JPH0572784A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
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- JPH0572784A JPH0572784A JP23208991A JP23208991A JPH0572784A JP H0572784 A JPH0572784 A JP H0572784A JP 23208991 A JP23208991 A JP 23208991A JP 23208991 A JP23208991 A JP 23208991A JP H0572784 A JPH0572784 A JP H0572784A
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- Japan
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- temperature
- vapor deposition
- support shaft
- substrate
- vacuum
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/541—Heating or cooling of the substrates
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】円筒状の被蒸着基体の温度を高精度で制御でき
る真空蒸着装置を提供する。 【構成】真空槽内の温調可能な回転支持軸に円筒状被蒸
着基体を装着し、この基体の温度を支持軸を介して所要
温度に制御しながらその表面に真空蒸着膜を形成する真
空蒸着装置において、支持軸と被蒸着基体との間に、蒸
着時の支持軸温度以下の沸点を有する液体を作動液とす
るヒートパイプカラーを介在させる。
る真空蒸着装置を提供する。 【構成】真空槽内の温調可能な回転支持軸に円筒状被蒸
着基体を装着し、この基体の温度を支持軸を介して所要
温度に制御しながらその表面に真空蒸着膜を形成する真
空蒸着装置において、支持軸と被蒸着基体との間に、蒸
着時の支持軸温度以下の沸点を有する液体を作動液とす
るヒートパイプカラーを介在させる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、例えば電子写真用感
光体の製造のために、円筒状の導電性基体の外表面にア
モルファスセレン系合金からなる感光層を真空蒸着で形
成する際に用いられる真空蒸着装置に関する。
光体の製造のために、円筒状の導電性基体の外表面にア
モルファスセレン系合金からなる感光層を真空蒸着で形
成する際に用いられる真空蒸着装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】円筒状の基体の外表面に薄膜を工業的規
模で形成する手段として、従来より真空蒸着法が知られ
ている。真空蒸着法においては、所要の膜質を有し、か
つ、外観，密着性の良好な蒸着膜を得るためには蒸着時
の基体温度が重要である。例えば、電子写真用感光体
（以下、単に感光体とも称する）のうち、セレンまたは
セレン合金を光導電性材料として用いる感光体は、通
常、アルミニウム合金からなる円筒状の基体の外表面に
感光層としてセレンまたはセレン合金を真空蒸着で成膜
することにより製造されるが、セレンまたはセレン合金
をアモルファス状態で成膜し、優れた電子写真特性を有
し、かつ、基体との密着性の良好な感光層を得るために
は、基体温度を精度良く管理することが極めて重要であ
る。また、複写機やプリンタにより美麗な画像を得るた
めには使用する感光体の感光層表面に欠陥のないことが
必要であるが、その点においても感光層蒸着時の基体温
度の管理が重要である。基体温度が所要の適切な温度よ
り低いと感光層表面に小さなピンホールが発生する欠陥
が生じ、高すぎると結晶化，再蒸発，大きなピンホール
の発生などの問題が生じてくる。
模で形成する手段として、従来より真空蒸着法が知られ
ている。真空蒸着法においては、所要の膜質を有し、か
