JPH0572739A - 被製版ロールに発生する干渉文様の発生防止方法 - Google Patents
被製版ロールに発生する干渉文様の発生防止方法Info
- Publication number
- JPH0572739A JPH0572739A JP3259665A JP25966591A JPH0572739A JP H0572739 A JPH0572739 A JP H0572739A JP 3259665 A JP3259665 A JP 3259665A JP 25966591 A JP25966591 A JP 25966591A JP H0572739 A JPH0572739 A JP H0572739A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- roll
- engraved
- photosensitive film
- plate
- silicon dioxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 レーザー露光法により被製版ロールを製版す
る方法において、干渉文様がない高品質な製版ができる
被製版ロールに発生する干渉文様の発生防止方法。 【構成】 ポリビニルアルコールを所要多量成分、二酸
化珪素を所要微量成分とする水溶液を感光膜のレーザー
光との反応時の酸化防止用保護膜として、感光膜にオー
バーラップコーティングする。該水溶液は、ポリビニル
アルコールが完全溶融し該二酸化珪素のミクロ粒子が数
個ないし数十個凝集した団塊状になって均一に分散した
コロイド溶液となる。したがって、感光膜にオーバーラ
ップコートされた酸化防止用保護膜中には、二酸化珪素
のミクロ粒子が数個ないし数十個凝集した団塊状の粒子
が均一に分散することになる。保護膜内でレーザー光の
入射光と反射光に適度の乱反射を与えることができ、被
製版ロールに発生する干渉文様の発生を防止でき、干渉
文様がない製版を実現できる。
る方法において、干渉文様がない高品質な製版ができる
被製版ロールに発生する干渉文様の発生防止方法。 【構成】 ポリビニルアルコールを所要多量成分、二酸
化珪素を所要微量成分とする水溶液を感光膜のレーザー
光との反応時の酸化防止用保護膜として、感光膜にオー
バーラップコーティングする。該水溶液は、ポリビニル
アルコールが完全溶融し該二酸化珪素のミクロ粒子が数
個ないし数十個凝集した団塊状になって均一に分散した
コロイド溶液となる。したがって、感光膜にオーバーラ
ップコートされた酸化防止用保護膜中には、二酸化珪素
のミクロ粒子が数個ないし数十個凝集した団塊状の粒子
が均一に分散することになる。保護膜内でレーザー光の
入射光と反射光に適度の乱反射を与えることができ、被
製版ロールに発生する干渉文様の発生を防止でき、干渉
文様がない製版を実現できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、感光膜をコーティング
しさらにポリビニルアルコールの水溶液を感光膜の酸化
防止膜として重ねてコーティングした被製版ロールを走
査回転するとともにレーザー光を被製版ロールに照射し
ロール面長方向に走査することにより、情報の露光を行
い、現像しエッチングしレジスト剥離する製版方法にお
いて、被製版ロールに発生する干渉文様の発生防止方法
に関する。
しさらにポリビニルアルコールの水溶液を感光膜の酸化
防止膜として重ねてコーティングした被製版ロールを走
査回転するとともにレーザー光を被製版ロールに照射し
ロール面長方向に走査することにより、情報の露光を行
い、現像しエッチングしレジスト剥離する製版方法にお
いて、被製版ロールに発生する干渉文様の発生防止方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、本願出願人においてレーザー露光
法により被製版ロールを製版する方法の実用化が実現す
るに到ったが、該製版方法は、感光膜をコーティングし
さらにポリビニルアルコールの水溶液を感光膜の酸化防
止用の保護膜として重ねてコーティングした被製版ロー
ルを走査回転するとともにレーザー光を被製版ロールに
照射しロール面長方向に走査することにより、情報の露
光を行い、現像しエッチングしレジスト剥離し、さらに
必要に応じてクロムメッキし、またはニッケルメッキを
少し行ってからクロムメッキを行うものである。
法により被製版ロールを製版する方法の実用化が実現す
るに到ったが、該製版方法は、感光膜をコーティングし
さらにポリビニルアルコールの水溶液を感光膜の酸化防
止用の保護膜として重ねてコーティングした被製版ロー
ルを走査回転するとともにレーザー光を被製版ロールに
照射しロール面長方向に走査することにより、情報の露
光を行い、現像しエッチングしレジスト剥離し、さらに
必要に応じてクロムメッキし、またはニッケルメッキを
少し行ってからクロムメッキを行うものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記のレーザー露光法
により被製版ロールを製版する方法によれば、モアレと
は異なる干渉文様が発生してしまうことが判明した。該
干渉文様は、直径５０ｍｍ内外の大きな水玉文様あるい
はアメーバ文様等の様々な散在模様にロール全体に非常
に薄く現れる。該干渉文様の発生は、レーザー光の干渉
に起因するものと考えられ、従来のＵＶ光源による露光
では発生しない。該干渉文様は、当然印刷の質の低下を
もたらすものであるから解消する必要がある。そこで先
ず、干渉文様の発生を防止するためのレーザー光の干渉
を解消し得る何らかの手段を見つけ出す必要がある。鋭
意研究の結果、砥石研磨後バフ研磨された被製版ロール
や精密に砥石研磨された被製版ロールにあっては干渉文
様が発生し、精密研磨した後ラッピングペーパーを使っ
て手仕上げで表面をランダムに充分丹念に擦って規則的
