JPH0573940U - Spin dryer - Google Patents
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- JPH0573940U JPH0573940U JP1264092U JP1264092U JPH0573940U JP H0573940 U JPH0573940 U JP H0573940U JP 1264092 U JP1264092 U JP 1264092U JP 1264092 U JP1264092 U JP 1264092U JP H0573940 U JPH0573940 U JP H0573940U
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 基板の乾燥処理能率を向上させることができ
るとともに、基板を速やかにかつその全体をほぼ均一に
乾燥させることができるスピン乾燥装置を提供する。
【構成】 乾燥槽11内に水平にターンテーブル22を
設け、このターンテーブル22の上に該ターンテーブル
22に対して回転自在な複数の基板ステージ24を設
け、これら基板ステージ24の上に洗浄した基板aを配
置し、前記ターンテーブル22および各基板ステージ2
4の回転動作でこれら基板aを乾燥槽11内で公転およ
び自転させる。
(57) [Summary] [Object] To provide a spin drying apparatus capable of improving the efficiency of drying treatment of a substrate and capable of drying the substrate rapidly and substantially uniformly. [Structure] A turntable 22 is horizontally provided in a drying tank 11, a plurality of substrate stages 24 rotatable with respect to the turntable 22 are provided on the turntable 22, and the substrate stage 24 is cleaned. The substrate a is arranged, and the turntable 22 and each substrate stage 2 are arranged.
These substrates a are revolved and rotated in the drying tank 11 by the rotation operation of 4.
Description
【0001】[0001]
この考案は、例えば液晶表示素子用の基板を乾燥させるスピン乾燥装置に関す る。 The present invention relates to a spin dryer for drying a substrate for a liquid crystal display device, for example.
【0002】[0002]
液晶表示素子の製造ラインの途中には、液晶表示素子用の基板を純水などで洗 浄し、その洗浄した基板を乾燥させる工程があり、このような乾燥工程の処理に は一般にスピン乾燥装置が用いられている。 There is a process of washing the substrate for the liquid crystal display element with pure water and drying the washed substrate in the middle of the liquid crystal display element manufacturing line, and the spin drying device is generally used for the treatment of such a drying step. Is used.
【0003】 従来におけるこの種のスピン乾燥装置の原理的な構成を図11に示す。符号1 が乾燥槽で、この乾燥槽1内に水平に基板ステージ2が設けられ、この基板ステ ージ2がモータ3により駆動されて高速で回転するようになっている。FIG. 11 shows a principle configuration of a conventional spin drying apparatus of this type. Reference numeral 1 denotes a drying tank, and a substrate stage 2 is horizontally provided in the drying tank 1, and the substrate stage 2 is driven by a motor 3 to rotate at a high speed.
【0004】 乾燥槽1の一方側にはベルトコンベアなどによるローダー側搬送系4が、他方 側にはアンローダー側搬送系5がそれぞれ架設され、これら搬送系4,5に対し てそれぞれ基板保持用の保持アーム6,7が設けられている。A loader-side transfer system 4 such as a belt conveyor is installed on one side of the drying tank 1, and an unloader-side transfer system 5 is installed on the other side. The transfer systems 4 and 5 are for holding substrates. Holding arms 6 and 7 are provided.
【0005】 そして洗浄された基板a(図中斜線を施して示す)がローダー側搬送系4を介 して乾燥槽1の配置側に搬送されてくると、この基板aが保持アーム6により保 持され、この保持アーム6により基板aがローダー側搬送系4の上から乾燥槽1 内の基板ステージ2の上に移送され、この基板aが真空吸着により基板ステージ 2の上に固定される。When the cleaned substrate a (shown by hatching in the figure) is transferred to the arrangement side of the drying tank 1 via the loader side transfer system 4, the substrate a is held by the holding arm 6. The substrate a is held and transferred by the holding arm 6 from above the loader side transfer system 4 onto the substrate stage 2 in the drying tank 1, and this substrate a is fixed onto the substrate stage 2 by vacuum suction.