つ、外観，密着性の良好な蒸着膜を得るためには蒸着時
の基体温度が重要である。例えば、電子写真用感光体
（以下、単に感光体とも称する）のうち、セレンまたは
セレン合金を光導電性材料として用いる感光体は、通
常、アルミニウム合金からなる円筒状の基体の外表面に
感光層としてセレンまたはセレン合金を真空蒸着で成膜
することにより製造されるが、セレンまたはセレン合金
をアモルファス状態で成膜し、優れた電子写真特性を有
し、かつ、基体との密着性の良好な感光層を得るために
は、基体温度を精度良く管理することが極めて重要であ
る。また、複写機やプリンタにより美麗な画像を得るた
めには使用する感光体の感光層表面に欠陥のないことが
必要であるが、その点においても感光層蒸着時の基体温
度の管理が重要である。基体温度が所要の適切な温度よ
り低いと感光層表面に小さなピンホールが発生する欠陥
が生じ、高すぎると結晶化，再蒸発，大きなピンホール
の発生などの問題が生じてくる。
【０００３】従来、被蒸着基体の温度管理方法として、
真空蒸着装置の被蒸着基体の支持軸内に水あるいは油な
どの熱媒体を循環させ、これらの熱媒体の温度を制御す
ることにより支持軸の温度を制御し、支持軸に装着され
る基体温度を制御し管理することが行われている。図４
は、上述のような支持軸温度制御機構を備えた真空蒸着
装置の一例の概念図である。真空槽壁４に取り付けられ
た支持軸（軸を中心に回転可能）１はパイプ９によりバ
ルブ１０を介して高温温調槽８，バルブ１１を介して低
温温調槽１３にそれぞれ接続されており、また、パイプ
１４によりバルブ１５を介して高温温調槽８に，バルブ
１６を介して低温温調槽１３にそれぞれ接続されてい
る。６は支持軸１に平行にその下方に位置するように真
空槽壁４に取り付けられた蒸発源であり、７は蒸発源６
に充填された蒸着材料を加熱するヒータであり、５は真
空釜である。図５は支持軸１に基体３を装着した状態を
示す斜視図である。また、図６は支持軸１に基体３を装
着した部分の断面図で、支持軸１はその内部には円筒隔
壁１０１が設けられており、図４のパイプ９を通して送
り込まれる高温温調槽８の熱媒体１２あるいは低温温調
槽１３の熱媒体１７は支持軸１の根本の部分で円筒隔壁
１０１の内側に入り、点線矢印に示すように支持軸１の
先端部で円筒隔壁の外側に移り、支持軸１の内面に接触
しながら支持軸１の根本に還流し、図４のパイプ１４を
通って高温温調槽８あるいは低温温調槽１３に戻る構造
となっている。
真空蒸着装置の被蒸着基体の支持軸内に水あるいは油な
どの熱媒体を循環させ、これらの熱媒体の温度を制御す
ることにより支持軸の温度を制御し、支持軸に装着され
る基体温度を制御し管理することが行われている。図４
は、上述のような支持軸温度制御機構を備えた真空蒸着
装置の一例の概念図である。真空槽壁４に取り付けられ
た支持軸（軸を中心に回転可能）１はパイプ９によりバ
ルブ１０を介して高温温調槽８，バルブ１１を介して低
温温調槽１３にそれぞれ接続されており、また、パイプ
１４によりバルブ１５を介して高温温調槽８に，バルブ
１６を介して低温温調槽１３にそれぞれ接続されてい
る。６は支持軸１に平行にその下方に位置するように真
空槽壁４に取り付けられた蒸発源であり、７は蒸発源６
に充填された蒸着材料を加熱するヒータであり、５は真
空釜である。図５は支持軸１に基体３を装着した状態を
示す斜視図である。また、図６は支持軸１に基体３を装
着した部分の断面図で、支持軸１はその内部には円筒隔
壁１０１が設けられており、図４のパイプ９を通して送
り込まれる高温温調槽８の熱媒体１２あるいは低温温調
槽１３の熱媒体１７は支持軸１の根本の部分で円筒隔壁
１０１の内側に入り、点線矢印に示すように支持軸１の
先端部で円筒隔壁の外側に移り、支持軸１の内面に接触
しながら支持軸１の根本に還流し、図４のパイプ１４を
通って高温温調槽８あるいは低温温調槽１３に戻る構造
となっている。
【０００４】このような装置を用い、支持軸１に円筒状
基体３を装着し回転させながら、高温温調槽８内の所要
の温度に加熱制御された高温熱媒体（水あるいは油な
ど）１２をバルブ１０およびバルブ１５を開いて、パイ
