JPH056531A - Magnetic disk - Google Patents

Magnetic disk

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JPH056531A
JPH056531A JP18419191A JP18419191A JPH056531A JP H056531 A JPH056531 A JP H056531A JP 18419191 A JP18419191 A JP 18419191A JP 18419191 A JP18419191 A JP 18419191A JP H056531 A JPH056531 A JP H056531A
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JP
Japan
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film
amorphous carbon
carbon film
hard amorphous
magnetic disk
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JP18419191A
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Japanese (ja)
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Kazuhiro Baba
和宏 馬場
Takeshi Obata
毅 小畑
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NEC Corp
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NEC Corp
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Abstract

PURPOSE:To obtain a protective film having high hardness and excellent wear resistance and lubricity even at <=500Angstrom by providing a hard amorphous carbon film contg. fluorine on the surface of a hard amorphous carbon film. CONSTITUTION:A silicon film 14 is provided mearly over the entire surface of a magnetic recording medium layer 13 provided on the surface of a substrate 12 and the hard amorphous carbon film 15 is formed thereon. The hard amorphous carbon film 16 contg. the fluorine is formed on the surface of the hard amorphous carbon film 15. A plasma chemical deposition method by DC glow discharge of a gaseous mixture composed of methane and hydrogen can synthesize the good film at a low temp. in the formation of the hard amorphous carbon film 15. Consequently, the excellent wear resistance by the hard amorphous carbon film 15 and the excellent lubricity by the hard amorphous carbon film 16 contg. the fluorine are obtd. The protective film having <=500Angstrom film thickness required for the high-density recording medium is thus obtd.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は高硬度で耐摩耗性に優れ
た磁気ディスクに関し、さらに詳しくは、硬度が高く、
耐摩耗性と潤滑性とを兼ね備えた表面保護膜構造を有す
る磁気ディスクに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic disk having high hardness and excellent wear resistance, and more specifically, high hardness,
The present invention relates to a magnetic disk having a surface protective film structure having both wear resistance and lubricity.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気ディスクや磁気ヘッドは、磁気ディ
スク装置としてコンピュ−タ端末情報記憶装置に広く用
いられている。磁気ディスクは、アルミニウム金属基板
ないしはプラスチック等の基板上に、フェライトや鉄、
コバルト、ニッケルないしはこれらの化合物、またはネ
オジウム、サマリウム、ガドリニウム、テルビウム等の
希土類金属や、それらからなる化合物を磁気記録媒体と
して、塗布法やスパッタ法により薄い膜状に付着させて
用いられている。磁気ヘッドは種々の方式があるが、記
録媒体に書き込まれた磁気からの磁束を信号として取り
出すもので、可能な限り磁気ディスク面に近づけて使用
されるものである。このように、磁気ヘッドと磁気ディ
スクは互いに衝突摩擦しやすく、このため、磁気記録媒
体上に発生する傷等から記録媒体を保護するための保護
膜を必要とする。保護膜の備えるべき要件は、耐摩耗性
に優れていること、基板との密着性に優れていること、
表面の潤滑性に優れていること等が挙げられる。膜の硬
度は耐摩耗性の評価に用いることができ、硬度が高いほ
ど耐摩耗性に優れている。密着性は磁気ヘッドの接触時
あるいは摩擦時に保護膜が剥離しないために重要であ
る。潤滑性は磁気ディスクと磁気ヘッドの間の摩擦係数
によって評価することができ、摩擦係数が小さいほど保
護膜として優れている。
2. Description of the Related Art Magnetic disks and magnetic heads are widely used in computer terminal information storage devices as magnetic disk devices. Magnetic disks are made of ferrite, iron, or
Cobalt, nickel, or a compound thereof, or a rare earth metal such as neodymium, samarium, gadolinium, or terbium, or a compound formed of these is used as a magnetic recording medium by being attached to a thin film by a coating method or a sputtering method. Although there are various types of magnetic heads, the magnetic head extracts magnetic flux from the magnetism written in the recording medium as a signal and is used as close to the magnetic disk surface as possible. As described above, the magnetic head and the magnetic disk are likely to collide with each other and rub against each other. Therefore, a protective film is required to protect the recording medium from scratches and the like generated on the magnetic recording medium. The requirements that the protective film should have are that it has excellent wear resistance and that it has excellent adhesion to the substrate.
It has excellent surface lubricity. The hardness of the film can be used for evaluation of wear resistance, and the higher the hardness, the better the wear resistance. Adhesion is important because the protective film does not peel off when the magnetic head comes into contact or rubs. The lubricity can be evaluated by the coefficient of friction between the magnetic disk and the magnetic head. The smaller the coefficient of friction, the better the protective film.

