JPH0569B2 - - Google Patents
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- JPH0569B2 JPH0569B2 JP1282397A JP28239789A JPH0569B2 JP H0569 B2 JPH0569 B2 JP H0569B2 JP 1282397 A JP1282397 A JP 1282397A JP 28239789 A JP28239789 A JP 28239789A JP H0569 B2 JPH0569 B2 JP H0569B2
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- ethylene oxide
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- gas
- sterilization
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- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 claims description 35
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Landscapes
- Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、エチレンオキサイドガスを利用した
滅菌完了後の被滅菌物を、滅菌物収容器内に収容
した侭、一定温度を継続するために加温し、空気
洗浄を行い、かつ間歇的に加温タイマーを作動さ
せて、滅菌物収容器に加湿液を導入し特定の相対
温度を持続させる、すなわち加温によりエチレン
オキサイドガスの化学的反応度を高め、さらにエ
チレンオキサイドガスの水に可溶性をもつ性質を
利用して加湿によりその湿気に吸着させて排気し
無菌空気に置き換え、滅菌完了後の被滅菌物品に
吸着残留するエチレンオキサイドガスの毒性を短
時間のうちに脱離させて、この物品を完全に使用
可能にすると共に、これらの滅菌完了後の工程を
無人運転により可能ならしめたエチレンオキサイ
ドガス滅菌後における残留ガス脱離速進装置に関
するものである。
滅菌完了後の被滅菌物を、滅菌物収容器内に収容
した侭、一定温度を継続するために加温し、空気
洗浄を行い、かつ間歇的に加温タイマーを作動さ
せて、滅菌物収容器に加湿液を導入し特定の相対
温度を持続させる、すなわち加温によりエチレン
オキサイドガスの化学的反応度を高め、さらにエ
チレンオキサイドガスの水に可溶性をもつ性質を
利用して加湿によりその湿気に吸着させて排気し
無菌空気に置き換え、滅菌完了後の被滅菌物品に
吸着残留するエチレンオキサイドガスの毒性を短
時間のうちに脱離させて、この物品を完全に使用
可能にすると共に、これらの滅菌完了後の工程を
無人運転により可能ならしめたエチレンオキサイ
ドガス滅菌後における残留ガス脱離速進装置に関
するものである。
(従来の技術)
従来より病院の中央滅菌材料室などで、一度患
者に使用した医療器具、または滅菌有効期限切れ
の医療器具の殆んどは再度滅菌処理を行い、再使
用に供しているものであるが、この場合滅菌処理
方法としては、通常温度121℃で20乃至30分間、
又は温度132℃で5乃至10分間高圧蒸気により滅
菌処理を行つていたものである。然しながらこの
ような方法においては、耐熱性の無い熱に弱い素
材、又はこのような滅菌条件では素材が劣化して
滅菌再生が不可能な製品、或は蒸気によつて切れ
味の悪くなる刃物類、更に高温滅菌ではその製品
の寿命が短くなるもの等があるため、一概にこの
高圧蒸気滅菌方法が最良とは言えないものであつ
た。
者に使用した医療器具、または滅菌有効期限切れ
の医療器具の殆んどは再度滅菌処理を行い、再使
用に供しているものであるが、この場合滅菌処理
方法としては、通常温度121℃で20乃至30分間、
又は温度132℃で5乃至10分間高圧蒸気により滅
菌処理を行つていたものである。然しながらこの
ような方法においては、耐熱性の無い熱に弱い素
材、又はこのような滅菌条件では素材が劣化して
滅菌再生が不可能な製品、或は蒸気によつて切れ
味の悪くなる刃物類、更に高温滅菌ではその製品
の寿命が短くなるもの等があるため、一概にこの
