JPH04106722A - Magnetic disk - Google Patents

Magnetic disk

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JPH04106722A
JPH04106722A JP22441790A JP22441790A JPH04106722A JP H04106722 A JPH04106722 A JP H04106722A JP 22441790 A JP22441790 A JP 22441790A JP 22441790 A JP22441790 A JP 22441790A JP H04106722 A JPH04106722 A JP H04106722A
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JP
Japan
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film
nitride
oxide
silicide
magnetic disk
Prior art date
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Pending
Application number
JP22441790A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiro Baba
和宏 馬場
Nobuaki Shohata
伸明 正畑
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP22441790A priority Critical patent/JPH04106722A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain a surface protective film structure with high hardness and abrasion resistance, having superior in adhesion with a substrate and also good lubricating alility by forming a meta silicified film, a metal oxide film or a metal nitride film on the lower surface of a hard amorphous carbon film. CONSTITUTION:The silicified, oxide or nitride film 14 is provided over approximately the whole surface on a magnetic recording medium 13 of the substrate 12, and on that the hard amorphous carbon film 15 containing hydrogen is further provided, and the protective film is composed of the film 14 and the film 15. To put it concretely, a magnetic disk substrate 25 provided with the film 14 in an RF magnetron spatter method is installed in a vacuum vessel 21, and then a mixed gas is introduced from a methane cylinder 28 and a hydrogen cylinder 29 to form the film 15. At this time, a vacuum degree is specifed as a range of 0.1 - 10 Torr, and a mixing ratio of methane 28 and hydrogen 29 as 0.01 - 0.10, and then a voltage value under regular glow discharge but just prior to generating abnormal glow discharge. By this method, the protective film having a film thickness required for high hardness and superior abrasion resistance and also high density magnetic recording is thus obtained.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野 本発明は高硬度で西・1摩耗[牛しご優れj二磁シ一デ
ィスクに関し、ざら(こib<tよ、硬度が高く、密椙
性に優れt二白寸摩耗1牛と.ド滑りとを兼わ陥えt二
表面保護膜構造を表面(こ有する磁気ティスフに関する
ものである。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Field of Application] The present invention relates to a two-magnetic disc with high hardness and low wear. This relates to a magnetic tape that has excellent resistance to wear and slippage, and has a protective film structure on its surface.

[従来の技術] 磁気ディスクや磁気ヘットは、磁気ディスク装置として
コンピュータ端末情報記憶装置に広く用いられている。
[Prior Art] Magnetic disks and magnetic heads are widely used as magnetic disk devices in computer terminal information storage devices.

磁気ディスクは、アルミニウム金属基板ないしはプラス
チック等の基板上に、フェライトや鉄、コバル1〜.ニ
ッケルないしはこれらの化合物またはネオジウム、サマ
リウム、ガドリニウム、テルビウム等の希土類金属やそ
れらからなる化合物を磁気記録媒体として塗布法ヤスバ
ッタ法により薄い膜状に付着ざぜて用いられている。
A magnetic disk is made of ferrite, iron, Kobal 1 to 1,000,000 on a substrate such as an aluminum metal substrate or a plastic substrate. Nickel or a compound thereof, or a rare earth metal such as neodymium, samarium, gadolinium, or terbium, or a compound made of these metals is used as a magnetic recording medium by depositing it in a thin film by the Yasbatta coating method.

磁気ヘッドは種々の方式があるか、記録媒体に古き込ま
れた磁気からの磁束を信号とじて取り出すもので、可能
な限り磁気ディスク面に近づけて使用されるものである
There are various types of magnetic heads, and they extract the magnetic flux from the magnetism embedded in the recording medium as a signal, and are used as close to the magnetic disk surface as possible.

このように、磁気ヘットと磁気ディスクは互いに衝突摩
擦しやすく、磁気ディスクの記録媒体上に発生する傷等
から記録媒体を保護するための保護膜を必要とする。
As described above, the magnetic head and the magnetic disk are likely to collide and rub against each other, and a protective film is required to protect the recording medium from scratches and the like that occur on the recording medium of the magnetic disk.

保護膜の備えるべき要点は、耐V粍性に侵杭ていること
、基板への密着性に優れていること、表面の潤滑1生に
優れていること等か挙げられる。膜の硬度は耐摩耗性の
評価に用いることができ、硬度が高いほど耐摩耗性に優
れている。密着性は磁気ヘッドの接触時あるいは摩擦時
に保護膜が剥離しないために重要である。密着性は磁気
ディスク媒体の作成法によって表面性状か変化するため
、媒体の性状に合った保護膜材料か必要である。
The important points that a protective film should have are that it should have good V corrosion resistance, good adhesion to the substrate, and good surface lubrication. The hardness of the film can be used to evaluate wear resistance, and the higher the hardness, the better the wear resistance. Adhesion is important so that the protective film does not peel off when the magnetic head contacts or rubs. Since adhesion depends on the surface properties of the magnetic disk medium, it is necessary to use a protective film material that matches the properties of the medium.

