問題がある。

【００１１】本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてな
されたもので、凹凸を有する被露光体を露光する際に焦
点深度の増大及び解像力の向上を同時に図ることができ
る露光装置及び露光方法を提供することを目的とするも
のである。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記課題は、第１に、被
露光体を載置する載置台と、該載置台を光軸方向に移動
させる移動手段と、前記被露光体の位置検出手段と、前
記被露光体に照射される露光光の発生手段と、前記被露
光体の位置に前記露光光を集中させる投影レンズとを有
する露光装置であって、前記載置台の移動及び停止を制
御する信号を前記載置台の移動手段に送り、かつ前記位
置検出動作を制御する信号を前記位置検出手段に送り、
かつ該位置検出手段からの位置情報に基づいて前記露光
光の発生の開始と終了を制御する信号を前記露光光の発
生手段に送る制御手段を有することを特徴とする露光装
置によって達成され、第２に、被露光体を載置する載置
台と、該載置台を光軸方向に移動させる移動手段と、前
記被露光体の位置検出手段と、前記被露光体に照射され
る露光光発生手段と、前記被露光体の位置に前記露光光
を集中させる投影レンズとを有する露光装置であって、
前記載置台の移動を開始させ、予め設定されている距離
を移動の後、前記載置台の移動を終了させる信号を前記
載置台の移動手段に送り、かつ前記載置台の移動の開始
及び終了に応じて前記露光光の発生の開始及び終了を制
御する信号を前記露光光発生手段に送る制御手段を有す
ることを特徴とする露光装置によって達成され、第３
に、第１又は第２の発明に記載の露光装置であって、露
光マスクを保持するマスク保持手段と、前記露光マスク
と前記被露光体との位置合わせ手段とを有することを特
徴とする露光装置によって達成され、第４に、露光光の
結像面を固定した後、前記結像面が前記被露光体内部を
通過するように前記被露光体を光軸方向に連続的に移動
させながら、前記露光光を照射することを特徴とする露
光方法によって達成され、第５に、被露光体と露光マス
クとの位置合わせを行い、その後、露光光の結像面を固
定した後、前記結像面が前記被露光体内部を通過するよ
うに前記被露光体を光軸方向に連続的に移動させなが
ら、前記露光マスクを介して前記露光光を前記被露光体
に選択的に照射することを特徴とする露光方法によって
達成され、第６に、前記露光光の結像面を固定した後、
前記露光光の照射を開始し、その後、前記結像面が前記
被露光体内部を通過するように前記被露光体を光軸方向
に連続的に移動させ、少なくとも前記被露光体の最上部
と最下部との差に相当する距離だけ前記被露光体が移動
した後、前記露光光の照射を停止することを特徴とする
第４又は第５の発明に記載の露光方法によって達成され
る。

【００１３】

【作用】本発明の露光装置においては、被露光体の載置
台を光軸方向に移動させる移動手段と、被露光体の位置
検出手段と、載置台の移動と停止を制御する信号を載置
台の移動手段に送り、かつ位置検出動作を制御する信号
を位置検出手段に送り、かつ位置検出手段からの位置情
報に基づいて、露光光の照射の開始と終了を制御する信
号を露光光発生手段に送る制御手段とを有している。特
に、載置台の所定の位置で露光光の照射を開始し、予め
設定された載置台の移動距離に基づいて、露光光の照射
を終了する信号を露光光発生手段に送る制御手段を有し
ている。

【００１４】従って、必要な距離を被露光体が移動する
間だけ露光光を照射することができるので、被露光体の
全ての部分が露光光の結像面を通過するようにすること
ができる。これにより、被露光体が焦点深度よりも大き
い凹凸の段差を有していても、露光光の照射強度は積分
された合計の照射強度により決まるので、凹部の選択照
射領域と凸部の選択照射領域はともに中央部が凸状の極
めてコントラストの良い、同じ様な照射強度の分布を示
す。従って、十分な焦点深度を得ることができる。しか
も、露光光の波長やレンズの開口数はもとのままにして
おくことができるので、十分な解像力も保持することが
できる。