高圧蒸気滅菌方法が最良とは言えないものであつ
た。
そこでこの高圧蒸気滅菌に代わるものとして、
エチレンオキサイドガスを用いた滅菌方法は、46
℃乃至60℃の温度で殺菌効果が高く、然も高圧蒸
気滅菌に比較すると高温による形状の変化、素材
の劣化および鋼製品の錆等、被滅菌物に対する悪
影響がないため、これによる滅菌範囲は(1)生体内
埋め込み用器具、(2)生体内挿入又は留置する器
具、(3)皮膚に接触させる器具(4)体外用の呼吸回
路、(5)体外用の血液に接触させる各種器具、(6)手
術用各種器具等に拡大され、この滅菌方法は病院
の中央滅菌材料室並びに医療器具滅菌製造工場等
で広く用いられるものと信ずる。
エチレンオキサイドガスを用いた滅菌方法は、46
℃乃至60℃の温度で殺菌効果が高く、然も高圧蒸
気滅菌に比較すると高温による形状の変化、素材
の劣化および鋼製品の錆等、被滅菌物に対する悪
影響がないため、これによる滅菌範囲は(1)生体内
埋め込み用器具、(2)生体内挿入又は留置する器
具、(3)皮膚に接触させる器具(4)体外用の呼吸回
路、(5)体外用の血液に接触させる各種器具、(6)手
術用各種器具等に拡大され、この滅菌方法は病院
の中央滅菌材料室並びに医療器具滅菌製造工場等
で広く用いられるものと信ずる。
(発明が解決しようとする問題点)
滅菌終了後、被滅菌物を滅菌装置内に収容した
ままの状態で加温し、無菌空気を導入して空気洗
浄を行う、この方法においては、繰り返し行なう
空気洗浄のために滅菌物収容器内、および被滅菌
物品は乾燥度が強く、また病院ではこの工程を夜
間に行うことが多くある。熱源に蒸気を用いた循
環温水の加温槽では、夜間は蒸気供給がないので
大切な時間帯に温度が下降する。滅菌物収容器内
および被滅菌物品の乾燥、ならびに設定温度の低
下により作用効果が少ないため被滅菌物品の使用
可能になるまでに時間を要する。そのため病院で
は一度使用した物品を(高価な医療器具を含む)
再度滅菌して使用するまでの期間を短くして物品
の回転を良くすることが必要である。
ままの状態で加温し、無菌空気を導入して空気洗
浄を行う、この方法においては、繰り返し行なう
空気洗浄のために滅菌物収容器内、および被滅菌
物品は乾燥度が強く、また病院ではこの工程を夜
間に行うことが多くある。熱源に蒸気を用いた循
環温水の加温槽では、夜間は蒸気供給がないので
大切な時間帯に温度が下降する。滅菌物収容器内
および被滅菌物品の乾燥、ならびに設定温度の低
下により作用効果が少ないため被滅菌物品の使用
可能になるまでに時間を要する。そのため病院で
は一度使用した物品を(高価な医療器具を含む)
再度滅菌して使用するまでの期間を短くして物品
の回転を良くすることが必要である。
(問題を解決するための手段)
本発明はかかる現状に鑑みてなされた発明であ
つて、滅菌物収容器内で滅菌完了後の被滅菌物品
に吸着残留しているエチレンオキサイドガスを除
去する方法として、エチレンオキサイドガスの水
に可溶性をもつ性質を利用して、滅菌装置に加湿
装置を設けることにより、滅菌装置内の気中、お
よびその中の物品に適当な温度および湿気を加え
て、この湿気にエチレンオキサイドガスを吸着さ
せるとともに無菌空気と置き換える空気洗浄によ
り、その作用効果を大きくし、かつこれを無人運
転により継続することを目的とした装置によりエ
チレンオキサイドガスの毒性により医療器具、そ
の他の用品の毒性被害を無くするようにしたもの
である。
つて、滅菌物収容器内で滅菌完了後の被滅菌物品
に吸着残留しているエチレンオキサイドガスを除
去する方法として、エチレンオキサイドガスの水
に可溶性をもつ性質を利用して、滅菌装置に加湿
装置を設けることにより、滅菌装置内の気中、お
よびその中の物品に適当な温度および湿気を加え
て、この湿気にエチレンオキサイドガスを吸着さ
せるとともに無菌空気と置き換える空気洗浄によ
り、その作用効果を大きくし、かつこれを無人運
転により継続することを目的とした装置によりエ
チレンオキサイドガスの毒性により医療器具、そ
の他の用品の毒性被害を無くするようにしたもの
である。
(作用)
本発明はエチレンオキサイドガスを使用して滅
菌作業をなし、滅菌完了後の被滅菌物品を滅菌装
置内に収容した侭その外周に循環させる温水の温
度が低下しないように滅菌装置内の温度を約50〜
60℃に持続させ、この装置内を真空、無菌空気に
より給気、すなわち空気洗浄および滅菌装置内の