従来、この目的のために、厚み800人程程度二酸化珪
素(Si02)、窒化珪素(Si3N4>、アルミナ(
八で203)等の酸化物や窒化物、あるいはカーボン膜
か用いられている。S13\4、SiO2およびAf!
203は、通常シリコンやアルミニウムの有機金属化合
物を溶媒中1こ溶解したものを塗布乾燥後、!!!処理
する方法、窒素中ないしはアルゴンと酸素の混合カス中
でスパッタリングする方法、ないしは蒸着法で作られる
Conventionally, for this purpose, silicon dioxide (Si02), silicon nitride (Si3N4>, alumina (
Oxides and nitrides such as 203), or carbon films are used. S13\4, SiO2 and Af!
203 is usually prepared by dissolving one part of an organometallic compound of silicon or aluminum in a solvent, and then coating it and drying it! ! ! It is produced by a processing method, a sputtering method in nitrogen or a mixed gas of argon and oxygen, or a vapor deposition method.

カーボン膜は、特開昭52−90281号公報に記載さ
れたような炭素電極の放電によって作られる炭素イオン
ビームの蒸着法ないしは1980年発行のジャーナル・
オブ・ノンクリスタリン・ソリツズ誌(Journal
 of non−crystalline 5olid
s)第35 、l>よび36巻、第435ベージ(こ記
載されているような炭素の蒸発付着等の方法で作られて
いた。
The carbon film can be produced by a carbon ion beam evaporation method made by discharging a carbon electrode as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 52-90281, or by a carbon ion beam evaporation method made by discharging a carbon electrode as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 52-90281,
Journal of Noncrystalline Solites
of non-crystalline 5olid
s) Vol. 35, l> and Vol. 36, No. 435 (made by methods such as carbon evaporation deposition as described herein).

磁気ディスク表面に炭素を主成分とする被咬を設けた例
とじて、例えば特願昭52−58140号にみられるよ
うに、磁気記録媒体のない部分に炭素を主成分とする皮
膜を設けたり、磁気ヘッドとの衝突摩擦の生しヤすい領
域に皮膜を厚くし、記録領域ではその皮膜8薄く設けた
構成のものもある。
An example of providing a coating mainly composed of carbon on the surface of a magnetic disk is, for example, as seen in Japanese Patent Application No. 58140/1983, a film mainly composed of carbon is provided on the part where there is no magnetic recording medium. There is also a structure in which the film is thicker in the area where collision friction with the magnetic head is likely to occur, and the film is thinner in the recording area.

このとき、皮膜の、明みは500〜1000八を記録領
域に、 1000〜10000八を磁気ヘットか停止す
る領域に設置jるものて必った。
At this time, it was necessary to place the film with a brightness of 500 to 10008 in the recording area and a brightness of 1000 to 10000 in the area where the magnetic head would stop.

近年の高度に発達し1=情報迅理技)lJfよ、ますま
す人容吊の情報α埋枝(+1を要求しており、これに伴
って高密度磁気記録媒体技術は重要な位置を占めている
。このため磁気ディスク表面の保護膜は、より一層の薄
膜化か要求されており、 100人から50人程度のも
のも要求されつつある。
In recent years, highly developed technology (1 = information processing technology) is increasingly demanding information α (+1) for human appearance, and along with this, high-density magnetic recording media technology is occupying an important position. For this reason, the protective film on the surface of the magnetic disk is required to be even thinner, and a thickness of about 100 to 50 people is also required.

[発明か解決しようとする課題: しかしながら、従来の種々の保護膜材料は、十分な硬度
、密着性、耐@耗性や耐腐食性を有しておらず、例えば
ヒラカース硬度はSiO2ては2000 Kg y′t
rtm2、アルミナでは3000 Kg′#2まI=窒
化珪素や従来のスパッタ法等による硬質力小ンでは30
00 Kg・′m2程度であった。ざらに保護膜厚みも
500八程度か最小厚みて、これ以下の摸厚では、その
硬度、耐摩耗性や耐腐食性は格段に低下してしまう根本
的欠陥を待っていた。
[Problem to be solved by the invention: However, various conventional protective film materials do not have sufficient hardness, adhesion, wear resistance, or corrosion resistance. Kg y't
rtm2, 3000 Kg'#2 for alumina or 30 for I=silicon nitride or conventional sputtering method, etc.
It was about 00 Kg・'m2. The minimum thickness of the protective film is approximately 5,008 mm, and if the thickness is less than this, the hardness, abrasion resistance, and corrosion resistance will be significantly reduced, resulting in fundamental defects.