【0003】従来、この目的のための保護膜として、厚
み800オングストロ―ム程度の二酸化珪素(Si
2)、窒化珪素(Si34)、アルミナ(Al23
等の酸化物や窒化物、あるいはカ―ボン膜が用いられて
いる。Si34、SiO2およびAl23は、通常、シ
リコンやアルミニウムの有機金属化合物を溶媒中に溶解
したものを塗布乾燥後、熱処理する方法、窒素中ないし
はアルゴンと酸素の混合ガス中でスパッタリングする方
法、ないしは蒸着法で作製されている。カ−ボン膜につ
いては蒸着法、スパッタ法および炭化水素ガスによる化
学的気相成長法が知られている。これらの保護膜は50
0〜1000オングストローム程度の膜厚で用いられて
いた。また潤滑性に関しては、摩擦係数が0.5以下に
なるように、数十オングストロームの厚さの有機物から
なる潤滑剤を従来の保護膜表面に塗布して使用してい
た。近年の高度に発達した情報処理技術は、ますます大
容量の情報処理技術を要求しており、これに伴って高密
度磁気記録媒体技術は重要な位置を占めている。このた
め磁気ディスク表面の保護膜は、より一層の薄膜化が要
求されており、100オングストロームから50オング
ストローム程度のものも要求されつつある。
Conventionally, as a protective film for this purpose, silicon dioxide (Si) having a thickness of about 800 angstroms is used.
O 2), silicon nitride (Si 3 N 4), alumina (Al 2 O 3)
Oxides and nitrides such as, or carbon films are used. Si 3 N 4 , SiO 2 and Al 2 O 3 are usually prepared by coating a solution of an organometallic compound of silicon or aluminum in a solvent and drying it, followed by heat treatment, in nitrogen or in a mixed gas of argon and oxygen. It is manufactured by a sputtering method or a vapor deposition method. For the carbon film, vapor deposition, sputtering and chemical vapor deposition using hydrocarbon gas are known. These protective films are 50
It was used with a film thickness of about 0 to 1000 angstroms. Regarding the lubricity, a conventional lubricant having a thickness of several tens of angstroms is applied on the surface of the conventional protective film so that the friction coefficient is 0.5 or less. The highly developed information processing technology in recent years requires an information processing technology with a larger capacity and accordingly, the high density magnetic recording medium technology occupies an important position. Therefore, the protective film on the surface of the magnetic disk is required to be further thinned, and a protective film having a thickness of about 100 to 50 angstroms is being demanded.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
種々の保護膜材料は、十分な硬度、密着性、耐摩耗性や
耐腐食性を有しておらず、例えばビッカ−ス硬度は、S
iO2では2000kg/mm2、アルミナや窒化珪素で
は3000kg/mm2程度であった。さらに保護膜厚
みも500オングストロ―ム程度が最小厚みで、これ以
下の膜厚では、その硬度、耐摩耗性や耐腐食性は格段に
低下してしまう根本的欠陥を持っていた。またこれらの
保護膜は潤滑性を向上させるために、潤滑剤を塗布して
使用されていることはいうまでもない。
However, various conventional protective film materials do not have sufficient hardness, adhesion, abrasion resistance and corrosion resistance, and for example, Vickers hardness is S.
iO 2 In 2000 kg / mm 2, the alumina or silicon nitride was about 3000 kg / mm 2. Further, the protective film has a minimum thickness of about 500 Å, and if the film thickness is less than 500 Å, the hardness, wear resistance and corrosion resistance of the film have a fundamental defect. Needless to say, these protective films are used after being coated with a lubricant in order to improve lubricity.