【００１５】また、露光マスクの保持手段，及び被露光
体と露光マスクとの位置合わせ手段が設けられることに
より、位置合わせと露光とを同一の装置で行うことがで
きる。

【００１６】更に、本発明の露光方法においては、露光
光の結像面を固定した後、結像面が被露光体内部を通過
するように被露光体を光軸方向に連続的に移動させなが
ら、露光光を照射している。特に、少なくとも被露光体
の最上部と最下部との差に相当する距離を被露光体が移
動する間だけ露光光を連続的に照射している。

【００１７】これにより、被露光体が焦点深度よりも大
きい凹凸の段差を有していても、被露光体の全ての部分
が露光光の結像面を通過するようにすることができるの
で、どの選択照射領域も合計の露光光の照射強度は中央
部が凸状の極めてコントラストの良い、同じ様な照射強
度の分布を示し、十分な焦点深度を確保することができ
る。しかも、露光光の波長やレンズの開口数はもとのま
まにしておくことができるので、十分な解像力も保持す
ることができる。また、露光光を連続的に照射している
ので、一度の露光で済み、スループットの向上を図るこ
とができる。

【００１８】更に、被露光体と位置合わせされた露光マ
スクを介して露光光を被露光体に選択的に照射すること
により、位置合わせと露光とを連続して行うことができ
る。

【００１９】

【実施例】（１）第１の実施例図１は、本発明の第１の実施例の露光装置及び露光方法
を用いたＤＲＡＭの作成方法について説明する図である
図１において、１１は被露光体としてのレジスト膜が形
成されたウエハ１２を載置するステージ（載置台）で、
ステージ１１はステージ１１を光軸に沿って上下移動さ
せるステップモータ（移動手段）１３と接続されてい
る。また、ベストフォーカス位置を検出するための位置
検出手段は、レーザ発生装置１５とディテクタ１６とス
リット１７からなる。いま、例えば、スリット１７を通
過してディテクタ１６に検出されるレーザ光の強度が最
大になるステージ１１の位置がベストフォーカス位置と
すると、段差を被覆するレジスト膜を全て露光光の結像
面が通過するように、ベストフォーカス位置をレジスト
膜の最下部及び最上部の２点に設定し、露光の開始を最
下部とし、終了を最上部として、ステージ１１を上昇さ
せるようになっている。露光装置上は、これらの２点に
対応するように、スリットと結合しているステップモー
タ１８を用いてスリット１６の角度を変え、この位置情
報に基づいてステージ１１のステップモータ１３を制御
する。このような制御を制御手段１９が行う。

【００２０】更に、２０は光学系で、露光光発生手段２
１，投影レンズ２２からなる。また、露光光発生手段２
１はｉ線ランプとｉ線の選択照射を行うシャッタとから
なる。２３は露光マスクを保持するマスク保持具（マス
ク保持手段）で、ここに露光マスク２４がセットされ、
露光マスク２４を介して露光光がレジスト膜に照射され
ると、マスクパターンがレジスト膜に転写される。

【００２１】以上のように、本発明の第１の実施例の露
光装置においては、ウエハ１２のステージ１１を上下移
動させるステップモータ１３と、ウエハ１２の位置検出
手段１４と、ステージ１１の移動と停止を制御する信号
をステージ１１のステップモータ１３に送り、かつ位置
検出動作を制御する信号を位置検出手段１４に送り、か
つ位置検出手段１４からの位置情報に基づいて露光光の
照射の開始と終了を制御する信号を露光光発生手段２０
に送る制御手段１９を有している。

【００２２】従って、ウエハ１２を連続的に移動しなが
ら、位置情報に基づいて必要な距離だけ露光光を照射す
ることができるので、ウエハ１２上のレジスト膜の全て
の部分が露光光の結像面を通過するようにすることがで
きる。これにより、ウエハ１２の表面に焦点深度よりも
大きい凹凸の段差を有していても、露光光の照射強度は
積分された合計の照射強度により決まるので、凹部の選
択照射領域と凸部の選択照射領域はともに中央部が凸状
の極めてコントラストの良い、同じ様な照射強度の分布
を示す。従って、十分な焦点深度を得ることができる。
しかも、露光光の波長やレンズの開口数はもとのままに
しておくことができるので、十分な解像力も保持するこ
とができる。