【0006】 このような状態のもとで、乾燥槽1の上面の開口部が蓋カバー(図示せず)に より閉じられ、モータ3の駆動で基板ステージ2が基板aと一体に高速で回転す る。そしてこの回転により基板aに付着していた水滴が遠心力でその周囲に飛散 するとともに、基板aが乾燥槽1内の空気と活発に接触し、これにより基板aの 表面が乾燥される。Under such a state, the opening on the upper surface of the drying tank 1 is closed by a lid cover (not shown), and the motor 3 drives the substrate stage 2 to rotate integrally with the substrate a at high speed. Suru By this rotation, the water droplets attached to the substrate a are scattered around by the centrifugal force, and the substrate a is actively contacted with the air in the drying tank 1, whereby the surface of the substrate a is dried.
【0007】 乾燥が終了したのちには、基板ステージ2の回転が停止し、乾燥槽1の蓋カバ ーが開き、基板ステージ2の上の基板aがアンローダー側搬送系5の保持アーム 7により保持されるとともに、この保持アーム7を介して基板aがアンローダー 側搬送系5の上に移送され、このアンローダー側搬送系5により基板aが次の処 理工程部に搬送され、このような乾燥処理が順次繰り返される。After the drying is completed, the rotation of the substrate stage 2 is stopped, the lid cover of the drying tank 1 is opened, and the substrate a on the substrate stage 2 is held by the holding arm 7 of the unloader side transfer system 5. While being held, the substrate a is transferred onto the unloader-side transfer system 5 via the holding arm 7, and the substrate a is transferred to the next processing step unit by the unloader-side transfer system 5. The drying process is sequentially repeated.
【0008】[0008]
しかしながら、このような従来のスピン乾燥装置においては、基板ステージの 上に1枚の基板のみを配置して乾燥させるため、基板1枚当りの乾燥時間が長く 、乾燥処理能率が低下し、さらに基板ステージの上に配置された基板が乾燥槽内 の一定位置で自転するのみであるから、基板の周縁部は乾燥槽内の空気と良好に 接触するが、基板の中心部では空気との接触度合が弱く、このため乾燥効率が悪 く、また乾燥状態も不均一となる難点がある。 However, in such a conventional spin drying apparatus, since only one substrate is placed on the substrate stage and dried, the drying time per substrate is long, the drying processing efficiency is lowered, and the substrate is further dried. Since the substrate placed on the stage only rotates at a fixed position in the drying tank, the peripheral edge of the substrate makes good contact with the air in the drying tank, but the degree of contact with air at the center of the substrate is high. As a result, the drying efficiency is poor, and the dry state is not uniform.
【0009】 この考案はこのような点に着目してなされたもので、その目的とするところは 、乾燥処理能率を向上させることができるとともに、基板を速やかにかつ全体を ほぼ均一に乾燥させることができるスピン乾燥装置を提供することにある。The present invention has been made paying attention to such a point, and an object thereof is to improve the efficiency of the drying process and to dry the substrate quickly and almost uniformly. Another object of the present invention is to provide a spin drying device capable of
【0010】[0010]
この考案はこのような目的を達成するために、乾燥槽と、この乾燥槽内に水平 に設けられた回転自在なターンテーブルと、このターンテーブルの上に該ターン テーブルに対してそれぞれ回転自在に設けられ複数の基板ステージとを備え、前 記各基板ステージの上に基板を配置し、前記ターンテーブルおよび各基板ステー ジの回転動作で前記基板を乾燥槽内で公転および自転させるようにしたものであ る。 In order to achieve such an object, the present invention provides a drying tank, a rotatable turntable horizontally provided in the drying tank, and a rotatable turntable on the turntable with respect to the turntable. A plurality of substrate stages provided, the substrate is arranged on each of the above substrate stages, and the substrate is revolved and revolves in a drying tank by the rotation operation of the turntable and each substrate stage. Is.
【0011】[0011]
【作用】 基板の乾燥処理時には、洗浄した複数枚の基板を乾燥槽内の各基板ステージの 上に配置する。この状態で、ターンテーブルおよび各基板ステージが回転し、タ ーンテーブルの回転により各基板ステージの上の各基板がターンテーブルの回転 軸を中心にして公転し、各基板ステージの回転により各基板がそれぞれ自転する 。When the substrate is dried, a plurality of washed substrates are placed on each substrate stage in the drying tank. In this state, the turntable and each substrate stage rotate, each rotation of the turntable causes each substrate on each substrate stage to revolve around the rotation axis of the turntable, and each rotation of each substrate stage causes each substrate to rotate. Rotate.