またこのような持重の保護膜であるために、特願昭52
−58140号にみられるように特殊な構成とする必要
が生じ、加工技術上から製造コストが高くなる問題点も
あり、500Å以下でも良好な特性の保護膜は実現され
ていなかった。
In addition, because it is a protective film with such a heavy weight, a patent application filed in 1982
As seen in No. 58140, it is necessary to have a special structure, and there is also the problem of high manufacturing costs due to processing technology, and a protective film with good characteristics has not been realized even at a thickness of 50 Å or less.

本発明者らは、保護膜の性能について種々の検討を重ね
た結果、特に保護膜を付着せしめるべき下地材料の種類
によって、見かけの硬度や耐摩耗性か大きく変化するこ
とを児い出し、本発明に至った。
As a result of various studies regarding the performance of the protective film, the inventors of the present invention discovered that the apparent hardness and abrasion resistance vary greatly depending on the type of base material to which the protective film is attached. This led to the invention.

すなわち本発明の目的は、以上jホべたような種々の欠
点を改良した、高硬度で耐摩耗性および基板との密着性
に優れ、かつ潤滑性の良好な表面保護膜構造を有する磁
気ディスクを提供することにある。
That is, the object of the present invention is to provide a magnetic disk having a surface protective film structure with high hardness, excellent wear resistance and adhesion to a substrate, and good lubricity, which improves the various drawbacks mentioned above. It is about providing.

[課題を解決するための手段] 本発明は、硬質非晶質炭素膜を表面に設けた磁気ディス
クにおいて、硬質非晶質炭素膜の下面に金属珪化物膜、
金属酸化物膜または金属窒化物膜か形成されていること
を特徴とする磁気ディスクである。
[Means for Solving the Problems] The present invention provides a magnetic disk provided with a hard amorphous carbon film on the surface, in which a metal silicide film is provided on the lower surface of the hard amorphous carbon film.
A magnetic disk characterized in that a metal oxide film or a metal nitride film is formed.

本発明において、金属珪化物としては、珪化モリブデン
、珪化タングステン、珪化チタン、珪化コバルト、珪化
ジルコニウム、珪化バナジウム。
In the present invention, metal silicides include molybdenum silicide, tungsten silicide, titanium silicide, cobalt silicide, zirconium silicide, and vanadium silicide.

珪化ニオブおよび珪化タンタルから選ばれた少なくとも
一種であることが望ましい。
It is desirable that the material be at least one selected from niobium silicide and tantalum silicide.

また、金属酸化物は、酸化モリブデン、酸化タングステ
ン、酸化チタン、酸化コバルト、酸化ジルコニウム、酸
化バナジウム、酸化ニオブおよび酸化タンタルの中から
選ばれた少なくとも一種であることか望ましい。
Further, the metal oxide is preferably at least one selected from molybdenum oxide, tungsten oxide, titanium oxide, cobalt oxide, zirconium oxide, vanadium oxide, niobium oxide, and tantalum oxide.

さらに金属窒化物は、窒化モリブデン、窒化タングステ
ン、窒化チタン、窒化コバルト、窒化ジルコニウム、窒
化バナジウム、窒化ニオブおよび窒化タンタルの中から
選ばれた少なくとも一種であることか望ましい。
Further, the metal nitride is preferably at least one selected from molybdenum nitride, tungsten nitride, titanium nitride, cobalt nitride, zirconium nitride, vanadium nitride, niobium nitride, and tantalum nitride.

以下図面に基づいて本発明を説明する。第1図は本発明
による磁気ディスクの構造を示す図である。
The present invention will be explained below based on the drawings. FIG. 1 is a diagram showing the structure of a magnetic disk according to the present invention.

第1図(a)は磁気ディスク11の平面図を小し、第1
図Cb)は第1図(a)のX−X−1での断面を示す図
である。第1図(b)て、基板1?の表面tこ設けられ
た磁気記録媒体層13上に、はぼ全面にわたって珪化物
、酸化物または窒化物皮膜14を設け、その上に更に水
素を含有ぜる硬質非晶質炭素膜15を設けたものである
。基板1?としては、有機フィルムやアルミニウム等の
金属ないしは合金を用いることか可能である。要するに
磁気記録媒体層13を保持するものであれば、特に材質
は問題にならない。磁気記録媒体層13の厚みは、通常
10pmないしはそれ以下の厚みとし、記録された情報
を保持するのに必要な厚みとされるものである。珪化物
、酸化物または窒化物皮膜14と硬質非晶質炭素膜15
は両者を合わせて保護膜を構成する。保ff1lliの
厚みは可能な限り薄いほうか望ましいことは言うまでも
ない。
FIG. 1(a) shows a small plan view of the magnetic disk 11, and the first
Figure Cb) is a cross-sectional view taken along line X-X-1 in Figure 1(a). In Figure 1(b), board 1? A silicide, oxide or nitride film 14 is provided over almost the entire surface of the magnetic recording medium layer 13, and a hard amorphous carbon film 15 containing hydrogen is further provided thereon. It is something that Board 1? As such, it is possible to use an organic film, a metal such as aluminum, or an alloy. In short, the material does not matter as long as it holds the magnetic recording medium layer 13. The thickness of the magnetic recording medium layer 13 is usually 10 pm or less, which is necessary to retain recorded information. Silicide, oxide or nitride film 14 and hard amorphous carbon film 15
The two together constitute a protective film. It goes without saying that it is desirable that the thickness of the protective ff1lli be as thin as possible.