プ９内を矢印Ａの方向に通して支持軸１内に送り込み、
内部を循環させた後パイプ１４内を矢印Ｂの方向に通し
て高温温調槽８内に戻すことにより、支持軸１の温度を
所要の温度に制御し、その上に装着されている基体３の
温度を所要の適切な温度に制御する。これに平行して真
空槽内を排気して約１０-5Ｔｏｒｒ以下の高真空とした
後（真空排気機構は図示せず）、蒸発源６内の蒸着材料
をヒータ７により加熱して基体３の外表面に蒸着膜を形
成する。続いて、バルブ１０およびバルブ１５を閉じ、
バルブ１１およびバルブ１６を開いて、パイプ９および
パイプ１４を通して低温温調槽１３内の所要温度に制御
された低温熱媒体（水あるいは油など）１７を支持軸１
内を通して循環させ基体温度を下げた後、真空を破って
取り出すことにより感光体を得る。蒸着時の支持軸温度
および基体温度のプロファイルを図７，図８に例示す
る。図７はセレン・テルル合金が蒸着材料である場合の
例であり、図８はＡs2Ｓe3が蒸着材料である場合の例で
ある。上述のように、基体の温度制御は高温熱媒体およ
び低温熱媒体により温度制御される支持軸を介して行わ
れるが、従来は図６に示すように円筒状の基体３の内面
が直接支持体１に接触するように装着されており、両者
間の熱伝導により基体３の温度制御が行われていた。
基体３を装着し回転させながら、高温温調槽８内の所要
の温度に加熱制御された高温熱媒体（水あるいは油な
ど）１２をバルブ１０およびバルブ１５を開いて、パイ
プ９内を矢印Ａの方向に通して支持軸１内に送り込み、
内部を循環させた後パイプ１４内を矢印Ｂの方向に通し
て高温温調槽８内に戻すことにより、支持軸１の温度を
所要の温度に制御し、その上に装着されている基体３の
温度を所要の適切な温度に制御する。これに平行して真
空槽内を排気して約１０-5Ｔｏｒｒ以下の高真空とした
後（真空排気機構は図示せず）、蒸発源６内の蒸着材料
をヒータ７により加熱して基体３の外表面に蒸着膜を形
成する。続いて、バルブ１０およびバルブ１５を閉じ、
バルブ１１およびバルブ１６を開いて、パイプ９および
パイプ１４を通して低温温調槽１３内の所要温度に制御
された低温熱媒体（水あるいは油など）１７を支持軸１
内を通して循環させ基体温度を下げた後、真空を破って
取り出すことにより感光体を得る。蒸着時の支持軸温度
および基体温度のプロファイルを図７，図８に例示す
る。図７はセレン・テルル合金が蒸着材料である場合の
例であり、図８はＡs2Ｓe3が蒸着材料である場合の例で
ある。上述のように、基体の温度制御は高温熱媒体およ
び低温熱媒体により温度制御される支持軸を介して行わ
れるが、従来は図６に示すように円筒状の基体３の内面
が直接支持体１に接触するように装着されており、両者
間の熱伝導により基体３の温度制御が行われていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ような真空蒸着装置の支持軸の温度制御においては、熱
媒体流量調整のバラツキ、および熱媒体の支持軸の流入
点から流出点までの放熱による温度低下により、支持軸
の温度にバラツキが生じる。例えば支持軸温度を６０℃
に制御する場合、支持軸上長さ１０００ｍｍの間で３℃
程度の温度バラツキが生じる。また、真空蒸着装置を長
期間繰り返し使用すると、支持軸内の熱媒体流路壁に部
分的にさびが発生したりスケールや酸化劣化した熱媒体
が付着したりして熱媒体流量が部分的に変化し、支持軸
の温度のバラツキがさらに大きくなってくる傾向が生じ
るためオーバーホールを行わなければならないという問
題があった。
ような真空蒸着装置の支持軸の温度制御においては、熱
媒体流量調整のバラツキ、および熱媒体の支持軸の流入
点から流出点までの放熱による温度低下により、支持軸
の温度にバラツキが生じる。例えば支持軸温度を６０℃
に制御する場合、支持軸上長さ１０００ｍｍの間で３℃
程度の温度バラツキが生じる。また、真空蒸着装置を長
期間繰り返し使用すると、支持軸内の熱媒体流路壁に部
分的にさびが発生したりスケールや酸化劣化した熱媒体
が付着したりして熱媒体流量が部分的に変化し、支持軸
の温度のバラツキがさらに大きくなってくる傾向が生じ