湿度を50〜75%に持続させるように間歇的に作動
するに加湿タイマーを設置して加湿電磁弁を作動
させる。この工程において滅菌装置内および被滅
菌物に吸着残留している有毒エチレンオキサイド
ガスを湿気に吸着させるとともに無菌空気と置換
して、被滅菌物に吸着残留している有毒エチレン
オキサイドガスの毒性を短時間の内に除去するも
のである。
菌作業をなし、滅菌完了後の被滅菌物品を滅菌装
置内に収容した侭その外周に循環させる温水の温
度が低下しないように滅菌装置内の温度を約50〜
60℃に持続させ、この装置内を真空、無菌空気に
より給気、すなわち空気洗浄および滅菌装置内の
湿度を50〜75%に持続させるように間歇的に作動
するに加湿タイマーを設置して加湿電磁弁を作動
させる。この工程において滅菌装置内および被滅
菌物に吸着残留している有毒エチレンオキサイド
ガスを湿気に吸着させるとともに無菌空気と置換
して、被滅菌物に吸着残留している有毒エチレン
オキサイドガスの毒性を短時間の内に除去するも
のである。
(実施例)
本発明の実施例を示せば、被滅菌物の一定量を
収容して滅菌する滅菌物収容装置1に付属してエ
チレンオキサイドガス導入弁2と滅菌物収容装置
内の滅菌処理後の使用ガスおよび空気などの排気
電磁弁3、洗浄用空気導入電磁弁、さらに一定温
度に保温する循環温水加温電磁弁5、循環温水加
温槽6、温水循環ポンプ7を設けたエチレンオキ
サイドガス滅菌装置において、循環温水加温槽6
に温度調節器付き電熱器を設置して滅菌物収容装
置1の周囲を被覆する温水タンクの循環温水の温
度が夜間などで蒸気の供給停止、故障などで設定
温度が下がらないように特定の温度50〜60℃を持
続させるとともに間歇的に作動する加湿電磁弁8
により無菌の加湿液を導入して滅菌装置内の湿度
を50〜75%に持続させる。滅菌工程完了後直ちに
水封式真空ポンプと同じく排気電磁弁3が作動し
て、滅菌物収容装置1に充満させている使用ガス
を廃棄する。このとき真空ポンプの加熱を防止す
るためのポンプ給水電磁弁も同時に作動する。つ
ぎに真空到達後、排気経路の作動が停止され、間
歇的に作動するように設定した湿気導入電磁弁8
により無菌の加湿液が導入される。このとき加湿
液導入量と導入回数はタイマーの設定により湿気
導入電磁弁8にて調整される。つぎに洗浄用空気
導入電磁弁4が作動して、空気フイルターを通過
させた無菌空気が滅菌物収容装置1の内部に導入
される。この真空と無菌空気導入による空気洗浄
の工程の中へ間歇的に作動する加湿電磁弁8によ
り無菌の加湿液を滅菌物収容装置1の内部へ導入
して滅菌装置内の湿度を50〜75%に持続するよう
に加湿液の導入量、およびその回数をタイマーの
設定により湿気導入電磁弁8にて調整される。ま
たこの空気洗浄の工程のなかで、周囲を被覆する
温水タンクの循環温水の温度が夜間などで蒸気の
供給停止、故障などで設定温度が下がつた場合に
は、加温槽6の内部の温度調節器付き電熱器の作
動により循環温水は特定温度で持続させる。こう
して滅菌物収容器1内は、特定の温度および湿度
を持続する空気洗浄が行われ、滅菌物収容器1内
および被滅菌物品に吸着残留せるエチレンオキサ
イドガスの有毒ガスを短時間内に除去するように
した装置である。
収容して滅菌する滅菌物収容装置1に付属してエ
チレンオキサイドガス導入弁2と滅菌物収容装置
内の滅菌処理後の使用ガスおよび空気などの排気
電磁弁3、洗浄用空気導入電磁弁、さらに一定温
度に保温する循環温水加温電磁弁5、循環温水加
温槽6、温水循環ポンプ7を設けたエチレンオキ
サイドガス滅菌装置において、循環温水加温槽6
に温度調節器付き電熱器を設置して滅菌物収容装
置1の周囲を被覆する温水タンクの循環温水の温
度が夜間などで蒸気の供給停止、故障などで設定
温度が下がらないように特定の温度50〜60℃を持
続させるとともに間歇的に作動する加湿電磁弁8
により無菌の加湿液を導入して滅菌装置内の湿度
を50〜75%に持続させる。滅菌工程完了後直ちに
水封式真空ポンプと同じく排気電磁弁3が作動し
て、滅菌物収容装置1に充満させている使用ガス
を廃棄する。このとき真空ポンプの加熱を防止す
るためのポンプ給水電磁弁も同時に作動する。つ
ぎに真空到達後、排気経路の作動が停止され、間
歇的に作動するように設定した湿気導入電磁弁8
により無菌の加湿液が導入される。このとき加湿
液導入量と導入回数はタイマーの設定により湿気