珪化物、酸化物または窒化物皮膜14の形成方法は、均
質な皮膜か形成てきる方法て必れば持に制限されるもの
ではない。すなわら、蒸4法ヤスバッタ法、プラズマ気
相化学析出法か使用できるか、スパッタ法か特に良好な
結果を得た。
The method of forming the silicide, oxide, or nitride film 14 is not limited to any method that can form a uniform film. Particularly good results were obtained using the steaming method, Yasbatta method, plasma vapor phase chemical deposition method, and sputtering method.

硬買非晶貿炭素rPA15の形成手法は、メタン(CH
4>と水素(H2)の混合カスの直流グロ放電プラスマ
化学析出法か低温で良好な膜を合成する手法として有効
てあ・)だ。第2図はだれに用いられる装置の一例の概
略構成図である。
The formation method of hard amorphous carbon rPA15 is methane (CH
4> and hydrogen (H2) mixed residue is effective as a method for synthesizing a good film at low temperature. FIG. 2 is a schematic diagram of an example of a device used by someone.

第2図において、真空121に陰極となる硬質非晶質炭
素膜を形成すべき基板?5を設置し、基板25の両面に
平行となるように平板型の電極?2を置く。
In FIG. 2, which substrate should be formed with a hard amorphous carbon film serving as a cathode in the vacuum 121? 5 and flat plate electrodes parallel to both sides of the substrate 25. Place 2.

陽極電惨22には直流電源23を接続し、電極間でグロ
ー放電を発生させる。
A DC power source 23 is connected to the anode electrode 22 to generate glow discharge between the electrodes.

具体的には、通常のRFマグネトロンスパッタ法で珪化
物、酸化物または窒化物皮膜を設けた磁気ディスク基板
?5を真空槽?1に設置し、次にメタンボンへ28、水
素ホンへ29からの混合カスを導入し、硬質非晶質炭素
膜の成膜を(1う。得られる膜の質は真空度、カスの混
合比や電極に印加する電圧によって大きく変化するので
、最適値を選ぶ必要かある。真空度は排気ポンプ?6お
よびバルブ27て0.I Torrから10TOrrの
真空度に調整する。
Specifically, a magnetic disk substrate on which a silicide, oxide, or nitride film is formed using the usual RF magnetron sputtering method. 5 in a vacuum chamber? 1, then introduce the mixed waste from 28 into the methane bomb and the mixed waste from 29 into the hydrogen bomb to form a hard amorphous carbon film (1).The quality of the obtained film depends on the degree of vacuum and the mixing ratio of the waste. Since it varies greatly depending on the voltage applied to the electrodes and the voltage applied to the electrodes, it is necessary to select the optimum value.The degree of vacuum is adjusted from 0.1 Torr to 10 Torr using the exhaust pump ?6 and valve 27.

またメタン?8と水素?9の混合比率かCH4,・’H
2−〇、01〜0.10の範囲の時、良好な結果を与え
る。一方、電圧の値(よ、正規グロー放電で、かつ巽常
グロー放電か発生する直前の条件が比較的好結果を与え
t=。
Methane again? 8 and hydrogen? Mixing ratio of 9 or CH4,・'H
Good results are given when the value is in the range of 2-0, 01 to 0.10. On the other hand, the voltage value (t=) is a normal glow discharge and the conditions immediately before the normal glow discharge occurs give relatively good results.

1作用] 従来の炭素を主成分とじた保護膜においては、特願昭5
2−58140号に見られる如く、記録媒体に直接付着
させて用いるか、この形成方法ではさきに述べたように
密着性か悪く、また付着させた炭素膜の均一性も良好と
は吉えなかった。この原因は、詳細については不明なと
ころかあるが、吹素膜と記録媒体間の結合力が関係して
いると思われる。
1 Effect] In the conventional protective film mainly composed of carbon,
As seen in No. 2-58140, it is either used by directly attaching it to the recording medium, or with this formation method, as mentioned earlier, the adhesion is poor and the uniformity of the attached carbon film is not likely to be good. Ta. The cause of this is not clear in detail, but it is thought to be related to the bonding force between the blown film and the recording medium.