るためオーバーホールを行わなければならないという問
題があった。
【０００６】また、感光体は用途により種々の径のもの
が要求されるが、それに応じて基体の径を変えることが
必要となる。上述の真空蒸着装置においては、基体の径
に応じて、支持軸を対応した径のものに交換することが
必要であるが、手間がかかり、また、交換時に熱媒体が
漏れて真空槽内を汚染するという問題も生じていた。近
年、電子写真方式の複写機やプリンタには高画質化がさ
らに強く要求されるようになり、また、用途の多様化に
より少量多機種化が進んでいる。このため、高画質化を
図るために感光層蒸着時の基体温度を高精度に制御する
ことが必要となり、また、多機種化に伴う感光体の径の
多様化に対応するために支持軸の交換を頻繁に行わねば
ならなくなってきている。
が要求されるが、それに応じて基体の径を変えることが
必要となる。上述の真空蒸着装置においては、基体の径
に応じて、支持軸を対応した径のものに交換することが
必要であるが、手間がかかり、また、交換時に熱媒体が
漏れて真空槽内を汚染するという問題も生じていた。近
年、電子写真方式の複写機やプリンタには高画質化がさ
らに強く要求されるようになり、また、用途の多様化に
より少量多機種化が進んでいる。このため、高画質化を
図るために感光層蒸着時の基体温度を高精度に制御する
ことが必要となり、また、多機種化に伴う感光体の径の
多様化に対応するために支持軸の交換を頻繁に行わねば
ならなくなってきている。
【０００７】この発明は、上述の点に鑑みてなされたも
のであって、円筒状の被蒸着基体の温度を高精度で所要
温度に制御することができ、かつ、基体の径が変わった
場合にもその度に支持軸を交換する必要はなく支持軸の
交換頻度を大幅に少なくすることができる真空蒸着装置
を提供することを解決しようとする課題とする。
のであって、円筒状の被蒸着基体の温度を高精度で所要
温度に制御することができ、かつ、基体の径が変わった
場合にもその度に支持軸を交換する必要はなく支持軸の
交換頻度を大幅に少なくすることができる真空蒸着装置
を提供することを解決しようとする課題とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の課題は、この発明
によれば、真空槽内の温調可能な回転支持軸に円筒状被
蒸着基体を装着しこの基体の温度を支持軸を介して所要
温度に制御しながらその表面に真空蒸着膜を形成する真
空蒸着装置において、前記支持軸と被蒸着基体との間に
蒸着時の支持軸温度以下の沸点を有する液体を作動液と
するヒートパイプカラーを介在させることによって解決
される。ヒートパイプカラーは、図３にその一例を示す
ように、円筒の壁内に空洞２０１を設け、封入孔２０２
を介してその内部を減圧した後作動液２０３を封入した
ものであり、作動液２０３は基体温度に応じて適切なも
のを選択する。例えば、アモルファスセレン・テルル合
金からなる蒸着膜を形成する場合には蒸着時の基体温度
は５５℃に制御するのが好ましく、支持軸温度は６０℃
に制御するのが適切であり、作動液２０３としては沸点
が６０℃以下のものが好ましい。また、アモルファスセ
レン・ひ素合金からなる蒸着膜を形成する場合には蒸着
時の基体温度は２００℃に制御するのが好ましく、支持
軸温度は２５０℃に制御するのが適切であり、作動液２
０３としては沸点が２５０℃以下のものを使用するのが
好ましい。基体材料としてはアルミニウムまたはアルミ
ニウム合金材料が好適である。
によれば、真空槽内の温調可能な回転支持軸に円筒状被
蒸着基体を装着しこの基体の温度を支持軸を介して所要
温度に制御しながらその表面に真空蒸着膜を形成する真
空蒸着装置において、前記支持軸と被蒸着基体との間に
蒸着時の支持軸温度以下の沸点を有する液体を作動液と
するヒートパイプカラーを介在させることによって解決
される。ヒートパイプカラーは、図３にその一例を示す
ように、円筒の壁内に空洞２０１を設け、封入孔２０２
を介してその内部を減圧した後作動液２０３を封入した
ものであり、作動液２０３は基体温度に応じて適切なも
のを選択する。例えば、アモルファスセレン・テルル合
金からなる蒸着膜を形成する場合には蒸着時の基体温度
