JPH0582079A - 質量分析装置 - Google Patents
質量分析装置Info
- Publication number
- JPH0582079A JPH0582079A JP3239298A JP23929891A JPH0582079A JP H0582079 A JPH0582079 A JP H0582079A JP 3239298 A JP3239298 A JP 3239298A JP 23929891 A JP23929891 A JP 23929891A JP H0582079 A JPH0582079 A JP H0582079A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ion
- vacuum chamber
- vacuum
- mass
- sensitivity
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- Pending
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- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】質量分析部１４の設置された第３真空室１１内
に、第２イオン生成部１２を設けて、この真空室内が高
真空度に保たれ、該サンプルイオンが無い条件におい
て、第２イオン生成部で生成されたイオン成分のイオン
量をイオン検出器１６で測定し、その検出量が一定値と
なるように、高圧電源１７の出力を可変して、イオン検
出器の感度を補正する。 【効果】イオン検出器の感度変動による分析データの再
現性が改善され、分析精度の向上に効果がある。
に、第２イオン生成部１２を設けて、この真空室内が高
真空度に保たれ、該サンプルイオンが無い条件におい
て、第２イオン生成部で生成されたイオン成分のイオン
量をイオン検出器１６で測定し、その検出量が一定値と
なるように、高圧電源１７の出力を可変して、イオン検
出器の感度を補正する。 【効果】イオン検出器の感度変動による分析データの再
現性が改善され、分析精度の向上に効果がある。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、質量分析装置におけ
る、イオン検出器の検出感度に係り、分析測定値の再現
性および精度の安定に関係するもので質量分析装置の分
析データ精度を向上させるための種々の最適条件の中で
最も重要なイオン検出器の検出感度を一定に保つもので
ある。
る、イオン検出器の検出感度に係り、分析測定値の再現
性および精度の安定に関係するもので質量分析装置の分
析データ精度を向上させるための種々の最適条件の中で
最も重要なイオン検出器の検出感度を一定に保つもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】従来、プラズマを用いた質量分析計につ
いては、ブラッキー アンド サン社発行の、アプリケ
ーション オブ インダクティブリィカップルドプラズ
ママススペクトロメトリィの第１６項から第１７項にお
いて論じられている。すなわち、測定を行いたいサンプ
ルをネブライザ（霧吹き）によって霧状とし、このサン
プルをＩＣＰプラズマの熱（約５０００℃〜６０００
℃）によって、イオンの状態になるまで分解する。そし
てこのイオン（大気中に生成される）をインターフェイ
スを通して、大気中から真空中へと引き込み、質量分析
計を用いて、質量毎に分析を行う。そしして、この分析
されたサンプルのイオンを、真空中の検出器で検出し、
これをパルスカウンティングと呼ばれる、１個１個のイ
オンを検出できる方法を用いて増幅し、データを得てい
る。
いては、ブラッキー アンド サン社発行の、アプリケ
ーション オブ インダクティブリィカップルドプラズ
ママススペクトロメトリィの第１６項から第１７項にお
いて論じられている。すなわち、測定を行いたいサンプ
ルをネブライザ（霧吹き）によって霧状とし、このサン
プルをＩＣＰプラズマの熱（約５０００℃〜６０００
℃）によって、イオンの状態になるまで分解する。そし
てこのイオン（大気中に生成される）をインターフェイ
スを通して、大気中から真空中へと引き込み、質量分析
計を用いて、質量毎に分析を行う。そしして、この分析
されたサンプルのイオンを、真空中の検出器で検出し、
これをパルスカウンティングと呼ばれる、１個１個のイ
オンを検出できる方法を用いて増幅し、データを得てい
る。
【０００３】このＩＣＰ／ＭＳと呼ばれる検出方法は、
元素分析用の検出器としては、他のいかなる検出器より
も高感度であると言われており、大多数の元素におい
て、ＰＰＴレベル（１０-12ｇ／ｇ）の検出限界値が達
成されている。
元素分析用の検出器としては、他のいかなる検出器より
も高感度であると言われており、大多数の元素におい
て、ＰＰＴレベル（１０-12ｇ／ｇ）の検出限界値が達
成されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】前記従来技術は、プラ
ズマによる高いイオン生成能力と、質量分析計の高い選
択能力を兼ね備え、元素分析計としての他のいかなる分
析装置よりも高い検出感度を持っている。しかしなが
ら、検出感度を安定に保つためには、多くの分析上での
条件（例えば、検知器の感度，プラズマ温度および位置
など）があり、最適な分析条件を設定するために、多く
の時間と高度な測定技術を必要とする問題があった。
ズマによる高いイオン生成能力と、質量分析計の高い選
択能力を兼ね備え、元素分析計としての他のいかなる分
析装置よりも高い検出感度を持っている。しかしなが
ら、検出感度を安定に保つためには、多くの分析上での
条件（例えば、検知器の感度，プラズマ温度および位置
