JPH0568996B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は麻酔薬気化器に関し、特にバイパス形
の麻酔薬気化器に関する。

英国特許第1224478号に開示されたバイパス形
の麻酔薬気化器においては、酸素、空気又は亜酸
化窒素のようなキヤリヤガスは、気化器に流入す
るとき、最初に、第１流れ（この第１流れは、気
化器のサンプルすなわち気化室に向かつて流れ、
これらのサンプすなわち気化室に入れられた揮発
性液体麻酔薬からの蒸気を同伴するようになつて
いる）と、第２バイパス流れとに分流され、これ
らの第１流れ及び第２流れは、気化器から出て患
者に供給される前に再び合流される。

上記英国特許第1224478号には、第２バイパス
流れに熱制御形弁を配置することが記載されてい
る。この熱制御形弁の機能は、バイパス流れ中の
キヤリヤガスの量を調節することにある。気化器
の温度が上昇すると、バイパスを通るキヤリヤガ
スの流れに対する熱制御形弁の抵抗が低下するた
め、より多量のキヤリヤガスがバイパスを通つて
流れることができるようになり、気化器のサンプ
から流出する第１流れと再合流するときには、最
初の温度における麻酔薬の比率と同じ比率の麻酔
薬を含有するガス混合物が形成されるようになつ
ている。第２バイパス流れ中に熱応答弁（すなわ
ち熱制御形弁）を配置することにより、次のよう
な技術的利点が得られる。

(a) 水蒸気が存在すると或る種の揮発性液体麻酔
薬が腐食性をもつことは、機つかの医療用ガス
供給装置において知られているが、バイパス流
れ中に熱応答弁を設置することにより、この非
常に高感度な装置を腐食作用から保護すること
が可能になる。

(b) 熱応答弁の感度は、0.0001インチ（約
0.00254mm）の弁変位につき0.05のフアクタの
濃度変化を生じさせる程敏感であると考えられ
る。しかしながら、これでも、気化器の第１流
れ（この第１流れでのガス流量は非常に少な
い）中に熱応答弁を配置する場合に制御しなけ
ればならない。より微小な弁変位に比べれば、
第２流れ中に配置した場合の上記弁変位は粗い
弁変位であるといえる。

(c) 麻酔薬ハロタンは安定薬としてのチモールを
含有しているが、このチモールは、蒸発により
作動面上に残留される。従つて、熱応答弁を第
２バイパス流れ中に配置することは、この最も
敏感なコンポーネント（作動面）を、チモール
の体積による作用から保護できることを意味す
るものである。

熱応答弁を第２バイパス流れ中に配置すること
により得られる優れた技術的効果は、英国特許第
1224478号に開示された特徴を具現化した麻酔薬
気化器について医師の間で好評をもたらしてい
る。

しかしながら、英国特許第1224478号に開示の
熱制御形弁は、気化器のほぼ中央で、気化室から
離れた位置に配置されており、次のような欠点を
有している。

(a) 気化器のサンプル内の液体麻酔薬の温度変化
に追従する弁の熱応答に時間遅延が生じること
である。

(b) 調節及びメインテナンスの目的で、熱応答弁
にアクセスすること（手を入れること）が比較
的困難なことである。

従つて本発明の目的は、気化器のサンプのベー
スに直ぐ隣接した位置において第２バイパス流れ
中に配置された熱応答弁を備えていて、調節及び
メインテナンスの目的で容易に熱応答弁にアクセ
スできるバイパス形の麻酔薬気化器を提供するこ
とにある。

本発明によれば、次のような構成の麻酔薬気化
器すなわち、キヤリヤガスが、最初に、揮発性の
液体麻酔薬を入れる気化室を通つて前記液体麻酔
薬からの蒸気を同伴する第１流れと、第２バイパ
ス流れとに分流され、次いで前記第１流れ及び第
２パイパス流れが、患者に供給すべく気化器を出
る前に再合流され、前記第２パイパス流れには熱
応答弁が配置されているパイパス形の麻酔薬気化
器において、前記気化室が、熱伝導率の大きな材
料で作られたベースを備えており、前記熱応答弁
が、前記麻酔薬気化器の通常の方向において前記
ベースの直ぐ下に配置されていることを特徴とす
る麻酔薬気化器が提供される。