な研磨模様をなくした被製版ロールにあっては干渉文様
が発生しなかったことから、該干渉文様の発生は、レー
ザー光の入射光と反射光による干渉に起因するものと考
えられる。従って、被製版ロールについて、精密研磨し
た後、研磨模様をなくす超精密表面加工を行ったもの
を、製版すれば良い。しかしながら、そのような加工法
の採用は実用上極めて困難であるので、レーザー光の干
渉を解消し得る他の手段を見つけ出す必要があった。こ
こで、本願発明者は、干渉文様の発生がレーザー光の入
射光と反射光による干渉に起因するとの考えから、感光
膜の上にオーバーコートした保護膜内において、入射光
と反射光に適度の乱反射を与えることでレーザー光の入
射光と反射光による干渉を解消できるのではないかと考
えた。そうして、保護膜内において入射光と反射光に適
度の乱反射を与えることができかつ感光膜へ到達する入
射光の強さを殆ど低下させることがない物質の配合につ
いて探究した。
により被製版ロールを製版する方法によれば、モアレと
は異なる干渉文様が発生してしまうことが判明した。該
干渉文様は、直径５０ｍｍ内外の大きな水玉文様あるい
はアメーバ文様等の様々な散在模様にロール全体に非常
に薄く現れる。該干渉文様の発生は、レーザー光の干渉
に起因するものと考えられ、従来のＵＶ光源による露光
では発生しない。該干渉文様は、当然印刷の質の低下を
もたらすものであるから解消する必要がある。そこで先
ず、干渉文様の発生を防止するためのレーザー光の干渉
を解消し得る何らかの手段を見つけ出す必要がある。鋭
意研究の結果、砥石研磨後バフ研磨された被製版ロール
や精密に砥石研磨された被製版ロールにあっては干渉文
様が発生し、精密研磨した後ラッピングペーパーを使っ
て手仕上げで表面をランダムに充分丹念に擦って規則的
な研磨模様をなくした被製版ロールにあっては干渉文様
が発生しなかったことから、該干渉文様の発生は、レー
ザー光の入射光と反射光による干渉に起因するものと考
えられる。従って、被製版ロールについて、精密研磨し
た後、研磨模様をなくす超精密表面加工を行ったもの
を、製版すれば良い。しかしながら、そのような加工法
の採用は実用上極めて困難であるので、レーザー光の干
渉を解消し得る他の手段を見つけ出す必要があった。こ
こで、本願発明者は、干渉文様の発生がレーザー光の入
射光と反射光による干渉に起因するとの考えから、感光
膜の上にオーバーコートした保護膜内において、入射光
と反射光に適度の乱反射を与えることでレーザー光の入
射光と反射光による干渉を解消できるのではないかと考
えた。そうして、保護膜内において入射光と反射光に適
度の乱反射を与えることができかつ感光膜へ到達する入
射光の強さを殆ど低下させることがない物質の配合につ
いて探究した。
【０００４】本発明は、上述した鋭意研究の結果案出し
たもので、保護膜内においてレーザー光の入射光と反射
光に適度の乱反射を与えることができかつ感光膜へ到達
する入射光の強さを殆ど低下させることがない被製版ロ
ールに発生する干渉文様の発生防止方法を提供すること
を目的としている。
たもので、保護膜内においてレーザー光の入射光と反射
光に適度の乱反射を与えることができかつ感光膜へ到達
する入射光の強さを殆ど低下させることがない被製版ロ
ールに発生する干渉文様の発生防止方法を提供すること
を目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の課題を
解決するための手段として、レーザー露光法により被製
版ロールを製版する方法において、ポリビニルアルコー
ルを所要多量成分、二酸化珪素を所要微量成分とする水
溶液を感光膜のレーザー光との反応時の酸化防止用保護
膜として、感光膜にオーバーラップコーティングするこ
とを特徴とする被製版ロールに発生する干渉文様の発生
防止方法を提供するものである。
解決するための手段として、レーザー露光法により被製
版ロールを製版する方法において、ポリビニルアルコー
ルを所要多量成分、二酸化珪素を所要微量成分とする水
溶液を感光膜のレーザー光との反応時の酸化防止用保護
膜として、感光膜にオーバーラップコーティングするこ
とを特徴とする被製版ロールに発生する干渉文様の発生
防止方法を提供するものである。
【０００６】
【作用】ポリビニルアルコールを所要多量成分、二酸化
珪素を所要微量成分とする水溶液は、ポリビニルアルコ
ールが完全溶融し該二酸化珪素のミクロ粒子（直径約２
０ナノメートル）が数個ないし数十個凝集した団塊状
（直径コンマ数ミクロンないし３０ミクロン内外）にな
って均一に分散したコロイド溶液となる。したがって、
感光膜にオーバーラップコートされた酸化防止用保護膜
中には、二酸化珪素のミクロ粒子が数個ないし数十個凝
集した団塊状の粒子が均一に分散することになる。この
ため、保護膜内においてレーザー光の入射光と反射光に
適度の乱反射を与えることができて被製版ロールに発生
する干渉文様の発生を防止できるとともに、該二酸化珪
素が硝子原料であることから感光膜へ到達する入射光の
強さを殆ど低下させることがなく露光強度を有効に確保
でき、干渉文様がない高品質な製版が実現できる。
珪素を所要微量成分とする水溶液は、ポリビニルアルコ
ールが完全溶融し該二酸化珪素のミクロ粒子（直径約２
０ナノメートル）が数個ないし数十個凝集した団塊状
（直径コンマ数ミクロンないし３０ミクロン内外）にな
って均一に分散したコロイド溶液となる。したがって、
感光膜にオーバーラップコートされた酸化防止用保護膜
中には、二酸化珪素のミクロ粒子が数個ないし数十個凝
集した団塊状の粒子が均一に分散することになる。この
ため、保護膜内においてレーザー光の入射光と反射光に
適度の乱反射を与えることができて被製版ロールに発生
する干渉文様の発生を防止できるとともに、該二酸化珪
素が硝子原料であることから感光膜へ到達する入射光の
強さを殆ど低下させることがなく露光強度を有効に確保