は５５℃に制御するのが好ましく、支持軸温度は６０℃
に制御するのが適切であり、作動液２０３としては沸点
が６０℃以下のものが好ましい。また、アモルファスセ
レン・ひ素合金からなる蒸着膜を形成する場合には蒸着
時の基体温度は２００℃に制御するのが好ましく、支持
軸温度は２５０℃に制御するのが適切であり、作動液２
０３としては沸点が２５０℃以下のものを使用するのが
好ましい。基体材料としてはアルミニウムまたはアルミ
ニウム合金材料が好適である。
【０００９】
【作用】支持軸と基体との間にヒートパイプカラーを介
在させる。このような状態で、蒸着時、基体温度を所要
温度に制御するために支持軸温度を必要な温度にすると
熱伝導によりヒートパイプカラーの支持軸との接触部の
温度も同じ温度となり、内封されている蒸着時の支持軸
温度以下の沸点の作動液は蒸気となり、この蒸気により
ヒートパイプカラー表面の温度が制御される。その結
果、支持軸温度にバラツキがあってもヒートパイプカラ
ー表面の温度は均一となる。従って、ヒートパイプカラ
ーの上に装着された基体の温度は、従来の支持軸上に直
接装着された場合に比べてバラツキがなく均一なものと
なり、このような真空蒸着装置を用いることにより、例
えば、近年の厳しい市場要求を充たす特性，外観の優れ
た感光体を製造することが可能となる。
在させる。このような状態で、蒸着時、基体温度を所要
温度に制御するために支持軸温度を必要な温度にすると
熱伝導によりヒートパイプカラーの支持軸との接触部の
温度も同じ温度となり、内封されている蒸着時の支持軸
温度以下の沸点の作動液は蒸気となり、この蒸気により
ヒートパイプカラー表面の温度が制御される。その結
果、支持軸温度にバラツキがあってもヒートパイプカラ
ー表面の温度は均一となる。従って、ヒートパイプカラ
ーの上に装着された基体の温度は、従来の支持軸上に直
接装着された場合に比べてバラツキがなく均一なものと
なり、このような真空蒸着装置を用いることにより、例
えば、近年の厳しい市場要求を充たす特性，外観の優れ
た感光体を製造することが可能となる。
【００１０】また、被蒸着基体の径が異なる場合には、
支持軸を交換することなく、その上に取り付けるヒート
パイプカラーをその外径が基体の内径に対応したものに
交換することにより対処することができ、支持軸交換に
よる熱媒体の漏洩を避けることができる。
支持軸を交換することなく、その上に取り付けるヒート
パイプカラーをその外径が基体の内径に対応したものに
交換することにより対処することができ、支持軸交換に
よる熱媒体の漏洩を避けることができる。
【００１１】
【実施例】図１は、この発明に係わる真空蒸着装置の支
持軸の部分の斜視図で、真空槽壁４に取り付けられた支
持軸１にヒートパイプカラー２が装着され、その上に基
体３が装着されている。図２は、その支持軸の部分の縦
断面図で支持軸１にヒートパイプカラー２，基体３が順
次装着されている。支持軸１は従来の装置と同様な構造
で、１０１は支持軸１内に設けられた円筒隔壁であり、
熱媒体は支持軸１の根本から円筒隔壁１０１の内側を通
り支持軸１の先端で円筒隔壁の外側に流れ点線矢印で示
すように循環する。円筒状のヒートパイプカラー２は二
重構造になっており、密閉された内部の空洞２０１内に
は作動液２０３が封入されている。図３はヒートパイプ
カラー２の斜視図で、空洞２０１は内部を封入孔２０２
を介して減圧された後作動液２０３を封入され密閉され
ている。
持軸の部分の斜視図で、真空槽壁４に取り付けられた支
持軸１にヒートパイプカラー２が装着され、その上に基
体３が装着されている。図２は、その支持軸の部分の縦
断面図で支持軸１にヒートパイプカラー２，基体３が順
次装着されている。支持軸１は従来の装置と同様な構造
で、１０１は支持軸１内に設けられた円筒隔壁であり、
熱媒体は支持軸１の根本から円筒隔壁１０１の内側を通
り支持軸１の先端で円筒隔壁の外側に流れ点線矢印で示
すように循環する。円筒状のヒートパイプカラー２は二
重構造になっており、密閉された内部の空洞２０１内に
は作動液２０３が封入されている。図３はヒートパイプ
カラー２の斜視図で、空洞２０１は内部を封入孔２０２