導入電磁弁8にて調整される。つぎに洗浄用空気
導入電磁弁4が作動して、空気フイルターを通過
させた無菌空気が滅菌物収容装置1の内部に導入
される。この真空と無菌空気導入による空気洗浄
の工程の中へ間歇的に作動する加湿電磁弁8によ
り無菌の加湿液を滅菌物収容装置1の内部へ導入
して滅菌装置内の湿度を50〜75%に持続するよう
に加湿液の導入量、およびその回数をタイマーの
設定により湿気導入電磁弁8にて調整される。ま
たこの空気洗浄の工程のなかで、周囲を被覆する
温水タンクの循環温水の温度が夜間などで蒸気の
供給停止、故障などで設定温度が下がつた場合に
は、加温槽6の内部の温度調節器付き電熱器の作
動により循環温水は特定温度で持続させる。こう
して滅菌物収容器1内は、特定の温度および湿度
を持続する空気洗浄が行われ、滅菌物収容器1内
および被滅菌物品に吸着残留せるエチレンオキサ
イドガスの有毒ガスを短時間内に除去するように
した装置である。
図中9は排水弁、10は安全弁、11は圧力ス
イツチ、12は蒸気管、13は給水管、14は加
温電磁弁、15は減圧弁である。
イツチ、12は蒸気管、13は給水管、14は加
温電磁弁、15は減圧弁である。
本発明は叙上のごとき構成によりなるものであ
つて、保温手段としては、通常病院においては蒸
気供給設備における温水を利用して滅菌装置の外
周のタンク5内に温水を循環させることによりそ
の滅菌装置内部を50℃乃至60℃に保持してエチレ
ンオキサイドガスの有毒ガスを加温、加湿、湿気
への吸着を効果的に促進し、更に間歇的に加湿す
る無菌の湿気には、蒸気と同様に蒸気供給設備に
おける凝結水を使用すれば、無菌にして錆、埃な
どがなく簡便に必要量が供給できると共に、使用
経費が安価ですみ、滅菌装置内への自動添加に際
しても有毒に気中に添加できるから、エチレンオ
キサイドガスの有毒ガスの吸着が効率的に行うこ
とができるものである。
つて、保温手段としては、通常病院においては蒸
気供給設備における温水を利用して滅菌装置の外
周のタンク5内に温水を循環させることによりそ
の滅菌装置内部を50℃乃至60℃に保持してエチレ
ンオキサイドガスの有毒ガスを加温、加湿、湿気
への吸着を効果的に促進し、更に間歇的に加湿す
る無菌の湿気には、蒸気と同様に蒸気供給設備に
おける凝結水を使用すれば、無菌にして錆、埃な
どがなく簡便に必要量が供給できると共に、使用
経費が安価ですみ、滅菌装置内への自動添加に際
しても有毒に気中に添加できるから、エチレンオ
キサイドガスの有毒ガスの吸着が効率的に行うこ
とができるものである。
(発明の効果)
本発明は叙上のごとく、従来の滅菌装置に加
温、加湿を付与する装置を加設したものであつて
これにより被滅菌物の滅菌完了後、他の装置に移
し替えてエチレンオキサイドガスの有毒性を離脱
する必要なく、然も離脱の期間を短縮速進するも
のである。そして作業者においては作業手間がか
からず滅菌作業が安全にできて有毒ガスの汚染を
防止することができ滅菌作業の安全を確保するも
のである。
温、加湿を付与する装置を加設したものであつて
これにより被滅菌物の滅菌完了後、他の装置に移
し替えてエチレンオキサイドガスの有毒性を離脱
する必要なく、然も離脱の期間を短縮速進するも
のである。そして作業者においては作業手間がか
からず滅菌作業が安全にできて有毒ガスの汚染を
防止することができ滅菌作業の安全を確保するも
のである。
第1図は本発明の構成図、第2図は気管内チユ
ーブにおけるエチレンオキサイドガス残留追跡
表、第3図は気管切開チユーブにおけるエチレン
オキサイドガス残留追跡表である。 図中1……被滅菌物収容装置、2……ガス導入
電磁弁、3……ガス排出電磁弁、4……洗浄用空
気導入電磁弁、5……温水タンク、6……ガス導
入管、7……ガスおよび循環水加温槽、8……湿
気導入電磁弁。
ーブにおけるエチレンオキサイドガス残留追跡
表、第3図は気管切開チユーブにおけるエチレン
オキサイドガス残留追跡表である。 図中1……被滅菌物収容装置、2……ガス導入
電磁弁、3……ガス排出電磁弁、4……洗浄用空
気導入電磁弁、5……温水タンク、6……ガス導
入管、7……ガスおよび循環水加温槽、8……湿
気導入電磁弁。
Claims (1)
- 1 エチレンオキサイドガス滅菌物収容装置に一
定量を収容して、エチレンオキサイドガスを導入
しこの導入されたエチレンオキサイドガスを用い
て滅菌するエチレンオキサイドガス滅菌物収容装