【0005】これに対し、高硬度で潤滑性に優れた保護
膜材料として、スパッタ法や化学的気相成長法によって
作られる硬質カーボン膜が近年注目されている。しかし
ながらこの硬質カーボン膜においても、この潤滑性につ
いては不十分である。具体的には、磁気ヘッドと保護膜
の接触摩擦を繰り返すうちに摩擦係数が大きくなり、す
なわち潤滑性が劣化するといった問題がある。このこと
は、例えば、1990年発行の日本国際潤滑会議予稿集
(Proceedings ofthe International Tribology Confer
ence)の第1881ページの記載にみることができる。
すなわち、磁気ヘッドを磁気ディスク表面に押しつけ、
次に磁気ディスクを磁気ヘッドが浮上するまで高速回転
させ、浮上後回転を停止し、再び磁気ヘッドをディスク
面に接触させることを繰り返す、いわゆるコンタクト・
スタート・ストップ(CSS)試験を行った後、摩擦係
数を測定しているが、潤滑剤を用いない500オングス
トロームの膜厚の硬質カーボンにおいても、CSS回数
が少ないうちは摩擦係数が0.2程度と良好であるが、
2万回後の摩擦係数はすべて0.5以上となり、潤滑性
が劣化している。以上述べたように、従来の技術におい
ては500オングストローム以下の膜厚で、しかも高硬
度で耐摩耗性、密着性や潤滑性すべてに優れた保護膜は
実現されていなかった。本発明の目的は、このような従
来の問題点を解決することにある。
On the other hand, as a protective film material having high hardness and excellent lubricity, a hard carbon film formed by a sputtering method or a chemical vapor deposition method has been receiving attention in recent years. However, even with this hard carbon film, this lubricity is insufficient. Specifically, there is a problem that the coefficient of friction increases as the contact friction between the magnetic head and the protective film is repeated, that is, the lubricity deteriorates. This is, for example, the Proceedings of the International Tribology Confer published in 1990.
ence) on page 1881.
That is, press the magnetic head against the magnetic disk surface,
Next, the magnetic disk is rotated at high speed until the magnetic head floats, and after flying, the rotation is stopped and the magnetic head is brought into contact with the disk surface again.
The friction coefficient is measured after a start / stop (CSS) test, but even for hard carbon with a film thickness of 500 angstroms that does not use a lubricant, the friction coefficient is about 0.2 while the number of CSS times is small. And good,
The friction coefficients after 20,000 times are all 0.5 or more, and the lubricity is deteriorated. As described above, the conventional technique has not realized a protective film having a film thickness of 500 angstroms or less and having high hardness and excellent wear resistance, adhesion and lubricity. An object of the present invention is to solve such conventional problems.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、硬質非晶質炭
素膜を表面に設けた磁気ディスクにおいて、硬質非晶質
炭素膜の最表面にフッ素を含有する層を設けたことを特
徴とする磁気ディスクである。
According to the present invention, in a magnetic disk having a hard amorphous carbon film on its surface, a layer containing fluorine is provided on the outermost surface of the hard amorphous carbon film. It is a magnetic disk.

【0007】以下、図面に基づいて本発明を説明する。
図1は本発明による磁気ディスクの構造を示す図であ
る。図1(a)は磁気ディスク11の平面図を示し、図
1(b)は図1(a)のX−X´線での断面を示す図で
ある。図1(b)で、基板12の表面に設けられた磁気
記録媒体層13上に、ほぼ全面にわたってシリコン皮膜
14を設け、その上に硬質非晶質炭素膜15を設けたも
のである。ここでシリコン皮膜14は硬質非晶質炭素膜
15と磁気記録媒体13との間の密着性を向上させるた
めに設けることが望ましい(特願昭62−234328
号)。さらに硬質非晶質炭素膜の表面にはフッ素を含有
した硬質非晶質炭素膜16が形成されている。基板12
としては、有機フィルムやアルミニウム等の金属ないし
は合金を用いることが可能で、磁気記録媒体層13を保
持するものであれば、特に材質は問題にならない。磁気
記録媒体層13の厚みは、通常10μmないしはそれ以
下の厚みとし、記録された情報を保持するのに必要な厚
みとされるものである。シリコン皮膜14の形成方法
は、均質な皮膜が形成される方法であれば特に制限され
るものではない。すなわち、蒸着法やスパッタ法、プラ
ズマ化学的気相成長法が使用できるが、スパッタ法が特
に良好な結果を与える。硬質非晶質炭素膜15の形成方
法は、メタン(CH4)と水素(H2)の混合ガスの直流
グロー放電プラズマ化学析出法が低温で良好な膜を合成
する手法として有効である。
The present invention will be described below with reference to the drawings.
FIG. 1 is a diagram showing the structure of a magnetic disk according to the present invention. 1A is a plan view of the magnetic disk 11, and FIG. 1B is a view showing a cross section taken along line XX ′ of FIG. In FIG. 1B, a silicon film 14 is provided on almost the entire surface of the magnetic recording medium layer 13 provided on the surface of the substrate 12, and a hard amorphous carbon film 15 is provided thereon. Here, it is desirable that the silicon film 14 is provided in order to improve the adhesion between the hard amorphous carbon film 15 and the magnetic recording medium 13 (Japanese Patent Application No. 62-234328).
issue). Further, a hard amorphous carbon film 16 containing fluorine is formed on the surface of the hard amorphous carbon film. Board 12
As the material, an organic film, a metal such as aluminum, or an alloy can be used, and there is no particular problem with the material as long as it holds the magnetic recording medium layer 13. The thickness of the magnetic recording medium layer 13 is usually 10 μm or less, and is a thickness necessary for holding recorded information. The method for forming the silicon film 14 is not particularly limited as long as it is a method for forming a uniform film. That is, the vapor deposition method, the sputtering method and the plasma chemical vapor deposition method can be used, but the sputtering method gives particularly good results. As a method of forming the hard amorphous carbon film 15, a direct current glow discharge plasma chemical deposition method of a mixed gas of methane (CH 4 ) and hydrogen (H 2 ) is effective as a method of synthesizing a good film at a low temperature.