を介して減圧された後作動液２０３を封入され密閉され
ている。
【００１２】実施例１ 図４に示したような支持軸温度制御機構を備えた真空蒸
着装置の支持軸にヒートパイプカラーを装着し、熱媒体
温度を変化させ、支持軸温度を変化させてヒートパイプ
カラー表面の温度分布を測定した。ヒートパイプカラー
はステンレス鋼（ＳＵＳ）製で長さが１０００ｍｍであ
り、作動液として沸点２７．６℃のＨＣＦＣ（アサヒガ
ラス（株）製ＡＫ−１２３）を内圧１０-3Ｔｏｒｒとな
るように封入したものを用いた。温度測定位置を図９に
示す。ａ0 ないしａ10はヒートパイプカラー２の表面位
置であり、Ｃ1 ，Ｃ2 は支持軸１上の位置であり、ｂ0
ないしｂ10はヒートパイプカラーを取り外したときの支
持軸１上でヒートパイプカラー上のａ0 ないしａ10に対
応する位置である。各測定点のａ0 ，ｂ0 を基点とする
距離を表１および表２に示す。
着装置の支持軸にヒートパイプカラーを装着し、熱媒体
温度を変化させ、支持軸温度を変化させてヒートパイプ
カラー表面の温度分布を測定した。ヒートパイプカラー
はステンレス鋼（ＳＵＳ）製で長さが１０００ｍｍであ
り、作動液として沸点２７．６℃のＨＣＦＣ（アサヒガ
ラス（株）製ＡＫ−１２３）を内圧１０-3Ｔｏｒｒとな
るように封入したものを用いた。温度測定位置を図９に
示す。ａ0 ないしａ10はヒートパイプカラー２の表面位
置であり、Ｃ1 ，Ｃ2 は支持軸１上の位置であり、ｂ0
ないしｂ10はヒートパイプカラーを取り外したときの支
持軸１上でヒートパイプカラー上のａ0 ないしａ10に対
応する位置である。各測定点のａ0 ，ｂ0 を基点とする
距離を表１および表２に示す。
【００１３】
【表１】
【００１４】
【表２】
【００１５】次に測定結果を表３および表４に示す。
【００１６】
【表３】
【００１７】
【表４】
【００１８】表３および表４より、長さ１０００ｍｍの
範囲において、支持軸上では熱媒体温度６０℃の場合２
℃の温度バラツキがあるが、ヒートパイプカラー上では
熱媒体温度６０℃の場合は勿論７０℃，８０℃の場合で
も１℃未満の温度バラツキであり、温度のバラツキが大
幅に低減されていることが判る。この結果より、ヒート
パイプを用いることにより基体の温度バラツキが低減さ
れることは明らかである。 上述のヒートパイプカラー
を装着した真空蒸着装置を用い、アルミニウム合金基体
の温度を５５℃にしたところ、基体温度を５５℃±１℃
に制御することができ、その上にテルルを１０重量％含
有するセレン・テルル合金を蒸着して得られた感光体
は、特性，外観ともに優れており、欠陥のない良質の画
像が得られるものであった。
範囲において、支持軸上では熱媒体温度６０℃の場合２
℃の温度バラツキがあるが、ヒートパイプカラー上では
熱媒体温度６０℃の場合は勿論７０℃，８０℃の場合で
も１℃未満の温度バラツキであり、温度のバラツキが大
幅に低減されていることが判る。この結果より、ヒート
パイプを用いることにより基体の温度バラツキが低減さ
れることは明らかである。 上述のヒートパイプカラー
を装着した真空蒸着装置を用い、アルミニウム合金基体
の温度を５５℃にしたところ、基体温度を５５℃±１℃
に制御することができ、その上にテルルを１０重量％含
有するセレン・テルル合金を蒸着して得られた感光体
は、特性，外観ともに優れており、欠陥のない良質の画
像が得られるものであった。
【００１９】実施例２ 実施例１におけるヒートパイプカラーの作動液を真空度
１０-3Ｔｏｒｒにおける沸点が１００℃以下である鉱物
油（新日鉄化学（株）製サーモＳ３００）に替え、熱媒
体の温度を２００℃ないし３４０℃の間で変化させて支
持軸温度を変化させ、実施例１と同様にして温度分布測
定をした。その結果を表５および表６に示す。
１０-3Ｔｏｒｒにおける沸点が１００℃以下である鉱物
油（新日鉄化学（株）製サーモＳ３００）に替え、熱媒
体の温度を２００℃ないし３４０℃の間で変化させて支
持軸温度を変化させ、実施例１と同様にして温度分布測
定をした。その結果を表５および表６に示す。
【００２０】
【表５】
【００２１】
【表６】
【００２２】表５および表６より、支持軸上では熱媒体