本発明においては、磁気記録媒体と珪化物、酸化物また
は窒化物膜、硬質非晶質炭素膜と珪化物、酸化物または
窒化物膜との間に何らかの化学結合力が働き、簿模の密
着強度を上昇させているものと思われる。
In the present invention, some kind of chemical bonding force acts between the magnetic recording medium and the silicide, oxide, or nitride film, or the hard amorphous carbon film and the silicide, oxide, or nitride film, resulting in close contact between the bookmarks. It seems to increase the strength.

更に、表面の硬質非晶質炭素膜中には、その製造方法か
られかるように、炭化水素と水素の混合カスを原料とし
ているため、得られた膜中には水素か20〜30原子%
含まれており、この範囲の水素か炭素膜中の不飽和結合
を補償し、膜自体の硬度を高める機構も有効に作用して
いるものである。
Furthermore, the hard amorphous carbon film on the surface contains 20 to 30 at.
The hydrogen in this range compensates for the unsaturated bonds in the carbon film, and the mechanism that increases the hardness of the film itself also works effectively.

以上述へた本発明の種々の特徴により、従来不可能であ
った薄膜、すなわち500Å以下の厚みても、良好な磁
気ディスクの表面保護膜を形成することができる。
Owing to the various features of the present invention described above, it is possible to form a good surface protective film for a magnetic disk even with a thin film, that is, a thickness of 500 Å or less, which was previously impossible.

[実施例] 以下、本発明の実施例について述べる。[Example] Examples of the present invention will be described below.

実施例1 磁気ディスクの基板として、直径5.25インチで、厚
み2Mのアルミニウム合金を用い、この上に記録媒体と
してコバルト・クロム・タンタルの化合物をスパッタ法
により厚み約20 m付着させたものを用いた。
Example 1 An aluminum alloy with a diameter of 5.25 inches and a thickness of 2M was used as a magnetic disk substrate, and a cobalt-chromium-tantalum compound was deposited on this as a recording medium to a thickness of about 20 m by sputtering. Using.

保護膜の形成は、まず珪化モリブデン、珪化タングステ
ン、珪化タンタル、珪化チタン、珪化コバルト、珪化ジ
ルコニウム、珪化バナジウムおよび珪化ニオブについて
は、通常のRFマグネトロンスパッタ装置を用い、真空
度を10−3〜]0−2TOrrの範囲としてアルゴン
スパッタを用い、前記珪化物焼結体をそれぞれターゲッ
トとし、R「電力を100〜150Wとし、至温て成膜
した。珪化物膜の厚みは、100〜1000への範囲に
スパッタ時間を変えることにより制御した。
To form the protective film, first, for molybdenum silicide, tungsten silicide, tantalum silicide, titanium silicide, cobalt silicide, zirconium silicide, vanadium silicide, and niobium silicide, a normal RF magnetron sputtering device is used at a vacuum level of 10-3~] The silicide sintered body was used as a target using argon sputtering in the range of 0-2 TOrr, and the film was formed at a very low temperature with a power of 100-150 W. The thickness of the silicide film was varied from 100 to 1000 This was controlled by varying the sputtering time over a range.

硬質非晶質炭素膜の形成は第2図に示す装置を用いた。The hard amorphous carbon film was formed using the apparatus shown in FIG.

直流グロー放電は基板25側をアースとし、それに対向
する電極22に直流電源23により正の電圧で数百ホル
トまでの電流を印加することにより発生させた。放電電
流密j宴は01〜1 mA、・′In!n?とした。反
応カスとしてメタンと水素の混合カスを流量比CH4、
/′H2= 0.01〜01の範囲で導入し、硬質非晶
質炭素膜を形成した。成摸時の圧力は041〜20 T
orrとし、基板温度はほぼ至温とした。
The DC glow discharge was generated by grounding the substrate 25 side and applying a current of up to several hundred volts at a positive voltage to the electrode 22 facing the substrate 25 from the DC power supply 23. The discharge current density is 01~1 mA, ・'In! n? And so. A mixture of methane and hydrogen is used as a reaction residue at a flow rate of CH4,
/'H2=0.01 to 01 to form a hard amorphous carbon film. Pressure during test is 041~20T
orr, and the substrate temperature was set to almost the lowest temperature.

この結果、得られた膜は、反応時間によって膜厚を制御
したか、いずれの膜も100八からioo。
As a result, the thickness of the obtained films was controlled by the reaction time, and the thickness of each film ranged from 100 to 100 io.