【0008】[0008]

【作用】本発明によれば、硬質非晶質炭素膜による優れ
た耐摩耗性と、フッ素を含有した硬質非晶質炭素による
優れた潤滑性とを同時に兼ね備え、500オングストロ
―ム以下の厚みでも良好な耐摩耗性と潤滑性を有する磁
気ディスクの表面保護膜を形成することができる。
According to the present invention, both excellent wear resistance due to the hard amorphous carbon film and excellent lubricity due to the hard amorphous carbon containing fluorine are simultaneously provided, and even at a thickness of 500 angstroms or less. It is possible to form a surface protective film of a magnetic disk having good wear resistance and lubricity.

【0009】[0009]

【実施例】以下、本発明の実施例について述べる。磁気
ディスクの基板として、直径5.25インチで、厚み
1.27mmのアルミニウム合金を用い、この上に磁気
記録媒体としてコバルト・クロム・タンタルの化合物を
スパッタ法により厚み約20μm付着させたものを用い
た。シリコン皮膜の形成は、通常のRFマグネトロンス
パッタ装置を用いた。真空度を10-3〜10-2Torr
の範囲としてアルゴンスパッタを用い、RF電力を10
0〜150Wとし、室温で成膜した。シリコン皮膜の厚
みは50オングストロームとした。硬質非晶質炭素膜お
よびフッ素を含有した硬質非晶質炭素膜の形成は図2に
示した装置を用いた。図2において、真空槽21に陰極
となる硬質非晶質炭素膜を形成すべき基板25を設置
し、基板の両面に平行となるように平板型の電極22を
配置する。陽極電極22には直流電源23を接続し、電
極間でグロ−放電を発生させる。具体的には、シリコン
皮膜を設けた磁気ディスク基板25を真空槽21に設置
し、次にメタンボンベ28、水素ボンベ29からの混合
ガスを導入し、硬質非晶質炭素膜の成膜を行う。得られ
る膜の質は真空度、ガスの混合比率や電極に印加する電
圧によって大きく変化するので、最適値を選ぶ必要があ
る。真空度は排気ポンプ26およびバルブ27で0.1
〜20Torrの真空度に調整する。またメタン28と
水素29の混合比率がCH4/H2=0.01〜0.10
の範囲の時、良好な結果を与える。一方、電圧の値は、
正規グロ−放電で、かつ異常グロ−放電が発生する直前
の条件が比較的良好な結果を与えた。またフッ素を含有
する硬質非晶質炭素膜は硬質非晶質炭素膜と同様な方法
で、メタン28のかわりに四フッ化メタン(CF4)3
0を用いて成膜を行った。
EXAMPLES Examples of the present invention will be described below. As the magnetic disk substrate, an aluminum alloy with a diameter of 5.25 inches and a thickness of 1.27 mm is used, on which a cobalt-chromium-tantalum compound is deposited by a sputtering method to a thickness of about 20 μm. I was there. The silicon film was formed by using an ordinary RF magnetron sputtering device. Vacuum degree is 10 -3 to 10 -2 Torr
Argon spatter is used as the range of the
The film was formed at room temperature with 0 to 150 W. The thickness of the silicon film was 50 Å. The apparatus shown in FIG. 2 was used to form the hard amorphous carbon film and the hard amorphous carbon film containing fluorine. In FIG. 2, a substrate 25 on which a hard amorphous carbon film serving as a cathode is to be formed is placed in a vacuum chamber 21, and flat plate-type electrodes 22 are arranged parallel to both surfaces of the substrate. A direct current power supply 23 is connected to the anode electrode 22 to generate a glow discharge between the electrodes. Specifically, the magnetic disk substrate 25 provided with a silicon film is placed in the vacuum chamber 21, and then a mixed gas from the methane cylinder 28 and the hydrogen cylinder 29 is introduced to form a hard amorphous carbon film. The quality of the obtained film greatly changes depending on the degree of vacuum, the gas mixing ratio, and the voltage applied to the electrodes, so that it is necessary to select an optimum value. The degree of vacuum is 0.1 with the exhaust pump 26 and the valve 27.
Adjust to a vacuum of ~ 20 Torr. Further, the mixing ratio of methane 28 and hydrogen 29 is CH 4 / H 2 = 0.01 to 0.10.
In the range of, give good results. On the other hand, the voltage value is
The condition of normal glow discharge and immediately before the occurrence of abnormal glow discharge gave relatively good results. Further, the hard amorphous carbon film containing fluorine is formed by the same method as the hard amorphous carbon film, instead of methane 28, tetrafluoromethane (CF 4 ) 3
0 was used to form the film.