【0012】 このように、各基板が乾燥槽内で公転および自転するため、各基板の周縁部か ら中心部に亘る全体に乾燥槽内の空気がくまなく良好に接触し、これにより各基 板を速やかに効率よく、かつその全体を均一に乾燥させることができ、また乾燥 槽内に複数枚の基板を収納して1回の乾燥処理動作でその複数枚の基板を同時に 乾燥させることができるから、乾燥処理能率が向上する。As described above, since each substrate revolves and rotates in the drying tank, the air in the drying tank is in good contact with the entire area from the peripheral portion to the central portion of each substrate. The plate can be dried quickly and efficiently, and the entire plate can be uniformly dried. In addition, a plurality of substrates can be stored in a drying tank and the plurality of substrates can be dried at the same time by one drying treatment operation. Therefore, the drying treatment efficiency is improved.
【0013】[0013]
以下、この考案の一実施例について図1ないし図10を参照して説明する。 An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.
【0014】 符号11は、上面に開口部12を有する乾燥槽で、この乾燥槽11に対して、 図10に示すように前記開口部12を開閉する蓋カバー13が設けられている。 この蓋カバー13の上面には通気口14が形成され、この通気口14にフィルタ 15が設けられている。そしてこの蓋カバー13が操作機構(図示せず)により 操作されて乾燥槽11の開口部12が開閉されるようになっている。また乾燥槽 11の側面の一部には吸気ホース16が接続され、この吸気ホース16の途中に 吸引ポンプ17が設けられている。Reference numeral 11 is a drying tank having an opening 12 on the upper surface thereof, and a lid cover 13 for opening and closing the opening 12 is provided to the drying tank 11 as shown in FIG. A vent hole 14 is formed on the upper surface of the lid cover 13, and a filter 15 is provided on the vent hole 14. The lid cover 13 is operated by an operation mechanism (not shown) to open and close the opening 12 of the drying tank 11. An intake hose 16 is connected to part of the side surface of the drying tank 11, and a suction pump 17 is provided in the middle of the intake hose 16.
【0015】 乾燥槽11の一方側にはベルトコンベアなどによるローダー側搬送系18が、 他方側にはアンローダー側搬送系19がそれぞれ架設され、これら搬送系18, 19に対してそれぞれ基板保持用の保持アーム20,21が設けられている。こ れら保持アーム20,21は、平行に並列した一対の基板aを同時に保持して移 送することができるように構成されている。A loader-side transfer system 18 such as a belt conveyor is installed on one side of the drying tank 11, and an unloader-side transfer system 19 is installed on the other side. The transfer systems 18 and 19 are used to hold substrates, respectively. Holding arms 20 and 21 are provided. These holding arms 20 and 21 are configured to simultaneously hold and transfer a pair of parallel substrates a in parallel.
【0016】 乾燥槽11内には比較的面積の大きいターンテーブル22が設けられ、このタ ーンテーブル22は回転軸22aを介して水平に支持され、この回転軸22aが モータ23により駆動され、この駆動でターンテーブル22が比較的低速で回転 するようになっている。A turntable 22 having a relatively large area is provided in the drying tank 11. The turntable 22 is horizontally supported via a rotary shaft 22a, and the rotary shaft 22a is driven by a motor 23. The turntable 22 rotates at a relatively low speed.
【0017】 ターンテーブル22の上には均等的に4枚の基板ステージ24が設けられ、こ れら基板ステージ24はそれぞれその中心に設けられた回転軸24aを介してタ ーンテーブル22に回転自在に支持されている。そしてターンテーブル22の下 面に、前記各回転軸24aに対応してモータ25が取り付けられ、これらモータ 25により前記各回転軸24aが駆動され、この駆動で各基板ステージ24が高 速で回転するようになっている。Four substrate stages 24 are evenly provided on the turntable 22, and each of the substrate stages 24 is rotatably attached to the turntable 22 via a rotation shaft 24 a provided at the center thereof. It is supported. Then, motors 25 are attached to the lower surface of the turntable 22 corresponding to the rotary shafts 24a, and the rotary shafts 24a are driven by the motors 25. By this drive, the substrate stages 24 rotate at high speed. It is like this.