【００２３】また、マスク保持具２３，及びレジスト膜
と露光マスクとの位置合わせ手段が設けられることによ
り、位置合わせと露光とを同一の装置で行うことができ
る。（２）第２の実施例次に、このような露光装置を用いて、配線層を形成する
工程を含むＤＲＡＭの作成方法について図１，図２
（ａ），（ｂ）を参照しながら説明する。

【００２４】まず、露光マスク２４をマスク保持具２３
にセットするとともに、配線層となるＡｌ膜２５の上に
被露光体としてのレジスト膜２６が形成されたウエハ１
２をステージ１１に載置する。なお、このウエハ１２の
メモリ素子領域（Ａ部）にはキャパシタやトランジスタ
が形成され、駆動素子領域（Ｂ部）にはトランジスタが
形成されており、Ａ部とＢ部とでは焦点深度以上の大き
い段差を有している。

【００２５】次いで、ウエハ１２上の既形成パターンと
露光マスク２４上のパターンと位置合わせする。続い
て、ステップモータ１８によりスリット１７の角度がθ
１になるようにスリット１７を回転させる。ここで、ス
リット１７の角度θ１は露光光がレジスト膜２６の下部
に結像するような位置でディテクタ１６に最大の照射強
度が検出されるように調整してある。

【００２６】続いて、ステップモータ１３によりステー
ジ１１を光軸に沿って上に移動させながら、ディテクタ
１６によりレーザ光の照射強度を検出する。そして、レ
ーザ光の最大の照射強度を検出したら、その位置でｉ線
のシャッタを開いて露光を開始する。これにより、露光
マスク２４を介してウエハ１２上のレジスト膜２６にｉ
線が照射される。

【００２７】次いで、レジスト膜２６にｉ線を照射し
て、ステージ１１を光軸に沿って上に連続移動させなが
ら、ステップモータ１８によりスリット１７の角度がθ
２になるようにスリット１７を回転させる。ここで、ス
リット１７の角度θ２は露光光がレジスト膜２６のほぼ
上部に結像するような位置でディテクタ１６に最大の照
射強度が検出されるように調整してある。

【００２８】続いて、ディテクタ１６によりレーザ光の
最大の照射強度が検出されたら、その位置でｉ線のシャ
ッタを閉める。これにより、レジスト膜２６に露光マス
ク２４上のパターンが転写される。このとき、ウエハ１
２表面に焦点深度よりも大きい凹（Ｂ部）凸（Ａ部）の
段差を有していても、上記と同様にＡ部及びＢ部の選択
照射領域の合計の露光光の照射強度は、共に中央部が凸
状の極めてコントラストの良い、同じ様な照射強度の分
布（図３（ｚ））を示し、十分な焦点深度を確保するこ
とができる。しかも、露光光の波長やレンズの開口数は
もとのままにしておくことができるので、十分な解像力
も保持することができる。なお、図３（ａ）〜（ｅ）
は、ステージ１１の移動途中のＡ部及びＢ部のレジスト
膜２６に照射されるｉ線の強度分布を示し、図３（ｚ）
は合計の露光光の照射強度の分布を示す。

【００２９】次に、レジスト膜２６を現像してレジスト
パターン26ａを形成した後、Ａｌ膜２５をエッチング・
除去して配線層25ａを形成する（図２（ｂ））。その
後、通常の工程を経て、ＤＲＡＭが完成する。

【００３０】以上のように、本発明の第２の実施例の露
光方法によれば、露光光がレジスト膜２６の下部に結像
するように露光光の結像面を固定した後、結像面がレジ
スト膜２６内部を通過するようにウエハ１２を光軸に沿
って上に連続的に移動させながら、露光光を照射してい
るので、ウエハ１２の表面が焦点深度よりも大きい凹凸
の段差を有していても、Ａ部及びＢ部の選択照射領域の
合計の露光光の照射強度は共に中央部が凸状の極めてコ
ントラストの良い、同じ様な照射強度の分布を示し、十
分な焦点深度を確保することができる。しかも、露光光
の波長やレンズの開口数はもとのままにしておくことが
できるので、十分な解像力も保持することができる。ま
た、露光光を連続的に照射しているので、一度の露光で
済み、スループットの向上を図ることができる。