温度２００℃の場合５℃の温度バラツキがあるが、ヒー
トパイプカラー上では熱媒体温度２００℃の場合１℃以
内の温度バラツキであり、温度バラツキが大幅に減少し
ており、さらに、熱媒体温度２５０℃の場合でも１℃以
内，熱媒体温度３３０℃でも２℃以内の温度バラツキで
あり、ヒートパイプカラーの効果は明らかである。上述
のヒートパイプカラーを装着した真空蒸着装置を用い、
アルミニウム合金基体の温度を２００℃にしたところ、
基体温度を２００℃±１℃に制御することができ、その
上にＡs2Ｓe3を蒸着して得られた感光体は、特性，外観
ともに優れており、欠陥のない良質の画像が得られるも
のであった。
温度２００℃の場合５℃の温度バラツキがあるが、ヒー
トパイプカラー上では熱媒体温度２００℃の場合１℃以
内の温度バラツキであり、温度バラツキが大幅に減少し
ており、さらに、熱媒体温度２５０℃の場合でも１℃以
内，熱媒体温度３３０℃でも２℃以内の温度バラツキで
あり、ヒートパイプカラーの効果は明らかである。上述
のヒートパイプカラーを装着した真空蒸着装置を用い、
アルミニウム合金基体の温度を２００℃にしたところ、
基体温度を２００℃±１℃に制御することができ、その
上にＡs2Ｓe3を蒸着して得られた感光体は、特性，外観
ともに優れており、欠陥のない良質の画像が得られるも
のであった。
【００２３】また、実施例１および実施例２において、
ヒートパイプカラーの外径を変化させて同様に温度バラ
ツキの評価を行ったが、ヒートパイプの作用原理から推
定されるように、外径の変化による温度バラツキの差異
は認められず、基体の径が異なった場合、支持軸を交換
することなく、ヒートパイプカラーを基体の径に対応し
た径のものに交換することにより対処できることが判っ
た。
ヒートパイプカラーの外径を変化させて同様に温度バラ
ツキの評価を行ったが、ヒートパイプの作用原理から推
定されるように、外径の変化による温度バラツキの差異
は認められず、基体の径が異なった場合、支持軸を交換
することなく、ヒートパイプカラーを基体の径に対応し
た径のものに交換することにより対処できることが判っ
た。
【００２４】
【発明の効果】この発明によれば、真空槽内の温調可能
な円筒状回転支持軸に円筒状被蒸着基体を装着しこの基
体の温度を支持軸を介して所要温度に制御しながらその
表面に真空蒸着膜を形成する真空蒸着装置において、前
記支持軸と被蒸着基体との間に、蒸着時の支持軸温度以
下の沸点を有する液体を作動液とするヒートパイプカラ
ーを介在させる。このようなヒートパイプカラーを介在
させることにより、被蒸着基体の温度を高精度で所要温
度に制御することが可能となる。また、被蒸着基体の径
が変わった場合にもその度に支持軸を交換することな
く、ヒートパイプカラーを基体の径に対応した外径のも
のに交換することにより対処でき、支持軸交換に伴う熱
媒体の漏洩を避け真空蒸着装置の汚染を防ぐことができ
る。
な円筒状回転支持軸に円筒状被蒸着基体を装着しこの基
体の温度を支持軸を介して所要温度に制御しながらその
表面に真空蒸着膜を形成する真空蒸着装置において、前
記支持軸と被蒸着基体との間に、蒸着時の支持軸温度以
下の沸点を有する液体を作動液とするヒートパイプカラ
ーを介在させる。このようなヒートパイプカラーを介在
させることにより、被蒸着基体の温度を高精度で所要温
度に制御することが可能となる。また、被蒸着基体の径
が変わった場合にもその度に支持軸を交換することな
く、ヒートパイプカラーを基体の径に対応した外径のも
のに交換することにより対処でき、支持軸交換に伴う熱
媒体の漏洩を避け真空蒸着装置の汚染を防ぐことができ
る。
【００２５】この発明による真空蒸着装置を用いること
により、セレンまたはセレン合金を光導電性材料として
用い、特性，外観が良好で、良質の画像が得られる感光
体を容易に量産することが可能となる。
により、セレンまたはセレン合金を光導電性材料として
用い、特性，外観が良好で、良質の画像が得られる感光
体を容易に量産することが可能となる。
【図１】この発明の真空蒸着装置の支持軸の部分の斜視
図
図
【図２】この発明の真空蒸着装置の支持軸の部分の縦断
面図