入で均一な干渉色を呈していた。表面の凹凸はタリステ
ップの測定限界の±10 A以下であった。
It exhibited a uniform interference color. The surface unevenness was less than ±10 A, which is the measurement limit of Talystep.

この炭素膜は非晶質であり、膜中の水素含有量は20〜
30原子%てあった。ざらにこの膜の硬度はビッカース
硬度に換算して8000〜10000 Kl/#2てめ
った。
This carbon film is amorphous, and the hydrogen content in the film is 20~
It was 30 atomic percent. The hardness of this film was approximately 8,000 to 10,000 Kl/#2 in terms of Vickers hardness.

、摸の耐摩耗性は以下に述べる磁気ヘッドと磁気ディス
クとの接触摩擦試験法で評価した。すなわち磁気ヘット
としてアルミニウムと炭化チタンからなるビッカース硬
度4000 K37.、zの焼結体を用い、磁気ディス
ク表面に荷重約609./Cm2て保護膜上に押しつけ
、次に磁気ディスクを磁気へットか浮上するまで高速回
転させ、浮上後回転を停止し、再びヘットをディスク面
に接触させることを繰り返す、いわゆるコンタクト・ス
タート・ストップ(C3S)試験を行った。その結末、
との珪化物を用いた場合も、10万回後も摩耗か発生し
ないことを確認した。
The wear resistance of the print was evaluated by the contact friction test method between a magnetic head and a magnetic disk described below. That is, the magnetic head is made of aluminum and titanium carbide and has a Vickers hardness of 4000 K37. , z is used, and a load of approximately 609 mm is applied to the surface of the magnetic disk. /Cm2 onto the protective film, then rotate the magnetic disk at high speed until the magnetic head floats, stop the rotation after floating, and repeat the process of bringing the head into contact with the disk surface again. A stop (C3S) test was conducted. The end,
It was confirmed that even when silicide was used, no wear occurred even after 100,000 cycles.

なお本実施例では金属珪化物の各1種を用いたか、金属
珪化物は2種以上の組み合わせてもよい。
In this example, one type of metal silicide was used, or two or more types of metal silicides may be used in combination.

また、磁気配録媒体の種類は本実施例に限定されず、種
々のものを用いることができる。
Further, the type of magnetic recording medium is not limited to this embodiment, and various types can be used.

実施例2 磁気ディスクの基板として直径5.25インチで厚み2
#のアルミニウム合金を用い、この上に記録媒体として
コバルト・クロム・タンタルの化合物をスパッタ法[こ
より厚み約20txt付着させたものを用いた。
Example 2 A magnetic disk substrate with a diameter of 5.25 inches and a thickness of 2
# aluminum alloy was used, and a cobalt-chromium-tantalum compound was deposited thereon to a thickness of about 20 txt by a sputtering method as a recording medium.

保護膜の形成は、まず酸化モリブデン、酸化タングステ
ン、酸化タンタル、酸化チタン、酸化コバルト、酸化ジ
ルコニウム、酸化バナジウムおよび酸化ニオブについて
は、通常のRFマグネトロンスバッタ装置を用い、真空
度を10−3〜10−2 TOrrの範囲としてアルゴ
ンスパッタを用い、前記酸化物焼結体をそれぞれターゲ
ットとし、RF電力を100〜150Wとし、至温で成
膜した。酸化物膜の厚みは、100〜1000人の範囲
にスパッタ時間を変えることにより制御した。
To form a protective film, first, for molybdenum oxide, tungsten oxide, tantalum oxide, titanium oxide, cobalt oxide, zirconium oxide, vanadium oxide, and niobium oxide, a normal RF magnetron battering device is used, and the degree of vacuum is 10-3 to 10-3. Using argon sputtering in the range of 10-2 TOrr, the oxide sintered body was used as a target, and the RF power was 100 to 150 W to form a film at a very low temperature. The thickness of the oxide film was controlled by varying the sputtering time in the range of 100-1000 sputtering.

次に、実施例1と同様にして硬質非晶質炭素膜を形成し
た。得られた炭素膜は実施例1と同様の性状を有してい
た。
Next, a hard amorphous carbon film was formed in the same manner as in Example 1. The obtained carbon film had properties similar to those of Example 1.