など）があり、最適な分析条件を設定するために、多く
の時間と高度な測定技術を必要とする問題があった。
【０００５】本発明の目的は、前記検出感度を安定に保
つための要素である、イオン検出器の感度が一定となる
ように、第３真空室に設置した第２のイオン生成部によ
り、一定な高真空度となっている前記第３真空室の残留
ガスをイオン化し測定し、その測定値が一定値範囲内と
なるように、イオン検出器の感度を制御する機能を備え
た、質量分析装置を提供することにある。
つための要素である、イオン検出器の感度が一定となる
ように、第３真空室に設置した第２のイオン生成部によ
り、一定な高真空度となっている前記第３真空室の残留
ガスをイオン化し測定し、その測定値が一定値範囲内と
なるように、イオン検出器の感度を制御する機能を備え
た、質量分析装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は図１に示すように、質量分析装置の第３真
空室１１内の質量分析部１４のイオン引込口の近くに第
２イオン生成部１２を設置し、第２真空室８および第３
真空室１１が測定状態と同じ真空度のとき、バルブ５を
閉じ、第１真空室と遮断した状態で、第２イオン生成部
１２により第３真空室１１内の残留ガスのイオンを生成
し、このイオン量を測定し、測定値が一定範囲内になる
ように、イオン検出器の感度を制御するようにしたもの
である。
に、本発明は図１に示すように、質量分析装置の第３真
空室１１内の質量分析部１４のイオン引込口の近くに第
２イオン生成部１２を設置し、第２真空室８および第３
真空室１１が測定状態と同じ真空度のとき、バルブ５を
閉じ、第１真空室と遮断した状態で、第２イオン生成部
１２により第３真空室１１内の残留ガスのイオンを生成
し、このイオン量を測定し、測定値が一定範囲内になる
ように、イオン検出器の感度を制御するようにしたもの
である。
【０００７】
【作用】上記構成は、質量分析装置の真空室内でイオン
を生成するので、サンプルと無関係に、真空室内の残留
ガス成分のみのイオンを測定することができる。
を生成するので、サンプルと無関係に、真空室内の残留
ガス成分のみのイオンを測定することができる。
【０００８】真空室内の真空度は常に一定に保っている
ので、その残留ガスの成分，量は共にほぼ一定であり、
この条件のもとで生成されたイオン量を測定すると、一
定の測定値が得られるはずである。この値が変動する要
因は、イオン検出器の感度変化であるので、イオン検出
器のゲインを制御することにより、一定の測定値となる
ように感度を補正することが出来る。
ので、その残留ガスの成分，量は共にほぼ一定であり、
この条件のもとで生成されたイオン量を測定すると、一
定の測定値が得られるはずである。この値が変動する要
因は、イオン検出器の感度変化であるので、イオン検出
器のゲインを制御することにより、一定の測定値となる
ように感度を補正することが出来る。
【０００９】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図１により説明す
る。
る。
【００１０】図１は、質量分析装置の全体構成と本実施
例を示したものである。分析測定をされるサンプルは霧
状化され、第１イオン生成部１でイオン化され、サンプ
リングコーン２，第１真空室３に引き込まれ更にバルブ
５の開いた状態では、高真空度の第２真空室８，第３真
空室１１へとイオンレンズ系６で加速，収束されながら
質量分析部１４に引き込まれ、質量分析部１４の制御電
源１５によって選択された質量のイオンのみが、イオン
検出器１６に到達し、電気信号に変換され、信号ＡＭＰ
１８で増幅されてデータ処理部１９で信号処理される。
前記第２真空室８は、第２バルブ９を通して第２真空ポ
ンプ１０で、第３真空室１１は、第３バルブ２０を通し
て第３真空ポンプ２１で、常に真空排気されている。第
１真空室３は、測定直前に真空ポンプ４により真空排気
される。またバルブ５は、前記第１真空室３の真空度が
指定値に到達するまで開かないように制御される。
例を示したものである。分析測定をされるサンプルは霧
状化され、第１イオン生成部１でイオン化され、サンプ
リングコーン２，第１真空室３に引き込まれ更にバルブ
５の開いた状態では、高真空度の第２真空室８，第３真
空室１１へとイオンレンズ系６で加速，収束されながら
質量分析部１４に引き込まれ、質量分析部１４の制御電
源１５によって選択された質量のイオンのみが、イオン
検出器１６に到達し、電気信号に変換され、信号ＡＭＰ
１８で増幅されてデータ処理部１９で信号処理される。
前記第２真空室８は、第２バルブ９を通して第２真空ポ
ンプ１０で、第３真空室１１は、第３バルブ２０を通し
て第３真空ポンプ２１で、常に真空排気されている。第
１真空室３は、測定直前に真空ポンプ４により真空排気
される。またバルブ５は、前記第１真空室３の真空度が
指定値に到達するまで開かないように制御される。
【００１１】ここで、第３真空室１１に設置された第２
イオン生成部１２は、サンプルの測定のときは動作しな
いように制御されていて、測定前あるいは測定の中断時
にイオン検出器１６の感度補正指示により動作ＯＮとな
り、前記バルブ５を閉じて、第１真空室３と第２真空室
８を遮断した後に第２真空室８と第３真空室１１の真空
度が一定値に安定した状態を確認し、前記第２イオン生
成部１２の電源１３をＯＮにして第３真空室１１内の残
留ガス成分のイオン化を行う。このイオン化された成分
の指定質量数のイオン量を測定する。この測定値とイオ
ン検出器１６の使用開始したときに同じ条件で得られた
測定値（基準値）を比較し、一定値範囲内になる様に、
イオン検出器１６の高圧電源１７の出力電圧を制御して
ゲインを変えることにより、検出感度の補正を行うこと
が出来る。