【００３１】更に、ウエハ１２表面の既形成パターンと
位置合わせされた露光マスク２４を介して露光光をレジ
スト膜２６に選択的に照射することにより、位置合わせ
と露光とを連続して行うことができる。

【００３２】なお、第２の実施例では、最初にレジスト
膜２５の最下部に結像面を合わせ、ステージ１１を上に
移動して露光を行っているが、逆に、最初にレジスト膜
２５の最上部に結像面を合わせ、ステージ１１を下に移
動して露光を行ってもよい。

【００３３】（３）第３の実施例図４は、本発明の第３の実施例の露光装置について説明
する構成図である。図４において、図１に示す第１の実
施例の露光装置と異なるところは、露光光発生手段２１
としてｉ線ランプ２７の他にｉ線の選択照射を行うシャ
ッタ２８を有し、かつ移動手段３０としてステップモー
タ１３の他にステージ（載置台）11ａに組み込まれ、不
図示のレジスト膜（被露光体）の形成されたウエハ１２
を光軸方向に上下移動させることができるピエソ素子２
９を有し、かつピエソ素子２９又はステップモータ１３
と連動させて、ウエハ１２が所定の位置に合致したとき
シャッタ２８を開き、ウエハ１２の移動距離が予め設定
されている距離に合致したときシャッタ２８を閉じる制
御手段３１を有していることである。なお、他の符号に
ついては、図１と同じ符号で示すものは図１と同じもの
を示す。

【００３４】図５（ａ）〜（ｃ）に、シャッタ２８の開
閉（図５（ａ））とピエゾ素子２９への電圧の印加（図
５（ｂ））との間のタイミングの一例について示す。即
ち、シャッタ２８の開放と同時に又は開放の後、時間に
比例して増加するような電圧をピエゾ素子２９に印加す
る。これにより、ピエゾ素子２９の対向面の間の距離が
変化し、ステージ11ａが光軸方向に上下する（図５
（ｃ））。なお、上記ではシャッタ２８とピエゾ素子２
９とを連動させた場合について説明しているが、シャッ
タ２８とステップモータ１３とを連動させた場合につい
ても同様なタイミングで行う。

【００３５】以上のように、本発明の第３の実施例の露
光装置においては、ウエハ１２のステージ１１を光軸方
向に上下移動させるステップモータ１３と、ウエハ１２
の位置検出手段１４と、ステージ１１の移動と停止を制
御する信号をステージ１１のピエゾ素子２９又はステッ
プモータ１３に送り、かつウエハ１２の移動距離が予め
設定されている距離に基づいて露光光の照射の開始と終
了を制御する信号を露光光発生手段２０に送る制御手段
１９を有している。

【００３６】従って、ウエハ１２を連続的に移動しなが
ら、必要な距離だけ露光光を照射することができるの
で、ウエハ１２上のレジスト膜の全ての部分が露光光の
結像面を通過するようにすることができる。これによ
り、ウエハ１２の表面に焦点深度よりも大きい凹凸の段
差を有していても、露光光の照射強度は積分された合計
の照射強度により決まるので、凹部の選択照射領域と凸
部の選択照射領域はともに中央部が凸状の極めてコント
ラストの良い、同じ様な照射強度の分布を示す。従っ
て、十分な焦点深度を得ることができる。しかも、露光
光の波長やレンズの開口数はもとのままにしておくこと
ができるので、十分な解像力も保持することができる。

【００３７】また、マスク保持具２３，及びレジスト膜
と露光マスクとの位置合わせ手段が設けられることによ
り、位置合わせと露光とを同一の装置で行うことができ
る。（４）第４の実施例次に、このような露光装置を用いて行う本発明の第４の
実施例の露光方法について図４，図５（ａ）〜（ｃ）を
参照しながら説明する。