嗅の耐摩耗性は以下に述へる磁気ヘッドと磁気ディスク
との接触摩擦試験法で評価した。すなわち磁気ヘットと
してアルミニウムと炭化チタンからなるごッカース硬度
4000 K!J/mtrt2の焼結体を用い、磁気デ
ィスク表面に荷重的60 g、/cm2で保護膜上に押
しつ【ブ、次に磁気ディスクを磁気ヘットか浮上するま
で高速回転させ、浮上後回転を停止し、再びヘットをデ
ィスク面に接触させることを繰り返すいわゆるコンタク
ト・スタート・ストップ<CSS>試験を行った。その
結果、どの酸化物を用いた場合も、10万回後も摩耗か
発生しないことを確認した。
The abrasion resistance of the odor was evaluated by the contact friction test method between a magnetic head and a magnetic disk described below. In other words, the magnetic head is made of aluminum and titanium carbide and has a Gockers hardness of 4000 K! Using a sintered body of J/mtrt2, press the surface of the magnetic disk onto the protective film with a load of 60 g/cm2, then rotate the magnetic disk at high speed until the magnetic head levitates, and then rotate after levitation. A so-called contact start/stop <CSS> test was conducted in which the disk was stopped and the head was brought into contact with the disk surface again. As a result, it was confirmed that no wear occurred even after 100,000 cycles, no matter which oxide was used.

なお、本実施例では金属酸化物の各1種を用いたが、金
属酸化物は2種以上の組み合わせてもよい。また、磁気
記録媒体の種類は本実施例に限定されず、種々のものを
用いることができる。
Note that in this example, one type of each metal oxide was used, but two or more types of metal oxides may be used in combination. Further, the type of magnetic recording medium is not limited to this embodiment, and various types can be used.

実施例3 磁気ディスクの基板とじて直径5.25インチで厚み2
Mのアルミニウム合金を用い、この上に記録媒体として
コバルト・クロム・タンタルの化合物をスパッタ法によ
り厚み約20圀付着させたものを用いた。
Example 3 The magnetic disk substrate has a diameter of 5.25 inches and a thickness of 2
An aluminum alloy of M was used, on which a cobalt-chromium-tantalum compound was deposited to a thickness of about 20 mm by sputtering as a recording medium.

保護膜の形成は、まず窒化モリブデン、窒化タングステ
ン、窒化タンタル、窒化千タン、窒化コバルト、窒化ジ
ルコニウム、窒化バナジウムおよび窒化ニオブについて
は、通常のRFマグネトロンスパッタ装首を用い、真空
度を10−3〜1O−2Torrの範囲としてアルゴン
スパッタを用い、前記窒化物焼結体をそれぞれターゲッ
トとし、R[電力を100〜150Wとし、至濡て成膜
した。窒化物膜の厚みは、100〜1000人の範囲に
スパッタ時間を変えることにより制御した。
To form the protective film, first, for molybdenum nitride, tungsten nitride, tantalum nitride, titanium nitride, cobalt nitride, zirconium nitride, vanadium nitride, and niobium nitride, use an ordinary RF magnetron sputtering device and reduce the vacuum to 10-3. Using argon sputtering in the range of ~10-2 Torr, the nitride sintered body was used as a target, R[power was set to 100 to 150 W, and the film was formed in a very wet state. The thickness of the nitride film was controlled by varying the sputtering time in the range of 100-1000.

次に、実施例]と同様にして、硬質非晶質炭素膜を形成
し、た。得られ/:炭素膜は実施例1と同様の性状を有
していた。
Next, a hard amorphous carbon film was formed in the same manner as in Example]. Obtained/: The carbon film had properties similar to those of Example 1.

膿の耐摩耗性は以下に述へる磁気ヘットと磁気ディスク
との接触摩擦試験法で評価した。すなわち磁気ヘッドと
してアルミニウムと炭化チタンからなるビッカース硬度
4000 KCj、、7mm2の焼結体を用い、磁気デ
ィスク表面に荷重的60 g、/cm2て保護膜上に押
しつけ、次に磁気ディスクを磁気ヘッドか浮上するまで
高速回転させ、浮上後回転を停止し、再びヘットをディ
スク面に接触させることを繰り返すいわゆるコンタクト
・スタート・ストップ(C3S)試験を行った。その結
果、との窒化物を用いた場合も、TO万回後も摩耗か発
生しないことを確&2した。
The wear resistance of pus was evaluated by the contact friction test method between a magnetic head and a magnetic disk described below. That is, a sintered body made of aluminum and titanium carbide with a Vickers hardness of 4000 KCj, 7 mm2 is used as a magnetic head, and is pressed onto the protective film with a load of 60 g/cm2 on the surface of the magnetic disk, and then the magnetic disk is placed between the magnetic head and the magnetic head. A so-called contact start-stop (C3S) test was conducted in which the disk was rotated at high speed until it levitated, then the rotation was stopped, and the head was brought into contact with the disk surface again. As a result, it was confirmed that even when the nitride was used, no wear occurred even after 10,000 TO cycles.