置に付属して、エチレンオキサイドガス導入電磁
弁、滅菌処理後の使用ガス排出電磁弁、および空
気洗浄用の空気導入電磁弁、滅菌物収容器内を保
温するための循環温水の加温槽および加温電磁弁
などを設けたエチレンオキサイドガス滅菌装置に
おいて、滅菌物収容器内をほぼ一定温度に持続す
るとともに間歇的に無菌の湿気を繰り返し導入し
て特定の温度を持続させて、滅菌物収容装置内を
真空、給気による空気洗浄、および間歇的にする
加湿タイマーの設置により、ほぼ一定時間自動的
に無人運転による加湿を繰り返し特定の湿度を持
続させて、滅菌終了後の被滅菌物に残留吸着する
エチレンオキサイドガスの有毒を短時間のうちに
除去するように装置したことを特徴とするエチレ
ンオキサイドガス滅菌における残留ガス脱離速進
装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1282397A JPH03141952A (ja) | 1989-10-30 | 1989-10-30 | エチレンオキサイドガス滅菌における残留ガス脱離速進装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1282397A JPH03141952A (ja) | 1989-10-30 | 1989-10-30 | エチレンオキサイドガス滅菌における残留ガス脱離速進装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03141952A JPH03141952A (ja) | 1991-06-17 |
JPH0569B2 true JPH0569B2 (ja) | 1993-01-05 |
Family
ID=17651877
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1282397A Granted JPH03141952A (ja) | 1989-10-30 | 1989-10-30 | エチレンオキサイドガス滅菌における残留ガス脱離速進装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03141952A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6231810B1 (en) * | 1999-04-21 | 2001-05-15 | Stryker Technologies Corporation | Special cycle for ethylene oxide sterilization |
JP2007185275A (ja) * | 2006-01-12 | 2007-07-26 | Miura Co Ltd | ガス滅菌における残留ガス除去方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5615751A (en) * | 1979-07-20 | 1981-02-16 | American Sterilizer Co | Method and device for sterilization |
JPS5722757A (en) * | 1980-06-13 | 1982-02-05 | Geistlich Soehne Ag | Sterilizing method |
-
1989
- 1989-10-30 JP JP1282397A patent/JPH03141952A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5615751A (en) * | 1979-07-20 | 1981-02-16 | American Sterilizer Co | Method and device for sterilization |
JPS5722757A (en) * | 1980-06-13 | 1982-02-05 | Geistlich Soehne Ag | Sterilizing method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH03141952A (ja) | 1991-06-17 |
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