【0010】直流グロ−放電は基板25をア―スとし、
それに対向する電極22に直流電源23により正の電圧
で数百ボルト印加することにより発生させた。放電電流
密度は0.1〜1mA/mm2とした。反応ガスとし
て、メタンと水素の混合ガスを流量比CH4/H2=0.
01〜0.1の範囲で導入し、硬質非晶質炭素膜を形成
した。成膜時の圧力は0.1〜20Torrとし、基板
温度はほぼ室温とした。また硬質非晶質炭素膜の膜厚
は、反応時間によって制御し、100〜200オングス
トロームとした。次に、排気ポンプ26により真空槽2
1内を排気した後、四フッ化メタンと水素の混合ガスを
流量比CF4/H2=0.01〜0.1の範囲で導入し、
フッ素を含有した硬質非晶質炭素膜を形成した。膜厚は
50〜100オングストロームとした。その他の条件は
硬質非晶質炭素膜形成の時と同じとした。
The DC glow discharge uses the substrate 25 as the ground,
It was generated by applying a positive voltage of several hundred volts to the electrode 22 facing it by a DC power supply 23. The discharge current density was 0.1 to 1 mA / mm 2 . As a reaction gas, a mixed gas of methane and hydrogen was used as a flow rate ratio CH 4 / H 2 = 0.
It was introduced in the range of 01 to 0.1 to form a hard amorphous carbon film. The pressure during film formation was 0.1 to 20 Torr, and the substrate temperature was approximately room temperature. The film thickness of the hard amorphous carbon film was controlled to 100-200 angstroms by controlling the reaction time. Next, the exhaust chamber 26 is used for the vacuum chamber 2
After evacuating the inside of 1, the mixed gas of tetrafluoromethane and hydrogen was introduced at a flow rate ratio CF 4 / H 2 = 0.01 to 0.1,
A hard amorphous carbon film containing fluorine was formed. The film thickness was 50 to 100 Å. Other conditions were the same as those for forming the hard amorphous carbon film.