以下、添付図面を参照して、本発明の実施例を
説明する。

図示のように、本発明によるバイパス形の麻酔
薬気化器１はベース２と上方の閉鎖プレート４と
を備えた本体ケーシングを有している。閉鎖プレ
ート４の上にはガイド部６が設けられており、ガ
イド部６の中には回転自在の制御弁８が配置され
ている。この制御弁８は、該弁８に取り付けられ
たノブ１０により回転される。

閉鎖プレート４の直ぐ下には、揮発性の液体麻
酔薬を入れるための気化室すなわちサンプ１２が
設けられており、該サンプすなわち気化室１２の
直ぐ下には熱応答弁５２が配置されている。

特に第３図に示すように、制御弁８の接面９
（第１図）には制御溝１６及びバイパス凹部１８
が形成されている。

閉鎖プレート４には、複数の通路３０，３２，
３４，３５，３６及び３８が形成されている。

ガイド部６には、キヤリヤガスの入口４０と、
ガス及び蒸気の出口４２とが設けられている。

特に第４図に示すように、サンプすなわち気化
室１２は、銅又は銅合金のような熱伝導率の大き
な材料で作られた薄壁形のベース５０を備えてい
る。図示のように、このベース５０の直ぐ下には
熱応答弁５２が配置されている。熱応答弁５２の
ベース５０及びフラツパ５４は通路５６を形成し
ており、後述のように、該通路５６を通つてバイ
パス流れが流れ得るようになつている。熱応答弁
５２には調節ねじ５８が設けられており、気化器
１のベース２には、調節ねじ５８と整合する位置
において、取り外し自在のプラグ６０が螺着され
ている。図示の実施例においては、調節ねじ５８
が熱応答エレメント５９（一般的にはバイメタル
装置である）上に載つている。熱応答エレメント
５９の後端部（図示せず）は、公知の方法でベー
ス５０と接触している。

麻酔薬気化器１がキヤリヤガスの流れに対して
永続的に連結されるようにして、該気化器１を麻
酔機械に取り付け、次に、第２図に示すように、
気化器１を「オフ」すなわちゼロ出力のダイアル
位置に合わせると、入口４０に流入したキヤリヤ
ガスが、通路３４及びチヤンネル６１を通つて熱
応答弁５２に至り、該熱応答弁５２からチヤンネ
ル６４及び通路３６を通つて出口４２へと流れ
る。

気化器１を、英国特許第2052271号に開示され
ているような弁作動機構を介して麻酔機械に連結
した場合には、「オフ」位置において麻酔機械へ
のガスの連通が遮断されるため、いかなるガスも
気化器１を通つて流れることはない。

ノブ１０従つて制御弁８を回転することにより
気化器１が「オン」（ON）の位置にセツトされ
ると、キヤリヤガスが入口４０に流入し、通路３
４に向つて流れる。通路３４においてキヤリヤガ
スは、通路３５、バイパス凹部１８及び通路３２
を通つてサンプすなわち気化室１２へと流れる第
１流れと、チヤンネル６１に流入する第２バイパ
ス流れとに分流される。

第１流れは、サンプ領域内に入れられた揮発性
に液体麻酔薬の蒸気を同伴し、このキヤリヤガス
と蒸気との混合物は、サンプ領域から閉鎖プレー
ト４の通路３０に流入する。キヤリヤガスと蒸気
との混合物は、通路３０から接面９の制御溝１６
を通つて通路３８に流入する。