なあ、本実施例ては金属窒化物の各1種を用いたが、金
属窒化物は2種以上の組み合わせてもよい。また、磁気
記録媒体の種類は本実施例に限定されず、種々のものを
用いることができる。
Incidentally, although one type of metal nitride was used in this embodiment, two or more types of metal nitrides may be used in combination. Further, the type of magnetic recording medium is not limited to this embodiment, and various types can be used.

[発明の効果1 以上説明したように、本発明による磁気ディスクは、極
めて高硬度で耐摩耗性に優れ、かつ高密度磁気記録技術
に要求される摸厚か500八以下の保護膜を備えたもの
で、実用性が高いものである。
[Effect of the invention 1 As explained above, the magnetic disk according to the present invention has extremely high hardness and excellent wear resistance, and is equipped with a protective film having a thickness of 500 mm or less required for high-density magnetic recording technology. It is highly practical.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明による磁気ディスクの平面図と断面図、
第2図は硬質非晶質炭素膜の形成に用いられる装置の一
例の概略構成図である。 11・・・磁気ディスク 12、25・・・基板 13・・・磁気記録媒体間 14・・・珪化物、酸化物または窒化物皮膜15・・・
硬質非晶質炭素膜 ?1・・・真空槽 ??−・・対向電極 23・−・直流電源 ?4・・・カス導入口 ?6−・・排気ポンプ 27・・・バルブ 28・・・メタンボンベ 29・・・水素ボンベ
FIG. 1 is a plan view and a cross-sectional view of a magnetic disk according to the present invention,
FIG. 2 is a schematic diagram of an example of an apparatus used for forming a hard amorphous carbon film. 11... Magnetic disks 12, 25... Substrate 13... Between magnetic recording media 14... Silicide, oxide or nitride film 15...
Hard amorphous carbon film? 1...Vacuum tank? ? ---Counter electrode 23 ---DC power supply? 4...Scrap inlet? 6-...Exhaust pump 27...Valve 28...Methane cylinder 29...Hydrogen cylinder

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)硬質非晶質炭素膜を表面に設けた磁気ディスクに
おいて、硬質非晶質炭素膜の下面に金属珪化物膜が形成
されていることを特徴とする磁気ディスク。
(1) A magnetic disk having a hard amorphous carbon film on its surface, characterized in that a metal silicide film is formed on the lower surface of the hard amorphous carbon film.
(2)金属珪化物が珪化モリブデン,珪化タングステン
,珪化チタン,珪化コバルト,珪化ジルコニウム,窒化
バナジウム,珪化ニオブおよび珪化タンタルの中から選
ばれた少なくとも一種である請求項1記載の磁気ディス
ク。
(2) The magnetic disk according to claim 1, wherein the metal silicide is at least one selected from molybdenum silicide, tungsten silicide, titanium silicide, cobalt silicide, zirconium silicide, vanadium nitride, niobium silicide, and tantalum silicide.
(3)硬質非晶質炭素膜を表面に設けた磁気ディスクに
おいて、硬質非晶質炭素膜の下面に金属酸化物膜が形成
されていることを特徴とする磁気ディスク。
(3) A magnetic disk having a hard amorphous carbon film on its surface, characterized in that a metal oxide film is formed on the lower surface of the hard amorphous carbon film.
(4)金属酸化物が、酸化モリブデン,酸化タングステ
ン,酸化チタン,酸化コバルト,酸化ジルコニウム,酸
化バナジウム,酸化ニオブおよび酸化タンタルの中から
選ばれた少なくとも一種である請求項3記載の磁気ディ
スク。
(4) The magnetic disk according to claim 3, wherein the metal oxide is at least one selected from molybdenum oxide, tungsten oxide, titanium oxide, cobalt oxide, zirconium oxide, vanadium oxide, niobium oxide, and tantalum oxide.
(5)硬質非晶質炭素膜を表面に設けた磁気ディスクに
おいて、硬質非晶質炭素膜の下面に金属窒化物膜が形成
されていることを特徴とする磁気ディスク。
(5) A magnetic disk having a hard amorphous carbon film on its surface, characterized in that a metal nitride film is formed on the lower surface of the hard amorphous carbon film.
(6)金属窒化物が、窒化モリブデン,窒化タングステ
ン,窒化チタン,窒化コバルト,窒化ジルコニウム,窒
化バナジウム,窒化ニオブおよび窒化タンタルの中から
選ばれた少なくとも一種である請求項5記載の磁気ディ
スク。
(6) The magnetic disk according to claim 5, wherein the metal nitride is at least one selected from molybdenum nitride, tungsten nitride, titanium nitride, cobalt nitride, zirconium nitride, vanadium nitride, niobium nitride, and tantalum nitride.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6620481B2 (en) 2000-07-06 2003-09-16 Fujitsu Limited Magnetic recording medium, magnetic recording medium manufacture method, and information regeneration apparatus

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