【0018】 乾燥槽11の内部は見掛け上、後部領域Aと前部領域Bとの区画され、前記後 部領域Aの部分を前記搬送系18,19の中心軸線Pが通る関係にある。そして 乾燥動作の待機時においては、乾燥槽11の蓋カバー13が開放され、またター ンテーブル22の上の4枚の基板ステージ24がその長手方向を搬送系18,1 9の中心軸線Pに対して直角となる方向に向いて前記後部領域Aと前部領域Bと に、それぞれ互いに一定の間隔をあけて左右に並列するように配置している。The inside of the drying tank 11 is apparently divided into a rear area A and a front area B, and the central axis P of the transport systems 18 and 19 passes through the rear area A. When the drying operation is on standby, the lid cover 13 of the drying tank 11 is opened, and the four substrate stages 24 on the turntable 22 have their longitudinal directions aligned with the central axis P of the transport system 18, 19. The rear region A and the front region B are arranged side by side at right angles to each other in a direction at a right angle to each other.
【0019】 このような状態のもとで、洗浄された一対の基板a(図中斜線を施して示す) が、前記基板ステージ24と平行の姿勢でかつ互いに一定の間隔、すなわち左右 に並列した前記基板ステージ24の離間幅と同一の間隔でローダー側搬送系18 により乾燥槽11の配置側に搬送されてくる(図1参照)。Under such a condition, the pair of cleaned substrates a (shown by hatching in the figure) are in a posture parallel to the substrate stage 24 and are arranged at a constant interval, that is, in parallel on the left and right. It is conveyed to the arrangement side of the drying tank 11 by the loader side conveyance system 18 at the same interval as the separation width of the substrate stage 24 (see FIG. 1).
【0020】 そしてこれら基板aがその互いの間隔を保ったまま保持アーム20により同時 に保持され、この保持アーム20によりこれら基板aが乾燥槽11内における後 部領域Aに配置する基板ステージ24の上に移送され、これら基板aが真空吸着 によりその基板ステージ24の上に固定される(図2参照)。Then, the substrates a are simultaneously held by the holding arm 20 while keeping the distance between them, and the holding arms 20 cause the substrates a of the substrate stage 24 arranged in the rear area A in the drying tank 11. These substrates a are transferred to the upper position and fixed on the substrate stage 24 by vacuum suction (see FIG. 2).
【0021】 こののちモータ23が起動し、このモータ23による駆動でターンテーブル2 2が図中反時計方向に180°回転する。この回転により乾燥槽11内の後部領 域Aに配置していた一対の基板ステージ24が前部領域Bに、前部領域Bに配置 していた一対の基板ステージ24が後部領域Aにそれぞれ移動する(図3参照) 。After that, the motor 23 is started, and the turntable 22 is rotated 180 ° counterclockwise in the figure by the drive of the motor 23. By this rotation, the pair of substrate stages 24 arranged in the rear area A in the drying tank 11 moves to the front area B, and the pair of substrate stages 24 arranged in the front area B moves to the rear area A. (See Figure 3).
【0022】 一方、ターンテーブル22が180°回転する間に、前記保持アーム20が元 の位置に戻り、また洗浄された他の一対の基板aがローダー側搬送系18により 乾燥槽11の配置側に搬送されてくる。そしてこれら基板aが、前述と同様に、 保持アーム20により同時に保持され、後部領域Aに移り動いた空の基板ステー ジ24の上に移送され、これら基板aが真空吸着によりその基板ステージ24の 上に固定される(図4参照)。On the other hand, while the turntable 22 rotates 180 °, the holding arm 20 returns to its original position, and another pair of washed substrates a is transferred to the drying tank 11 by the loader side transfer system 18. Will be transported to. Then, as described above, these substrates a are simultaneously held by the holding arm 20 and transferred onto the empty substrate stage 24 that has moved to the rear area A, and these substrates a are held on the substrate stage 24 by vacuum suction. It is fixed on top (see FIG. 4).
【0023】 こののち、前記保持アーム20が元の位置に戻るとともに、洗浄されたさらに 他の一対の基板aがローダー側搬送系18により乾燥槽11の配置側に搬送され 、これら基板aが保持アーム20の配置位置で待機する(図5参照)。After that, the holding arm 20 returns to the original position, and another pair of cleaned substrates a is transferred to the arrangement side of the drying tank 11 by the loader side transfer system 18, and the substrates a are held. It waits at the position where the arm 20 is arranged (see FIG. 5).