前述の第２バイパス流れは、通路３４、及びリ
ストリクタ（絞り）６２を備えたチヤンネル６１
に沿つて流れ、熱制御形弁（熱応答弁）５２に流
入する。

第２バイパス流れは、通路５６を通つて流れ、
チヤンネル６４を通つて弁５２から流出する。次
いで、第２バイパス流れはチヤンネル６４から通
路３６に流入し、出口４２から気化器１を出る前
に第１流れと合流する。

上記実施例の特別な長所は、熱制御形弁５２
が、液体麻酔薬を入るサンプ１２のベース５０の
他側に直ぐに隣接して配置されていること及びベ
ース５０の材料として熱伝導率の大きな材料を選
択していることにより、液体麻酔薬の温度が急激
に変化する場合でも、弁５２と液体麻酔薬との間
の温度差を非常に小さくできることである。この
ため、麻酔薬の温度が変化するときの、気化器１
を出る麻酔薬の濃度変化を、現存するバイパス形
の気化器より小さくすることができる。

また、上記実施例の別の重要な特徴は、麻酔薬
蒸気を大気中に放出させることなく、弁５２に容
易にアクセスできることである。

サンプ１２の外側に熱制御形弁５２を配置する
ことによる第３の利点は、ガスを通常の方法で気
化器に流し、出口における麻酔薬の濃度を測定し
ながら、弁５２のフラツパ５４とベース５０との
間の通路５６の調節を加減できることである。こ
の特徴のため、測定したアウトプツト（流出量）
が気化器に表示されたアウトプツトと一致する或
る所望のレベルになるまで調節を行うことによ
り、気化器の正確なキヤリブレーシヨンが可能に
なる。このキヤリブレーシヨンは、或る基準目盛
りに対するノブ１０の位置決めを行うことであ
る。この調節は、気化器１のベース２からプラグ
６０を取り外したときに形成される孔からドライ
バ又は他の器具を挿入して、調節ねじ５８を回転
することにより行うことができる。プラグ６０を
取り外したときに形成される孔から、調節作業中
にガスが逃散することを防止できるように調節器
具を設計することもできる。

使用に際し麻酔薬気化器は、該気化器に流入す
るキヤリヤガスの流量が変化する場合でも、ノブ
１０で設定した実質的に一定の濃度をもつ麻酔薬
蒸気同伴ガスを供給できるものであることが要求
される。バイパス形の麻酔薬気化器によりこの要
求を満たすためには、麻酔薬気同伴ガスの流れと
バイパスキヤリヤガスの流れとを、一定比率に維
持することが必要である。これは、各流れに対し
同一でリニアな流れ抵抗特性を与えること、すな
わち、流れが分れる直前の点と再合流する直後の
点との間の圧力差が変化するとき、対応する等し
い変化を各流れに生じさせることにより達成され
る。

最も良く知られたバイパス形の麻酔薬気化器の
主要な欠点は、気化器に流入する新鮮なキヤリヤ
ガスの流量が増加すると、供給される麻酔薬の濃
度が低下することである。このことは、利用でき
る範囲の上限又は上限近くの麻酔薬濃度において
特に明らかであり、かつ蒸気を同伴する度合の変
化（これは流量その他の変化により生じる）のよ
うな付加的なフアクタの数の結果生じるものであ
る。

気化器への新鮮なキヤリヤガスの流入量が増大
するにつれてより多量のガスがサンプを通つて流
れるように分流比率を変えることによつて、麻酔
薬のアウトプツトを増加させることができる。こ
れは、バイパス流れの流れ抵抗係数を増大するこ
とにより達成される。弁５２はリニアな流れ特性
を持つように設計されていて、この機能を達成す
ることはできない。弁５２とは独立した流れ抵抗
特性をもつレジスタ（リストリクタ）６２を付加
することにより、麻酔薬のアウトプツト特性を大
きな度合で制御することができる。特にリストリ
クタ６２は、乱流と共に作動させるべく、リスト
リクタ６２の前後の圧力差が該リストリクタ６２
を通る流量の二乗で増加するように設計されてい
るため、気化器１への大きなインプツト流れ値で
作動させるのに適している。従つて、流量が小さ
い場合には、弁５２に比べリストリクタ６２の低
抗値は非常に小さく、気化器１からの麻酔薬のア
ウトプツト濃度に事実上何らの影響も与えない。
流量が増大すると、リストリクタ６２の抵抗値
は、弁５２の抵抗よりも迅速にかつ非常に大きく
増大し、かつこの抵抗値は大流量時に非常に大き
くなつて、リストリクタを設けていない場合に得
られるアウトプツト以上に、気化器のアウトプツ
トを増大させることができ、このため、流量の変
化があつても、より安定したアウトプツト濃度を
維持することができる。