でき、干渉文様がない高品質な製版が実現できる。
【０００７】
【実施例】銅メッキした後砥石研磨しさらにバフ研磨し
た被製版ロールに、感光膜をコーティングし、さらに
７．５重量％のポリビニルアルコール及び０．１重量％
の二酸化珪素を含む水溶液を前記感光膜の酸化防止膜と
してオーバーラップコートし、該被製版ロールを両端チ
ャックして走査回転するとともに波長０．４８８ミクロ
ンメートルのレーザー光を被製版ロールに照射しロール
面長方向に走査することにより、被製版ロール全面に画
像の露光を行い、現像しエッチングしレジスト剥離しク
ロムメッキを行って製版を完了し、検版したところ、干
渉文様がない高品質な製版画像が得られた。
た被製版ロールに、感光膜をコーティングし、さらに
７．５重量％のポリビニルアルコール及び０．１重量％
の二酸化珪素を含む水溶液を前記感光膜の酸化防止膜と
してオーバーラップコートし、該被製版ロールを両端チ
ャックして走査回転するとともに波長０．４８８ミクロ
ンメートルのレーザー光を被製版ロールに照射しロール
面長方向に走査することにより、被製版ロール全面に画
像の露光を行い、現像しエッチングしレジスト剥離しク
ロムメッキを行って製版を完了し、検版したところ、干
渉文様がない高品質な製版画像が得られた。
【０００８】
【発明の効果】以上説明してきたように、本発明の被製
版ロールに発生する干渉文様の発生防止方法によれば、
保護膜内においてレーザー光の入射光と反射光に適度の
乱反射を与えることができて被製版ロールに発生する干
渉文様の発生を防止できるとともに、該二酸化珪素が硝
子原料であることから感光膜へ到達する入射光の強さを
殆ど低下させることがなく露光強度を有効に確保でき、
干渉文様がない高品質な製版が実現できる。
版ロールに発生する干渉文様の発生防止方法によれば、
保護膜内においてレーザー光の入射光と反射光に適度の
乱反射を与えることができて被製版ロールに発生する干
渉文様の発生を防止できるとともに、該二酸化珪素が硝
子原料であることから感光膜へ到達する入射光の強さを
殆ど低下させることがなく露光強度を有効に確保でき、
干渉文様がない高品質な製版が実現できる。
Claims (1)
- 【請求項１】 レーザー露光法により被製版ロールを製
版する方法において、ポリビニルアルコールを所要多量
成分、二酸化珪素を所要微量成分とする水溶液を感光膜
のレーザー光との反応時の酸化防止用保護膜として、感
光膜にオーバーラップコーティングすることを特徴とす
る被製版ロールに発生する干渉文様の発生防止方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3259665A JPH0572739A (ja) | 1991-09-11 | 1991-09-11 | 被製版ロールに発生する干渉文様の発生防止方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3259665A JPH0572739A (ja) | 1991-09-11 | 1991-09-11 | 被製版ロールに発生する干渉文様の発生防止方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0572739A true JPH0572739A (ja) | 1993-03-26 |
Family
ID=17337202
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3259665A Pending JPH0572739A (ja) | 1991-09-11 | 1991-09-11 | 被製版ロールに発生する干渉文様の発生防止方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0572739A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5885746A (en) * | 1994-12-29 | 1999-03-23 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Photosensitive resin composition, photosensitive printing plate using the same and method of manufacturing printing master plate |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63110725A (ja) * | 1986-10-29 | 1988-05-16 | Nec Corp | 半導体装置の製造方法 |
-
1991
- 1991-09-11 JP JP3259665A patent/JPH0572739A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63110725A (ja) * | 1986-10-29 | 1988-05-16 | Nec Corp | 半導体装置の製造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5885746A (en) * | 1994-12-29 | 1999-03-23 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Photosensitive resin composition, photosensitive printing plate using the same and method of manufacturing printing master plate |
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