【0024】 一方、乾燥槽11内に4枚の基板aがセットされたのちに、乾燥槽11の上面 の開口部12が蓋カバー13で閉じられる。この状態で各モータ23,25およ び吸引ポンプ17がそれぞれ起動し、前記一方のモータ23の駆動でターンテー ブル22が回転軸22aを中心にして反時計方向に比較的低速で回転し、他方の モータ25の駆動で各基板ステージ24がその上の基板aと一体に回転軸24a を中心にして反時計方向にそれぞれ高速で回転する。すなわち各基板ステージ2 4が各基板aと一体に乾燥槽11内において公転しながら自転する(図6参照) 。On the other hand, after the four substrates a are set in the drying tank 11, the opening 12 on the upper surface of the drying tank 11 is closed by the lid cover 13. In this state, the respective motors 23 and 25 and the suction pump 17 are respectively activated, and the drive of the one motor 23 causes the turntable 22 to rotate about the rotation shaft 22a in the counterclockwise direction at a relatively low speed. When each of the substrate stages 24 is driven by the motor 25, the substrate stage 24 rotates integrally with the substrate a on the rotating shaft 24a counterclockwise at a high speed. That is, each substrate stage 24 revolves around each substrate a while revolving in the drying tank 11 (see FIG. 6).
【0025】 このように各基板aが乾燥槽11内で公転しながら自転することにより、基板 aに付着していた水滴が遠心力でその周囲に飛散して除去される。さらに基板a が公転しながら自転することにより、各基板aの周縁部から中心部に亘る全体が 乾燥槽11内の空気とくまなく良好に接触し、このため各基板aの全体が効率よ くかつ均一に乾燥される。In this way, each substrate a revolves in the drying tank 11 while revolving, so that the water droplets adhering to the substrate a are scattered around and removed by the centrifugal force. Further, as the substrates a 1 revolve while revolving, the whole of each substrate a from the peripheral portion to the central portion is in good contact with the air in the drying tank 11 without exception, so that the entire substrate a 1 can be efficiently used. And evenly dried.
【0026】 乾燥槽11内の湿った空気は、吸引ポンプ17の動作で吸気ホース16を通し て乾燥槽11の外部に順次排出され、この排出に応じて乾燥槽11の外部の乾燥 した空気が蓋カバー13の通気口14からフィルタ15を通して乾燥槽11内に 順次吸入される(図10参照)。The moist air in the drying tank 11 is sequentially discharged to the outside of the drying tank 11 through the suction hose 16 by the operation of the suction pump 17, and the dry air outside the drying tank 11 is discharged in accordance with this discharge. It is sequentially sucked into the drying tank 11 through the filter 15 from the vent 14 of the lid cover 13 (see FIG. 10).
【0027】 基板aの乾燥が終了したのちには、吸引ポンプ17、ターンテーブル22、基 板ステージ24の各動作が停止するとともに、蓋カバー13が開き、乾燥槽11 の開口部12が開放され、またアンローダー側搬送系19の保持アーム21が乾 燥槽11の配置側に移動する(図7参照)。After the substrate a is dried, each operation of the suction pump 17, the turntable 22, and the substrate stage 24 is stopped, the lid cover 13 is opened, and the opening 12 of the drying tank 11 is opened. Also, the holding arm 21 of the unloader-side transfer system 19 moves to the side where the drying tank 11 is arranged (see FIG. 7).
【0028】 そして乾燥槽11内の後部領域Aに配置している一対の基板ステージ24の上 の乾燥済みの基板aが前記保持アーム21により保持され、この保持アーム21 を介してその基板aがアンローダー側搬送系19の上に移送され、このアンロー ダー側搬送系19により次の処理工程部に搬送される。またローダー側搬送系1 8の上に待機していた一対の基板aがローダー側搬送系18の保持アーム20を 介して、後部領域Aの空となった前記基板ステージ24の上にセットされ、さら にローダー側搬送系18により乾燥槽11の配置側に洗浄された一対の基板aが 搬送されている(図8参照)。The dried substrate a on the pair of substrate stages 24 arranged in the rear area A in the drying tank 11 is held by the holding arm 21, and the substrate a is transferred via the holding arm 21. It is transferred onto the unloader side transfer system 19 and transferred to the next processing step section by the unloader side transfer system 19. Further, a pair of substrates a waiting on the loader side transfer system 18 is set on the empty substrate stage 24 in the rear area A via the holding arm 20 of the loader side transfer system 18, Furthermore, the loader side transfer system 18 transfers the pair of cleaned substrates a to the side where the drying tank 11 is disposed (see FIG. 8).