【0011】膜の耐摩耗性および摩擦係数は、先に述べ
たCSS試験と摩擦係数μを同時に測定する、いわゆる
CSS−μ試験法により行った。本実施例においては、
磁気ディスクに加わる磁気ヘッドの接触荷重を20g/
cm2、磁気ディスクの回転数を1分間に3600回転
とした。図3は、硬質非晶質炭素膜の膜厚を100オン
グストローム、フッ素を含有した硬質非晶質炭素膜の膜
厚を50オングストロームとしたときの、CSS回数と
摩擦係数変化を示したものである。本実施例では、潤滑
剤を用いなくとも2万回のCSS回数後の摩擦係数は
0.2以下で、優れた潤滑性を示した。またこの膜の硬
度はビッカース硬度に換算して8000〜10000k
g/mm2であり、CSS試験によって磁気ディスク表
面に摩耗が発生していないこと、および保護膜の剥離が
生じていないことは言うまでもない。また比較例とし
て、膜厚100オングストロームの硬質非晶質炭素膜の
みとした場合の結果も図3に示した。この場合、2万回
のCSS試験によって摩耗は認められなかったものの、
摩擦係数はCSS回数の増加に伴って最高0.6まで増
加した。
The wear resistance and the coefficient of friction of the film were determined by the so-called CSS-μ test method in which the CSS test and the coefficient of friction μ were simultaneously measured. In this embodiment,
The contact load of the magnetic head applied to the magnetic disk is 20 g /
cm 2 , and the number of rotations of the magnetic disk was 3600 rotations per minute. FIG. 3 shows changes in the number of CSSs and changes in friction coefficient when the film thickness of the hard amorphous carbon film is 100 angstroms and the film thickness of the hard amorphous carbon film containing fluorine is 50 angstroms. .. In this example, even without using a lubricant, the coefficient of friction after 20,000 CSS times was 0.2 or less, and excellent lubricity was exhibited. The hardness of this film is 8000 to 10000k when converted to Vickers hardness.
It is g / mm 2 , and it goes without saying that the CSS test does not cause wear on the magnetic disk surface and that the protective film is not peeled off. Further, as a comparative example, the result when only a hard amorphous carbon film having a film thickness of 100 angstrom is shown is also shown in FIG. In this case, although wear was not recognized by the CSS test of 20,000 times,
The coefficient of friction increased to a maximum of 0.6 as the number of CSSs increased.

【0012】[0012]

【発明の効果】以上説明したように、本発明による磁気
ディスクは、極めて高硬度で耐摩耗性および潤滑性に優
れ、かつ高密度磁気記録技術に要求される、膜厚500
オングストロ―ム以下の保護膜を兼ね備えたもので、実
用性が高いものである。
As described above, the magnetic disk according to the present invention has extremely high hardness, excellent wear resistance and lubricity, and a film thickness of 500, which is required for high density magnetic recording technology.
It has a protective film of less than angstrom and is highly practical.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明による磁気ディスクの一例の平面図と断
面図である。
FIG. 1 is a plan view and a sectional view of an example of a magnetic disk according to the present invention.

【図2】本発明の磁気ディスクにおける硬質非晶質炭素
膜の形成に用いられる装置の一例の概略構成図である。
FIG. 2 is a schematic configuration diagram of an example of an apparatus used for forming a hard amorphous carbon film in the magnetic disk of the present invention.

【図3】CSS回数と摩擦係数変化との関係を示す特性
図である。
FIG. 3 is a characteristic diagram showing a relationship between the number of CSS times and a change in friction coefficient.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 磁気ディスク 12,25 基板 13 磁気記録媒体層 14 シリコン皮膜 15 硬質非晶質炭素膜 16 フッ素含有硬質非晶質炭素膜 21 真空槽 22 対向電極 23 直流電源 24 ガス導入口 26 排気ポンプ 27 バルブ 28 メタン 29 水素 30 四フッ化メタン 11 magnetic disk 12, 25 substrate 13 magnetic recording medium layer 14 silicon film 15 hard amorphous carbon film 16 fluorine-containing hard amorphous carbon film 21 vacuum chamber 22 counter electrode 23 direct current power supply 24 gas inlet port 26 exhaust pump 27 valve 28 Methane 29 Hydrogen 30 Tetrafluoromethane

Claims (1)

【特許請求の範囲】 【請求項1】 硬質非晶質炭素膜を表面に設けた磁気デ
ィスクにおいて、硬質非晶質炭素膜の最表面にフッ素を
含有する層を設けたことを特徴とする磁気ディスク。
Claim: What is claimed is: 1. A magnetic disk having a hard amorphous carbon film on its surface, wherein a magnetic layer is provided on the outermost surface of the hard amorphous carbon film. disk.
JP18419191A 1991-06-28 1991-06-28 Magnetic disk Pending JPH056531A (en)

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