面図
【図３】ヒートパイプカラーの一例の斜視図
【図４】支持軸温度制御機構を備えた真空蒸着装置の一
例の概念図
例の概念図
【図５】従来の真空蒸着装置の支持軸の部分の斜視図
【図６】従来の真空蒸着装置の支持軸の部分の縦断面図
【図７】セレン・テルル合金を真空蒸着する際の支持軸
温度および基体温度の一例のプロファイルを示す図
温度および基体温度の一例のプロファイルを示す図
【図８】Ａs2Ｓe3を真空蒸着する際の支持軸温度および
基体温度の一例のプロファイルを示す図
基体温度の一例のプロファイルを示す図
【図９】支持軸およびヒートパイプカラーの温度分布測
定点を示す断面図
定点を示す断面図
１ 支持軸 ２ ヒートパイプカラー ３ 基体 ４ 真空槽壁 １０１ 円筒隔壁 ２０１ 空洞 ２０２ 封入孔 ２０３ 作動液
Claims (6)
- 【請求項１】真空槽内の温調可能な回転支持軸に円筒状
被蒸着基体を装着しこの基体の温度を支持軸を介して所
要温度に制御しながらその表面に真空蒸着膜を形成する
真空蒸着装置において、前記支持軸と被蒸着基体との間
に蒸着時の支持軸温度以下の沸点を有する液体を作動液
とするヒートパイプカラーを介在させることを特徴とす
る真空蒸着装置。 - 【請求項２】ヒートパイプカラーの作動液の沸点が６０
℃以下であることを特徴とする請求項１記載の真空蒸着
装置。 - 【請求項３】ヒートパイプカラーの作動液の沸点が２５
０℃以下であることを特徴とする請求項１記載の真空蒸
着装置。 - 【請求項４】真空蒸着膜がアモルファスセレン・テルル
合金からなることを特徴とする請求項１または２記載の
真空蒸着装置。 - 【請求項５】真空蒸着膜がアモルファスセレン・ひ素合
金からなることを特徴とする請求項１または３記載の真
空蒸着装置。 - 【請求項６】被蒸着基体がアルミニウムまたはアルミニ
ウム合金からなることを特徴とする請求項１ないし５の
うちのいずれかに記載の真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23208991A JPH0572784A (ja) | 1991-09-12 | 1991-09-12 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23208991A JPH0572784A (ja) | 1991-09-12 | 1991-09-12 | 真空蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0572784A true JPH0572784A (ja) | 1993-03-26 |
Family
ID=16933830
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23208991A Pending JPH0572784A (ja) | 1991-09-12 | 1991-09-12 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0572784A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109023288A (zh) * | 2017-12-08 | 2018-12-18 | 常州市知豆信息科技有限公司 | 一种具有高效蒸镀工作装置的oled蒸镀设备 |
-
1991
- 1991-09-12 JP JP23208991A patent/JPH0572784A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109023288A (zh) * | 2017-12-08 | 2018-12-18 | 常州市知豆信息科技有限公司 | 一种具有高效蒸镀工作装置的oled蒸镀设备 |
| CN109023288B (zh) * | 2017-12-08 | 2020-10-13 | 寰采星科技(宁波)有限公司 | 一种具有高效蒸镀工作装置的oled蒸镀设备 |
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