イオン生成部１２は、サンプルの測定のときは動作しな
いように制御されていて、測定前あるいは測定の中断時
にイオン検出器１６の感度補正指示により動作ＯＮとな
り、前記バルブ５を閉じて、第１真空室３と第２真空室
８を遮断した後に第２真空室８と第３真空室１１の真空
度が一定値に安定した状態を確認し、前記第２イオン生
成部１２の電源１３をＯＮにして第３真空室１１内の残
留ガス成分のイオン化を行う。このイオン化された成分
の指定質量数のイオン量を測定する。この測定値とイオ
ン検出器１６の使用開始したときに同じ条件で得られた
測定値（基準値）を比較し、一定値範囲内になる様に、
イオン検出器１６の高圧電源１７の出力電圧を制御して
ゲインを変えることにより、検出感度の補正を行うこと
が出来る。
【００１２】
【発明の効果】本発明によれば、前記第３真空室に設置
された第２イオン生成部で生成するイオン量は、同一真
空室内の同一真空度であれば、一定となるので、このイ
オン量を検出することにより、その検出値からイオン検
出器の感度変動を知ることが出来るので、この検出値が
常に一定値範囲内に入るように、イオン検出器のゲイン
を制御することにより、常に同じ感度で測定が可能とな
り、再現性の良い分析データが得られる。
された第２イオン生成部で生成するイオン量は、同一真
空室内の同一真空度であれば、一定となるので、このイ
オン量を検出することにより、その検出値からイオン検
出器の感度変動を知ることが出来るので、この検出値が
常に一定値範囲内に入るように、イオン検出器のゲイン
を制御することにより、常に同じ感度で測定が可能とな
り、再現性の良い分析データが得られる。
【００１３】また、イオン検出器の感度低下が大きく、
補正が不可能となったときには、イオン検出器の寿命と
して、分析測定者に知らせることが可能となり、装置の
保守性の向上となる。
補正が不可能となったときには、イオン検出器の寿命と
して、分析測定者に知らせることが可能となり、装置の
保守性の向上となる。
【図１】本発明の一実施例を示す装置の全体構成図であ
る。
る。
１…第１イオン生成部、２…サンプリングコーン、３…
第１真空室、５…バルブ、１１…第３真空室、１２…第
２イオン生成部、１４…質量分析部、１６…イオン検出
器、１７…高圧電源、１８…信号ＡＭＰ、１９…データ
処理部。
第１真空室、５…バルブ、１１…第３真空室、１２…第
２イオン生成部、１４…質量分析部、１６…イオン検出
器、１７…高圧電源、１８…信号ＡＭＰ、１９…データ
処理部。
Claims (2)
- 【請求項１】イオン生成部とイオン生成部に試料を導入
するための試料導入系，イオンビーム生成系とイオンを
質量別に分別する質量分析系と、イオン検出器を備え、
該イオン導入部の第１真空室と前記質量分析系，イオン
検出器を設置する第２および第３の真空室を備えた質量
分析計において、前記第３真空室に、第２イオン生成部
を設置し、第１真空室と第２，第３真空室を遮断した状
態で質量分析を行うことを可能としたことを特徴とした
質量分析装置。 - 【請求項２】請求項１により、第１イオン生成部を停止
し第１真空室と第３真空室を遮断した状態で、第２イオ
ン生成部によりイオンを生成し分析測定し、この測定値
が一定範囲内になる様にイオン検出器の検出感度を可変
することを特徴とした質量分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3239298A JPH0582079A (ja) | 1991-09-19 | 1991-09-19 | 質量分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3239298A JPH0582079A (ja) | 1991-09-19 | 1991-09-19 | 質量分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0582079A true JPH0582079A (ja) | 1993-04-02 |
Family
ID=17042652
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3239298A Pending JPH0582079A (ja) | 1991-09-19 | 1991-09-19 | 質量分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0582079A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7454147B2 (en) | 2003-08-21 | 2008-11-18 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Printed circuit board and an image forming apparatus having the printed circuit board |
-
1991
- 1991-09-19 JP JP3239298A patent/JPH0582079A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7454147B2 (en) | 2003-08-21 | 2008-11-18 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Printed circuit board and an image forming apparatus having the printed circuit board |
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