【００３８】まず、ウエハ１２をステージ11ａに載置し
た後、ステージ11ａを上下させてレーザ発生装置１５，
スリット１７及びディテクタ１６とによりベストフォー
カス位置にウエハ１２をもってくる。なお、ベストフォ
ーカス位置は露光光が不図示のレジスト膜の内部で結像
するように設定されている。

【００３９】次いで、ウエハ１２表面の凹凸の段差に相
当する距離ｄだけステージ11ａを下げた後、時間に比例
して増加するような電圧をピエゾ素子２９に印加する。
これにより、ウエハ１２が一定の速度で光軸方向に上昇
しはじめる。

【００４０】次に、シャッタ２８を開放し、ウエハ１２
にｉ線を照射する。そして、ステージ11ａが距離２ｄだ
け上昇した後、制御装置３１からの信号によりシャッタ
２８を閉じて、ウエハ１２へのｉ線の照射を停止する。
続いて、ピエゾ素子２９に一定の電圧を印加すると、ウ
エハ１２の上昇は停止し、光軸上でウエハ１２の位置が
保持される。これにより、レジスト膜の最上部から＋ｄ
又は最下部から−ｄの距離の範囲内に初期の結像面が存
在すれば、結像面がレジスト膜の内部の全ての部分を通
過することになる。

【００４１】以上のようにして、露光が終了する。以上
のように、本発明の第４の実施例の露光方法において
は、露光光がレジスト膜の内部で結像するように露光光
の結像面を固定した後、凹凸の段差ｄだけウエハ１２を
下げ、次いで、結像面がレジスト膜内部を通過するよう
にウエハ１２を上に連続的に移動させながら、距離２ｄ
の移動の間だけ露光光を照射している。

【００４２】従って、レジスト膜の全ての部分が露光光
の結像面を通過するようにすることができるので、ウエ
ハ１２の表面が焦点深度よりも大きい凹凸の段差を有し
ていても、選択照射領域の合計の露光光の照射強度は共
に中央部が凸状の極めてコントラストの良い、同じ様な
照射強度の分布を示し、十分な焦点深度を確保すること
ができる。しかも、露光光の波長やレンズの開口数はも
とのままにしておくことができるので、十分な解像力も
保持することができる。また、露光光を連続的に照射し
ているので、一度の露光で済み、スループットの向上を
図ることができる。

【００４３】更に、ウエハ１２表面の既形成パターンと
位置合わせされた露光マスク２４を介して露光光をレジ
スト膜に選択的に照射することにより、位置合わせと露
光とを連続して行うことができる。

【００４４】なお、第４の実施例では、ベストフォーカ
ス位置にウエハ１２をもってくることによりレジスト膜
の内部のいずれかの部分に結像面を合わせた後、ウエハ
１２表面の凹凸の段差に相当する距離ｄだけステージ11
ａを下げ、その後、ステージ11ａを上に移動しながら露
光を行っているが、逆に、最初にステージ11ａを距離ｄ
だけ上昇させた後、ステージ11ａを下に移動しながら露
光を行ってもよい。

【００４５】

【発明の効果】以上のように、本発明の露光装置におい
ては、被露光体の載置台を光軸方向に上下移動させる移
動手段と、被露光体の位置検出手段と、載置台の移動と
停止を制御する信号を載置台の移動手段位置検出手段に
送り、かつ位置検出動作を制御する信号を位置検出手段
に送り、かつ位置検出手段からの位置情報に基づいて露
光光の発生の開始と終了を制御する信号を露光光の発生
手段に送る制御手段を有している。

【００４６】また、本発明の露光方法においては、露光
光が被露光体の下部又は上部に結像するように露光光の
結像面を固定した後、結像面が被露光体内部を通過する
ように被露光体を光軸方向に連続的に移動させながら、
露光光を照射している。

【００４７】このため、被露光体の全ての部分が露光光
の結像面を通過するようにすることができる。これによ
り、被露光体が凹凸を有していても、十分な焦点深度を
得ることができ、しかも、露光光の波長やレンズの開口
数はもとのままにしておくことができるので、十分な解
像力を保持することができる。