【0029】 こののちモータ23が起動し、このモータ23の駆動でターンテーブル22が 図中反時計方向に180°回転し、この回転で乾燥槽11内の後部領域Aに配置 していた一対の基板ステージ24が前部領域Bに、前部領域Bに配置していた一 対の基板ステージ24が後部領域Aにそれぞれ移動し、乾燥済みの一対の基板a が後部領域Aに配置する。そしてこの乾燥済みの一対の基板aが前述と同様に、 アンローダー側搬送系19の保持アーム21により保持されてアンローダー側搬 送系19の上に移送され、またローダー側搬送系18の上の一対の基板aがロー ダー側搬送系18の保持アーム20を介して空の基板ステージ24の上にセット され、さらにローダー側搬送系18により乾燥槽11の配置側に洗浄された一対 の基板aが搬送され、これら基板aがローダー側搬送系18の上で待機する(図 9参照)。After that, the motor 23 is activated, and the drive of the motor 23 causes the turntable 22 to rotate counterclockwise by 180 ° in the drawing, and this rotation causes the pair of the pair of parts arranged in the rear area A of the drying tank 11 to rotate. The substrate stage 24 moves to the front area B, the pair of substrate stages 24 arranged in the front area B to the rear area A, and the pair of dried substrates a 1 to the rear area A. Then, the pair of dried substrates a is held by the holding arm 21 of the unloader-side transfer system 19 and transferred onto the unloader-side transfer system 19, and on the loader-side transfer system 18 as described above. A pair of substrates a are set on the empty substrate stage 24 via the holding arm 20 of the loader-side transfer system 18, and are washed by the loader-side transfer system 18 on the arrangement side of the drying tank 11. a is transported, and these substrates a stand by on the loader side transport system 18 (see FIG. 9).
【0030】 そしてこの状態で、乾燥槽11の開口部12が蓋カバー13で閉じられ、次回 の乾燥処理動作が開始する。このような工程の繰り返しにより、ローダー側搬送 系18から送られてくる基板aが順次乾燥される。そして乾燥槽11内には基板 aを4枚ずつ収納して乾燥させることができるから、基板aの1枚当りの乾燥時 間が大幅に減少し、乾燥処理能率が大幅に向上する。Then, in this state, the opening 12 of the drying tank 11 is closed by the lid cover 13, and the next drying processing operation is started. By repeating such steps, the substrates a sent from the loader side transfer system 18 are sequentially dried. Since four substrates a can be stored in the drying tank 11 and dried, the drying time per substrate a is significantly reduced, and the drying processing efficiency is significantly improved.
【0031】 なお、前記実施例においては、乾燥槽内に4枚の基板ステージを設け、これら 基板ステージにより4枚ずつ基板を乾燥させるようにしたが、基板ステージを他 の複数枚設けるような場合であっても差し支えない。In the above embodiment, four substrate stages are provided in the drying tank, and four substrates are dried by each of these substrate stages. However, in the case where other plural substrate stages are provided. But it doesn't matter.
【0032】[0032]
以上説明したようにこの考案によれば、1回の乾燥処理動作で複数枚の基板を まとめて乾燥させることができ、したがって乾燥処理能率が確実に向上し、また その乾燥時に各基板を乾燥槽内で公転および自転させるようにしたから、各基板 の周縁部から中心部に亘る全体に乾燥槽内の空気をくまなく良好に接触させるこ とができ、これにより各基板を速やかに効率よく、かつその全体を均一に乾燥さ せることができる利点がある。 As described above, according to the present invention, a plurality of substrates can be collectively dried by one drying processing operation, so that the drying processing efficiency is surely improved, and each substrate is dried in a drying tank at the time of drying. Since it orbits and revolves inside the substrate, the air in the drying tank can be brought into good contact with the entire area from the peripheral edge to the center of each substrate, which allows each substrate to be quickly and efficiently Moreover, there is an advantage that the whole can be dried uniformly.