図示の実施例では、気化器１のキヤリブレーシ
ヨンが行われたときに、アウトプツトに与えるリ
ストリクタ６２の効果が生じるようにするため、
リストリクタ６２は弁５２の上流側に配置されて
いるが、弁５２の下流側に配置することもでき
る。

リストリクタ６２の抵抗特性は、気化器に使用
される特定の麻酔薬の特性に適合するように選択
し、各種の麻酔薬について最適な効果が得られる
ようにすることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明による麻酔薬気化器を断面し
た側面図であり、麻酔薬気化器が「オン」の状態
にあるときの該気化器を通るガスの流れを示すも
のである。第２図は、本発明の麻酔薬気化器が
「オフ」の状態にあるところを示す。第１図と同
様な側面図である。第３図は、第１図及び第２図
の麻酔薬気化器の一部を構成する制御弁をその接
面の下から見た底面図である。第４図は、第１図
及び第２図の麻酔薬気化器の一部を構成する熱応
答弁の詳細な構造を示す図面である。第５図は、
本発明の麻酔薬気化器の全体的構成を示す概略図
である。 １……麻酔薬気化器、２……気化器のベース、
４……閉鎖プレート、８……制御弁、１０……ノ
ブ、１２……気化室（サンプ）、１６……制御溝、
１８……バイパス凹部、３０，３２，３４，３
５，３６，３８……通常、４０……キヤリヤガス
入口、４２……ガス及び蒸気出口、５０……気化
室のベース、５２……熱応答弁、５４……フラツ
パ、５６……通路、５８……調節ねじ、５９……
熱応答エレメント、６０……プラグ、６１，６４
……チヤネル、６２……リストリクタ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ キヤリヤガスが、最初に、揮発性の液体麻酔
   薬を入れる気化室１２を通つて前記液体麻酔薬か
   らの蒸気を同伴する第１流れと、第２バイパス流
   れとに分流され、次いで前記第１流れ及び第２パ
   イパス流れが、患者に供給すべく気化器１を出る
   前に再合流され、前記第２パイパス流れには熱応
   答弁５２が配置されているパイパス形の麻酔薬気
   化器１において、前記気化室１が、熱伝導率の大
   きな材料で作られたベース５０を備えており、前
   記熱応答弁５２が、前記麻酔薬気化器１の通常の
   方向において前記ベース５０の直ぐ下に配置され
   ていることを特徴とする麻酔薬気化器。 ２ 前記麻酔薬気化器１のベース２には取り外し
   自在のプラグ６０が設けてあり、前記熱応答弁５
   ２にアクセスできるようになつていることを特徴
   とする請求項１に記載の麻酔薬気化器。 ３ 前記第２バイパス流れには、前記熱応答弁５
   ２の上流側においてリストリクタ６２が配置され
   ていることを特徴とする請求項１又は２に記載の
   麻酔薬気化器。 ４ 前記第２バイパス流れには、前記熱応答弁５
   ２の下流側においてリストリクタ６２が配置され
   ていることを特徴とする請求項１又は２に記載の
   麻酔薬気化器。 ５ 前記リストリクタの流量−圧力降下特性が、
   選択された麻酔薬の条件に適合していることを特
   徴とする請求項３又は４に記載の麻酔薬気化器。