【００４８】また、被露光体を連続的に移動させながら
露光光を照射しているので、露光が一度で済み、スルー
プットの向上を図ることができる。更に、露光マスクの
保持手段と被露光体と露光マスクとの位置合わせ手段と
が設けられ、被露光体と位置合わせされた露光マスクを
介して露光光を被露光体に選択的に照射することによ
り、位置合わせと露光とを同一の装置で連続的に行うこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例の露光装置について説明
する構成図である。

【図２】本発明の第２の実施例の露光方法について説明
する断面図である。

【図３】本発明の第２の実施例の露光方法に係るレジス
ト膜へのｉ線の照射強度分布を示す図である。

【図４】本発明の第３の実施例の露光装置について説明
する構成図である。

【図５】本発明の第４の実施例の露光方法について説明
する図である。

【図６】従来例の露光装置について説明する構成図であ
る。

【符号の説明】

１１，11ａステージ（載置台）、１２ウエハ、１３ステップモータ（移動手段）、１５レーザ発生装置、１６ディテクタ、１７スリット、１８ステップモータ、１９，３１制御手段、２０，20ａ光学系、２１露光光発生手段、２２投影レンズ、２３マスク保持具（マスク保持手段）、２４露光マスク、２５Ａｌ膜、２６レジスト膜（被露光体）、２７ｉ線ランプ、２８シャッタ、２９ピエゾ素子、３０移動手段。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｇ０３Ｆ 9/00 Ｈ 7818−2Ｈ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】被露光体を載置する載置台と、該載置台
を光軸方向に移動させる移動手段と、前記被露光体の位
置検出手段と、前記被露光体に照射される露光光発生手
段と、前記被露光体の位置に前記露光光を集中させる投
影レンズとを有する露光装置であって、前記載置台の移動及び停止を制御する信号を前記載置台
の移動手段に送り、かつ前記位置検出動作を制御する信
号を前記位置検出手段に送り、かつ該位置検出手段から
の位置情報に基づいて前記露光光の照射の開始と終了を
制御する信号を前記露光光発生手段に送る制御手段を有
することを特徴とする露光装置。
【請求項２】被露光体を載置する載置台と、該載置台
を光軸方向に移動させる移動手段と、前記被露光体の位
置検出手段と、前記被露光体に照射される露光光発生手
段と、前記被露光体の位置に前記露光光を集中させる投
影レンズとを有する露光装置であって、前記載置台の移動を開始させ、予め設定されている距離
を移動の後、前記載置台の移動を終了させる信号を前記
載置台の移動手段に送り、かつ前記載置台の移動の開始
及び終了に応じて前記露光光の照射の開始及び終了を制
御する信号を前記露光光発生手段に送る制御手段を有す
ることを特徴とする露光装置。
【請求項３】請求項１又は請求項２記載の露光装置で
あって、露光マスクを保持するマスク保持手段と、前記
露光マスクと前記被露光体との位置合わせ手段とを有す
ることを特徴とする露光装置。
【請求項４】露光光の結像面を固定した後、前記結像
面が前記被露光体内部を通過するように前記被露光体を
光軸方向に連続的に移動させながら、前記露光光を照射
することを特徴とする露光方法。
【請求項５】被露光体と露光マスクとの位置合わせを
行い、その後、露光光の結像面を固定した後、前記結像
面が前記被露光体内部を通過するように前記被露光体を
光軸方向に連続的に移動させながら、前記露光マスクを
介して前記露光光を前記被露光体に選択的に照射するこ
とを特徴とする露光方法。
【請求項６】前記露光光の結像面を固定した後、露光
光の照射を開始し、その後、前記結像面が前記被露光体
内部を通過するように前記被露光体を光軸方向に連続的
に移動させ、少なくとも前記被露光体の最上部と最下部
との差に相当する距離だけ前記被露光体が移動した後、
前記露光光の照射を停止することを特徴とする請求項４
又は請求項５記載の露光方法。