【図1】この考案の一実施例によるスピン乾燥装置の平
面図。FIG. 1 is a plan view of a spin dryer according to an embodiment of the present invention.
【図2】そのスピン乾燥装置の乾燥槽内に、ローダー側
搬送系から搬送されてきた一対の基板を保持アームを介
して収納した状態を示す平面図。FIG. 2 is a plan view showing a state in which a pair of substrates transferred from a loader-side transfer system is accommodated in a drying tank of the spin drying apparatus via a holding arm.
【図3】その基板を乾燥槽内の前部領域に移動させた状
態を示す平面図。FIG. 3 is a plan view showing a state where the substrate is moved to a front area in a drying tank.
【図4】その乾燥槽内にさらに、ローダー側搬送系から
搬送されてきた一対の基板を保持アームを介して収納し
た状態を示す平面図。FIG. 4 is a plan view showing a state in which a pair of substrates transferred from a loader-side transfer system is further stored in the drying tank via a holding arm.
【図5】その保持アームを元の位置に戻した状態を示す
平面図。FIG. 5 is a plan view showing a state in which the holding arm is returned to the original position.
【図6】その乾燥槽内に収納した各基板の乾燥処理中の
状態を示す平面図。FIG. 6 is a plan view showing a state in which each substrate stored in the drying tank is being dried.
【図7】その乾燥槽内の乾燥済みの一対の基板を、アン
ローダー側搬送系の保持アームで乾燥槽内から取り出す
ときの状態を示す平面図。FIG. 7 is a plan view showing a state in which a pair of dried substrates in the drying tank are taken out from the drying tank by the holding arm of the unloader-side transfer system.
【図8】その乾燥槽内に、次に乾燥させる一対の基板を
ローダー側搬送系の保持アームを介して収納した状態を
示す平面図。FIG. 8 is a plan view showing a state in which a pair of substrates to be dried next are stored in the drying tank via a holding arm of a loader-side transfer system.
【図9】その乾燥槽内に、次に乾燥させる他の一対の基
板を保持アームを介して収納した状態を示す平面図。FIG. 9 is a plan view showing a state in which another pair of substrates to be dried next are accommodated in the drying tank via holding arms.
【図10】この考案の一実施例によるスピン乾燥装置の
一部の断面図。FIG. 10 is a partial sectional view of a spin dryer according to an embodiment of the present invention.
【図11】従来のスピン乾燥装置の平面図。FIG. 11 is a plan view of a conventional spin dryer.
11…乾燥槽 22…ターンテーブル 24…基板ステージ a…基板 11 ... Drying tank 22 ... Turntable 24 ... Substrate stage a ... Substrate
Claims (1)
た回転自在なターンテーブルと、このターンテーブルの
上に該ターンテーブルに対してそれぞれ回転自在に設け
られた複数の基板ステージとを備え、前記各基板ステー
ジの上に基板を配置し、前記ターンテーブルおよび各基
板ステージの回転動作で前記基板を乾燥槽内で公転およ
び自転させることを特徴とするスピン乾燥装置。1. A drying tank, a rotatable turntable horizontally provided in the drying tank, and a plurality of substrate stages rotatably provided on the turntable with respect to the turntable. A spin drying apparatus comprising: a substrate placed on each of the substrate stages, and rotating and rotating the substrate in a drying tank by rotating the turntable and each substrate stage.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1264092U JPH0573940U (en) | 1992-03-13 | 1992-03-13 | Spin dryer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1264092U JPH0573940U (en) | 1992-03-13 | 1992-03-13 | Spin dryer |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0573940U true JPH0573940U (en) | 1993-10-08 |
Family
ID=11810971
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1264092U Pending JPH0573940U (en) | 1992-03-13 | 1992-03-13 | Spin dryer |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0573940U (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108452956A (en) * | 2018-03-05 | 2018-08-28 | 刘成 | A kind of hose inner cavity dehydration device and its operating method |
-
1992
- 1992-03-13 JP JP1264092U patent/JPH0573940U/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108452956A (en) * | 2018-03-05 | 2018-08-28 | 刘成 | A kind of hose inner cavity dehydration device and its operating method |
CN108452956B (en) * | 2018-03-05 | 2024-04-26 | 刘一成 | Hose inner cavity dehydration device and operation method thereof |
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